JPH01282048A - 光学変換システム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野） 本発明は、所望形状の像を、正確かつ灯明（焦点を合わ
せて）又は強度プロファイルで投射する、光学的結像効
果を要すると共に、単円錐形状以外の変形を要する用途
を対象とする、複合反射体（鏡）及びその製造方法に関
する。

（従来技術およびその問題点） この種のミラーは、自動車の後方確認ミラー（バックミ
ラー）に使用されており、後景を広角でとらえることが
望ましく、この事はある程度法律で義務づけられている
（これは凸面後景反射体によって行われることが多い）
と同時にほぼ一倍の倍率で後景のある地点をとらえるの
が、得策である反面、視界を広くして、追い越しおよび
車線変更決定に影響する後走型の位置が全て分かる様に
する必要がある。これら要件を満たすため、１倍ミラー
に凸面ミラーを取付けたり、又は鏡幅方向に変倍する等
といった形で変倍ミラーが使用されて来たが、前者の場
合は２つの異なる像ができ、ドライバーにとっては、双
方の相対的倍率を考えながら、双方を即時に同化させに
くく、また後者の場合は、両眼に入る像の倍率が異なる
結果、２つの異寸法像が見えたり、これらがダブったり
して、像がぼやける。また、像を車内にリレーして内蔵
バックミラーに隣接する、表示器に映そうとすると、光
学的問題はさらに深刻化する。　　・また、変倍鏡は、
従来の円錐曲線形状ではないため、その形状を限定しに
くいことから、製造が難かしく、かつコストがかかる。

従って、有限寸法の電球および非対称ターゲットを収容
するヘッドライトランプ反射体等の、変形ミラーにした
い場合は、単一形状に覆る傾向があり、デザイン面の自
在性に欠ける。

ヘッドランプ反射体を構成する場合は、さらに、照射ビ
ームを所望強度パターンで、投射する必要があるが、こ
れまで、この要件を満たす、単反射体は出現しておらず
、放物面形のものを、複雑な反射体パターンと組合わせ
て使用しなければならなかった。

偏心（ｏＨ−ａｘｉｓ）高架投射器では、特殊形状の反
射体を、有益に使用できるが、この種の投射器では、１
つの反射体を使って、傾斜を補償することにより、均整
のとれた像を投射する。またこの種のミラーを用いるこ
とにより、ＴＶ画像またはへラドアップデイスプレー情
報を映写できる。

さらに、この種の反射鏡を用いれば、内外の間接照明が
行えるが、その伯の多くの用途では、複雑な光転写又は
電磁転写を要する。

（問題点を解決するための手段） 本発明によると、複合形状の変倍ミラー、および該変倍
ミラーをコンピュータ制御下で製造する、方法と装置が
提供されている。本発明は、さらに得られた鏡視野、強
度プロファイルその他特性を、オンラインモデル化して
、ミラーの所望特性が得られるまで、ミラースペック（
５ｐｅｃ：ｒｒｃａｔ−ｉｏｎｓ）を変更することによ
り、入力スペックから、ミラーを相対的に形成する。コ
ンピュータ駆動式のミラー形状画成システムを提供して
いる。このシステムにより、ミラー形状を容易に反復調
整して、簡単に所望成果を達成できる。修正するたびに
、ミラーを、新たな光学的特性を生む形状に変えていく
。所望特性が得られた時貞で、相当ミラー形状の鏡面を
有する、金属粗材を加工し、該形状からミラーをモール
ド成形するが、これにより所望デザイン基準を満たすツ
ール（ｔｏｏｌ）が得られる。

上記要領で、所望変倍特性を有する、後方確認ミラーが
得られる。また該ミラー周辺部の倍率を下げ、その中央
に、近１倍ミラーを設けることにより、像全体を縮小し
たり、縁部を拡大することもできる。コンピュータ生成
形状を制御することにより、倍率の異なるミラーを通し
て物体を見ても視覚的混乱（変倍反射体につきもの）が
生じない様にする。

本発明による、複合形状形成、能力を活用すれば、自動
車の外ミラーから内ミラー（変倍の利点が生かせる）に
像をリレーする性能を有する、ミラー系を実税できる。

さらに、本発明システムにより、フロン１〜ガラスから
反射させることによリ、単ミラーにヘッドアップ表示す
ると共に、高架投射器およびＴＶ等の反射式投用装置に
おける、偏心ひずみ、およびレーダアンテナの偏心マイ
クロ波反射を修正する光学系が実現できる。

また、本発明による、反射体形成技術を用いて、光源か
ら、所定強度パターンで、フィールド照射する、複合ミ
ラーを形成できるばかりでなく、その他多くの用途が可
能である。

（作　　用） 本発明は、光転写面として、視界と該視界の所望提示手
段間の転写を行う、または光源・強度プロファイル間の
転写手段の役目をするミラーを形成するものであるが、
光学的（ｏｐｔｉｃａｌ）　Ｘなる語は、電磁スペクト
ルの全域に適用されるものとする。特に、本発明は、一
連の入力スペックに従って、コンピュータ内で、ミラー
画成し、コンピュータ制御で、これら入力パラメータか
ら得られる視界の転写情報を、グラフ表示することによ
り、所望の転写情報を映すミラー即構成できる様にした
システムを提供している。コンピュータ制御システムは
さらに、金属面を該転写情報を映すミラー形状に成形す
る中央制御装置を供えている。

（実　施　例） 次に、添付図面を参照して、本発明の実施例の詳細を説
明するが、本発明は、車の後方確認ミラー（ｒｅａｒ　
ｖｉｅｗ　ｍ１ｒｒｏｒ）　　（バックミラー）に適し
ている。

第１図に示す様に、車（１２）は、右後方確認ミラー（
１４）または左後方Ｍ１認ミラー（選択はケースバイケ
ース）を備えており、ドライバ（１６）は、該ミラーを
見て、後方視界（１８）にある、物体または車（２０）
を感知する。またこの代りに右側走行車線を走行中の別
の車（２２）（要確認地点にある）が入る、広域視界（
２４）を示すこともできる。第２図に示す様に、ミラー
（１４）には、車（２０）の所在地および速度特性を、
即感できる形で、車（２０）が映し出されなければなら
ず、このため、ミラー（１４）の車（２０）表示部分に
、相対的に一倍に近い倍率を持たせることにより、距離
その他の特性にひずみが生じない様にする必要があるが
、この様にすると、ミラー（１４）に、車（２２）（そ
の走行状態および位置特性も重要である）を映す、適性
倍率をもたせにくくなる。従来は、ミラー（１４）の、
外側または右側に向って変倍し、広角にすると共に、最
右端で縮小化（ｓｍａｌｌｆｙｉｎｇ）　Ｌ／て、車（
２２）が視界に入るようにしていた。

しかし、この種のミラーは、鏡面全体にわたって、倍率
を変化させなければならないため、構“　　造が複雑化
して、コスト高になるため、従来技法では製造がむずか
しい。従って、多くの構成では、ミラー（１４）全面に
わたって、１倍の倍率に覆ると共に、ミラー（１４）外
端に実質的に１倍以下の倍率を持たせて、広角視界にす
る、第２ミラ一部を設けている。この種の多視界ミラー
に映る像はまぎられしいため、所望情報を認識するまで
の、時間的ロスが大きい。

この代りに、ミラー（１４）が、変倍機能を有する単ミ
ラーである場合は、適切な後方視界を持つと同時に、二
方向不一致（ｂｉｌａｔｅｒａｌ　ｄｉｓｐａ−ｒｉｔ
ｙ）として知られる混乱を防止するミラーにするのは困
難である。

第３図に二方向不一致を示す。ドライバは、それぞれ部
分（３２）および（３６）からの反射により、左目（３
０）および右目（３４）で、車（２２）を感知する。ミ
ラー（１４）に、外側に向って低下する可変倍率をもた
せであると、両目（３０）（３４，）で見た像の寸法が
くい違い、形状さえ異なることがある。両眼で見た像は
、重り合いにくいため、安全で効率が良い運転に要する
、必須情報流はさらに乱れる。従って、二方向不一致お
よび適切視界の問題に対処すると、変倍ミラーの構造が
複雑化する。

本発明システムの能力および柔軟性は、この様な構造上
の問題（複雑化）の対処に有益である。

すなわち、ミラーの光転写特性をコンピュータで予見す
ると同時に、二方向不一致等の問題を確実に回避する要
領で、ミラー特性を指定する。第４図に、本発明による
ミラーの表面（４０）を示す。

該表面は、直交水平線（４６）および垂直線（４４）で
交差する境界線で仕切られた、マトリックス状の小ミラ
ー（４２）で構成されている。各小ミラー（４２）は、
球面、双曲面、放物面等の種々形状を示す数式で表わせ
ると共に、ある数式に応じて水平方向に変化する、球面
等の表面を備えており、楕円、双曲面または放物面等の
別の関数に従って、水平方向にわずかに変化している。

また各小ミラーの一辺の長さは、０．０２５４ｃｍ（０
，０１インチ）である。ある任意点における、２つの原
則曲率を知るには、その点の２つの原則方向も知る必要
がある。これら特性がわかれば、光追跡データが得られ
る。

