JPH01271477A - 研磨材粒子およびその製造方法 - Google Patents
研磨材粒子およびその製造方法Info
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- JPH01271477A JPH01271477A JP63098299A JP9829988A JPH01271477A JP H01271477 A JPH01271477 A JP H01271477A JP 63098299 A JP63098299 A JP 63098299A JP 9829988 A JP9829988 A JP 9829988A JP H01271477 A JPH01271477 A JP H01271477A
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- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 title claims abstract description 38
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 49
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 32
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 16
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 13
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 7
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 2
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 claims description 2
- 238000002791 soaking Methods 0.000 claims 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 abstract description 10
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 abstract description 10
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract description 4
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 238000010791 quenching Methods 0.000 abstract description 3
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 abstract description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 12
- 239000010408 film Substances 0.000 description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 8
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 6
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 5
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 3
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 3
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 229930014626 natural product Natural products 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAAZPARNPHGIKF-UHFFFAOYSA-N 1,2-dibromoethane Chemical compound BrCCBr PAAZPARNPHGIKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001875 Ebonite Polymers 0.000 description 1
- 229910020219 SiOw Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 229910021418 black silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- KERTUBUCQCSNJU-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);disulfamate Chemical compound [Ni+2].NS([O-])(=O)=O.NS([O-])(=O)=O KERTUBUCQCSNJU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 1
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 230000002087 whitening effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野J
