JPH01271035A - 鋼の連続鋳造方法 - Google Patents
鋼の連続鋳造方法Info
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- JPH01271035A JPH01271035A JP9782588A JP9782588A JPH01271035A JP H01271035 A JPH01271035 A JP H01271035A JP 9782588 A JP9782588 A JP 9782588A JP 9782588 A JP9782588 A JP 9782588A JP H01271035 A JPH01271035 A JP H01271035A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明はスラブの連続鋳造において、直流磁石を用いて
鋳型内の溶鋼の湯面波動を制御し、良好な鋳片を製造す
る鋼の連続鋳造用鋳型に間する。
鋳型内の溶鋼の湯面波動を制御し、良好な鋳片を製造す
る鋼の連続鋳造用鋳型に間する。
［従来の技術］
第５図は従来のスラブの連続鋳造機の鋳型内の溶鋼及び
パウダーの状態を示す図である。この図を参照しながら
従来の技術を説明する。鋳型１内の溶鋼８の表面には溶
鋼の酸化防止と保温、凝固シェル９と鋳型１との間の潤
滑、非金属介在物の吸着等の役目をするモールドパウダ
ー５がある。
パウダーの状態を示す図である。この図を参照しながら
従来の技術を説明する。鋳型１内の溶鋼８の表面には溶
鋼の酸化防止と保温、凝固シェル９と鋳型１との間の潤
滑、非金属介在物の吸着等の役目をするモールドパウダ
ー５がある。
このモールドパウダー５が溶１８と接する面は溶鋼の熱
で溶融パウダー６になっており、その反対の大気側は粉
状のパウダー７となって溶鋼の表面を覆っている。溶融
パウダー６は消耗するので一定のモールドパウダー厚さ
を維持するために、溶融パウダー６の消耗量に見合うだ
けの量が補給される。第５図に示すように鋳型１の中央
に鉛直に設けられた浸漬ノズル２の先端の吐出孔３は、
鋳型１の短辺方向に対向して開孔している。溶鋼はこの
吐出孔３から鋳型１内に吐出される。溶鋼の吐出流４は
鋳型１の短辺方向にハの字状になって溶湯内に拡散され
る。
で溶融パウダー６になっており、その反対の大気側は粉
状のパウダー７となって溶鋼の表面を覆っている。溶融
パウダー６は消耗するので一定のモールドパウダー厚さ
を維持するために、溶融パウダー６の消耗量に見合うだ
けの量が補給される。第５図に示すように鋳型１の中央
に鉛直に設けられた浸漬ノズル２の先端の吐出孔３は、
鋳型１の短辺方向に対向して開孔している。溶鋼はこの
吐出孔３から鋳型１内に吐出される。溶鋼の吐出流４は
鋳型１の短辺方向にハの字状になって溶湯内に拡散され
る。
［発明が解決しようとする課題］
第６図は溶鋼の湯面波動を示す図である。しかしながら
この溶鋼の吐出流４は鋳型１に沿って形成した凝固シェ
ル９に衝突して上下の２つの流れ、反転流１１と侵入流
１２に分かれ、鋳型１面の凝固シェル９に沿って上昇す
る反転流１１は溶鋼８の湯面を盛り上げるとともに、湯
面波動１０を発生させる。特に溶鋼吐出量が３Ｔｂ上の
高速鋳造においては、吐出流速が大きくなるため鋳型１
表面に形成された凝固シェル９に、衝突後の溶鋼の上昇
流も大きくなり溶鋼表面の湯面波動１０が大きくなる。
この溶鋼の吐出流４は鋳型１に沿って形成した凝固シェ
ル９に衝突して上下の２つの流れ、反転流１１と侵入流
１２に分かれ、鋳型１面の凝固シェル９に沿って上昇す
る反転流１１は溶鋼８の湯面を盛り上げるとともに、湯
面波動１０を発生させる。特に溶鋼吐出量が３Ｔｂ上の
高速鋳造においては、吐出流速が大きくなるため鋳型１
表面に形成された凝固シェル９に、衝突後の溶鋼の上昇
流も大きくなり溶鋼表面の湯面波動１０が大きくなる。
この溶鋼表面の湯面波動を調整する方法として直流磁石