ミラー表面（４０）を、多数の小ミラー（４２）に分割
すれば、表面のテーパ付け、すなわち同一方向に並ぶ小
ミラーの倍率を徐々に変えることにより、中心部のある
倍率と、周辺部の別の倍率との差を調整できる。

しかし、エツジ間転移を制御せずに、単に倍率または形
状の異なる小ミラーを組合せるのは適切ではない。乱れ
た画像しか得られないからである。これら小ミラーを組
合わせて鮮明なコヒレント反射像を得るデザイン基準を
得るには、先ず第５図の反射力学を知る必要がある。図
示の様にドライバ（観察者）の目（５０）は、第５図の
二次元図の、複数の小ミラー（５４）の集合体であるミ
ラーく５２）を見ている。ミラー（５４）表面の任意点
において、該点と一方向に正接する線は、独特な直交ベ
クトルを有している。このベクトルの長さが、正接点で
曲率が変化する円又は球の半径と等しい場合は、その動
径は、該点におけるミラーの作図パラメータとなる。第
５図には、複数の動径（５６）が示されているが、それ
ぞれ各小ミラー（５４）の境界線を表わしている。ミラ
ー遠方の、これら動径の終端（小ミラー間各点の半径曲
率の中心）が、半径軌跡（５８）であり、小ミラー間各
接合点の、ミラー曲率円中心の位置変化を表わす。目（
５０）にコヒレント像を送るには、各小ミラー（５４）
の動径が、接点に近づくに従って、同一線上にのる様に
する必要がある（ただし、各隣接小ミラーからの半径距
離の長さは異なる）。両方向の、小ミラー隣接境界線に
対して、同一の制限があり、この基準を満たせば、ミラ
ーに感知可能な像が映る。

第５図にはさらに、目（５０）が見たミラー（５２）視
界内の各点からの光線が示されている。

光線（６０）は、点光源から出され、小ミラー（５４）
間の各接合点から反射されて、目（５０）に入る光を示
している。この点で、入射角は反射角と等しいという法
則から、各光線（６０）と、対応する動径（５６）との
角度は、目（５０）への反射光線（６２）と、対応する
動径（５６）との角度と同一になる。ミラー（５２）は
わん曲しているため、焦点がある。各小ミラー（５４）
は、それぞれ異なる倍率特性を有しているため、光線（
６０）づたいに入射する放射光線に対する、各小ミラー
（５４）の焦点は異なり、これら焦点をつなぐと軌跡（
６４）ができる。

第６図は、第４図および第５図の教示の応用例であり、
ミラ一部分（７０）の三次元図を示している。ミラ一部
分（７０）は、Ｘ又は水平方向のグリッド線（７４）と
、Ｙ又は垂直方向のグリッド線（７６）との交差により
、複数の小ミラー（７２）に分割されている（直立後方
確認ミラーに応用した場合）。しかし、第６図では、デ
ザインの便宜上、ＸおよびＹ軸線は、水平面にあり、垂
直方向はＺ軸線で示されている。またミラ一部分（７０
）を数理的に説明する関係上、１本のＸ方向グリッド線
（７４）を、システムの［背骨（ｓｐｉｎｓ　）　Ｊと
するが、これは実際のミラ一部分（７０）の内外にある
ものとする。該背骨線（７４）の特性として、数学的基
準枠内で、Ｙ移動量ゼロで、Ｚ軸線と交わる。ミラ一部
分（７０）を、後方確認ミラーとして構成すると共に、
適切設置ミラーのＸ軸線が水平方向に向う点に留意すれ
ば、背骨線その他のＸグリッド線（７４）に沿って進め
ていくと、小ミラー（７２）間の倍率又は曲率が、変わ
る（通常、グリッド線（７４）に沿って、Ｘ方向外側に
向うにつれて、次第に曲率が大きくなり、倍率が低下し
て、視界が拡大する）ことがわかる。この結果、動径（
８０）（Ｘ半径軌跡、（８２）を画成する）に示すよう
に、Ｘ方向に進むにつれ、曲率半径が小さくなる。各半
径を、Ｒ１Ｘ５Ｒ２Ｘ、Ｒ３Ｘ・・・・・・とし、Ｘ方
向に延びると共に、Ｘ方向のさらに外側の小ミラーに相
当するミラーの曲線半径を表わす。

同様に、Ｙ方向のグリッド線（７６）に沿った小ミラー
（７２）の曲率半径ＲＩＹ、Ｒ２Ｙ。

・・・・・・の軌跡を（８４）で示すが、各グリッド線
（７６）が、Ｙ方向に向う、一定の曲率半径を表わす場
合も同様である。

この代りに、グリッド線（７６）が、Ｙ方向に変倍する
場合は、実質的にＹ方向に延び、Ｙ軸線に沿って、外側
に延びる各小ミラー（７２）の半径Ｒ′Ｙ−１Ｒ２Ｙ−
・・・・・・変化を表わす、第３軌跡（８６）が得られ
る。

第６図にはさらに、ミラ一部分（７０）の、Ｘ、Ｙ軸線
に沿った最大および中心位置が、別の基準枠として示さ
れている。これらパラメータ、および工作機械の最大Ｚ
移動量を表わす落下（ｓａｇ＞パラメータについては、
入力データの一部として、コンピュータアルゴリズムで
示す。また、便宜上、図示の小ミラー（７２）の数は、
実物のミラーよりはるかに少なくしである。

上記のように、ミラー面（クロ）を空間形成して、視界
をコヒレント反射さゼるには、グリッド線（７４）およ
び（７６）間の全隣接点の半径を、同一動径（長さは異
なる）にする必要がある。

以下に説明するコンピュータシステムは、動径又は軌跡
（８２）（８４）（８６）沿った動径終端部における各
曲率中心の、Ｘ、Ｙ、Ｚ座標を用いると共に、中心にお
ける２原則曲率および２原則方向に基づぎ、ミラー（７
０）を空間アセンブルする。これらパラメータを記憶し
ておけば、ミラー全表面を処理し、種々の計算を実施す
ることにより、シミュレ〜ｉ〜視界、光線追跡、その他
関数を決定できる。

次に第７図を参照して、入力パラメータから、表面を実
際にコンピュータ作成する要領を説明する。第７図に示
す様に、ミラ一部（１００）は、複数の小ミラー（１０
２＞から成っており、ミラ−（１００）を通過してＸ方
向に延びる、背骨（１０４＞を備えている。該背骨（１
０４，）は、ＹＣずなわちＹセンタグリッド線を形成し
、またグリッド線（１０６）は、ＸセンタずなわちＸＣ
グリッド線を構成している。ミラ一部（１００）構成す
る場合、コンピュータは先ず、第６図基準枠内の、最大
、最小および中心のＸ、Ｙ座標と共に、Ｘ、Ｙ方向にお
ける半径変化範囲（上限万至下限）を受信する。さらに
表示等に要する換算係数情報も入力される。またコンピ
ュータは、各小ミラー（１０２）間の各境界を表わす数
式の入力を要求するが、これにより、多くの異なる数式
を含んだ、非常に複雑な関数が得られる。Ｘ方向グリッ
ド線は、後方確認ミラーの場合と同様に、半径がＹ方向
に一定であるが、Ｘ方向に次第に小さくなる円形特性を
有するものとして識別される。

最後に、各ミラー（１０２）の寸法を、特性又は数式を
表わす曲率変化間の、Ｘ、Ｙ方向のステップ寸法（通常
０．０２５４ｃｍ　＜０．０１インチ）として、指定す
る。

この情報によって、第７図の曲線セグメントＹ１、Ｙ２
およびＹ３で示す様に、先ず、Ｙグリッド線に沿った、
最小すなわら起動Ｘ位置および最小すなわち起動Ｙ位置
から、最大Ｙ位置まで進み、論理シーケンスのＲすなわ
ち動径を決定してから、Ｘ方向に１だけ歩進（Ｘｌ）Ｌ
、Ｙ方向の次のグリッド線に切り換える。次に、ステッ
プＹ４、Ｙ５およびＹＣの、Ｙ最大位置から、Ｙ最小位
置まで進み、Ｘ方向（×２）に進ｌυで、第３Ｙグリツ
ド線に到達する。次に、Ｙ最小位置から、ステップＹ７
、Ｙ８およびＹ９を通り、Ｙ最大位置に来る。次にＸ方
向（×３）に進んでから、ステップＹ１０．Ｙ１１およ
びＹ１２の順で、Ｙ方向に移動し、以下同様にして進む
。

第７図に示すステップ数および小ミラー寸法は、非常に
簡略化されているが、実際は、各小ミラーの寸法はこれ
よりはるかに小さく、また鏡面全体を、Ｘ、Ｙ方向に進
むステップの数も多い。

ステップＹ１からＹＪに進む間にＹ曲線を形成するには
、始点の動径は、前のＹ曲線の終点動径と同様のベクト
ル上にあるという制限に従い、該曲線を図式化および位
置決めする。予め入力された数式で、各Ｙ曲線を空間形
成することにより、簡単な数式で関連づ【プて行く。こ
の様にすると、各小ミラーに沿った、Ｘ、Ｙ位置、Ｘ、
Ｙステップ寸法およびＸ、Ｙ方向の曲線記述関数を入力
すれば、曲線を構成できる。この要領で描かれた表面で
は、本発明による別のプログラミングを用いて、光線追
跡、視界シミュレーション等を行うことにより、ミラー
の転写特性を識別できる。

