JPH01271936A - Optical information recording medium - Google Patents
Optical information recording mediumInfo
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- JPH01271936A JPH01271936A JP63099306A JP9930688A JPH01271936A JP H01271936 A JPH01271936 A JP H01271936A JP 63099306 A JP63099306 A JP 63099306A JP 9930688 A JP9930688 A JP 9930688A JP H01271936 A JPH01271936 A JP H01271936A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は光情報記録媒体に係り、特に、基板上に形成さ
れる記録層または反射層の防蝕手段に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to an optical information recording medium, and particularly to a means for preventing corrosion of a recording layer or a reflective layer formed on a substrate.
従来より、樹脂製基板の信号パターン形成面に反射膜や
記録膜などの薄膜層を形成した光情報記録媒体が知られ
ている。例えば、コンパクトディスクを例にとって説明
すると、ポリカーボネート製基板の信号パターン形成面
にアルミニウム反射膜が形成され、さらに、このアルミ
ニウム反射膜上にウレタンアクリレート系の光硬化性樹
脂から成る保護膜が積層されている。2. Description of the Related Art Conventionally, optical information recording media have been known in which a thin film layer such as a reflective film or a recording film is formed on a signal pattern forming surface of a resin substrate. For example, taking a compact disc as an example, an aluminum reflective film is formed on the signal pattern forming surface of a polycarbonate substrate, and a protective film made of a urethane acrylate photocurable resin is further laminated on top of this aluminum reflective film. There is.
前記コンパクトディスクの場合、前記基板に全くアルミ
ニウム反射膜に防蝕処理を行わない場合には、60℃X
90%RHの雰囲気中に放置して加速環境試験を行った
とき、200〜300時間でアルミニウム反射膜が腐蝕
し、反射率が低下して情報の読み出しが困難になる。In the case of the compact disc, if no anti-corrosion treatment is applied to the aluminum reflective film on the substrate, the temperature at 60°C
When an accelerated environmental test is performed by leaving the device in an atmosphere of 90% RH, the aluminum reflective film corrodes in 200 to 300 hours, and the reflectance decreases, making it difficult to read information.
以上、アルミニウム反射膜を有するコンパクトディスク
を例にとって説明したが、他の物質から成る反射層ある
いは記録層を有する全ての光情報記録媒体について同様
の問題がある。Although the above description has been made using a compact disc having an aluminum reflective film as an example, similar problems exist with all optical information recording media having a reflective layer or recording layer made of other materials.
従来、この種の薄膜層の腐蝕は、基板や保護膜を通して
浸透する水が原因であると認識されており、薄膜層の表
面に防水性の被膜を形成したり。Conventionally, it has been recognized that this type of corrosion of thin film layers is caused by water penetrating through the substrate or protective film, forming a waterproof film on the surface of the thin film layer.
あるいはその薄膜層が金属製である場合には、当該金属
の酸化被膜を形成する等の耐食処理が提案されている(
特開昭62−62445号)。Alternatively, if the thin film layer is made of metal, corrosion-resistant treatments such as forming an oxide film of the metal have been proposed (
JP-A No. 62-62445).
このような防水処理あるいは耐食処理が施され・ た光
情報記録媒体は、何らこのような処理が施されていない
光情報記録媒体に比べて、延命効果が認められる。例え
ばコンパクトディスクの場合、アルミニウム反射膜の表
層部にアルミナ層を形成すると、前記と同様の条件下で
加速環境試験を行ったとき、アルミニウム反射膜の腐蝕
開始時間が約1500時間程度まで延長される。An optical information recording medium that has been subjected to such waterproofing or corrosion-resistant treatment has a longer lifespan effect than an optical information recording medium that has not been subjected to any such treatment. For example, in the case of a compact disc, if an alumina layer is formed on the surface layer of the aluminum reflective film, when an accelerated environmental test is conducted under the same conditions as above, the corrosion start time of the aluminum reflective film will be extended to about 1500 hours. .
然るに、この種の光情報記録媒体においては、より長寿
命であることが要求されるのであって、従来の防蝕手段
では未だ不充分である。However, this type of optical information recording medium is required to have a longer lifespan, and conventional corrosion protection measures are still insufficient.
本願出願人は、研究の結果、薄膜層の腐蝕について以下
の事実を知得した。As a result of research, the applicant of the present application has learned the following facts regarding corrosion of thin film layers.
■薄膜層は高温高湿雰囲気中で腐蝕し易く、高温低湿雰
囲気中ではほとんど腐蝕しない、但し。■The thin film layer is easily corroded in a high temperature, high humidity atmosphere, but hardly corroded in a high temperature, low humidity atmosphere.