本発明は、表面特性を改良した新規な研磨材粒子に関す
る。さらに詳しくは表面に亀甲状のシリカの薄膜で被覆
された研磨材粒子に関し、種々の結合剤との親和性が高
く、かつ電気絶縁性に優れているため電着砥石に使用す
るには特に好適な研磨材粒子に関する。
る。さらに詳しくは表面に亀甲状のシリカの薄膜で被覆
された研磨材粒子に関し、種々の結合剤との親和性が高
く、かつ電気絶縁性に優れているため電着砥石に使用す
るには特に好適な研磨材粒子に関する。
[従来の技術]
物質のカタサの大きい鉱物を利用して、ものを削りまた
は摩耗させる作業をするための材料として研磨材かあり
、初めの内は天然品を利用していたが、N近はこのカタ
サを求めてその大部分が人工の物質を利用する様になっ
て来た。(本願に右いては研削と研磨の両者を研磨と称
す、)この開発された物質中には天然品を高純度にした
もの或は天然にない立方晶形窒化硼素(以下CBNと称
す、)など優れたカタサ、靭性を有する研磨材が提供さ
れる様になった。
は摩耗させる作業をするための材料として研磨材かあり
、初めの内は天然品を利用していたが、N近はこのカタ
サを求めてその大部分が人工の物質を利用する様になっ
て来た。(本願に右いては研削と研磨の両者を研磨と称
す、)この開発された物質中には天然品を高純度にした
もの或は天然にない立方晶形窒化硼素(以下CBNと称
す、)など優れたカタサ、靭性を有する研磨材が提供さ
れる様になった。
しかし粒子がいかに優れていても、粒子を結合して製造
される研磨工具の品質は、達成される結合強度に大部分
依存する。つまり研磨粒子の卓越性が研磨工具に発現す
るには、粒子が適所に強固に保持されることがきわめて
重要であり、これは当然高い結合強度が要求される。事
実、研磨粒子が固く、したがって耐久性があればあるほ
ど、結合強度への要求は大となる。つまり極度の硬さが
存在する際には、粒子は破砕または摩耗する傾向をほと
んどもたないので、研削の間の苛酷な力の下でその結合
から引き離れる傾向が大となるからである。したがって
研磨材粒子は、硬さの最大利益を達成させようとする際
には粒子と結合剤間の結合強度を高度に要求する。
される研磨工具の品質は、達成される結合強度に大部分
依存する。つまり研磨粒子の卓越性が研磨工具に発現す
るには、粒子が適所に強固に保持されることがきわめて
重要であり、これは当然高い結合強度が要求される。事
実、研磨粒子が固く、したがって耐久性があればあるほ
ど、結合強度への要求は大となる。つまり極度の硬さが
存在する際には、粒子は破砕または摩耗する傾向をほと
んどもたないので、研削の間の苛酷な力の下でその結合
から引き離れる傾向が大となるからである。したがって
研磨材粒子は、硬さの最大利益を達成させようとする際
には粒子と結合剤間の結合強度を高度に要求する。
このため、例えばCBNについていえば、その結合剤と
の親和性を改善する目的で、先ず砥粒を空気中で775
℃の条件で熱処理して表面にB。
の親和性を改善する目的で、先ず砥粒を空気中で775
℃の条件で熱処理して表面にB。
03IIIをつくり、さらにオルガノシリコン化合物溶
液に浸してから約500℃で加熱して表面にほうけい酸
液膜をつくる方法(特公昭48−23589)がある。
液に浸してから約500℃で加熱して表面にほうけい酸
液膜をつくる方法(特公昭48−23589)がある。
また、金属硼素を含有するため電気絶縁性が低下した立
方晶窒化硼素砥粒を酸処理して表面の硼素を除去し、絶
縁性を付与する方法(特開昭57−149811)が知
られている。
方晶窒化硼素砥粒を酸処理して表面の硼素を除去し、絶
縁性を付与する方法(特開昭57−149811)が知
られている。
一方、多数の凹孔な設けた金属被覆の研磨粒子の提案(
特開昭59−30671)がある。
特開昭59−30671)がある。
これとは別に本発明者等は、S i −5iO□系の圧
粉体を真空加熱することにより、表面にSiOx(2≧
χ≧0)の薄膜で被覆された砥粒を提案(特願昭63−
以下先願と称す)した。
粉体を真空加熱することにより、表面にSiOx(2≧
χ≧0)の薄膜で被覆された砥粒を提案(特願昭63−
以下先願と称す)した。
しかし、前述の特公昭48−23589の発明は、CB
N以外の砥粒については応用できず、また砥粒を二回熱
処理することは砥粒強度の低下を来し、経済的観点から
も好ましくない、特開昭57−149811についても
、適用が酸可溶酸 ′分が含有されている砥粒に限定
される。特開昭59−30671の発明は、金属被覆研
磨砥粒に限定され、この砥粒は電着砥石には使用できな
い、したがって、先願においてこれらの問題点のない、
すべての結合剤に適応できる研磨剤粒子ならびに研磨材
粒子の種類上よび結合剤の種類に制限を受けない研磨材
粒子の製造法の提案をなした。
N以外の砥粒については応用できず、また砥粒を二回熱
処理することは砥粒強度の低下を来し、経済的観点から
も好ましくない、特開昭57−149811についても
、適用が酸可溶酸 ′分が含有されている砥粒に限定
される。特開昭59−30671の発明は、金属被覆研
磨砥粒に限定され、この砥粒は電着砥石には使用できな
い、したがって、先願においてこれらの問題点のない、
すべての結合剤に適応できる研磨剤粒子ならびに研磨材
粒子の種類上よび結合剤の種類に制限を受けない研磨材
粒子の製造法の提案をなした。
L発明が解決しようとするff1ll
前記先願において得られるSiOx(2≧χ≧0)II
Iの厚さはおおよそ0.1μ程度である。結合剤との親
和性のみを問題とする場合にはこれで十分であるが、さ
らに結合体としての強度を向上させるためには表面を!
M雑な形状とすることが好ましい。
Iの厚さはおおよそ0.1μ程度である。結合剤との親
和性のみを問題とする場合にはこれで十分であるが、さ
らに結合体としての強度を向上させるためには表面を!