をバックプレートの背面に配設して、溶鋼吐出流に直流
磁場を印加し、吐出流にブレーキをかけ吐出流の流速を
制御する方法がある。第７図はバックプレートの背面に
直流磁石を配設した従来の鋳型長辺銅板を示す図で、（
ａ）は正面図で、（ｂ）は冷却水の水箱側から見た側面
断面図で、（ｃ）は第７図（ａ）の線Ａ−Ａ’に沿った
平面断面図である。２１は鋳型長辺銅板、２２は冷却溝
、２３．２４は冷却箱で、詳しくは２３は上部の冷却箱
、２４は下部の冷却箱、２５はＯリング、２６はボルト
、２７は直流磁石、２８はバックプレートである。鋳型
長辺銅板２１裏面には冷却溝２２が縦方向に切削されて
いる。その面にバックプレート２８が配設されている。
をバックプレートの背面に配設して、溶鋼吐出流に直流
磁場を印加し、吐出流にブレーキをかけ吐出流の流速を
制御する方法がある。第７図はバックプレートの背面に
直流磁石を配設した従来の鋳型長辺銅板を示す図で、（
ａ）は正面図で、（ｂ）は冷却水の水箱側から見た側面
断面図で、（ｃ）は第７図（ａ）の線Ａ−Ａ’に沿った
平面断面図である。２１は鋳型長辺銅板、２２は冷却溝
、２３．２４は冷却箱で、詳しくは２３は上部の冷却箱
、２４は下部の冷却箱、２５はＯリング、２６はボルト
、２７は直流磁石、２８はバックプレートである。鋳型
長辺銅板２１裏面には冷却溝２２が縦方向に切削されて
いる。その面にバックプレート２８が配設されている。
冷却溝２２とバックプレート２８の空隙に冷却水を通す
、バックプレート２８の上方と下方に冷却箱２３が配置
されており、鋳型長辺銅板２１を冷却する。冷却水は下
部の冷却箱２４に給水され、冷却溝２２、上部の冷却箱
２３を通って系外に排水される。鋳型長辺銅板２１と冷
却箱２３の接続は冷却箱２３．２４の裏面よりボルト２
６により鋳型長辺銅板２１に締着する。又、鋳型長辺銅
板２１と冷却箱２３．２４の冷却水が外部に漏れないよ
うに、鋳型長辺銅板２１と冷却箱２３．２４の間にＯリ
ング２５を配置する。
、バックプレート２８の上方と下方に冷却箱２３が配置
されており、鋳型長辺銅板２１を冷却する。冷却水は下
部の冷却箱２４に給水され、冷却溝２２、上部の冷却箱
２３を通って系外に排水される。鋳型長辺銅板２１と冷
却箱２３の接続は冷却箱２３．２４の裏面よりボルト２
６により鋳型長辺銅板２１に締着する。又、鋳型長辺銅
板２１と冷却箱２３．２４の冷却水が外部に漏れないよ
うに、鋳型長辺銅板２１と冷却箱２３．２４の間にＯリ
ング２５を配置する。
そして溶鋼表面の湯面の波動をコントロールする方法と
して直流磁石２７を冷却箱２３と２４の中央部に配設し
、溶鋼吐出流に直流磁場を印加し、吐出流にブレーキを
かけて吐出流の流速を抑えているが、最近、連続鋳造機
の生産性を上げるために一層の高速鋳造（例えば３ Ｔ
ｏｎ／ｗｉｎ以上）を行うと、この方式では吐出流にブ
レーキをかけても吐出流の流速を完全に抑えることがで
きず、鋳型短辺銅板部付近の溶鋼表面の湯面波動が大き
くなり、良好な表面性状を有する鋳片を得られないとい
う問題があった。この発明は係る事情に鑑みてなされた
ものであって、浸漬ノズル部の吐出流にブレーキをかけ
る直流磁石と、鋳型短辺銅板部付近の溶鋼表面の湯面の
波動を制御する直流磁石を設置し、鋳型内の湯面変動を
抑制をすることによりパウダー巻き込みの減少を図り、
鋳片の表面欠陥を防止することを目的とする。
して直流磁石２７を冷却箱２３と２４の中央部に配設し
、溶鋼吐出流に直流磁場を印加し、吐出流にブレーキを
かけて吐出流の流速を抑えているが、最近、連続鋳造機
の生産性を上げるために一層の高速鋳造（例えば３ Ｔ
ｏｎ／ｗｉｎ以上）を行うと、この方式では吐出流にブ
レーキをかけても吐出流の流速を完全に抑えることがで
きず、鋳型短辺銅板部付近の溶鋼表面の湯面波動が大き
くなり、良好な表面性状を有する鋳片を得られないとい
う問題があった。この発明は係る事情に鑑みてなされた
ものであって、浸漬ノズル部の吐出流にブレーキをかけ
