JPH01268122A - 電子ビーム露光装置 - Google Patents
電子ビーム露光装置Info
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- JPH01268122A JPH01268122A JP63097765A JP9776588A JPH01268122A JP H01268122 A JPH01268122 A JP H01268122A JP 63097765 A JP63097765 A JP 63097765A JP 9776588 A JP9776588 A JP 9776588A JP H01268122 A JPH01268122 A JP H01268122A
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- wafer
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- wafers
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［目次］
概要
産業上の利用分野
従来の技術（第７図）
発明が解決しようとする課題
課題を解決するための手段（第１図）
作用
実施例
一実施例（第２〜６図）
発明の効果
し概要］
電子ビーム露光装置に関し、
同一試料台を用いて各種サイズのウエーノ＼を取り扱う
ことができるようにし、構成を簡単にし、かつ、小型化
することを目的とし、 ウェーハが載置される試料台と、一面にビーム調整用パ
ターンが形成されたビーム調整治具と、−２−： 該試料台に固設され、該ビーム調整治具の該一面を、該
試料台のウェーハ載置面に直交する方向へ微少駆動する
アクチコエータと、該ビーム調整用パターンに照射され
る電子ビームのスポット形状に応じた信号を出力する検
出手段と、試料台に載置されたウェーハ」−のマークに
照射してフォーカス調整された電子ビームを該ビーム調
整用パターンに、照射させ、該検出手段からの信号に基
づき、該パターン面が該電子ビームのフォーカス位置に
なるよう該アクチコエータを制御する制御手段とを備え
て構成する。
ことができるようにし、構成を簡単にし、かつ、小型化
することを目的とし、 ウェーハが載置される試料台と、一面にビーム調整用パ
ターンが形成されたビーム調整治具と、−２−： 該試料台に固設され、該ビーム調整治具の該一面を、該
試料台のウェーハ載置面に直交する方向へ微少駆動する
アクチコエータと、該ビーム調整用パターンに照射され
る電子ビームのスポット形状に応じた信号を出力する検
出手段と、試料台に載置されたウェーハ」−のマークに
照射してフォーカス調整された電子ビームを該ビーム調
整用パターンに、照射させ、該検出手段からの信号に基
づき、該パターン面が該電子ビームのフォーカス位置に
なるよう該アクチコエータを制御する制御手段とを備え
て構成する。
［産業上の利用分野］
本発明は電子ヒー１、露光装置に関ずろ。
［従来の技術］
従来の電子ピー１１露光装置ては、第７図に示ず１如く
、開１．Ｊ ］が形成されたホルダ２の下面にウェーハ
３の上面縁部を押接板ばね４．４°で押し当て、このボ
ルダ２の縁部を試料台５に挿入し、固定ピン６．６°に
よりホルダ２を試料台５に固定していた。
、開１．Ｊ ］が形成されたホルダ２の下面にウェーハ
３の上面縁部を押接板ばね４．４°で押し当て、このボ
ルダ２の縁部を試料台５に挿入し、固定ピン６．６°に
よりホルダ２を試料台５に固定していた。
このボルダ２には、ビーム調整治具（不図示）か備えら
れており、その」二面がウェーハ３の上面と同一面」−
に位置するよう配置されている。ウェーハ３の厚さは、
直径が同一であってもウェーハ毎にバラツキがあり、一
定ではないか、この配置によりウェーハ３の上面位置は
ビーム調整治具上面に必ず一致する。
れており、その」二面がウェーハ３の上面と同一面」−
に位置するよう配置されている。ウェーハ３の厚さは、
直径が同一であってもウェーハ毎にバラツキがあり、一