M雑な形状とすることが好ましい。
一方、電着砥石を電解法によってつくる場合においては
、SiOx(2≧χ≧0)膜の厚さはおおよそ膜の耐電
圧はio’V/c園程度であるので蒸着法のみで十分で
あるが、蒸着膜の場合局部的に<0.1μとなることも
ありうるので、さらにこの上にもう一層の絶縁皮膜を付
けてあくことが好ましい。
、SiOx(2≧χ≧0)膜の厚さはおおよそ膜の耐電
圧はio’V/c園程度であるので蒸着法のみで十分で
あるが、蒸着膜の場合局部的に<0.1μとなることも
ありうるので、さらにこの上にもう一層の絶縁皮膜を付
けてあくことが好ましい。
また、単一層であれば、膜厚は最低の部分で0.1μ以
上としておくことが好ましい。
上としておくことが好ましい。
[課題を解決するための手段]
前記先願で述べた如く、SiO2は研磨材粒子の結合剤
との親和性が良く、かつ高い電気絶縁性を有する。
との親和性が良く、かつ高い電気絶縁性を有する。
これを塗布することにより、物品の表面にSi Oを皮
膜を作るのに適切な材料としてコロイダルシリカ(セラ
ミック赳[4]、28G+’851)が市販されており
、これを塗布剤として用いた場合、塗膜の基材への密着
性がよ(、丈夫であり、透明であるため、基材が本来持
っている色合や、透明度が損なわれない等の優れた特徴
を有する。
膜を作るのに適切な材料としてコロイダルシリカ(セラ
ミック赳[4]、28G+’851)が市販されており
、これを塗布剤として用いた場合、塗膜の基材への密着
性がよ(、丈夫であり、透明であるため、基材が本来持
っている色合や、透明度が損なわれない等の優れた特徴
を有する。
しかし、これを細粒状の集合体である砥粒の被覆に適用
することは一般に困難であり、細粒への塗布方法、5i
nsのみからなる細粒の混入していない砥粒の取得方法
などがきわめて重要な問題となってくる。
することは一般に困難であり、細粒への塗布方法、5i
nsのみからなる細粒の混入していない砥粒の取得方法
などがきわめて重要な問題となってくる。
本発明に右いてはこれを次のごとく解決した。
つまり、研削砥粒をコロイダルシリカ(21!度には特
に制限がない、市販品の約20%溶液またはそれを適宜
稀釈して用いる。)中へ分散させ、ついでこの分散体を
蒸発乾固して水分を完全に除去した後、ほぼもとの砥粒
の粒度まで解砕し、シリカの単独粒子を重液分畦法によ
って除去する。
に制限がない、市販品の約20%溶液またはそれを適宜
稀釈して用いる。)中へ分散させ、ついでこの分散体を
蒸発乾固して水分を完全に除去した後、ほぼもとの砥粒
の粒度まで解砕し、シリカの単独粒子を重液分畦法によ
って除去する。
以上により複雑な形状を有するシリカを付着した砥粒が
得られるわけであるが、電気絶縁性を問題とする場合に
は、更に熱処理することが好ましい、熱処理温度は30
0℃の如く比較的低温から効果はでるが、十分な電気絶
縁性を得るためには700℃以上が必要である。しかし
、1100℃を越えた高温熱処理はSiO□被覆の強度
が劣化するので強度を要しないとぎ以外は避けるべきで
ある。
得られるわけであるが、電気絶縁性を問題とする場合に
は、更に熱処理することが好ましい、熱処理温度は30
0℃の如く比較的低温から効果はでるが、十分な電気絶
縁性を得るためには700℃以上が必要である。しかし
、1100℃を越えた高温熱処理はSiO□被覆の強度
が劣化するので強度を要しないとぎ以外は避けるべきで
ある。
尚、シリカゾル処理済の乾燥砥粒は、熱処理後解砕1重
液分離してもほぼ同様の品質の砥粒が得られる。
液分離してもほぼ同様の品質の砥粒が得られる。
この後、直ちに大気中で急冷するとSi Owの結晶化
が防止でき、ガラス状のS i Ov−被覆された砥・
粒を(することが出来る。
が防止でき、ガラス状のS i Ov−被覆された砥・
粒を(することが出来る。
砥粒が本質的に疎水性の場合には、界面活性剤の添加に
よって、これを克服することができるが、あらかじめS
iと5iOzの圧粉体の真空然着法によってSiOx(
2≧χ≧0)の皮膜(後酸化したものも含む)をつけて
から本発明方法を適用すれば、強く接着したS i O
w被覆のある砥粒が得られる。特に、真空蒸着法の被覆
と異なって本発明方法によって得らhる砥粒の皮膜は1
表面に割れ目またはシワが多く、また砥粒の形状も解砕
による凹凸の多い破砕面を有するものであって、ボンド
との結合性を機械的な面から一層高めな砥粒である。
よって、これを克服することができるが、あらかじめS
iと5iOzの圧粉体の真空然着法によってSiOx(
2≧χ≧0)の皮膜(後酸化したものも含む)をつけて