ガラス基板を用いると高温高湿の雰囲気中でも薄膜層が
腐蝕しにくい。When a glass substrate is used, the thin film layer is less likely to corrode even in a high temperature and high humidity atmosphere.
■分析の結果、腐蝕した薄膜層は水酸化物になっている
ことが確認された。■As a result of analysis, it was confirmed that the corroded thin film layer was composed of hydroxide.
■腐蝕した薄膜層からは塩素、イオウ、フッ素などの腐
蝕性元素が検出される。■Corrosive elements such as chlorine, sulfur, and fluorine are detected in the corroded thin film layer.
■薄膜層の腐蝕は、基板との界面から起る。■Corrosion of thin film layers occurs from the interface with the substrate.
■樹脂基板中には塩素、イオウ、フッ素などの腐蝕性元
素が検出される。■Corrosive elements such as chlorine, sulfur, and fluorine are detected in the resin substrate.
これらの事実から、薄膜層の腐蝕メカニズムは、以下の
通りであると推定される。From these facts, it is estimated that the corrosion mechanism of the thin film layer is as follows.
まず、樹脂製基板中に含まれる腐蝕性元素が薄膜層材料
と化学反応を起す、腐蝕性元素が塩素(C1)である場
合を例にとってこの化学反応を化学式にて説明すると、
以下の通りである。First, a corrosive element contained in a resin substrate causes a chemical reaction with the thin film layer material. Taking the case where the corrosive element is chlorine (C1) as an example, this chemical reaction will be explained using a chemical formula.
It is as follows.
M(薄膜材料)+4 C1−→MC14−+ 3 e
−・・・・・(1)
次に、この反応によって生成されたMC14−と保護膜
を通して外部から侵入してきた水分が下記の化学反応を
起す。M (thin film material) +4 C1-→MC14-+ 3 e
- (1) Next, the MC14- generated by this reaction and the moisture that has entered from the outside through the protective film cause the following chemical reaction.
MC14−+ 3 Hz O
→M(○H) 3+38” +4C1−・・・(2)さ
らに、この反応によって生成されたC1−が再び前記第
(1)式の化学反応を生じ、腐蝕が連続的に進行する。MC14-+ 3 Hz O → M(○H) 3+38" +4C1-...(2) Furthermore, C1- generated by this reaction again causes the chemical reaction of formula (1) above, and corrosion continues. Proceed to.
従って、薄膜層の腐蝕は、腐蝕性元素および水分のうち
少なくともいずれか一方の侵入を防止することによって
防止することができる。然るに、樹脂製基板は多少とも
透水性があり、これを完全に止めることは困難で、その
ための処理を施すと、光情報記録媒体が大幅にコスト高
になる。これに対し、樹脂製基板から薄膜層への腐蝕性
元素の侵入は、樹脂製基板の少なくとも表層部を改質す
ることによって比較的簡単に実施し得ることが判った。Therefore, corrosion of the thin film layer can be prevented by preventing the intrusion of at least one of corrosive elements and moisture. However, resin substrates have some degree of water permeability, and it is difficult to completely prevent water permeability, and if treatments are applied to prevent this, the cost of the optical information recording medium will increase significantly. On the other hand, it has been found that the corrosive elements can penetrate into the thin film layer from the resin substrate relatively easily by modifying at least the surface layer of the resin substrate.
本発明は、かかる知見に基づいてなされたものであって
、樹脂製基板を改質することによって樹脂製基板から薄
膜層への腐蝕性元素の侵入を防止し、もって長寿命の光
情報記録媒体を提供することを目的とするものである。The present invention has been made based on this knowledge, and by modifying the resin substrate, it is possible to prevent corrosive elements from entering the thin film layer from the resin substrate, thereby achieving a long-life optical information recording medium. The purpose is to provide the following.
〔a−題を解決するための手段〕
本発明は、前記の目的を達成するため、光情報記録媒体
用の樹脂製基板として、少なくとも薄膜層形成面に物理
的な改質処理が施されたものを用いたことを特徴とする
ものである。[Means for Solving the Problem A] In order to achieve the above-mentioned object, the present invention provides a resin substrate for an optical information recording medium that is physically modified at least on the surface on which the thin film layer is formed. It is characterized by the use of objects.
ここで、物理的な改質処理とは、酸素プラズマ、スパッ
タ粒子、グロー放電、電子ビーム、紫外線といったエネ
ルギを樹脂製基板に照射する処理をいう。Here, the physical modification treatment refers to a treatment in which a resin substrate is irradiated with energy such as oxygen plasma, sputtered particles, glow discharge, electron beam, or ultraviolet rays.