る直流磁石と、鋳型短辺銅板部付近の溶鋼表面の湯面の
波動を制御する直流磁石を設置し、鋳型内の湯面変動を
抑制をすることによりパウダー巻き込みの減少を図り、
鋳片の表面欠陥を防止することを目的とする。
［課題を解決するための手段］
この発明の鋼の連続鋳造用鋳型は、鋳型長辺銅板の裏面
を冷却するための銅板裏面に横方向に切削された冷却溝
と、前記冷却溝を覆うバックプレートと、前記バックプ
レートの両端に配設されて鋳型長０辺銅板の冷却溝に冷
却水を給排水する冷却箱とによって構成された連続鋳造
鋳造鋳型に、鋳型長辺銅板の裏面の上端から５０〜２５
０■の範囲に２対以上の直流磁石を配して磁場を印加し
ながら鋳造することを特徴とする。
を冷却するための銅板裏面に横方向に切削された冷却溝
と、前記冷却溝を覆うバックプレートと、前記バックプ
レートの両端に配設されて鋳型長０辺銅板の冷却溝に冷
却水を給排水する冷却箱とによって構成された連続鋳造
鋳造鋳型に、鋳型長辺銅板の裏面の上端から５０〜２５
０■の範囲に２対以上の直流磁石を配して磁場を印加し
ながら鋳造することを特徴とする。
［作用］
この発明による鋼の連続鋳造用鋳型は鋳型長辺銅板の裏
面に横方向に切削され冷却溝が設置されているので、冷
却溝に冷却水を供給する冷却箱が鋳型長辺銅板の両端に
配置できる。そうすると浸漬ノズルの吐出孔位置に相当
する範囲（鋳型幅の中央部で鋳型長辺銅板の上端から１
５０〜２５０ｍｍ）と吐出流が短辺面の凝固シェルに衝
突して上昇する反転流を制御する位置（鋳型短辺銅板の
両端から１００ｍｍ位置で、かつ鋳型長辺銅板の上端か
ら５０〜１５０ｍｍの範囲）に直流磁石を配置すると浸
漬ノズルの吐出流にブレーキをかかり、鋳型長辺銅板部
付近の溶鋼表面の湯面の波動を制御することができる。
面に横方向に切削され冷却溝が設置されているので、冷
却溝に冷却水を供給する冷却箱が鋳型長辺銅板の両端に
配置できる。そうすると浸漬ノズルの吐出孔位置に相当
する範囲（鋳型幅の中央部で鋳型長辺銅板の上端から１
５０〜２５０ｍｍ）と吐出流が短辺面の凝固シェルに衝
突して上昇する反転流を制御する位置（鋳型短辺銅板の
両端から１００ｍｍ位置で、かつ鋳型長辺銅板の上端か
ら５０〜１５０ｍｍの範囲）に直流磁石を配置すると浸
漬ノズルの吐出流にブレーキをかかり、鋳型長辺銅板部
付近の溶鋼表面の湯面の波動を制御することができる。
［実施例］
以下本発明の実施例を図面を参照しながら具体的に説明
する。第１図は本発明の実施例の鋳型長３７１銅板を示
す図で、（ａ＞は鋳型長辺銅板の正面図、（ｂ）は第１
図（ａ）の線Ａ−Ａ’に沿った断面図である。第２図は
本発明の実施例の鋳型長辺銅板の裏面に配設された冷却
水箱を示す図で、（ａ）は冷却水箱等の正面図、（ｂ）
は第２図＜ａ）の線Ｂ−Ｂ’矢視の断面図である。３１
は鋳型長辺銅板、３２は冷却溝、３３は冷却箱のバック
プレート、３４．３５は冷却箱で、詳しくは３４は鋳型
長辺銅板冷却水の給水側の冷却箱、３５は鋳型長辺銅板
冷却水の排水側の冷却箱（設備の配置上３４．３５が逆
になることもある）、３６は直流磁石で、この冷却箱の
バックプレート３３の裏面側に配設した。
する。第１図は本発明の実施例の鋳型長３７１銅板を示
す図で、（ａ＞は鋳型長辺銅板の正面図、（ｂ）は第１
図（ａ）の線Ａ−Ａ’に沿った断面図である。第２図は
本発明の実施例の鋳型長辺銅板の裏面に配設された冷却
水箱を示す図で、（ａ）は冷却水箱等の正面図、（ｂ）
は第２図＜ａ）の線Ｂ−Ｂ’矢視の断面図である。３１
は鋳型長辺銅板、３２は冷却溝、３３は冷却箱のバック
プレート、３４．３５は冷却箱で、詳しくは３４は鋳型
長辺銅板冷却水の給水側の冷却箱、３５は鋳型長辺銅板
冷却水の排水側の冷却箱（設備の配置上３４．３５が逆
になることもある）、３６は直流磁石で、この冷却箱の
バックプレート３３の裏面側に配設した。
ここでは鋳型長辺銅板３１の片側の例で説明したが、こ
れと同様なものは溶鋼を挟んで反対側にも相対向して配
置されている。