から本発明方法を適用すれば、強く接着したS i O
w被覆のある砥粒が得られる。特に、真空蒸着法の被覆
と異なって本発明方法によって得らhる砥粒の皮膜は1
表面に割れ目またはシワが多く、また砥粒の形状も解砕
による凹凸の多い破砕面を有するものであって、ボンド
との結合性を機械的な面から一層高めな砥粒である。
さらに本発明方法によるとき、蒸着法に比し。
数倍〜数十倍の厚みのあるS i Oz皮膜の砥粒を得
ることが出来る。
ることが出来る。
[作 用]
シリカゾルは10mμオーダーのシリカの微粒子が水中
に分散したものであり、含有されるシリカは微粒子であ
るためその比表面積は30〜500 m ” / gと
非常に大きく、他物質の表面に吸着されやすいものと推
定される。被覆されるべき物質が疎水性等の理由でこの
シリカが吸着されにくい場合にはSiOx(2≧χ≧0
)を蒸着することにより、SiOx(2≧χ≧0)が中
立ち〔ボンディング・コート〕となって吸着が促進され
る。
に分散したものであり、含有されるシリカは微粒子であ
るためその比表面積は30〜500 m ” / gと
非常に大きく、他物質の表面に吸着されやすいものと推
定される。被覆されるべき物質が疎水性等の理由でこの
シリカが吸着されにくい場合にはSiOx(2≧χ≧0
)を蒸着することにより、SiOx(2≧χ≧0)が中
立ち〔ボンディング・コート〕となって吸着が促進され
る。
次に被覆されたシリカは乾燥によってその微粒子間に介
在する水分子を失うため複雑な形状の表面が生じると考
えられる。
在する水分子を失うため複雑な形状の表面が生じると考
えられる。
加熱処理により電気絶縁性が向上する原因としては、被
覆表面に100℃程度の乾燥ではとれないシラノール基
(〉s i−OH)が存在し、これが電気伝導に関与す
るが700℃以上の熱処理によりほぼ失われると推定さ
れる。
覆表面に100℃程度の乾燥ではとれないシラノール基
(〉s i−OH)が存在し、これが電気伝導に関与す
るが700℃以上の熱処理によりほぼ失われると推定さ
れる。
[実施例]
以下実施例により本発明を具体的に説明する。
(参考例)
コロイダルシリカの電気比抵抗を測定するため、砥粒を
入れずコロイダルシリカのみを蒸発乾固し、解砕してか
ら302μ〜127uの部分を節分して取りだし、大気
中で所定の温度まで加熱した後直ちに炉外へ取りだして
、その電気比抵抗を測定したものである。測定法はlO
φ×IOのシンチュウの栓をした300DX10IDX
20の硬質ゴムの8冨に試料0.2gを入れ栓と同じ材
質、サイズのプランジャーを装入して軽く押し付けなが
ら50Vの電圧を白化して測定した結果を表1に示す。
入れずコロイダルシリカのみを蒸発乾固し、解砕してか
ら302μ〜127uの部分を節分して取りだし、大気
中で所定の温度まで加熱した後直ちに炉外へ取りだして
、その電気比抵抗を測定したものである。測定法はlO
φ×IOのシンチュウの栓をした300DX10IDX
20の硬質ゴムの8冨に試料0.2gを入れ栓と同じ材
質、サイズのプランジャーを装入して軽く押し付けなが
ら50Vの電圧を白化して測定した結果を表1に示す。
表1から、十分な電気絶縁性を得るためには700℃以
上の熱処理が必要であることが分かる。また、熱処理温
度の上限は被覆の強度が劣化するため、約1100℃と
なる。
上の熱処理が必要であることが分かる。また、熱処理温
度の上限は被覆の強度が劣化するため、約1100℃と
なる。
表1 コロイダルシリカ熱処理品の電気比抵抗(実施例
1) ]00+nJ2のビーカーに黒色炭化珪素質研削材Cm
80を0.5g取り、固形分20%のコロイダルシリカ
約2meを添加した。よく撹拌した後、フッチエ上で吸
引中の濾紙に移し、薄く広げ、余分のシリカゲルを除去
してから濾紙と共に乾燥器へ移し、100℃で60分乾
燥した。
1) ]00+nJ2のビーカーに黒色炭化珪素質研削材Cm
80を0.5g取り、固形分20%のコロイダルシリカ
約2meを添加した。よく撹拌した後、フッチエ上で吸
引中の濾紙に移し、薄く広げ、余分のシリカゲルを除去
してから濾紙と共に乾燥器へ移し、100℃で60分乾
燥した。
冷却後、シリカゾルの付着したCm80を濾紙よりはぎ
落し、アルミナ質乳鉢で解砕後、ふるいわけして302
〜151μの部分を採取した。ついでこの粒度部分をエ
チレンブロマイド(比重2.18)約50rrF2と共
にl OO,m 1.のビーカーに取り、撹拌してシリ
カゲル単独粒子をけん濁液として除去した。
落し、アルミナ質乳鉢で解砕後、ふるいわけして302