樹脂製基板に、酸素プラズマ、スパッタ粒子。 Oxygen plasma and sputtered particles on a resin substrate.
グロー放電、電子ビーム、紫外線などをエネルギを照射
すると、そのエネルギによって少なくとも基板の表面層
に架橋や分解などの化学変化を生じ。When irradiated with energy such as glow discharge, electron beam, or ultraviolet light, the energy causes chemical changes such as crosslinking and decomposition in at least the surface layer of the substrate.
炭化水素基(CnHm;但し、n、mは正の整数)に腐
蝕性元素が取り込まれる。よって、基板中における腐蝕
性元素の自由な移動が拘束され、薄膜層を構成する元素
と腐蝕性元素とが化合されず。A corrosive element is incorporated into the hydrocarbon group (CnHm; where n and m are positive integers). Therefore, the free movement of the corrosive element in the substrate is restricted, and the elements constituting the thin film layer and the corrosive element are not combined.
薄膜層の腐蝕が防止される。Corrosion of the thin film layer is prevented.
以下に、基板材料としてポリカーボネート(PC)を用
い、この基板中に塩素が含まれている場合を例にとって
、前記の各手段によって生じる基板構造の変化を化学式
にて説明する。Hereinafter, using a case where polycarbonate (PC) is used as the substrate material and chlorine is contained in the substrate, changes in the substrate structure caused by the above-mentioned means will be explained using chemical formulas.
PC
ポリカーボネート以外の樹脂材料に塩素以外の腐蝕性元
素が含まれている場合にも、これと同様にして薄膜層の
腐蝕が防止されるものと推定される。It is presumed that even if a resin material other than PC polycarbonate contains a corrosive element other than chlorine, corrosion of the thin film layer will be prevented in the same way.
まず、本発明に係る光情報記録媒体の概略構成について
説明する。First, the schematic structure of the optical information recording medium according to the present invention will be explained.
第1図は本発明に係る光情報記録媒体の代表的な一例を
示す要部断面図であって、基板1の信号パターン形成面
に記録層または反射層3が積層されている。FIG. 1 is a sectional view of a main part showing a typical example of an optical information recording medium according to the present invention, in which a recording layer or a reflective layer 3 is laminated on a signal pattern forming surface of a substrate 1. As shown in FIG.
基板1は1例えばポリカーボネート(pc)。The substrate 1 is made of polycarbonate (PC), for example.
ポリメチルメタクリレート(PMMA) 、ポリメチル
ペンテン、エポキシなどの透明な樹脂材料によって形成
される。基板1の片面には、記録/再生用放射線ビーム
(例えば、レーザビーム)を記録トラックに沿って案内
するプリグループ4やアドレス信号を信号変調したプリ
ピット5等の信号パターンが凹凸の形で形成されている
。It is formed from a transparent resin material such as polymethyl methacrylate (PMMA), polymethylpentene, or epoxy. On one side of the substrate 1, a signal pattern such as a pre-group 4 for guiding a recording/reproducing radiation beam (for example, a laser beam) along a recording track and a pre-pit 5 for modulating an address signal is formed in the form of an uneven shape. ing.
これらの信号パターン4,5は、基板材料の種類に応じ
て適宜の方法で形成される1例えば、PCやPMMA等
の熱可塑性樹脂については射出成形法が適し、エポキシ
などの熱硬化性樹脂については所fi2P法(光硬化性
樹脂法)や注型法が適する。These signal patterns 4 and 5 are formed by an appropriate method depending on the type of substrate material. For example, injection molding is suitable for thermoplastic resins such as PC and PMMA, and for thermosetting resins such as epoxy. In this case, the fi2P method (photocurable resin method) and the casting method are suitable.
この基板1には、例えば酸素プラズマ照射、スパッタエ
ッチ、グロー放電照射、電子ビーム照射、紫外線照射と
いった物理的な改質処理が施されており、少なくとも前
記信号パターン4,5面が、腐蝕性元素の自由な移動を
拘束するように改質されている。この改質処理は、基板
1の成形方法が射出成形法あるいは注型法である場合に
は、信号パターン4,5の転写後に行われる。また、基
板1の成形方法が2P法である場合には、信号パターン
4,5の転写前に行うこともできるし、転写後に行うこ
ともできる。This substrate 1 is subjected to physical modification treatment such as oxygen plasma irradiation, sputter etching, glow discharge irradiation, electron beam irradiation, and ultraviolet irradiation, and at least the signal patterns 4 and 5 are coated with corrosive elements. has been modified to restrict the free movement of This modification treatment is performed after the signal patterns 4 and 5 are transferred when the substrate 1 is molded by injection molding or casting. Further, when the substrate 1 is molded using the 2P method, the step can be performed before or after the signal patterns 4 and 5 are transferred.