第７図のステップバイステップ方式で曲線を構成するに
は、第８図に示す様に一連の動径又は記述パラメータを
必要とする。図示の様に、各セグメントＹ１乃至Ｙ６に
対して、別々の半径線（１１０）（セグメント間の境界
）が得られ、さらに各動径から、軌跡が得られる。動径
（１１２＞については、必ずしも、簡単な形状にする必
要はなく、例えば、軌跡（１１２＞（この場合、曲率半
径は、ステップＹ１乃至Ｙ６に進むにつれて最初は小さ
く次第に大きくなる）で示す様に、矢印−３６＝ の頭部形状を呈している。また、第８図に示す様に、軌
跡（１１，２）のＸ−Ｙ・７座標、ミラーの長さおよび
方向又は終点によって、動径を識別することにより、各
小ミラー区分の一連の記述パラメータが得られる。

第９図は、第７図および第８図の動作を実施するための
、基本計算アルゴリズムであり、第７図のシーケンスで
、第８図の動径によって、ミラー形状を決定するもので
ある。先ず、最初のステップ（１２０）で、Ｘ−Ｙ最小
、中心および最大値、Ｘ−Ｙ半径範囲、Ｘ−Ｙステップ
寸法その他の下記データを含む、特定ミラーパラメータ
を入力する。次のステップ１２２で、各小ミラーのＸ・
Ｙ方向の曲線を表わす数式を入力する。この代りにコン
ピュータファイルからデータを入手したり、又はキーボ
ードでデータ入力できる。

ステップ（１２２＞ではさらに、ミラーの半径が、最大
値から最小値まで変化する要領を識別する数式も入力す
る。二方向不一致効果を最少にしたい場合は、半径が小
ミラー間で変化する割合を限定することにより、視覚効
果の不一致を防止する。この場合は、変化率を表わす数
式を入力するが、半径比率を変えることにより、二方向
不一致を避ける必要がある。その−例を参考資料Ａ（第
９図方法論を一部実施するコンピュータプログラム）の
、７４０乃至９００行目に示す。

次のステップ（１２４＞では、上２のべき比数式を用い
て、ミラー全体における小ミラー間の半径比を計算する
。次のステップ（１２６）では、次又は初期のＸステッ
プを取り、ステップ（１２８）では、該Ｘ位置に対する
、Ｘ方向孤接線の曲率半径中心軌跡を計算し、記憶する
。ステップ（１３０）では、該Ｘステップで、小ミラー
の全Ｙ方向セグメントを通過し、各Ｙ地点で、Ｘ方向の
孤接線に対するＹ半径軌跡又は曲率中心軌跡、および曲
線接線とＹ方向のＲ動径軌跡（Ｙ方向に変化する程度の
もの）を計算し、記憶する。ステップ（１３２）では、
ミラーの全Ｘセグメントがアセンブルされたか否かを決
定し、Ｎｏの場合は、ステップ（１２６）に戻り、次の
Ｙグリッド線（Ｘ方向に１ステツプインデツクスされて
いる）を選択して、ミラー全面が完成するまで、ステッ
プ（１２８）および（１３０）を繰り返す。大型記憶装
置の使用を避けるため、次のＹ線に歩進する前に、表示
、プリント、プロット又は加工の各パスから得られたデ
ータを用いることができる。

この時点で、ミラー全面を指定する全動径および光線追
跡の通常ベクトルを得るが、これらを記憶するか、又は
以下の様にオンライン使用する。

添イ１内類Ａのコンピュータプログラミングステップ１
２００乃至２７００は、球形の小ミラーセグメントを用
いると共に、Ｘ方向に変位したＹグリッド線の曲率半径
が、Ｙ方向に変化しない場合に、ステップ（１２８）お
よび（１３０）で実施する計算例である。

第７図乃至第９図の方法論によって、鏡面輪郭を指定形
成する融通性は、種々のシミュレーションツールから選
択できる。一連のプログラミングステップを用いて、種
々のミラー転写機能をシミュレートする際に得られる自
在性にある。

第１０図にその一例を示すが、これは、第７図および第
８図の技法に応じで構成されたミラーの性能を評価する
コンピュータプログラム・データシステムである。第１
０図に示すプログラムには以下のものがある。即ち、ミ
ラー漸次変化または歪形（ａｎａｍｏｒｐｈｉｓｍ）　
ｉのグラフ表示（鏡面ｘ−ｙ方向における曲率半径の差
）、ミラー全体に亘る、垂直および水平視界の変化観察
、ミラー実表面を表わす、２次元プロット化、所定視界
のミラーシミュレーション、光源・物体間における光線
追跡機能、および指定されたミラーパラメータからツー
ル制御信号を出して、加工中心部を制御覆ることにより
、設計通りの正反射特性を有する鏡面に対応する。被加
工金属面を形成する能力が挙げられる。第１０図におい
て、（１４０）は、それぞれ第７図乃至第９図に示す、
ミラー記述パラメータおよび数式をパノｊする。マニュ
アルデータ入力プログラム（１４２）又はマニュアル数
式データ入力プログラム（１４４）に有益な、データ入
力キーボードである。中央のデータファイル記憶揚所（
１４６）に、パラメータと数式データおよびその他ミラ
ー記述半径パラメータを記憶させる。

種々のシミュレ〜ジョンプログラムから、表面わん曲プ
ログラム（１４８）を選択して、ファイル（１４６）デ
ータに働きかけるか、又はキーボード（１４０）入力し
て、ミラー漸次変化（歪形）（以下に説明する）を示ず
グラフを描く。また視角プログラム（１５０）を入手し
て、ミラーに映る垂直および水平可視範囲を表わすグラ
フを作成する。さらに、プロッタープログラム（１５２
）を入手して、フ戸イル（１４６）データに働きか【プ
、プロッタ（１７０）に、ミラー実表面輪郭を２次元表
示する。画像プログラム（１５４）は、得られたミラー
記述データに作用して、指定特性に応じて、キーボード
（１４０）データ入力から得られた後方視界の一部を早
示する。移動しつつある交通状況を示す、複数の景色を
、画像ファイル記憶装置（１５６）に、順次記憶してお
き、コンピュータスクリーン（１６８）又はプリンタ（
１５８）に順次表示できる。選択可能プログラム（１６
０）は、得られたミラー指定入力データおよび動径デー
タに基づき、ドライバ・ミラー視界間を光追跡する。機
械制御プロ１グラム（１６２）は、ミラー指定情報およ
び計算された動径データに、同様に作用し、加工中心部
（１６４）に亘って、Ｘ−Ｙ−Ｚ制御すると共に、光学
的に傾き制御して、機械の切削チップと、作成中の鏡面
とを、所定関係に保つ。表面チエツクプログラム（１６
６）により、表面全体に、グラム探針を走らぜ、位置の
適合性をチエツクすることによって、鏡面特性を確認す
る。

第１１図乃至第２６図に、第１０図プログラムの算法動
作を示す。第９図の算法処理で得られた基本計算を、図
示算法の一成分として使用する（第９図算法をそっくり
再現するというより）が、その動作は、単一ステップで
要約されている。添付書類Ａは、全基本計算および第１
０図のデータ入力成分を含む、機械プログラム（１６２
）の完全プログラムを示しており、円形小ミラーの曲率
式、およびＹ方向に配向された正接曲線の、不変Ｙ方向
曲率半径が使われている。すなわち、第６図の軌跡（８
６）に相当する軌跡がない。

第１１図は、デ゛−タ入力用プログラミングであるが、
データ入力中に、データファイル（１４６）には、Ｘ−
Ｙ開始又は最小値および終端又は最大値、小ミラー寸法
に相当する両方向歩進規模おＪ：びＸ−Ｙ方向曲線の半
径範囲（上限から下限）を示す。その他プログラム情報
をロードすると共に、背骨を示すＸ中心およびＹ中心寸
法、機械工具の最大切削深さを表わす、落下パラメータ
、および換算係数を得るための、コンピュータ又はマシ
ーン従属データを入力する。また、各ステップ間の所望
遅延および切削速度情報、および加減速プロファイル情
報を入力して、工具速度変換時の、慣性移動に起因する
ひずみを最少にする。最後に、凸凹面のいずれかを決定
する、右回り又は左回りミラー曲率情報を入力する。こ
の情報は、添付書類に、入力要求として示されている。

第１２図は、プログラム＜１４４）の動作（数式入力動
作）を示している。該プログラムは、オペレータの便宜
に応じて、データファイルに入力され、第７図シーケン
スを通って歩進する際に、小ミラーステップ毎に、これ
をアクセスするか、又はプログラム自体に直接入力され
る。数式の入力は、小ミラーのＸ−Ｙ境界線に沿った、
曲率を表わす。また、小ミラー間の曲率半径を、ミラー
各部分に亘って変化させる要領を変えるか否かに応じて
、１つ以上のべき比、式を入力する。

例えば、第１３図は、曲率半径が８０（中心部）から２
０（両端）まで変化する。Ｙ方向に延びるミラー区分を
示している。この場合、ミラー区分（２００）の各半分
を表わす数式く形状・べき圧式）を用いる。ただし、曲
線を、高曲率半径値、およびその仙円錐曲線に近い球面
曲率を与える、複数式に分りることもできる。