れと同様なものは溶鋼を挟んで反対側にも相対向して配
置されている。
（実施例１）
第３図はこの発明の一実施例の鋳型長辺銅板のバックプ
レートに直流磁石を配設した図で（ａ）は平面図で、（
ｂ）は正面図である。３１は鋳型長辺銅板（３１ａは前
面鋳型長辺銅板、３１ｂは後面鋳型長辺銅板）、３２は
冷却溝、３３は冷却箱のバックプレート、３４．３５は
冷却箱で、詳しくは、３４は鋳型長辺銅板冷却水の給水
側の冷却箱、３５は鋳型長辺銅板冷却水の排水側の冷却
箱（設備の配置上３４．３５が逆になることもある＞、
３６．３７は直流磁石（３６は第１直流磁石、３７は第
２直流磁石）、３８は鋳型短辺銅板、３９は鋳型短辺銅
板の冷却水の冷却箱、４０は０リングで、４１はボルト
である。鋳型長辺銅板３１の幅中央で、浸漬ノズルの吐
出孔部に設置した直流磁石を第１直流磁石３６といい、
磁極の断面形状は１０１００Ｘ２００のものを用いた。
レートに直流磁石を配設した図で（ａ）は平面図で、（
ｂ）は正面図である。３１は鋳型長辺銅板（３１ａは前
面鋳型長辺銅板、３１ｂは後面鋳型長辺銅板）、３２は
冷却溝、３３は冷却箱のバックプレート、３４．３５は
冷却箱で、詳しくは、３４は鋳型長辺銅板冷却水の給水
側の冷却箱、３５は鋳型長辺銅板冷却水の排水側の冷却
箱（設備の配置上３４．３５が逆になることもある＞、
３６．３７は直流磁石（３６は第１直流磁石、３７は第
２直流磁石）、３８は鋳型短辺銅板、３９は鋳型短辺銅
板の冷却水の冷却箱、４０は０リングで、４１はボルト
である。鋳型長辺銅板３１の幅中央で、浸漬ノズルの吐
出孔部に設置した直流磁石を第１直流磁石３６といい、
磁極の断面形状は１０１００Ｘ２００のものを用いた。
第１直流磁石３６ａの一方の磁極４５ａは鋳型長辺銅板
３１の上端から１５０〜２５０ｍｍの位置に相当する場
所、第１直流磁石３６ａの他方の磁極４５ｂは鋳型長辺
銅板３１の上端から７５０〜８５０ ｍｍの位置に相当
する場所に設置した。第１直流磁石３６ａの一方の磁極
４５ａが設置された鋳型長辺銅板３１の上端から１５０
〜２５０１ｍ５の範囲は、浸漬ノズルの吐出孔があるあ
る場所で、この磁石で吐出流を制御することができる。
３１の上端から１５０〜２５０ｍｍの位置に相当する場
所、第１直流磁石３６ａの他方の磁極４５ｂは鋳型長辺
銅板３１の上端から７５０〜８５０ ｍｍの位置に相当
する場所に設置した。第１直流磁石３６ａの一方の磁極
４５ａが設置された鋳型長辺銅板３１の上端から１５０
〜２５０１ｍ５の範囲は、浸漬ノズルの吐出孔があるあ
る場所で、この磁石で吐出流を制御することができる。
第１直流磁石３６ａの他方の磁極４５ｂは鋳型長辺銅板
３１の上端から７５０〜８５０Ｉｌ１ｍの位置は、鋳型
長辺銅板の下端から飛び出でない範囲であり、この範囲
に設置した０通常の鋳型長辺銅板の高さは９００ｍｍで
あるため、他方の磁極４５ｂを７５０〜８５０１ＩＩＩ
１１の範囲は磁極が鋳型下端から飛出ない位置である。
３１の上端から７５０〜８５０Ｉｌ１ｍの位置は、鋳型
長辺銅板の下端から飛び出でない範囲であり、この範囲
に設置した０通常の鋳型長辺銅板の高さは９００ｍｍで
あるため、他方の磁極４５ｂを７５０〜８５０１ＩＩＩ
１１の範囲は磁極が鋳型下端から飛出ない位置である。
前面鋳型長辺銅板３１ａの第１直流磁石を３６ａ、後面
鋳型長辺銅板３１ｂの第１直流磁石を３６ｂとした。磁
束の方向が鋳型の厚み方向に貫通するように前面鋳型長
辺銅板３１ａの第１直流磁石３６ａと後面鋳型長辺銅板
３１ｂの第１直流磁石３６ｂに、磁極として、Ｎ極とＳ
極（磁極４５ａ、４６ａ、４５ｂ、４６ｂ相当する）を
設定した。即ち、前面鋳型長辺銅板３１ａの第１直流磁
石３６ａの上側の磁極４５ａをＮ極、下側の磁極４５．
ｂをＳ極とすれば、後面鋳型長辺銅板３１ｂの第１直流
磁石３６ｂの上側の磁極４６ａをＳ極、下側の磁極４６
ｂをＮ極とした。またこの逆であってもさしつかえない
、一方、鋳型短辺銅板３８付近で、鋳型長辺銅板３１の