なお、基板の外面(信号パターン形成面と反対側の面)
に紫外線硬化性樹脂液を塗布し、この樹脂液を硬化する
ために塗布面上から紫外線を照射することは、ハードコ
ート層の形成方法として従来より広く知られている。し
かしながら、このような紫外線照射には、記録層または
反射層の腐蝕抑制効果が認められず、同じく基板上に紫
外線を照射するといえども、本発明の先行技術となるも
のではない0例えば、紫外線を照射することによってハ
ードコート層が形成された光情報記録媒体を80℃X9
0%RHの条件下で加速環境試験を行ったところ、58
時間後に光の反射率が18%〜40%に低下し、紫外線
を照射しないものとほぼ同等の耐環境性しかないことが
判った。In addition, the outer surface of the board (the surface opposite to the signal pattern formation surface)
It has been widely known as a method of forming a hard coat layer to apply an ultraviolet curable resin liquid to a substrate and irradiate the coated surface with ultraviolet rays in order to cure the resin liquid. However, such ultraviolet irradiation does not have the effect of inhibiting corrosion of the recording layer or reflective layer, and although the substrate is similarly irradiated with ultraviolet rays, it is not prior art to the present invention. The optical information recording medium on which the hard coat layer was formed by irradiation was heated at 80°C
When an accelerated environmental test was conducted under the condition of 0% RH, 58
It was found that the light reflectance decreased to 18% to 40% after a period of time, and the environmental resistance was almost the same as that of a product that was not irradiated with ultraviolet rays.
記録層3は、公知に属するヒートモード用記録材料から
選択された所望の記録材料をもって形成される。The recording layer 3 is formed of a desired recording material selected from known heat mode recording materials.
また、読み出し専用の光情報記録媒体については、記録
層に代えて反射層が形成される0反射層材料としては、
任意の高反射率物質を用いることができるが、比較的安
価であること、および成膜が簡単であることなどから、
アルミニウムが特に好適である。In addition, for read-only optical information recording media, zero reflective layer materials in which a reflective layer is formed instead of a recording layer include:
Although any high reflectance material can be used, it is relatively inexpensive and easy to form a film, so
Aluminum is particularly preferred.
記録層3の形成手段としては、有機色素系の記録材料に
ついてはスピン塗布法が採用され、それ以外の記録材料
については、例えば真空蒸着法やスパッタ法などの真空
成膜法が採られる。As a means for forming the recording layer 3, a spin coating method is used for organic dye-based recording materials, and a vacuum film forming method such as a vacuum evaporation method or a sputtering method is used for other recording materials.
以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明の効果に言
及する。Hereinafter, specific examples of the present invention will be shown, and the effects of the present invention will be discussed.
く第1実施例〉
片面に信号パターンが転写されたポリカーボネート製基
板に、改質処理として酸素プラズマを照射したのち、電
子ビーム蒸着法にて信号パターン面にアルミニウム反射
膜を成膜し、さらにこのアルミニウム反射膜上に、ウレ
タンアクリレート系光硬化樹脂の保護膜を積層した。First Example> A polycarbonate substrate with a signal pattern transferred onto one side was irradiated with oxygen plasma as a modification treatment, and then an aluminum reflective film was formed on the signal pattern surface by electron beam evaporation. A protective film of urethane acrylate photocurable resin was laminated on the aluminum reflective film.
酸素プラズマの照射条件は、第1表に示す通りである。The oxygen plasma irradiation conditions are as shown in Table 1.
また、アルミニウム反射膜の成膜条件は、ターゲッ、ト
にアルミニウムの純度が5Nのものを用い、到達真空度
が6.6710−’PaPa以下板基板温度5℃、成膜
速度がlnm/秒、膜厚が1100nとした。The deposition conditions for the aluminum reflective film were as follows: using aluminum as a target with a purity of 5N, the ultimate degree of vacuum being 6.6710-'PaPa or less, the substrate temperature being 5°C, and the deposition rate being lnm/sec. The film thickness was 1100n.
このようにして作製された光情報記録媒体、および何ら
防蝕処理がなされていない光情報記録媒体(各3枚ずつ
)を60℃×90%RHの雰囲気中に放置して加速環境
試験を行った。第2図に。The optical information recording medium thus produced and the optical information recording medium (3 of each) that had not been subjected to any anti-corrosion treatment were left in an atmosphere of 60°C x 90% RH to conduct an accelerated environmental test. . In Figure 2.