第１４図は、ミラーの曲率半径を、Ｘ・Ｙ移動関数とし
てプリンタ（１５８）にグラフ出力する。表面曲線プロ
グラム（１４８）の動作を示している。いっしょにプロ
ットされたＸ−Ｙ移動半径変動を表わす曲線（２０２）
および（２０４）は、ミラー漸次変化（歪形）すなわち
、ミラーが方向により急速にね７０曲する程度を示して
いる。

第１４図のグラフを得るには、第１５図算法を用いる。

第９図アルゴリズムを用いて、開始ステップ（２０６）
で、基本動径情報を作成する。

この情報でＸ−Ｙ関数としてＲの大きさがわかるため、
ステップ（２０８）で、第１４図に示す様なＸ−Ｙ両方
向の半径変化を表示するか、又はステップ（２１０＞で
プリントアウトする。

第１６図は、視角プログラム（１５０）で決定された、
ミラーのＸ又はＹ方向の視角変動を示している。このグ
ラフ（プリントアウトされるか又は表示される）には、
３本の曲線、すなわち総垂直視角をＸの関数として表わ
す曲線（２１２）、水平視角を、アングルベータ（第１
７図参照）どして示す曲線（２１４）、および水平角変
化（位置変化に伴う）を表わす曲線（２１６）が示され
ている。

第１６図の用語を説明するため、第１７図には、ミラー
（２２２）（表面上の種々の点で、特定の曲率半径（２
２４）を右する）から反射させることにより、ドライバ
の目（２１８＞から視界（２２０＞まで光追跡した状態
が示されている。

アングルベータは、車の前後面（ドライバの目（２１８
＞が存在する）と、目から視界（２２０）の特定点に至
る光線との間の角度であり、Ｘ方向移動の関数として示
されている。曲線（２１４＞は、急上昇しているが、こ
れは、曲線（２１６）が不定であり、上昇する正の値を
有することを示すと共に、鏡面（２２２）に亘って、Ｘ
方向に向うに従い、視界が拡大すると同時に、倍率およ
び曲率半径が低下することを表わしている。

第１８図は、ステップ（２３０＞で得られた基本的動径
計算式から、第１６図の曲線を作成する処理工程を示し
ている。ステップ（２３２）で、ミラー（２２２＞に対
する目（２１６）の位置を識別する次元、ずなわち第１
７図のＡ−Ｂ次元を入力する。次のステップ（２３４）
では、入射角は反射角に等しいという定理を用いて、第
１７図のアルファおよびベータ角を計算する。例えば、
目（２１８＞に対してアルファ角を成す光線が、ミラー
と交差するミラー任意点で、適宜動径（２２４）に対し
て、入射光線と動径とが成す角度と同様の角度を有する
反射光が発生する。次に車の前後面に対して、動径角を
つけることにより、ベータ角を決定する。ステップ毎の
違いから曲線（２１６＞を得る。曲線（２１２）につい
ては、ミラーの上下で、Ｙ方向のベータ角を決定し、違
いを発見すれば、その違いが即曲線（２１２＞になる。

次に得られたグラフ情報をステップ（２３６）で表示し
たり、又はステップ（２３８）で任意プリントするが、
通常両行程が望まれる。

第１９図は、プロッタ（１７０）が、プロッタプログラ
ム（１５２）から得たプロット図であめ。該プログラム
は、Ｘ−Ｙプロット図を描くものであり、Ｘ軸にはＸ＋
７値が示される。第２０図は、プログラム（１５２）の
動作説明図であり、ステップ（２４２）で、動径を表わ
す基本的計算を行うが、鏡面位置は、各動径の鏡面外端
部として示される。Ｘ−Ｙ−Ｚ方向のミラーの位置を表
わすデータに基づき、後続ステップ（２４２）で、各Ｘ
−Ｙ位置のＸ−７パラメータを合計し、ステップ（２４
６）で、第１９図に示す曲線（２４８）を得る。

第２１図は、例えば、第１および第２車線（２５４＞（
２５６＞、およびオペレータの車の直後に位置する車（
２’５８）を表わす入力パラメータとして、シミュレ−
１−された後方確認ミラー（２５２）に現われる景色（
２５０）を表わす表示とプリントとを行う。画像プログ
ラム（１５４）の動作を示している。第２２図は、Ａ−
Ｂ次元を用いて、シミュレートミラー（２６０）からの
反射により・、第１・第２車線（２５２）（２５４）お
よび車（２５６）を、別々の視角で、目（２５８）でと
らえた状況を示しており、また第２３図は、このシミュ
レート視界を形成するアルゴリズムである。まず、ステ
ップ（２６６）で、ミラー全面の動径を識別する入力指
定パラメータから、ミラー形状を求める基本的計算をす
る。次のステップ（２６８＞で、車線および車を、ミラ
ー−４８＝ （２６０）位置からの正規化視界関数として表わす画像
データを入力する。さらに、ステップ（２７０）で、視
界を小セグメントに分割し、該セグメン）〜の境界を、
シミュレートミラー（２６０）が指定した各小ミラーの
境界と一致させることにより、各小ミラーに対して示さ
れる視界セグメントを決定する。次に、視界から得たグ
ラフ情報を、シミュレートミラー（２６０）の各小ミラ
ー位置にマツピングすると共に、コンピュータファイル
に記憶し、ミラー（２５２）に写る景色（２５０）をシ
ミュレートするスクリーンとして表示できる様にする。

ステップ（２７０＞で実施されるグラフマツピングルー
チンは、ビデオゲーム等における従来技法によるもので
あるため、その詳細は省略する。次のステップ（２７２
）では、ミラー（２６０＞表面に視界を転写するべくア
センブルされたデータで、記憶装置又はラスク記憶装置
（使用するコンピュータシステムによって決まる）から
の情報をアクセスして、表示器を駆動し、次のルーチン
（２７４＞で、第２１図に示す資料に相当する情報をプ
リントする。

本発明システムの真価は次の点にある。すなわち、ステ
ップ（２７６）で、得た情報をデータファイルに記憶す
るが、全システムを、決定ステップ（２７８）にブラン
チバック（該ステップから、ステップ（１６８）に進め
ることにより視界データを変更したり、基本計算ステッ
プ（２６６）の、データ入力又は数式入力部に戻すこと
により、ミラーパラメータを変更できる。この要領で、
シミュレートミラーの視界を、別のシーンおよび別のミ
ラーパラメータに対してチエツクできる。ステップ（２
７６＞では、一連のシミュレート風景をデータファイル
に記憶して、例えば、バックミラー視界に入る後走型の
接近を表わす一連の後方シーンに備えると共に、順次に
表示して、リアルな走行シナリオを表わすことができる
。またこの代りに、形状が異なるミラーの異なるシミュ
レート景色をデータファイルに記憶して、特定の所望視
界幅および目（２５８）とミラー（２６０）（第２２図
参照）との間隔を含む車輌の制約があるオプション形状
の決定に役立てることができる。

第２１図乃至第２３図に示す処理を反復すれば、シミュ
レート像によるビジュアル化が可能であるが、第１０図
のその他プログラムにも同様の反復手順を適用できる。

第２４図は代表釣元追跡プログラムを図式化したもので
あり、ミラー（２８２）で反射された光線に沿って、目
（２８０）から視界（２８４）まで光線を追跡する。第
２４図の光追跡図により、ミラー（２８２）で得られる
、実可視幅を有する、便利な立面図又はオーバーヘッド
図が得られる。

第２５図は、第２４図機能を実施するプログラム（１６
０）のアルゴリズムプログラミングであり、特にステッ
プ（２８８）で得た曲率半径ベクトルの基本的計算に基
づぎ、ステップ（２９０＞では、上記Ａ−８パラメータ
を使って指定回の位置（２８０）から、対状の入反射光
線を出す。ステップ（２９２＞では、第２４図に示す要
領で光線を表示するか又は出カブリントする。ステップ
（２９４）で入力データを修正し、新規の視界を形成す
る。いくつかの景色をアセンブルしたら、代表ステップ
（−２９８）で、景色データを作表することにより、別
々の車の接近を並置比較できる。

第２６図は、第２７図に示す機械加ニジステム（１６４
）を駆動する加ニブログラム（１６２）のアルゴリズム
である。開始ステップ（３００）で、第１１図の終りの
数行にリストアツブされている様な加工中心部に特定の
入力パラメータを入力する。次にステップ（３０２＞で
、基本的計算を実施し、小ミラー境界に沿った、ミラー
全面の動径および×・Ｙ−Ｚ座標を識別する。ステップ
（３０４）で、機械中心部をセットアツプして、速度、
加減速パラメータを求め、曲線（３０６）で示を様な加
減速線を形成する。ステップ（３０４）では、小ミラー
ステップ寸法、および工作機械システムのステップモー
タ形状間のステップ寸法変換を識別する。

次のステップ（３０８）で、ステップ補間し、小ミラー
の７関数を平滑化する。参考資料Ａのステップ３７６０
乃至４６６０に、補間ルーチンの一例を示す。ただし、
他の補間ルーチンでも、曲線を平滑にフィツトできる。