背面に磁極が配置された直流磁石を第２直流磁石３７ａ
といい、鋳型短辺銅板３８と前面鋳型長辺銅板３１ａと
後面鋳型長辺銅板３１ｂを挟み込むように配置した。そ
の設置位置は鋳型短辺銅板３８から１００１１ｍ離れた
鋳型長辺銅板３１の浸漬ノズル側よりの範囲で、鋳型長
辺銅板３１の上端から５０〜１５０ｍｍの範囲とした。
鋳型長辺銅板３１ｂの第１直流磁石を３６ｂとした。磁
束の方向が鋳型の厚み方向に貫通するように前面鋳型長
辺銅板３１ａの第１直流磁石３６ａと後面鋳型長辺銅板
３１ｂの第１直流磁石３６ｂに、磁極として、Ｎ極とＳ
極（磁極４５ａ、４６ａ、４５ｂ、４６ｂ相当する）を
設定した。即ち、前面鋳型長辺銅板３１ａの第１直流磁
石３６ａの上側の磁極４５ａをＮ極、下側の磁極４５．
ｂをＳ極とすれば、後面鋳型長辺銅板３１ｂの第１直流
磁石３６ｂの上側の磁極４６ａをＳ極、下側の磁極４６
ｂをＮ極とした。またこの逆であってもさしつかえない
、一方、鋳型短辺銅板３８付近で、鋳型長辺銅板３１の
背面に磁極が配置された直流磁石を第２直流磁石３７ａ
といい、鋳型短辺銅板３８と前面鋳型長辺銅板３１ａと
後面鋳型長辺銅板３１ｂを挟み込むように配置した。そ
の設置位置は鋳型短辺銅板３８から１００１１ｍ離れた
鋳型長辺銅板３１の浸漬ノズル側よりの範囲で、鋳型長
辺銅板３１の上端から５０〜１５０ｍｍの範囲とした。
この第２直流磁石３７ａには、磁極４７ａ、４７ｂが配
置されている。この第２直流磁石３７ａには鋳型短辺銅
板３８と連動して動くようにしである。即ち、スラブ幅
が変化しても常に鋳型短辺銅板３８からの相対位置が変
わらないようにした。なお鋳型短辺銅板３８は相対向す
る位置にもあり、かつ第２直流磁石３７ｂがあり、その
磁極は４８ａ、４８ｂとなる。この配置も第２直流磁石
３７ａと同じである０本発明の連続鋳造用鋳型を使って
鋳造したスラブを圧延し、製品の表面疵の発生状況を調
べた結果を第１表に示す、この時の鋳造条件はスラブ幅
は１０００ｍｍ、スラブ厚みは２２０ｍｍ、引き抜き速
度２．５ｍ／ｍｉａ、浸漬ノズルの内径は８０ｍｍΦ、
浸漬ノズルの吐出孔径は７５ｍｍΦ、浸漬ノズル内側の
底部の形状は逆Ｙ型であり、浸漬ノズルの吐出孔の角度
は水平に対して２５度下向きのものを用いた。各々の直
流磁石の磁束密度は０２１０００．２０００ガウスの場
合について比較した。第１表に示すように磁束密度を上
げることにより製品の表面疵の発生率は減少している。
置されている。この第２直流磁石３７ａには鋳型短辺銅
板３８と連動して動くようにしである。即ち、スラブ幅
が変化しても常に鋳型短辺銅板３８からの相対位置が変
わらないようにした。なお鋳型短辺銅板３８は相対向す
る位置にもあり、かつ第２直流磁石３７ｂがあり、その
磁極は４８ａ、４８ｂとなる。この配置も第２直流磁石
３７ａと同じである０本発明の連続鋳造用鋳型を使って
鋳造したスラブを圧延し、製品の表面疵の発生状況を調
べた結果を第１表に示す、この時の鋳造条件はスラブ幅
は１０００ｍｍ、スラブ厚みは２２０ｍｍ、引き抜き速
度２．５ｍ／ｍｉａ、浸漬ノズルの内径は８０ｍｍΦ、
浸漬ノズルの吐出孔径は７５ｍｍΦ、浸漬ノズル内側の
底部の形状は逆Ｙ型であり、浸漬ノズルの吐出孔の角度
は水平に対して２５度下向きのものを用いた。各々の直
流磁石の磁束密度は０２１０００．２０００ガウスの場
合について比較した。第１表に示すように磁束密度を上
げることにより製品の表面疵の発生率は減少している。
第１表
※は磁束密度は各々の直流磁石とも同じ※※は表面疵の
発生率＝ （表面疵の発生コイル／観察コイル）Ｘ１００（実施例
２） 第４図は本発明の他の実施例の図であり、鋳型長辺銅板
の冷却水箱のバックプレートに直流磁石を配設した図で
ある。第４図において、（ａ）は平面図、（ｂ）は側面
図である。鋳型長辺銅板と冷却水箱等は実施例１と同一
のものを用いて、第１直流磁石は実施例１と同一の配置
であるが、第２直流磁石３７は実施例１の配置と異なり