〜151μの部分を採取した。ついでこの粒度部分をエ
チレンブロマイド(比重2.18)約50rrF2と共
にl OO,m 1.のビーカーに取り、撹拌してシリ
カゲル単独粒子をけん濁液として除去した。
ビーカーの底に沈降した部分はエタノールで洗浄した後
、乾燥し、ついでアルミナボートへ移し、マツフル炉中
で700℃に加熱した後急冷した。
、乾燥し、ついでアルミナボートへ移し、マツフル炉中
で700℃に加熱した後急冷した。
こうして得られたサンプル0.2gにつき、前述の方法
で電気比抵抗を測定したところ、50Vt’5.0XI
O”Ω−cw (原試料C#80は7.4X10“Ω・
Cm)と被覆効果が明らかにされた。
で電気比抵抗を測定したところ、50Vt’5.0XI
O”Ω−cw (原試料C#80は7.4X10“Ω・
Cm)と被覆効果が明らかにされた。
(実施例2)
硼素を過剰に含む立方晶窒化硼素砥粒(粒度#80)0
.5gをMo板上に広げ、このMoJN上約50mm上
方にタングステンバスケットをセットしてS i Oz
とStとの等モル混合物圧粉体の蒸発源を約100mg
、バスケットに充填して10−’〜IQ−’Torrの
真空下、約1750℃で通常の方法で真空操作を行なっ
た。
.5gをMo板上に広げ、このMoJN上約50mm上
方にタングステンバスケットをセットしてS i Oz
とStとの等モル混合物圧粉体の蒸発源を約100mg
、バスケットに充填して10−’〜IQ−’Torrの
真空下、約1750℃で通常の方法で真空操作を行なっ
た。
1回の操作は約1分で、この操作を8回繰り返した。ま
た、操作が1回終了するごとにMo板上の立方晶窒化硼
素は薬包紙上に回収して再び広げ直した。
た、操作が1回終了するごとにMo板上の立方晶窒化硼
素は薬包紙上に回収して再び広げ直した。
このようにして、蒸着によりSiO膜で被覆した後、実
施例1と同様にしてSiO□で被覆し、SiO膜のみの
ものと絶縁性の比較をした結果を表2に示す6表2によ
り本発明品の耐電圧特性が改善されていることがわかる
。
施例1と同様にしてSiO□で被覆し、SiO膜のみの
ものと絶縁性の比較をした結果を表2に示す6表2によ
り本発明品の耐電圧特性が改善されていることがわかる
。
(以下余白)
(実施例3)
実施例2によって得られたコート滴粒を用い、約lOφ
の台金(545G)にニッケル電着を行なうテストをし
た。電解液はスルファミン酸ニッケル液、液温60℃、
電圧1vで60分行なったが、粒表面のNiメツキにニ
ッケルボールの析出等は生じなかった。これに対し、コ
ートを全く施さない硼素を過剰に含む立方晶窒化硼素砥
粒にはニッケルボールが無数観察された。
の台金(545G)にニッケル電着を行なうテストをし
た。電解液はスルファミン酸ニッケル液、液温60℃、
電圧1vで60分行なったが、粒表面のNiメツキにニ
ッケルボールの析出等は生じなかった。これに対し、コ
ートを全く施さない硼素を過剰に含む立方晶窒化硼素砥
粒にはニッケルボールが無数観察された。
[効 果]
砥粒を砥石等の工具として用いる場合、その表面を複雑
な形状としてその結合剤との結合性を高めることはよく
行なわれており(例えば前述の特開昭59−30671
)、ここでは特に説明を要しないが、本発明においては
このような表面性状をシリカのコーティングをすること
により達成したものである。
な形状としてその結合剤との結合性を高めることはよく
行なわれており(例えば前述の特開昭59−30671
)、ここでは特に説明を要しないが、本発明においては
このような表面性状をシリカのコーティングをすること
により達成したものである。
シリカをコートした場合の表面性状は拡大写真に示す如
くである。
くである。
更に、本発明によるシリカのコーティング法の特徴は比
較的に簡単に数ミクロン−数十ミクロンの厚膜が得られ
ることである。したがって、このようなコーティングを
施した粒子は一般に高い電気絶縁性を要する用途に応用
できる。
較的に簡単に数ミクロン−数十ミクロンの厚膜が得られ
ることである。したがって、このようなコーティングを
施した粒子は一般に高い電気絶縁性を要する用途に応用
できる。
Claims (4)
- (1)表面に亀甲状のシワのあるシリカの薄膜を有する
研磨材粒子。 - (2)砥粒をシリカゾルに浸し、過剰のシリカゾルを分
離した後乾燥し、ほぼもとの砥粒の粒度まで解砕し、重
液分離法によってシリカ単独粒子を除去し、ついで大気
中700℃〜1100℃で熱処理して急冷することを特
徴とする研磨材粒子の製造方法。 - (3)砥粒をシリカゾルに浸し、過剰のシリカゾルを分