ステップ（３１０）では、特定のツールセンタ（３１２
）に、ソフトウェアドライバを配備して、該センタが要
する、フォーマット、極性その他コンシステンシ（ｃｏ
ｎｓ−ｉｓｔｅｎｃｉｅｓ）を定める。また、ツールセ
ンタ（３１２）には、切削工具偏向機構を設置プること
かできるが、その場合、ツールセンタは傾斜を制御し、
工具を配向させることにより、各接点で、加工中の鏡面
と直交させる。このステップでは、第２９図の構成を用
いて、各地点の動径方向と■異配向とを整合させるだけ
でよい。次の反復ステップ（３１４）で、ステップ（３
０２＞の基本計算ルーチンを介して、手順をブランチバ
ックする。通常ステップ（３０２＞と（３１４）との間
の処理については、ミラーに亘って、Ｙ方向に１回帰用
する様に構成し、Ｘ方向に一歩だけバックすることによ
り、鏡面に亘って交互方向に行われる。後続Ｙ掃引処理
を繰り返す様にする。この様にすると、ミラーおよびこ
れを構成する小ミラーの、全プロファイルおＪ：び制御
命令を、−挙に記憶する必要がなくなる。

第２７図は、本発明の実施に要する代表的加工センタの
斜視図である。図示の様に、台（３４０）には、コンピ
ュータ制御下で、Ｙ方向ドライバ（３４４）で駆動され
る、Ｙ方向キャリジ（３４２）が設けられており、また
Ｙ方向キャリジ上面にはＸ方向ドライバ（３４８）で駆
動される、Ｘ方向キャリジ＜３４６）が設けられている
。Ｙ方向キャリジ又は中間支持体上にはコンピュータ制
御下で、鏡面（３５２）を形成する様に加工されたアル
ミニウム粗材（３５０）が設けられている。加工ビット
（３５４）は、供給線（３６０）を介して空圧供給装置
（３５８）で懸架された高速回転装置（３５６）でチャ
ックされる。供給装置（３５８）は、通常フィルタがジ
ノされており、回転装置（３５６）を駆動する加圧流体
に汚染物資が入らない様になっている。また回転装置（
３５６）は通常７０，０００ｒｐｍＰｉ！度の高速で回
転するが、この高速回転と、ダイアモンド製のビット（
３５４）先端どの相乗効果により、研削時の摩擦がゼロ
になることから、ビット（３５６）の研削効果で表面に
反応が現われることがないため、表面を高精度加工して
、鏡面反射面にすることかできる。被加工材に応じて、
他の型のビット（３５４）先端を使用することができる
ばかりでなく、上記の機械式システムの代りに、放電加
工（ＥＤＭ）センタを使用しても同様に位置制御できる
。ＥＤＭセンタは特に、硬鋼の加工に有益である。また
凸凹粗材をプレス加工してミラーにすることもできる。

回転装置（３５６）は、コンピュータ制御で、Ｘ方向ド
ライバ（３６４）により、Ｘ方向に駆動される、Ｘ方向
キャリジ（３６２）に装着されており、該キャリジ（３
６２）は、後面支持ベース（３６８）に装着された、縦
形支持板＜３６６）上を走行する。

また鏡面に対する、ダイアモンド研削ビットの、Ｘ−Ｙ
−Ｘ方向移動を、第２８図に示す要領で、干渉計制御で
きる。図示の様に、支持台（３７６）には、鏡面反射面
となる、所望のプレス粗材を載ぜることができる。Ｘ−
ＹおよびＺドライバ（３７８）（３８０）（３８２）を
設けて、支持台（３７６）位置をＸ−ＹおよびＸ方向に
移動制御する。支持台（３７６）の−隅には、Ｘ−Ｙお
よびＸ方向に入射レーナ光線を逆反射させる、逆反射モ
ジュール（３８４）が設けられている。

図示システムには、Ｘ方向への逆反射例しか示されてい
ないが、ＹおよびＸ方向についても同一手段により、同
一要領で行われる。

レーザ（３８６）は、一連のビームスプリッタ（３８８
）を通しで、ミラーアセンブリ（３８４）の逆反射部材
にレーザビームを照射する。ビームスプリッタ（３８８
）を通過した戻りビーム線は入射ビーム線と結合して、
干渉リングカウンタ（３９０）に送られる。該カウンタ
（３９０）は、支持台（３７６）の動きを、入射レーザ
光線の分数波長まで、正確に追跡する。この位置情報は
、デジタル比較器（３９２）（第２６図のアルゴリズム
に応じて、作動するコンピュータからの位置データに基
づいて作動する）に伝えられ、該比較器（３９２）は、
支持台（３７６）が、いずれの極性でＸ方向に駆動され
るかを識別して、発振器（３９４）から、Ｘドライバ又
はステップモータ（３７８）に、駆動パルスを送る。速
度・加速コントローラ（３９６）は、コンピュータから
、速度・加速情報を受（プ、発振器（３９４）から出さ
れるパルス速度を制御し、第２６図の曲線（３０６）で
示す様な速度・加減速プロファイルを形成する。

また、Ｙおよび７方向についても、上記と同様に、Ｙ−
Ｚ干渉計モニタがなされており、ＹおよびＺ軸フランジ
カウンタ（３９８）は、ＹおよびＺドライバ（３８０）
（３８２）に出力信号を送り、ＹおよびＸ方向の駆動を
制御する。

この代りに、第２９図に示す様な、加工ビット回転台を
設け、加工中のミラーのわん曲面に対する配向を制御で
きる。すなわち、ゴニオメータ台（４００）を設け、そ
こから、ダイアモンドビット（４０４）の回転装置（４
，０２）を支持する。

この支持台により、ビットは、鏡面仕上げ中の金属粗材
（４０６）と接触して、その切削点の周りを回転する。

コンピュータは、Ｘ−ＹおよびＺドライバ（４１０）を
介して、粗材（４０６）に対する、支持台（４０８）の
Ｘ−ＹおよびＹ方向位置を制御すると共に、回転装置（
４０２）のθおよびφ位置配向を制御するモータドライ
バ（４１２）を介して、ゴニオメータ支持台（４００）
に回転装置（４０２＞を位置決めする、位置決め情報を
出す。θおよびφ情報は、角度検出回路（４１４）を用
いる、第２６図アルゴリズムのコンピュータ処理で出さ
れる、動径角度情報から得られる。

回転装置（４０２＞は、該情報により、ゴニオメータ支
持台（４００）に沿って、θおよびφ位置が、ミラーの
動径と一致する地点まで移動し、ビットが全地点で確実
に直交する様にする。この代りに、第２９図装置を用い
た数式に応じて、直交以外の角配向を保持又は変更でき
る。

本発明にＪ：るミラーは、広範囲の光転写機能を果たす
。複雑な屈折素子を要する光転写を、複合反射面を有す
る一枚の反射鏡（そのパラメータは、本発明技法で設泪
できる）で達成できる。特に第３０図に示す、ヘッドア
ップ表示器は、特殊な複合ミラー（４２６）（目（４２
８＞で観察する）からの反射で、透明体（４２２）を、
フロントガラス（４２４）面に投反射させる投射系（４
２０）を備えている。フロントガラス（４２４，）は、
複合曲線を有しているため、その内反射面は、わずかな
歪みも取り込んでしまう。これを補償し、透明体（４２
２）の虚像（４３０）を、適切配向および比率で見える
様にするには、本発明により、複合形状のミラーを構成
し、例えば、第１０図に示す反復視界シミュレーション
および光追跡プログラムを使用して、ミラー（４２６）
の機能を達成づ−る必要がある。

その他用途では、ヘッドランプアセンブリに、反射体を
設けることにより、政府基準を満たす所望の投射強度パ
ターンを画成する。また、場合によっては、所望強度パ
ターンを達成するため、ヘッドライトアセンブリに、屈
折又はフレネル（Ｆｒｅｎｅｌ　）形のフロントレンズ
を用いる必要があるが、この種のレンズは高価であり１
、多くの場合、左右いずれかのランプレンズとして使用
されるため、取換えがめんどうであるばかりでなく、特
定かつ所望の強度プロファイルを達成するべく反射体と
レンズとを組合わせるのは、設計上困難であることから
、ヘッドランプの数を最少にしなければならず、車の設
計自在性が限定されてしまう。しかし本発明によると、
フロント屈折レンズなしに、所定のフイラメン１〜寸法
特性を右するランプ（４４２）から、所望強さの揚（４
４，４，）を投射する第３１図に示す反射体（４４０）
を、本発明による反射面形成技法および照射域（４４４
）に亘って、光追跡強度プロファイルを展開する、反射
体動作シミュレーションプログラムを用いて、所望形状
に設計できる。ミラープロファイルを変えるステップを
反復することにより、短時間で所望の強度機能を達成す
る、ミラープロファイルを終結して、モールドパターン
を形成する表面を研削することにより、上記目的を達成
する多面反射体を形成できる。

第３２図により複雑なヘッドランプ反射系を示している
。該反射系は、本発明によって構成された、光源（４５
２）からの光を屈折する、後部反射体（４５０）、側部
反射体（４５４）および中央反射体（４５６）から成り
、非常に特殊な強度プロファイルを達成する。反射体（
４５０）および（４５４）は、通常、回転面に形成され
た円錐面を有し、反射体（４５６）は、軸方向にシンメ
トリな、円錐断面形状を有している。この様な複合型は
、分散等の制御に有益である。