この加速環境試験結果を示す。このグラフの横軸には試
験時間が、また縦軸には反射層の反射率が目盛られてお
り1本発明に係る光情報記録媒体のデータが実線で、ま
た従来例に係る光情報記録媒体のデータが2点鎖線で表
示されている。但し。The results of this accelerated environmental test are shown below. The horizontal axis of this graph is the test time, and the vertical axis is the reflectance of the reflective layer.1 The solid line is the data for the optical information recording medium according to the present invention, and the data for the optical information recording medium according to the conventional example. The data is shown with a two-dot chain line. however.
測定光は波長が780nmのレーザであり、測定結果を
示す線はそれぞれ3枚の同種試料平均値である。The measurement light is a laser with a wavelength of 780 nm, and each line showing the measurement results is the average value of three samples of the same type.
第2図のグラフから明らかなように、基板に酸素プラズ
マが照射されていない光情報記録媒体は200〜300
時間の間に急激に反射率が低下し。As is clear from the graph in Figure 2, the optical information recording medium whose substrate is not irradiated with oxygen plasma has a
The reflectance decreases rapidly over time.
3000時間経過時には反射率が約16%になるのに対
し、基板に酸素プラズマを照射した本実施例の光情報記
録媒体は、いずれも3000時間経過後もまったく反射
率の低下が見られない。After 3000 hours, the reflectance is about 16%, whereas in the optical information recording medium of this example in which the substrate was irradiated with oxygen plasma, no decrease in reflectance was observed even after 3000 hours.
〈第2実施例〉
片面に信号パターンが転写されたポリカーボネート製基
板に、脱腐蝕性元素処理としてスパッタエッチ処理を施
したのち、前記第1実施例と同様の条件の下で、アルミ
ニウム反射膜およびウレタンアクリレート系光硬化樹脂
の保護膜を積層した。<Second Example> A polycarbonate substrate with a signal pattern transferred onto one side was subjected to sputter etching as a decorrosive element treatment, and then an aluminum reflective film and an aluminum reflective film were applied under the same conditions as in the first example. A protective film of urethane acrylate photocurable resin was laminated.
スパッタエッチ条件は第2表に示す通りである。The sputter etching conditions are as shown in Table 2.
第2表
このようにして作製された光情報記録媒体、および何ら
防蝕処理がなされていない光情報記録媒体(各3枚ずつ
)を60℃×90%RHの雰囲気中に放置して加速環境
試験を行った。第3図に、この加速環境試験結果を示す
、測定条件は、前記第1実施例の場合と同じである。Table 2: Accelerated environmental test by leaving the optical information recording medium thus prepared and the optical information recording medium (3 each) without any anti-corrosion treatment in an atmosphere of 60°C x 90% RH. I did it. FIG. 3 shows the results of this accelerated environmental test. The measurement conditions were the same as in the first embodiment.
このグラフから明らかなように、基板にスパッタエッチ
処理が施されていない光情報記録媒体は、200〜30
0時間の間に急激に反射率が低下し、3000時間経過
時には反射率が15%になるのに対し、基板にスパッタ
エッチ処理を施した本実施例の光情報記録媒体は、いず
れも3000時間経過後もまったく反射率の低下が見ら
れない6く第3実施例〉
片面に信号パターンが転写されたポリカーボネ−ト製基
板に、脱腐蝕性元素処理としてグロー放電処理を施した
のち、前記第1実施例および第2実施例と同様の条件の
下で、アルミニウム反射膜およびウレタンアクリレート
系光硬化樹脂の保護膜を積層した。試料数は3枚である
。As is clear from this graph, the optical information recording medium whose substrate is not sputter-etched has a
The reflectance rapidly decreases during 0 hours and reaches 15% after 3000 hours, whereas the optical information recording medium of this example in which the substrate was subjected to sputter etching treatment 6. Third Example in which no decrease in reflectance is observed even after the passage of time> A polycarbonate substrate with a signal pattern transferred to one side was subjected to glow discharge treatment as a decorrosive element treatment, and then An aluminum reflective film and a protective film of a urethane acrylate photocurable resin were laminated under the same conditions as in the first example and the second example. The number of samples was three.
グロー放電条件は、第3表に示す通りである。The glow discharge conditions are as shown in Table 3.