定ではないか、この配置によりウェーハ３の上面位置は
ビーム調整治具上面に必ず一致する。
［発明が解決しようとする課題］
しかし、ウェーハ３の直径に応じた開ｎ Ｉを必要とす
るので、ウェーハ３の直径に応じた各種ホルダ２を備え
ておき、選択的に使用する必要がある。
るので、ウェーハ３の直径に応じた各種ホルダ２を備え
ておき、選択的に使用する必要がある。
また、試料台５はホルダ２をその外側から保持するので
、装置が大型になる。
、装置が大型になる。
さらに、押接板ばねの先端部を押し下げ、ホルダ２の下
面と押接板ばね４．４°との間にウェーハ３を挿入した
後、押接板ばね４．４′をウェーハ３に押し当てる機構
が必要であり、しかも、試料台５の幅方向間隔を調整し
、固定ピン６．６゜を下方へ押１．下げ、ホルダ２を試
料台５に挿入した後、押接板ばね６．６′を上方へ付勢
する機構が必要であり、駆動機構が複雑である。
面と押接板ばね４．４°との間にウェーハ３を挿入した
後、押接板ばね４．４′をウェーハ３に押し当てる機構
が必要であり、しかも、試料台５の幅方向間隔を調整し
、固定ピン６．６゜を下方へ押１．下げ、ホルダ２を試
料台５に挿入した後、押接板ばね６．６′を上方へ付勢
する機構が必要であり、駆動機構が複雑である。
本発明の目的は、上記問題点に鑑み、同一試料台を用い
て各種サイズのウェーハを取り扱うことがてき、しかも
、構成か簡り′Ｌであり小型化できる電子ビーム露光装
置を提供することにある。
て各種サイズのウェーハを取り扱うことがてき、しかも
、構成か簡り′Ｌであり小型化できる電子ビーム露光装
置を提供することにある。
［課題を解決するための手段］
第１図は本発明の原理図である。
図中、１０は試料台であり、各種サイズのウェーハが載
置される。
置される。
２４（Ｊピー１、Ｊ１九］整治具てあり、一面にビーム
調整用パターンが形成されている。
調整用パターンが形成されている。
２２はアクヂコエータであり、例えば圧電素子で構成さ
れ、試料台１に固設されており、ビーム調整治具２４の
一面を、試料台１０のウェーハ載置面に直交づ−ろ方向
へ微少駆動する。
れ、試料台１に固設されており、ビーム調整治具２４の
一面を、試料台１０のウェーハ載置面に直交づ−ろ方向
へ微少駆動する。
２８は検出手段であり、ビーム調整用パターンニ照射さ
れる電子ビームＥＢのスポット形状に応じた信号を出力
する。
れる電子ビームＥＢのスポット形状に応じた信号を出力
する。
４０は制御手段であり、試料台１０に載置されたウェー
ハ上面に対しフォーカス調整された電子ビーム丁ミＢを
該ビーム調整用パターンに照射させ、検出手段２８から
の検出信号に基づき、該パターン面が電子ビームＥＢの
フォーカス位置になるようアクヂコエータ２２を制御す
る。
ハ上面に対しフォーカス調整された電子ビーム丁ミＢを
該ビーム調整用パターンに照射させ、検出手段２８から
の検出信号に基づき、該パターン面が電子ビームＥＢの
フォーカス位置になるようアクヂコエータ２２を制御す
る。
［作用］
ウェーハ３の厚さがウェーハ毎に異なっていてもウェー
ハ３を試料台上に載置することができるので、同一試料
台１０を用いて各種サイズのウェーハ３を取り扱うこと
ができる。
ハ３を試料台上に載置することができるので、同一試料
台１０を用いて各種サイズのウェーハ３を取り扱うこと
ができる。
このため、ウェーハ３の試料台１０への保持機構及び試
料台１０の保持機構を簡単化できる。
料台１０の保持機構を簡単化できる。
［実施例］
（１）−実施例
以木 図面に塙づいて本発明の一実施例を説明する。
第２図は一実施例構成図であり、電子ビーム露光装置を
示す。第３図は第２図のｌ−ｌＴｌ線断面図である。
示す。第３図は第２図のｌ−ｌＴｌ線断面図である。
試料台１０の」一面は平面になっており、これに各種サ
イズのウェーハ３が載置される。この試料台ＩＯには、
ウェーハ３の載置面にアーム挿入溝１４が刻設されてお
り、ウェーハ３を静電吸着して搬送するウェーハ搬送ア
ーム１６がこのアーム挿入溝１４へ挿入される。アーム
挿入溝Ｉ４の両側の試料台１０−１＝には四部（不図示