前面鋳型長辺銅板３１ａ、後面鋳型長辺銅板３１ｂ対象
に配置した。第２直流磁石は、上端の磁極５１ａ、５２
ａは、鋳型短辺銅板３８から１００■ｍ離れた鋳型長辺
銅板３１の浸漬ノズル側よりで、鋳型長辺銅板３１の上
端から５０〜１５０ｍｍの範囲で、一方の磁極５１．５
２ｂは、鋳型短辺銅板３８から１００ｍｍ離れた鋳型長
辺銅板３１の浸漬ノズル側より、鋳型長辺銅板３１の上
端から６５０〜７５０ｍｍの範囲である。第２直流磁石
の上端の磁極５１ａ、５２ｂは、凝固シェルに沿って上
昇する反転流を制御し、湯面波動を一定にし、第２直流
磁石の下端の磁極５１ｂ、５２ｂは、凝固シェルに沿っ
て下降する侵入流を制御し、非金属介在物の鋳片への巻
き込みを防止する。前面鋳型長辺銅板３１ａの浸漬ノズ
ルを中心に対称の位置に、第２直流磁石３７ｂが配置さ
れている。ここでの直流磁石の上端の磁極５３ａ。
発生率＝ （表面疵の発生コイル／観察コイル）Ｘ１００（実施例
２） 第４図は本発明の他の実施例の図であり、鋳型長辺銅板
の冷却水箱のバックプレートに直流磁石を配設した図で
ある。第４図において、（ａ）は平面図、（ｂ）は側面
図である。鋳型長辺銅板と冷却水箱等は実施例１と同一
のものを用いて、第１直流磁石は実施例１と同一の配置
であるが、第２直流磁石３７は実施例１の配置と異なり
前面鋳型長辺銅板３１ａ、後面鋳型長辺銅板３１ｂ対象
に配置した。第２直流磁石は、上端の磁極５１ａ、５２
ａは、鋳型短辺銅板３８から１００■ｍ離れた鋳型長辺
銅板３１の浸漬ノズル側よりで、鋳型長辺銅板３１の上
端から５０〜１５０ｍｍの範囲で、一方の磁極５１．５
２ｂは、鋳型短辺銅板３８から１００ｍｍ離れた鋳型長
辺銅板３１の浸漬ノズル側より、鋳型長辺銅板３１の上
端から６５０〜７５０ｍｍの範囲である。第２直流磁石
の上端の磁極５１ａ、５２ｂは、凝固シェルに沿って上
昇する反転流を制御し、湯面波動を一定にし、第２直流
磁石の下端の磁極５１ｂ、５２ｂは、凝固シェルに沿っ
て下降する侵入流を制御し、非金属介在物の鋳片への巻
き込みを防止する。前面鋳型長辺銅板３１ａの浸漬ノズ
ルを中心に対称の位置に、第２直流磁石３７ｂが配置さ
れている。ここでの直流磁石の上端の磁極５３ａ。
５４ａは、凝固シェルに沿って上昇する反転流及び湯面
波動を同時に制御し、第２直流磁石の下端の磁極５３ｂ
、５４ｂは、凝固シェルに沿って下降する侵入流を制御
し、非金属介在物の鋳片への巻き込みを防止する。ここ
では前面鋳型長辺銅板３１ａ側について説明したが、こ
れと同様なものが後面鋳型長辺銅板３１ｂ側にも配置さ
れている。即ち、第１直流磁石３６ｂ、第２直流磁石３
７ａ’、第２直流磁石３７ｂ′である。この第２直流磁
石３７には鋳型短辺銅板３８と連動して動くようにしで
ある。即ち、スラブ幅が変化しても常に鋳型短辺銅板３
８からの相対位置が変わらないようにした。
波動を同時に制御し、第２直流磁石の下端の磁極５３ｂ
、５４ｂは、凝固シェルに沿って下降する侵入流を制御
し、非金属介在物の鋳片への巻き込みを防止する。ここ
では前面鋳型長辺銅板３１ａ側について説明したが、こ
れと同様なものが後面鋳型長辺銅板３１ｂ側にも配置さ
れている。即ち、第１直流磁石３６ｂ、第２直流磁石３
７ａ’、第２直流磁石３７ｂ′である。この第２直流磁
石３７には鋳型短辺銅板３８と連動して動くようにしで
ある。即ち、スラブ幅が変化しても常に鋳型短辺銅板３
８からの相対位置が変わらないようにした。
本発明の連続鋳造用鋳型を使って鋳造したスラブを圧延
し、製品の表面疵の発生状況を調べた結果を第２表に示
す、この時の鋳造条件はスラブ幅１２００ｍｍ、スラブ
厚み２２０ｕ、引き抜き速度２．２ｍ／ｍｉｓ、浸漬ノ
ズルの内径８０ＩｌｆｆｌΦ、浸漬ノズルの吐出孔径７
５ｍｍΦ、浸漬ノズル内側の底部の形状は逆Ｙ型であり
、浸漬ノズルの吐出孔の角度は水平に対して２５度下向
きのものを用いた。各々の直流磁石の磁束密度はＯｌｌ
０００゜２０００ガウスの場合について比較した。第