第３５図乃至第３７図は、本発明を利用した、ヘッドラ
ンプ反射体を示している。特に、ヘッドライトは、米国
法に準じて構成されており、米国連邦条例に規定された
、最小強度レベルの「等カンデラマツプ（ｉｓｏ　ｃａ
ｎｄｅｌｌａ　ｍａｐ）　Ｊに基づく照度パターンを達
成している。従来、これら等マツプ強度要件を満たす自
動車用ヘッドランプを構成するのは困難かつ時間を要し
たため、デナイン上の多様性に限界があり、従って、空
気力学的効率と結びついた創意工夫の自在性と共に、ヘ
ッドランプをはめ込むフロントエンドのデザインも限定
されていた。従来のヘッドランプは、フィラメント状の
光放射源を部分包囲する放物面反射体から成っており、
ヘッドライトの、複合反射体レンズで、等マツプで要求
される強度パターンを達成している。ヘッドランプレン
ズに反射体を用いると、コスト高になると共に、構造が
より複雑化するＩこめ、デザイン上の自在性が制限され
る。

複数の隣接小ミラーを用いる、本発明の反射体構成技術
では、反射体たりて等マツプ要件に適合する放射パター
ンが得られる自動車用ヘッドランプ反射装置を形成でき
る。特に第３５図に示す様に、等マツプ（５００）は、
ヘッドランプ強度を指定する要領を示しており、その表
面の各点は、ヘッドランプ（５０２＞の通常位置から、
可変間隔位置にある。

等マツプ（５００）は、ヘッドランプ（５０２）で照明
された時は、満足ずべぎ必須光強度を有する、複数のロ
ケーション（５０４）（５０６）（５０８）（５１０）
を右している。本発明によると、ヘッドランプ（５０２
）の反射体（５１２＞は、水平幅Ｗ、垂直高さ）ｌ、お
よび全深ざＤを有する、ヘッドランプ（５０２＞の基本
スペックで始まる、小鏡面形成技術により構成されてい
る。

またフィラメンｈ（５１４）を設（プ、反射体（５１２
）の反射により、等マツプ（５００）を照明する。。

第３６図は、ヘッドランプ反射体の構成に用する、コン
ビコータ装置に、データ源を加えた例である。特に、タ
ーゲット記述（ｔａｒｇｅｔ　ｄｅｓｃｒｉ−ｐｔ；ｏ
ｎ、）〆データ（５１６）は、データファイル（’：１
４６）に入力されて、等マツプ（５００）の必須強度１
ヘボロジー情報を送る。まＩこ入力データ（５１８）は
、反射体＜５１２）の寸法、反射特性およびフィラメン
１〜（Ｅ５１４　）付勢時における、反射体動作を補償
する熱膨脹等のその他特性を指定する。さらに、周波数
スペクトル、パワー出力および物理的寸法等の、　フィ
ラメント又は光源（５１４）の特性に関する入力データ
（５２０）も入力される。

これらデータは、各素子（５１６）（５１８）（５２０
）を介して、キーボード又は磁気媒体入力される。

フィラメン１〜（５１４）からの全光を等マツプ（５０
０）に向りで所望ヘッドランプ強度域以外のスプリアス
照射を避けるため、逆反射体（５２２）を設けて、フィ
ラメント（５１４，）から出された光を、反射体（５１
２）に向は直す。

反射体（５１２）の実表面は、前記のミラー生成システ
ムと同様に、小ミラー単位で構成されている。等マツプ
（５００）の各領域（５０４，）乃至（５１０）は、そ
れぞれ例エバ領１ｉｌｓ！（５０４）の必須強度が達成
されるまで、フィラメント（５１４）からの光を、領ｗ
１．（５０４）に向ける、複数の小ミラーを画成するこ
とで達成される強度要件を有している。該強度要件が達
成されると、次の領域（５０６）の強度要件が達成され
るまで、小ミラー表面を調節して、フィラメン１〜（５
１４）の光を、該領域（５０６）に向ける。ミラーの全
面（５１２）が生成されるまで、この要領で行う。

第３７図は、反射体形状を決定するフローチャー１〜で
ある。ステップ（５３０）で、上記の様に、反射体（５
１２）表面に亘って、ＸおよびＹ方向に各小ミラーを順
次識別し、ステップ（５３２）で各小ミラーから、等マ
ツプの被照射領域を決定する。ステップ（５３／１．　
）で、フィラメント（５１／Ｉ）から、対応等マツプ領
域までの図形内光追跡ベクトルを確立する。ステップ（
５３６）で、小ミラー表面に対する法線、該ミラーの実
形状、向きおＪ：び３次元空間等の光追跡データを決定
し、次のステップ（５３８）で、特定等マツプ領域の所
望強度が達成されるまで、上記工程を繰り返す。強度プ
ロファイルが達成されるたら、ステップ（５４０）で次
の等マツプ領域に移行し、ステップ（５３８）又は（５
４０）からステップ（５３０）に戻り、同様に順次処理
する。

各等マツプ（５００）領域の場所は、データファイル（
１４６）に入力されたデータににつで、ミラー（５１２
）およびフィラメント（５１４）の高さ、幅および深さ
に関する３次元空間で画成される。これら図形的配置構
成および３次元空間座標による、反射体（５１２）に沿
った小ミラーの位置限定に基づき、従来要領で、フィラ
メント・等マツプ間を光追跡する。この技法によると、
反射体（５１２）は、ステップ単位又は小ミラー単位お
よび必須強度プロファイル単位で構成される。

第１０図の光追跡プログラム（１６０）および画像ファ
イル（１５６）を用いて、特定反射体（５１２）の構成
に対する、等マツプ（５００）の光線終端部のスポット
パターン画像を記憶する。

さらに、フィラメン１−（５１４）からの種々の点を用
いて、その物理的寸法を表わす別の画像を生成できる。

複数のライラメ２１〜点の画像群を、例えば画像ごとに
色又は記号を変えたりして、コンピュータ重積すること
により、フィラメンｊ−実寸法から、より完全に近い強
度プロファイル画像が、得られる。また同一技法により
、高ビームフィラメントを表わすフィラメント（５１／
Ｉ）に対応する等マツプ画像が得られる。

等マツプ（５，００＞の各領域を照明するには、区分は
照射に利用した一連の小ミラーを、ミラーセグメント（
５５０）にグループ分けし、各セグメントで、該領域を
照明する。この方式では使用するセグメントの数を自在
に決定でき、画像ファ　　。

イルを用いて、種々のセグメント限定に対して、等マツ
プ強度Ｉ〜ボロジーを表わす一連の画像を形成すると同
時に、等マツプ（５００）に与える各光追跡衝撃につい
ても、類似の集光効果が見られるばかりでなく、色分け
して、集光度を表わすことができる。

上記の通り、本発明によるインクリメント隣接ミラー概
念を用いて反射体形状の即時生成、画成、および指定又
は代替フィラメント寸法に関して得られた強度および光
追跡スボッ１〜特性を分析できる様にしたヘッドランプ
反射体開発に要する高精度システムを説明した。

次に、第３３図を参照して、車への応用例を説明する。

図示の様に、車の両サイドに取付（プられる後方確認サ
イドミラー（４，６０）（４６２）はそれぞれ、室内の
リレー反射体（４６４）（４６６）と組んで、観察者（
ドライバ）（４６８）に対して、例えば内ミラー（４７
０）の隣接部等の見やすい場所にサイドミラーに映った
ままの像を提示する。各反射体（４６０）乃至（４，６
６）は、複合型であり、所定の倍率ブ１コファイルで鮮
明な縦形像を映すことにより、所望の広角で見える様に
しである。第１０図に示す、本発明方式により、ミラー
（４６０）乃至（４６６）の表面を即時構成し、これに
応じて鏡面カットすることにより、実際のミラーを形成
できる。

第３４図は、本発明を用いて高精度光転写又は電磁転写
を行うのに適した、複合ミラーを形成する別の実施例を
示す゛。図示の様に、本発明による複合反射体（４８０
）および偏心マイクロ波フィーダ（４８２）から成るレ
ーダアンチ±が設けられている。本発明による光追跡シ
ミュレーションにより、反射体（４８０）を輪郭付【ノ
することによって、所望の二次元寸法のマイクロ波エネ
ルギを有する出力ビームが容易に得られるため、中心送
りレーダアンテナ（従来法で構成し易いが効率面で劣る
）を用いた場合の問題が解消できる。

この様な複雑な反射面の指定が難かしいため、反射体（
４８０）の様な偏心反射体に要する複９１ｔな形状は、
容易に得られない。

第３８図乃至第４０図は、内外照明パターンの形成に用
いる反射体形状の生成に、本発明を応用した例である。

第３８図において、反射体（６０４）は、光源（６００
）からビーム（６０２）を受け、扇形又はパンケーキ形
ビーム（６０６）を出す。ビーム（６０６）は、室の−
Ｆ周辺隅にある拡散反射体（６０８）にぶつかって反射
し、強度パターン（６１０）となり室の実質的部分を照
明する。ミラー（６０４）は、上記の小ミラーおよび光
追跡法によって構成されており、パターン（６１０）に
所望の照度プロファイルを形成する。