）が形成され、この凹部にウェーハ３を吸着固定するた
めの静電吸着板１８．１８′が貼着されており、該板上
面は試料台１０の上面に一致している。
イズのウェーハ３が載置される。この試料台ＩＯには、
ウェーハ３の載置面にアーム挿入溝１４が刻設されてお
り、ウェーハ３を静電吸着して搬送するウェーハ搬送ア
ーム１６がこのアーム挿入溝１４へ挿入される。アーム
挿入溝Ｉ４の両側の試料台１０−１＝には四部（不図示
）が形成され、この凹部にウェーハ３を吸着固定するた
めの静電吸着板１８．１８′が貼着されており、該板上
面は試料台１０の上面に一致している。
試料台１０の隅部には矩形の取付穴２０が刻設されてお
り、この取付穴２０の底面にアクチュエータ２２Ａの基
端面が固着されている。このアクチュエータ２２Ａは圧
電素子を電極板（不図示）で挟持した構成であり、電極
板に電圧を印加すると、圧電素子２２Ａの上端面が試料
台１０に垂直な方向へ微小移動する。この移動の最大幅
は例えば１００μｍである。
り、この取付穴２０の底面にアクチュエータ２２Ａの基
端面が固着されている。このアクチュエータ２２Ａは圧
電素子を電極板（不図示）で挟持した構成であり、電極
板に電圧を印加すると、圧電素子２２Ａの上端面が試料
台１０に垂直な方向へ微小移動する。この移動の最大幅
は例えば１００μｍである。
圧電素子２２Ａの上端面には、ビーム調整治具２４の下
面が固着されている。ビーム調整治具２４の上面は試料
台１０に平行になっており、この上面には基盤の目状等
のビーム調整用パターン（不図示）ガ（形成されている
。
面が固着されている。ビーム調整治具２４の上面は試料
台１０に平行になっており、この上面には基盤の目状等
のビーム調整用パターン（不図示）ガ（形成されている
。
次に、ビーム調整治具２４の高さ調整装置を第４図に基
づいて説明する。
づいて説明する。
ここで、ビーム調整治具２４の上面に形成されたパター
ンの一部であるマーク２６に対し、マーク２６を横切る
方向に電子ビームＥＢを偏向させると、ビーム調整治具
２４上に配置された検出器２８Ａ、２８Ｂから、第５図
（Ａ）に示すような波形のイ言号が得られる。すなわち
、電子ビームＥＢのスポットがマーク２６の側面２６ａ
から上面２６ｂ側へ移動すると検出信号が立ち上がり、
上面２−７＝ ６ｂｌで検出信号が略−・定になり、」二面２６ｂから
反対側の側面２６ｃへ移動すると検出信号が立ち下がる
。この立ち」二かりまたは立ち下がりの傾きは、電子ビ
ームＥＢの焦点位置がビーム調整治具２４の」二面に近
付くほど急になる。
ンの一部であるマーク２６に対し、マーク２６を横切る
方向に電子ビームＥＢを偏向させると、ビーム調整治具
２４上に配置された検出器２８Ａ、２８Ｂから、第５図
（Ａ）に示すような波形のイ言号が得られる。すなわち
、電子ビームＥＢのスポットがマーク２６の側面２６ａ
から上面２６ｂ側へ移動すると検出信号が立ち上がり、
上面２−７＝ ６ｂｌで検出信号が略−・定になり、」二面２６ｂから
反対側の側面２６ｃへ移動すると検出信号が立ち下がる
。この立ち」二かりまたは立ち下がりの傾きは、電子ビ
ームＥＢの焦点位置がビーム調整治具２４の」二面に近
付くほど急になる。
検出器２８Ａ、２８Ｂの出力信号はアンプ３２へ供給さ
れて増幅され、微分回路３４で微分されて第５図（Ｂ）
に示すようなパルス信号Ｐが出力される。このパルスＰ
は、そのピーク値がピークボールド回路３６で保持され
、次いでＡ／Ｄ変換器３８でデジタル変換されて制御回
路４． ＯＡにより読み込まれる。制御回路４０Ａは例
えばマイクロコンピュータで構成されており、この読込
値の変化に応じてＤ／Ａ変換器４２へ制御データを出力
し、ドライバ４４を介してアクチュエータ２２Δへ制御
電圧を供給する。
れて増幅され、微分回路３４で微分されて第５図（Ｂ）
に示すようなパルス信号Ｐが出力される。このパルスＰ
は、そのピーク値がピークボールド回路３６で保持され
、次いでＡ／Ｄ変換器３８でデジタル変換されて制御回
路４． ＯＡにより読み込まれる。制御回路４０Ａは例