２表に示すように磁束密度を上げることにより製品の表
面疵の発生率は減少している。
し、製品の表面疵の発生状況を調べた結果を第２表に示
す、この時の鋳造条件はスラブ幅１２００ｍｍ、スラブ
厚み２２０ｕ、引き抜き速度２．２ｍ／ｍｉｓ、浸漬ノ
ズルの内径８０ＩｌｆｆｌΦ、浸漬ノズルの吐出孔径７
５ｍｍΦ、浸漬ノズル内側の底部の形状は逆Ｙ型であり
、浸漬ノズルの吐出孔の角度は水平に対して２５度下向
きのものを用いた。各々の直流磁石の磁束密度はＯｌｌ
０００゜２０００ガウスの場合について比較した。第
２表に示すように磁束密度を上げることにより製品の表
面疵の発生率は減少している。
第２表
※は磁束密度は各々の直流磁石とも同じ※※は表面疵の
発生率＝ （表面疵の発生コイル／観察コイル）Ｘ１００［発明の
効果］ この発明は冷却箱が鋳型長辺銅板の両端に配置されてい
るので、直流磁石を鋳型長辺銅板の任意の位置に設置で
きる。そのため鋳型内の溶鋼の流動を自由に制御するこ
とができ、溶鋼表面の波動を減衰させることができる。
発生率＝ （表面疵の発生コイル／観察コイル）Ｘ１００［発明の
効果］ この発明は冷却箱が鋳型長辺銅板の両端に配置されてい
るので、直流磁石を鋳型長辺銅板の任意の位置に設置で
きる。そのため鋳型内の溶鋼の流動を自由に制御するこ
とができ、溶鋼表面の波動を減衰させることができる。
その結果、製品の表面疵の発生率が減少する。
第１図は本発明の実施例の鋳型長辺銅板を示す図、第２
図は本発明の実施例の鋳型長辺銅板の裏面に配設された
冷却水箱を示す図、第３図はこの発明の一実施例の鋳型
長辺銅板の冷却水箱のバックプレートに直流磁石を配設
した図、第４図は・本発明の他の実施例の鋳型長辺銅板
の冷却水箱のバックプレートに直流磁石を配設した図、
第５図は従来の一スラブの連続鋳造機の鋳型内の溶鋼及
びパウダーの状態を示す図、第６図は溶鋼の湯面波動を
示す図、第７図はバックプレートの背面に直流磁石を配
設した従来の鋳型長辺銅板を示す図である。。 ３１・・・鋳型長辺銅板、３２は冷却溝、３３・・・冷
却箱のバックプレート、 ３４．３５・・・冷却箱、３６．３７・・・直流磁石、
３８・・・鋳型短辺銅板、 ３９・・・鋳型短辺銅板の冷却水の冷却箱、４０・・・
０リング、４１・・・ボルト。
図は本発明の実施例の鋳型長辺銅板の裏面に配設された
冷却水箱を示す図、第３図はこの発明の一実施例の鋳型
長辺銅板の冷却水箱のバックプレートに直流磁石を配設
した図、第４図は・本発明の他の実施例の鋳型長辺銅板
の冷却水箱のバックプレートに直流磁石を配設した図、
第５図は従来の一スラブの連続鋳造機の鋳型内の溶鋼及
びパウダーの状態を示す図、第６図は溶鋼の湯面波動を
示す図、第７図はバックプレートの背面に直流磁石を配
設した従来の鋳型長辺銅板を示す図である。。 ３１・・・鋳型長辺銅板、３２は冷却溝、３３・・・冷
却箱のバックプレート、 ３４．３５・・・冷却箱、３６．３７・・・直流磁石、
３８・・・鋳型短辺銅板、 ３９・・・鋳型短辺銅板の冷却水の冷却箱、４０・・・
０リング、４１・・・ボルト。
Claims (1)
- タンディッシュから浸漬ノズルを経由して溶鋼を鋳型に
鋳造する連続鋳造用鋳型において、鋳型長辺銅板の裏面
を冷却するための銅板裏面に横方向に切削された冷却溝
と、前記冷却溝を覆うバックプレートと、前記バックプ
レートの両端に配設されて鋳型長辺銅板の冷却溝に冷却
水を給排水する冷却箱とによって構成された連続鋳造用
鋳型に、鋳型長辺銅板の裏面の上端から５０〜２５０ｍ
ｍの範囲に２対以上の直流磁石を配して磁場を印加しな
がら鋳造することを特徴とする鋼の連続鋳造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9782588A JPH01271035A (ja) | 1988-04-20 | 1988-04-20 | 鋼の連続鋳造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9782588A JPH01271035A (ja) | 1988-04-20 | 1988-04-20 | 鋼の連続鋳造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01271035A true JPH01271035A (ja) | 1989-10-30 |