第3表
このようにして作製された光情報記録媒体、および何ら
防蝕処理がなされていない光情報記録媒体(3枚)を6
0℃×90%RHの雰囲気中に放置して加速環境試験を
行った。第4図に、この加速環境試験結果を示す、但し
、測定条件は前記第1実施例および第2実施例と同じで
ある。Table 3 Optical information recording media produced in this way and optical information recording media (3 pieces) that have not been subjected to any anti-corrosion treatment.
An accelerated environmental test was conducted by leaving the sample in an atmosphere of 0° C. and 90% RH. FIG. 4 shows the results of this accelerated environmental test, provided that the measurement conditions were the same as in the first and second examples.
このグラフから明らかなように、基板にグロー放電処理
が施されていない光情報記録媒体は、200〜300時
間の間に急激に反射率が低下し、3000時間経過時に
は反射率が15%になるのに対し、基板にグロー放電処
理を施した本実施例の光情報記録媒体は、いずれも30
00時間経過後もまったく反射率の低下が見られない。As is clear from this graph, the reflectance of optical information recording media whose substrates have not been subjected to glow discharge treatment decreases rapidly between 200 and 300 hours, and the reflectance reaches 15% after 3000 hours. On the other hand, the optical information recording medium of this example in which the substrate was subjected to glow discharge treatment
No decrease in reflectance was observed even after 00 hours had elapsed.
〈第4実施例〉
片面に信号パターンが転写されたポリカーボネート製基
板に、脱腐蝕性元素処理として紫外線を照射したのち、
前記第1実施例ないし第3実施例と同様の条件の下で、
アルミニウム反射膜およびウレタンアクリレート系光硬
化樹脂の保護膜を積層した。試料数は3枚である。<Fourth Example> After irradiating a polycarbonate substrate with a signal pattern transferred onto one side with ultraviolet rays as a decorrosive element treatment,
Under the same conditions as the first to third examples,
An aluminum reflective film and a protective film of urethane acrylate photocurable resin were laminated. The number of samples was three.
紫外線の照射条件は、第4表に示す通りである。The ultraviolet irradiation conditions are as shown in Table 4.
このようにして作製された光情報記録媒体、および何ら
防蝕処理がなされていない光情報記録媒体(3枚)を8
0℃X90%R)(の雰囲気中に放置して加速環境試験
を行った。第5図に、この加速環境試験結果を示す。測
定条件は前記第1実施例ないし第3実施例と同じである
。The optical information recording medium thus produced and the optical information recording medium (3 pieces) without any anti-corrosion treatment were
An accelerated environmental test was conducted by leaving the sample in an atmosphere of 0°C be.
このグラフから明らかなように、基板に紫外線が照射さ
れていない光情報記録媒体は、22〜45時間の間に急
激に反射率が低下し、2000時間経過時には反射率が
約l005%になるのに対し、基板に紫外線を照射した
本実施例の光情報記録媒体は、いずれも2000時間経
過後もまったく反射率の低下が見られない。As is clear from this graph, the reflectance of an optical information recording medium whose substrate is not irradiated with ultraviolet rays rapidly decreases between 22 and 45 hours, and after 2000 hours, the reflectance reaches approximately 1005%. On the other hand, in the optical information recording media of this example in which the substrate was irradiated with ultraviolet rays, no decrease in reflectance was observed even after 2000 hours had passed.
く第5実施例〉
片面に信号パターンが転写されたポリカーボネート製基
板に、脱腐蝕性元素処理として電子ビームを照射したの
ち、前記第1実施例ないし第4実施例と同様の条件の下
で、アルミニウム反射膜およびウレタンアクリレート系
光硬化樹脂の保護膜を積層した。試料数は3枚である。Fifth Example> After irradiating a polycarbonate substrate with a signal pattern transferred onto one side with an electron beam as a decorrosive element treatment, under the same conditions as in the first to fourth examples, An aluminum reflective film and a protective film of urethane acrylate photocurable resin were laminated. The number of samples was three.
電子ビームの照射方法および照射条件は、以下の通りで
ある。The electron beam irradiation method and irradiation conditions are as follows.
まず、基板を電子ビーム照射処理装置の真空槽内にセッ
トし、真空引きを行った。真空槽内の真空度が6.67
X10−’Pa以下になった段階で電子銃より基板の信
号パターン面に電子ビームを照射した。このとき、電子
ビームを走査させ、基板表面の全域に均一に電子ビーム
が照射されるようにした。また、基板表面がチャージア
ップしないように、イオンガンにより、Ar+イオンを
基板表面に向けて照射し、基板表面に帯電した電荷を中
和するようにした。First, the substrate was set in a vacuum chamber of an electron beam irradiation processing apparatus and evacuated. The degree of vacuum in the vacuum chamber is 6.67
When the temperature was below X10-'Pa, the signal pattern surface of the substrate was irradiated with an electron beam from an electron gun. At this time, the electron beam was scanned so that the entire surface of the substrate was uniformly irradiated with the electron beam. Furthermore, in order to prevent the substrate surface from being charged up, an ion gun was used to irradiate Ar+ ions toward the substrate surface to neutralize the charges on the substrate surface.