えばマイクロコンピュータで構成されており、この読込
値の変化に応じてＤ／Ａ変換器４２へ制御データを出力
し、ドライバ４４を介してアクチュエータ２２Δへ制御
電圧を供給する。
次に、この制御回路４． ＯＡの処理手順を第６図に基
づいて説明する。
づいて説明する。
（５０）Ｓ ｍａ＋ｔを０としＥを０とする。
ここにＳ ｍｎｘはパルスＰのピーク値Ｓの最大値であ
り、ＥはＤ／Ａ変換器４２へ出力する操作電圧である。
り、ＥはＤ／Ａ変換器４２へ出力する操作電圧である。
（５２）次に、電子ビーム制御回路（不図示）からビー
ム偏向の一走査完了信号が供給されるのを待って、 （５４）Ａ ／Ｄ変換器３８からピーク値Ｓを読み込む
。
ム偏向の一走査完了信号が供給されるのを待って、 （５４）Ａ ／Ｄ変換器３８からピーク値Ｓを読み込む
。
（５６）Ｓ 、！： Ｓ ｍｇｘとの値を比較し、Ｓ＞
Ｓ、、、、であれば、 （５８）Ｓ ｍ、、をＳの値に等しくし、かつ、操作電
圧ＥをΔＥだけ大きくし、 （６０）Ｄ ／Ａ変換器４２へこの操作電圧Ｅを出力し
て、操作電圧Ｅに比例した電圧をアクチュエータ２２Ａ
へ印加する。この印加電圧はラッチされる。
Ｓ、、、、であれば、 （５８）Ｓ ｍ、、をＳの値に等しくし、かつ、操作電
圧ＥをΔＥだけ大きくし、 （６０）Ｄ ／Ａ変換器４２へこの操作電圧Ｅを出力し
て、操作電圧Ｅに比例した電圧をアクチュエータ２２Ａ
へ印加する。この印加電圧はラッチされる。
次にステップ５２へ戻り、以上の処理を繰り返す。
また、ステップ５６でｓ ＝ ｓ 、、、ａｘと判定さ
れた場合には処理を終了する。
れた場合には処理を終了する。
ステップ５６でｓ ＜ ｓ ｍａｘと判定された場合に
は、 （６２）操作電圧Ｅの値をΔＥだけ小さくし、（６４）
Ｄ ／Ａ変換器４２へこの操作電圧Ｅを出力して、ピー
ク値ＳがＳ ｍａＸに略一致するようアクチュエータ２
２Δを微調整する。
は、 （６２）操作電圧Ｅの値をΔＥだけ小さくし、（６４）
Ｄ ／Ａ変換器４２へこの操作電圧Ｅを出力して、ピー
ク値ＳがＳ ｍａＸに略一致するようアクチュエータ２
２Δを微調整する。
次に、」二重の如く構成された本実施例の全体の動作を
説明する。
説明する。
第２図において、ウェーハ３が静電吸着されたウェーハ
搬送アーム１６を試料台１０側へ移動させ、ウェーハ搬
送アーム１６をアーム挿入溝１４内に挿入した後、静電
吸着板１８．１８°間に電圧を印加してウェーハ３を試
料台１０上に静電吸着し、ウェーハ搬送アーム１６によ
る静電吸着を解除してアーム挿入溝１４内からウェーハ
搬送アームＩ６を引き出す。
搬送アーム１６を試料台１０側へ移動させ、ウェーハ搬
送アーム１６をアーム挿入溝１４内に挿入した後、静電
吸着板１８．１８°間に電圧を印加してウェーハ３を試
料台１０上に静電吸着し、ウェーハ搬送アーム１６によ
る静電吸着を解除してアーム挿入溝１４内からウェーハ
搬送アームＩ６を引き出す。
次に、ウェーハ３の上面中央に形成され位置合わせマー
クに電子ビームＥ Ｂを照射し、」二重フォーカス調整
と同一方法でウェーハ３の上面に対する電子ビームＥＢ
のフォーカス調整を行う。
クに電子ビームＥ Ｂを照射し、」二重フォーカス調整
と同一方法でウェーハ３の上面に対する電子ビームＥＢ
のフォーカス調整を行う。
次に、試料台１０を移動させ、電子ビームＥＢをビーム
調整治具２４上に照射し、上記ビーム調整治具２４の上
面が電子ビームＥＢのフォーカス位置になるようビーム
調整治具２４の高さ調整を行う。
調整治具２４上に照射し、上記ビーム調整治具２４の上
面が電子ビームＥＢのフォーカス位置になるようビーム
調整治具２４の高さ調整を行う。
ウェーハ３の」二面とビーム調整治具２４の−１一面と
の一致精度は２〜３μｍ以下であれば充分であるが、圧
電素子を用いたアクチュエータ２２Δは００２μｍ程度
の精度で伸縮調整を行うことができるので問題がない。
の一致精度は２〜３μｍ以下であれば充分であるが、圧
電素子を用いたアクチュエータ２２Δは００２μｍ程度
の精度で伸縮調整を行うことができるので問題がない。
「発明の効果」