この要領で、複合反射体（６０４）の形状を利用するこ
とにより、単一の光源（６００）で、多方向から拡散照
射できる。

第３９図および第４０図に示すパーキングロットランプ
（６２０）は、中央の光１（６２２）および周囲の反射
体（６２４）から成っており、これが協働して照度パタ
ーン（６２６）を形成する。第４０図は、舗道を照らす
パターン（６２６）を示しているが、本発明による小ミ
ラーおよび光追跡構成技法を用いることにより、周辺部
（６２８）の照度が、中心部（６３０）と同程度になる
様に、強度プロファイルを設定できる。この様にパター
ン制御すると、高価で背高の照明灯を使わずに、少量の
光で外域を十分照明できる。

反射体又はミラー表面（３５２）を、コンピュータ生成
命令に従い、高速回転ダイアモンドチップを使って加工
する上記実施例の利点は、チップとミラー（３５２）と
の間の相対運動に、小ざな変調運動を重積することによ
り、チップがミラーを走行する際に出来る溝を、平滑に
できることにある。第４１図に示す様に、この変調運動
により、直線溝（７０’　２　）の走路をなぞらずに、
鏡面に亘って、尖頭形の溝パターンができる。第４２図
に示す様に、溝を直線切削すると、プレート（７０６）
が高速回転ダイアモンドチップ（７０８）で切削されて
、一連の深溝（７０４）が出来る。溝間隔をありるど、
分数波長になるため結像効果が限定されるが、第４１図
に示す様に、チップ（７０８）の動きを調節して、第４
３図に示す様に溝を平滑にすれば、反射体効力が増加す
る。

図示の様に、プレート（７０６）が、これに対するチッ
プ（７０８）の位置にかけられた変調運動で切削されて
、所定の相対運動（変調又はデイザ（ｄｉｔｈｅｒ）を
引起す結果、切削溝が平滑化されて浅いくぼみ（７１０
）になる。チップ（７０８）・プレート（７０６）間の
相対運動に、円形、三角形、だ円形又はより複雑なりザ
ージュ（Ｉｉｓｓａ−ｊｏｕｓ）形の変調運動をかける
ことにより、切削溝をより完全に平滑化できる。

変調運動のかｃノ方には、ソフトウェア又はハードウェ
アによるものを含め、数通りのやり方がある。第７１４
図は、変調運動生成システムを示したちのであり、チッ
プとプレートとを相対移動させる運動又は位置作用装置
（ｅｌｅｃｔｏｒ）を付勢する前に、変調システム（７
２０）に位置信号（ソフトウェア又は外部電気信号）を
印加し、表面およびプレー１〜（７０６）と直交する、
単心又は多心変調信号を得、該信号を位置作用装置（７
２２）（Ｘ−Ｙ−Ｚドライバ）、又はダイアモンドチッ
プのゴニオメータ支持台の位置作用装置に送る。

但し、この技術は周知であるため、詳細は省略する。

ミラー粗材又はモールドプレートを、ダイアモンドチッ
プで切削し、鏡像をシミュレートすることによりミラー
を形成する上記システムで、曲率半径が変化するミラー
を、セグメント単位で転移制御する様に製造する好適実
施例を説明したが、本発明システムは一般に、ヘッドラ
イトその他の照明装置において、光源からターゲットを
照射して、作像又はエネルギープロファイルを形成する
、オーレータスペックに従って構成されたミラーを用い
て、光源・ターゲッ１〜間で光転写するものであり、第
４５図に示す様に、源（７３０）は、反射体（７３４）
を用いて、ターゲット（７３２）に結像する視界、又は
エネルギをターゲット（７３２）の所定強度パターンに
当てる光源である。

光源（７３０）の各点は、×・Ｙ−Ｚ座標又は関数５（
Ｘ−Ｙ・７）で、またターゲット（７３２）各点は、Ｘ
−Ｙ−Ｚ空間の点Ｔ（Ｘ−Ｙ−Ｚ）で表わされる。

ミラー又は反射体（７３４）は、それぞれ関連するＸ−
Ｙ−Ｚ座標およびＸ−Ｙ角度、ＸＡ−ＹＡを有する多数
の極小セグメント（７３６）に分割されているため、通
常方形（概念的にはいずれの多角形状でも良い）を成す
各セグメントは、Ｍ　（Ｘ−Ｙ−Ｚ−ＸＡ−ＹＡ）で表
わされる。本発明は、反射体（７３４）表面をコンピュ
ータ生成し、源情報をオペレータ指定様式で、ターゲッ
Ｉ−面に提示づ゛る要領で、源（７３０）とターゲット
（７３２）とを点間光追跡することにＪ：す、源（７３
０）の照明像をターゲット（７３２）に所望転写するも
のであり、一般に源、ターゲット又はミラー面の形状お
よび寸法に制限はなく、また、各微小セグメン１−（７
３６）から隣接セグメントへの転移を必ずしも平滑に行
う必要はない。

第４６図は、上記に一例を示す方法論の実施例である。

先ずステップ（７４０）において、鏡面（７３４）のレ
フリフタンスで、源・ターゲット間の所望転写情報をキ
ーボード入力し、ステップ（７４２）で、該情報を源・
ターゲット転写判定基準としてアセンブルする。該基準
から、ミラ、（７３４）の微小セグメント（７３６）の
レフリフタンスで、源（７３０）からターゲット（７３
２）にか【プて、光線（７４４）（第４５図参照）等の
光線をコンピュータ追跡する。すなわちステップ（７４
６）で、源（７３０）およびターゲット（７３２）の特
定点に対して使用される。Ｘ・Ｙミラーセグメント（７
３６）（該セグメントによって、源・ターゲット間の光
が結像される）を識別し、次のステップ（７４８）で、
従来の光追跡技法により、セグメント配向Ｚ　−ＸＡ　
−ＹＡを計算することにＪ：す、源側の点、Ｘ−Ｙ−Ｚ
座標とターグツ１〜側の点座標との間で転写し、ステッ
プ（７４，２＞に戻り、全転写が完了するまで、上記ル
ーチンを繰り返す。

源が、ターグツ１〜（７３２）面に鏡像として映る像で
ある場合は、光追跡アルゴリズムで、源およびターブト
を、対応するセグメントに区分化し、ターグツ１〜の全
視界がつまるまで、対応する源およびターゲットセグメ
ント間を光追跡して、各ミラーセグメント（７３６）を
識別する。エネルギープロファイルを求める場合は、源
からターゲット（７３２）の中点く鏡像形成に要するよ
り多数）にか（）て、光追跡し、数個のセグメント（７
３６）を識別りる。

ミラー（７３４）の全特性が決定り−ると、ステップ（
７５，０）でそのデータを収集し、ステップ（７５２）
で該データに基づき、上記等の研削命令を生成し、ステ
ップ（７５４）で研削機で、基板又は粗材を研削するこ
とににす、ミラー（７３４）表面を形成する。

ステップ（７５６）で、鏡面（７３／ｌ）特性情報を、
ＣＲＴ又はプリンタに出力する。

また、一般システムでは、像又はエネルギープロファイ
ルをターグツ１〜に可視像として映し出したい場合があ
るが、この場合は第４７図の処理手順を用いる。すなわ
ちステップ（７５０）で得たミラーデータを、ステップ
（７５８）でアセンブルし、ステップ（７６０）および
（７６２）で、従来の光追跡技術を用いて、ミラー（７
３４，）を介してターゲット（７３２）に源（７００）
をマツピングしてから、ステップ（７６４）で得られた
データをアセンブルする。次に、該データを、ステップ
（７６６）で表示又はプリントすることにより、エネル
ギープロファイルの作成又は像転写を実施する。

上記の通り、反射体による複雑な光転写又は電磁転写に
関し、本発明実施例を説明したが、本発明はこれに限定
されるものではなく、適用範囲を逸脱することなく、種
々に変更修正できる。

（発明の効果） 本発明によるミラーは、容易かつ低コストで製造できる
ばかりでなく、コンビコータ制御下で所望形状および倍
率に覆ることができるため、所望形状の像を、正確かつ
１明に、広角で変倍投射することができる。