なお、電子ビーム照射時の加速電圧を20KV、照射電
流を2mAとした。Note that the acceleration voltage during electron beam irradiation was 20 KV, and the irradiation current was 2 mA.
このようにして電子ビームが照射された本実施例の光情
報記録媒体、および何ら防蝕処理がなされていない光情
報記録媒体を80℃×90%RHの雰囲気中に放置して
加速環境試験を行った。第6図に、この加速環境試験結
果を示す、測定条件は前記第1実施例ないし第4実施例
と同じである。The optical information recording medium of this example that was irradiated with the electron beam in this way and the optical information recording medium that had not been subjected to any anti-corrosion treatment were left in an atmosphere of 80°C x 90% RH to perform an accelerated environmental test. Ta. FIG. 6 shows the results of this accelerated environmental test. The measurement conditions are the same as those of the first to fourth embodiments.
このグラフから明らかなように、基板に電子ビームが照
射されていない光情報記録媒体は、22〜45時間の間
に急激に反射率が低下し、2000時間経過時には反射
率が約10.5%になるのに対し、基板に電子ビームを
照射した本実施例の光情報記録媒体は、いずれも200
0時間経過後もまったく反射率の低下が見られない。As is clear from this graph, the reflectance of the optical information recording medium whose substrate is not irradiated with an electron beam rapidly decreases between 22 and 45 hours, and after 2000 hours, the reflectance is approximately 10.5%. In contrast, the optical information recording medium of this example in which the substrate was irradiated with an electron beam had a
No decrease in reflectance was observed even after 0 hours had elapsed.
以上の各試験結果より2本発明の光情報記録媒体は、反
射層の耐食性の向上に顕著なる効果があることが判る。From the above test results, it can be seen that the optical information recording medium of the present invention has a remarkable effect on improving the corrosion resistance of the reflective layer.
なお、前記各実施例においては、樹脂製基板としてポリ
カーボネート製基板を例にとって説明したが、エポキシ
樹脂、ポリメチルメタクリレート。In each of the above embodiments, a polycarbonate substrate was used as an example of the resin substrate, but epoxy resin or polymethyl methacrylate may also be used.
ポリメチルペンテン、ポリオレフィン等、他の樹脂製基
板についても同様の効果がある。Similar effects can be obtained with other resin substrates such as polymethylpentene and polyolefin.
また、前記各実施例においては、防蝕すべき薄膜層とし
てアルミニウム反射層を例にとって説明したが、ヒート
モード用記録材料についても同様の効果がある。Further, in each of the above embodiments, an aluminum reflective layer was used as an example of a thin film layer to be corrosion-protected, but the same effect can be obtained for a heat mode recording material.
また、前記各実施例においては、腐蝕性元素として塩素
の影響のみについて説明したが、このほか例えばイオウ
やフッ素などに起因する金属層の腐蝕にも同様の効果が
ある。Further, in each of the above embodiments, only the influence of chlorine as a corrosive element has been described, but a similar effect is also exerted on corrosion of a metal layer caused by, for example, sulfur or fluorine.
本発明の要旨は、基板にエネルギを照射することによっ
て、基板中における腐蝕性元素の自由な移動が拘束され
るように、基板の少なくとも表層部を改質した点にある
が、これに加えて、他の防蝕処理を組合せることは任意
に行い得る。他の防蝕処理としては、■基板と記録層ま
たは反射層との間に腐蝕性元素を透過しにくい材料をも
って中間層を形成する。■基板にベーキング処理を施す
。The gist of the present invention is that at least the surface layer of the substrate is modified by irradiating the substrate with energy so that the free movement of corrosive elements within the substrate is restricted. , and other corrosion protection treatments may be optionally combined. Other anti-corrosion treatments include (1) forming an intermediate layer between the substrate and the recording layer or reflective layer using a material that is difficult to transmit corrosive elements; ■Baking the board.
■基板材料としてもともと腐蝕性元素の含有率が低いも
のを選択する。といった手段がある。■Select a substrate material that originally has a low content of corrosive elements. There are ways to do this.