以」二説明したように、本発明によれば、試料台に載置
されたウェーハ上のマークに照射してフォーカス調整さ
れた電子ビームを、ビーム調整用パターンに照射し、ビ
ーム調整用パターンに照射される電子ビームのスポット
形状に応じた信号を出力する検出手段からの信号に基づ
き、該パターン面が電子ビームのフォーカス位置になる
ように、試料台のウェーハ載置面に直交する方向へビー
ム調整治具をアクチュエータで微少駆動する構成であり
、ウェーハの厚さがウェーハ毎に異なっていてもウェー
ハを試料台」二に載置することができるので、同一試料
台を用いて各種サイズのウェーハを取り扱うことができ
るという優れた効果を奏する。
されたウェーハ上のマークに照射してフォーカス調整さ
れた電子ビームを、ビーム調整用パターンに照射し、ビ
ーム調整用パターンに照射される電子ビームのスポット
形状に応じた信号を出力する検出手段からの信号に基づ
き、該パターン面が電子ビームのフォーカス位置になる
ように、試料台のウェーハ載置面に直交する方向へビー
ム調整治具をアクチュエータで微少駆動する構成であり
、ウェーハの厚さがウェーハ毎に異なっていてもウェー
ハを試料台」二に載置することができるので、同一試料
台を用いて各種サイズのウェーハを取り扱うことができ
るという優れた効果を奏する。
そのうえ、ウェーハを試料台上に載置することができ、
かつ、同一試料台で各種サイズのウェーハを取り扱うこ
とができるので、ウェーハの試料台への保持機構を簡単
化できるという優れた効果も奏する。
かつ、同一試料台で各種サイズのウェーハを取り扱うこ
とができるので、ウェーハの試料台への保持機構を簡単
化できるという優れた効果も奏する。
第１図は本発明の原理図、
第２図は本発明の一実施・例に係る試料台の平面図、
第３図は第２図のＩｎ −ＩＵ線断面図、第４図はビー
ム調整治具の高さ調整装置を示すブロック図、 第５図（Δ）は検出器２８Δ、２８Ｂの出力波形図、同
図（Ｂ）はその微分波形図、 第６図は制御回路４０Δのソフトウェア構成を３：ウェ
ーハ １０、■０Ａ：試料台 １４：アーム挿入溝 １６：ウェーハ搬送アーム １８、＋８’ 静電吸着板 ２２．２２Ａ、アクチュエータ ２４：ビーム調整治具 ２６：マーク ２８Ａ、２８Ｂ・検出器
ム調整治具の高さ調整装置を示すブロック図、 第５図（Δ）は検出器２８Δ、２８Ｂの出力波形図、同
図（Ｂ）はその微分波形図、 第６図は制御回路４０Δのソフトウェア構成を３：ウェ
ーハ １０、■０Ａ：試料台 １４：アーム挿入溝 １６：ウェーハ搬送アーム １８、＋８’ 静電吸着板 ２２．２２Ａ、アクチュエータ ２４：ビーム調整治具 ２６：マーク ２８Ａ、２８Ｂ・検出器
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ウェーハが載置される試料台（１０）と、 一面にビーム調整用パターンが形成されたビーム調整治
具（２４）と、 該試料台（１０）に固設され、該ビーム調整治具（２４
）の該一面を、該試料台のウェーハ載置面に直交する方
向へ微少駆動するアクチュエータ（２２）と、該ビーム
調整用パターンに照射される電子ビーム（ＥＢ）のスポ
ット形状に応じた信号を出力する検出手段（２８）と、 該試料台（１０）に載置されたウェーハ上のマークに照
射してフォーカス調整された電子ビーム（ＥＢ）を該ビ
ーム調整用パターンに照射させ、該検出手段（２８）か
らの検出信号に基づき、該パターン面が該電子ビーム（
ＥＢ）のフォーカス位置になるよう該アクチュエータ（
２２）を制御する制御手段（４０）と、を有することを
特徴とする電子ビーム露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63097765A JP2642945B2 (ja) | 1988-04-20 | 1988-04-20 | 電子ビーム露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63097765A JP2642945B2 (ja) | 1988-04-20 | 1988-04-20 | 電子ビーム露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01268122A true JPH01268122A (ja) | 1989-10-25 |