離した後乾燥し、700℃〜1100℃で熱処理し、急
冷し、解砕し、ついで重液分離法によってシリカ単独粒
子を除去することを特徴とする研磨材粒子の製造方法。 - (4)蒸着法によってSiO_χ(2≧χ≧0)をコー
トした砥粒に上記第2項および第3項の処理を施すこと
を特徴とする研磨材粒子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63098299A JP2652192B2 (ja) | 1988-04-22 | 1988-04-22 | 研磨材粒子およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63098299A JP2652192B2 (ja) | 1988-04-22 | 1988-04-22 | 研磨材粒子およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01271477A true JPH01271477A (ja) | 1989-10-30 |
| JP2652192B2 JP2652192B2 (ja) | 1997-09-10 |
Family
ID=14216041
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63098299A Expired - Lifetime JP2652192B2 (ja) | 1988-04-22 | 1988-04-22 | 研磨材粒子およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2652192B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007088461A1 (en) * | 2006-02-02 | 2007-08-09 | Element Six (Production) (Proprietary) Limited | Glass coated hard and ultra-hard abrasive particles and a method of making them |
| JP2007229848A (ja) * | 2006-02-28 | 2007-09-13 | Saitama Univ | SiOx粉を含む成形体および砥石、それを用いた研削方法 |
| US9193631B2 (en) | 2008-03-21 | 2015-11-24 | Saint-Gobain Centre De Recherches Et D'etudes Europeen | Fused and coated silica grains |
| CN106661426A (zh) * | 2014-07-01 | 2017-05-10 | 戴蒙得创新股份有限公司 | 玻璃涂覆的cbn磨料及其制造方法 |
-
1988
- 1988-04-22 JP JP63098299A patent/JP2652192B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007088461A1 (en) * | 2006-02-02 | 2007-08-09 | Element Six (Production) (Proprietary) Limited | Glass coated hard and ultra-hard abrasive particles and a method of making them |
| JP2007229848A (ja) * | 2006-02-28 | 2007-09-13 | Saitama Univ | SiOx粉を含む成形体および砥石、それを用いた研削方法 |
| US9193631B2 (en) | 2008-03-21 | 2015-11-24 | Saint-Gobain Centre De Recherches Et D'etudes Europeen | Fused and coated silica grains |
| CN106661426A (zh) * | 2014-07-01 | 2017-05-10 | 戴蒙得创新股份有限公司 | 玻璃涂覆的cbn磨料及其制造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2652192B2 (ja) | 1997-09-10 |
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