また、前記各実施例においては、基板1上に中間層2と
反射層または記録層3を2層に積層した場合についての
み説明したが、例えば中間層2を省略するなど、任意の
薄膜構造を有する光情報記録媒体に適用することができ
る。Further, in each of the above embodiments, only the case where the intermediate layer 2 and the reflective layer or the recording layer 3 are laminated as two layers on the substrate 1 has been described, but any thin film structure may be used, for example, by omitting the intermediate layer 2. It can be applied to optical information recording media that have
以上説明したように、本発明によると、樹脂製基板の少
なくとも表層部が改質され、基板からの腐蝕性元素のし
み出しを防止もしくは著しく制限することができる。よ
って、高温高温雰囲気中に放置しても薄膜層と腐蝕性元
素との化学反応が起らないか、あるいはこれらの化学反
応の進行速度が遅くなり、光情報記録媒体の寿命を格段
に延長することができる。As described above, according to the present invention, at least the surface layer portion of the resin substrate is modified, and the seepage of corrosive elements from the substrate can be prevented or significantly restricted. Therefore, even if the thin film layer is left in a high-temperature atmosphere, chemical reactions between the thin film layer and corrosive elements do not occur, or the progress of these chemical reactions is slowed down, significantly extending the life of the optical information recording medium. be able to.
図は全て本発明を説明するためのものであって、第1図
は光情報記録媒体の概略構成を示す要部断面図、第2図
ないし第6図は各実施例に係る光情報記録媒体の効果を
説明するグラフである。
1:基板、3:記録層または反射層、4ニブリグルーブ
、5:ブリビット。
第1図
3 ; 1己fホ・曹;左1ま79身才・嘗4 :
フ′リクルーフ゛
5 : アゾブ°・ト
第2図
狂、!It將ν(Hr)
第3図
第6図
1OO100OjOOOO
刊篤!峠1間(Hr)The figures are all for explaining the present invention, and FIG. 1 is a sectional view of a main part showing a schematic structure of an optical information recording medium, and FIGS. 2 to 6 are optical information recording media according to each embodiment. This is a graph explaining the effect of 1: Substrate, 3: Recording layer or reflective layer, 4 Nibli groove, 5: Blibit. Figure 1: 3;
Free Cloud 5: Azob ° To 2nd picture madness,! It 將ν (Hr) Figure 3 Figure 6 1OO100OjOOOO Published! Pass 1 interval (Hr)
Claims (6)
射層のうちいずれか一方を含む薄膜層を形成して成る光
情報記録媒体において、前記樹脂製基板として、少なく
とも前記薄膜層形成面に改質処理が施されたものを用い
たことを特徴とする光情報記録媒体。(1) In an optical information recording medium in which a thin film layer including at least one of a recording layer and a reflective layer is formed on one side of a resin substrate, at least the surface on which the thin film layer is formed is modified as the resin substrate. An optical information recording medium characterized by using an optical information recording medium that has been subjected to quality treatment.
質処理として、前記基板の表面に酸素プラズマを照射し
たことを特徴とする光情報記録媒体。(2) The optical information recording medium according to claim 1, wherein the surface of the substrate is irradiated with oxygen plasma as the modification treatment.
質処理として、前記基板の表面にスパッタエッチ処理を
施したことを特徴とする光情報記録媒体。(3) The optical information recording medium according to claim 1, wherein as the modification treatment, a sputter etching treatment is performed on the surface of the substrate.
質処理として、前記基板の表面にグロー放電処理を施し
たことを特徴とする光情報記録媒体。(4) The optical information recording medium according to claim 1, wherein the surface of the substrate is subjected to glow discharge treatment as the modification treatment.
質処理として、前記基板の表面に電子ビームを照射した
ことを特徴とする光情報記録媒体。(5) The optical information recording medium according to claim 1, wherein the surface of the substrate is irradiated with an electron beam as the modification treatment.
質処理として、前記基板の表面に紫外線を照射したこと
を特徴とする光情報記録媒体。(6) The optical information recording medium according to claim 1, wherein the surface of the substrate is irradiated with ultraviolet rays as the modification treatment.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63099306A JPH01271936A (en) | 1988-04-23 | 1988-04-23 | Optical information recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63099306A JPH01271936A (en) | 1988-04-23 | 1988-04-23 | Optical information recording medium |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01271936A true JPH01271936A (en) | 1989-10-31 |
Family
ID=14243946
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63099306A Pending JPH01271936A (en) | 1988-04-23 | 1988-04-23 | Optical information recording medium |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01271936A (en) |
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1988
- 1988-04-23 JP JP63099306A patent/JPH01271936A/en active Pending
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