| JP2642945B2 JP2642945B2 (ja) | 1997-08-20 |
Family
ID=14200961
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63097765A Expired - Fee Related JP2642945B2 (ja) | 1988-04-20 | 1988-04-20 | 電子ビーム露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2642945B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5708276A (en) * | 1995-07-20 | 1998-01-13 | Fujitsu Limited | Electron-beam exposure device and a method of detecting a mark position for the device |
| GB2386468A (en) * | 2001-10-15 | 2003-09-17 | Pioneer Corp | Electron beam apparatus and electrom beam adjusting method |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5536990A (en) * | 1979-07-16 | 1980-03-14 | Toshiba Corp | Apparatus for applying electron beam |
| JPS57139924A (en) * | 1981-02-23 | 1982-08-30 | Hitachi Ltd | Drawing device by electron beam |
| JPS6212942U (ja) * | 1985-02-19 | 1987-01-26 |
-
1988
- 1988-04-20 JP JP63097765A patent/JP2642945B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5536990A (en) * | 1979-07-16 | 1980-03-14 | Toshiba Corp | Apparatus for applying electron beam |
| JPS57139924A (en) * | 1981-02-23 | 1982-08-30 | Hitachi Ltd | Drawing device by electron beam |
| JPS6212942U (ja) * | 1985-02-19 | 1987-01-26 |
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| GB2386468A (en) * | 2001-10-15 | 2003-09-17 | Pioneer Corp | Electron beam apparatus and electrom beam adjusting method |
| GB2386468B (en) * | 2001-10-15 | 2005-06-29 | Pioneer Corp | Electron beam apparatus and electron beam adjusting method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2642945B2 (ja) | 1997-08-20 |
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