Family
ID=14202504
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9782588A Pending JPH01271035A (ja) | 1988-04-20 | 1988-04-20 | 鋼の連続鋳造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01271035A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5212128A (en) * | 1991-11-29 | 1993-05-18 | Exxon Research & Engineering Company | Method for recovering or maintaining the activity of hydroisomerization catalysts |
| WO2001017713A1 (en) * | 1999-09-03 | 2001-03-15 | Abb Ab | A device for continuous or semi-continuous casting of metals |
| WO2003041893A1 (en) * | 2001-09-27 | 2003-05-22 | Abb Ab | A device and a method for continuous casting |
| CN104096810A (zh) * | 2014-06-30 | 2014-10-15 | 武汉泛洲中越合金有限公司 | 水平连铸结晶器 |
-
1988
- 1988-04-20 JP JP9782588A patent/JPH01271035A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5212128A (en) * | 1991-11-29 | 1993-05-18 | Exxon Research & Engineering Company | Method for recovering or maintaining the activity of hydroisomerization catalysts |
| WO2001017713A1 (en) * | 1999-09-03 | 2001-03-15 | Abb Ab | A device for continuous or semi-continuous casting of metals |
| WO2003041893A1 (en) * | 2001-09-27 | 2003-05-22 | Abb Ab | A device and a method for continuous casting |
| US6938674B2 (en) | 2001-09-27 | 2005-09-06 | Abb Ab | Device and a method for continuous casting |
| US7305271B2 (en) | 2001-09-27 | 2007-12-04 | Abb Ab | Device and a method for continuous casting |
| CN104096810A (zh) * | 2014-06-30 | 2014-10-15 | 武汉泛洲中越合金有限公司 | 水平连铸结晶器 |
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