□、工□□、、□□７□□―□□−−□−ｍ−□□□“
２１□□２８□”□、」／ ／

【図面の簡単な説明】

第１図は、後方確認（バック）ミラーへの本発明の応用
例を示す説明図である。 第２図は、変倍機能を備えた複合型バックミラーに映る
像の一例を示す説明図である。 第３図は、バックミラー、後方視界およびドライバー間
における光路説明図である。 第４図は、本発明によるミラー生成要領を示す、鏡面図
である。 第５図は、第４図のミラー生成における光線の説明図で
ある。 第６図は、第４図のミラー生成に使用する、鏡面作図パ
ラメータを示す三次元説明図である。 第７図は、本発明による鏡面記述パラメータを数理的に
示した、部分鏡面図である。 第８図は、上記鏡面記述パラメータの点軌跡説明図であ
る。 第９図は、入力スペックにより、鏡面作図パラメータを
生成するコンピュータ処理ステップを示すフローチャー
トである。 第１０図は、ミラー構成および製造に要するコンピュー
タ処理動作の全体ブロック図である。 第１１図は、ミラー形状を指定する入力パラメータを示
す説明図である。 第１２図は、本発明による複合ミラー各セグメントの作
図式を識別する数式入力ステップを示す説明図である。 第１３図は、複合鏡面を指定する多項式演算要領を示す
概略説明図である。 第１４図は、第１０図処理で展開されたミラー形状の漸
次変化を説明するグラフ図である。 第１５図は、第１４図の漸次変化グラフを作成するアル
ゴリズム説明図である。 第１６図は、Ｍ１０図処理で１６られる、ミラー視角特
性を示すグラフ図である。 第１７図は、第１６図の視角特性グラフの作成に用する
パラメータ説明図である。 第１８図は、第１６図の視角特性グラフの作成に用する
コンピュータステップを示すフローチャートである。 第１９図は、３次元表面特性を２次元面に表わしたグラ
フ図である。 第２０図は、第１９図グラフを作成するコンピュータア
ルゴリズム説明図である。 第２１図は、第１０図処理で得られる、バックミラーの
コンピュータ生成シミュレート視界の説明図である。 第２２図は、第２１図の視界作成に用する、パラメータ
説明図である。 第２３図は、第２１図のミラー視界のアセンブルおよび
提示に用する。コンピュータ処理のフローチャートであ
る。 第２４図は、第１０図のプログラミングで得られる光追
跡説明図である。 第２５図は、第２４図に示す光追跡手順を説明するフロ
ーチャートである。 第２６図は、第１０図のプログラミングにより、金属面
を所定の複合形状に加工する工作機械システムの駆動に
要する、コンピュータ処理手順のフローチャートである
。 第２７図は、第１０図のプログラミングにより、コンピ
ュータ制御下で、複合ミラー形状を形成する機械中心部
の概略的斜視図である。 第２８図は、干渉計位置モニタおよび制御要領を説明す
る、第２７図機械中心部の運動制御システムのブロック
線図である。 第２９図は、本発明に用する工作機械の傾斜制御を行う
、加工中心部の説明図である。 第３０図は、本発明プログラミングで得られる、ヘッド
アップデイスプレィに用する、ミラー説明図である。 第３１図は、本発明で得られるミラーの、ヘッドランプ
・ミラー反射体応用例の説明図である。 第３２図は、本発明による多段反射面を用いた、ヘッド
ランプ反胴体の説明図の説明図である。 第３３図は、本発明によるミラーを利用した、バックミ
ラー・ミラー反射体システムの説明図である。 第３４図は、本発明による反射体の、偏心アンテナ応用
例を示す説明図である。 第３５図は、本発明によるヘッドランプ反射体の画定説
明図である。 第３６図は、第３５図ヘッドランプの画定に用する、１
０図システムの修正例を示すフローチャートである。 第３７図は、ヘッドランプ反射体の構成手順を示すフロ
ーチャートである。 第３８図は、本発明の室内照明システム応用例の説明図
である。 第３９図および第４０図は、本発明の外域照明応用例の
説明図である。 第４１図は、本発明によるチップの変調パターン説明図
である。 第４２図は、チップ切削溝の断面図である。 第４３図は、変調チップ切削溝の断面図である。 第４４図は、変調システム説明図である。 第４５図は、本発明による、源からミラーセグメントを
介してターゲットに至る光追跡要領の説明図である。 第４６図および第４７図は、本発明による、ミラーおよ
び像生成手順を示すフローチャートである。 １４．４０，５２・・・ミラー、４２．５４・・・Ｎ１
ミラー、７０・・・ミラー、７２・・・小ミラー、１０
０・・・ミラー、１０２・・・小ミラー、１４６・・・
データファイル、１５６・・・画像ファイル、１５８・
・・プリンタ、１６８・・・スクリーン、２００．２２
２．２５２．２６０，２８２・・・ミラー、３４６．３
５２・・・反射体、３５４・・・加工ビット、３７８．
３８０．３８２・・・ドライバ、３８４・・・逆反射モ
ジュール、３８８・・・ビームスプリッタ、４００・・
・ゴニオメータ台、４０４・・・ダイアモンドビット、
４２６・・・ミラー、４４０．４５０．４５４．４５６
．４６４．４６６・・・反射体、４６０．４６２・・・
サイドミラー、４８０・・・反射体、４８２・・・マイ
クロ波フィーダ、５００・・・等マツプ、５１２・・・
反射体、５２２・・・逆反射体、５５０・・・ミラーセ
グメント、６０４・・・反射体、６０８・・・拡散反射
体、６２０・・・パーキングロットランプ、６２４・・
・反射体、７０８・・・ダイアモンドチップ、７２０・
・・変調装置、７２２・・・ドライバ、７３４・・・反
射体、７３６・・・セグメント。 ト 咀昭

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）一対の受像器で観察する、曲率半径可変ミラーで
   あつて、一側で反射すると共に、表面全体に亘つて、曲
   率半径が最大値から最小値まで変化するわん曲面から成
   り、前記曲率半径の可変幅が、前記受像器対でミラーに
   映る像の出現コヒレンシーを保持する様に限定されてい
   ることを特徴とするミラー。 （２）前記受像器対が、人の両眼であることを特徴とす
   る特許請求の範囲第１項に記載のミラー。 （３）前記曲率半径が、鏡面直交方向に比して、第１方
   向により変化することを特徴とする、特許請求の範囲第
   １項に記載のミラー。 （４）前記ミラーを使用時に垂直配向し、また前記第１
   方向を水平方向にすることにより、ミラーが、垂直方向
   に比して、水平方向により変倍するようにしたことを特
   徴とする特許請求の範囲第３項に記載のミラー。 （５）前記表面が、凸面であることを特徴とする、特許
   請求の範囲第１項に記載のミラー。 （６）前記反射側の中心部が１倍に近い倍率を有し、そ
   の周辺部が、中心部から離れるに従つて、徐々に１倍以
   下になる倍率を有することを特徴とする、特許請求の範
   囲第３項に記載のミラー。 （７）前記ミラーが、後方確認ミラーであることを特徴
   とする、特許請求の範囲第１項に記載のミラー。 （８）前記曲率半径が、鏡面に亘つて段階的に変化する
   ことを特徴とする、特許請求の範囲第１項に記載のミラ
   ー。 （９）前記表面が、モールド成形されていることを特徴
   とする、特許請求の範囲第１項に記載のミラー。 （１０）前記曲率半径の最大値および最小値が、それぞ
   れ約０．６および１．０倍の倍率を画定することを特徴
   とする、特許請求の範囲第１項に記載のミラー。 （１１）わん曲したビーム分割素子を通して、観察者の
   展望軌跡に虚像を出現させるヘッドアップ表示システム
   であつて、 被観察像、 前記被観察像を照明することにより、前記像を映す、投
   射光路を形成する手段、および 光路にあつて、前記わん曲ビーム分割素子方向に光投射
   する一体反射体から成り、 前記投射光が、前記素子から観察者に反射し、また 前記反射体が、前記反射光に、前記ビーム分割素子を越
   えて離間された像を、前記ビーム分割素子を介して離間
   観察する物体の通常の焦点に合わせて出現させることを
   特徴とするシステム。 （１２）前記ビーム分割素子が、フロントガラスである
   ことを特徴とする、特許請求の範囲第１１項に記載のシ
   ステム。 （１３）前記反射体が、前記フロントガラス下部に向う
   光路に配光することを特徴とする、特許請求の範囲第１
   ２項に記載のシステム。 （１４）前記反射体が、フロントガラスの光学的凸凹を
   補償することにより、フロントガラス下部に、照明像が
   はっきり見える様にしたことを特徴とする、特許請求の
   範囲第１２項に記載のシステム。 （１５）前記照明手段が、透明投光器であることを特徴
   とする、特許請求の範囲第１１項に記載のシステム。 （１６）第１立体角度を有する第１視界を、前記第１立
   体角度より実質的に小さい立体角の光路の第１方向に反
   射させる様に作動する第１反射体、および 前記第１方向の光を阻止して、これを観察者方向に反射
   させることにより、前記第１視界に入る全物体が、前記
   第１立体角より小さい立体角で、鮮明に見える様に位置
   決めされた、第２反射体から成り、 前記第１および第２反射体が、前記第１視界に入る物体
   を可変倍率で見える様にする、可変曲率半径を有するこ
   とにより、前記視界の周辺部にある物体が、中心部の物
   体より小さく見える様にしたことを特徴とする、継電反
   射体観察システム。 （１１）前記第１反射体が、自動車側部に装着された後
   方確認ミラーの位置に設置されていることを特徴とする
   特許請求の範囲第１６項に記載のシステム。 （１８）前記第２反射体が、車内の通常の運転台から見
   る位置に設置されていることを特徴とする、特許請求の
   範囲第１７項に記載のシステム。 （１９）前記第１および第２反射体が、余計な集光素子
   を要さずに協働することにより、前記可変倍率で鮮明に
   見える様にすることを特徴とする、特許請求の範囲第１
   ６項に記載のシステム。 （２０）周知の非ゼロ次元源から、所定強度プロファイ
   ルを有する光ビームを出す、反射体の形成方法であつて
   、 反射体形状を、それぞれがわん曲画成パラメータを有す
   る反射体セグメントマトリックスとして画成する工程、
   および 前記わん曲画成パラメータから、前記マトリックスに相
   当する表面を形成する工程から成ることを特徴とする方
   法。 （２１）周知の非ゼロ次元源から、所定強度プロファイ
   ルを有する光ビームを出す反射体形成方法であつて、 反射体形状を、それぞれがわん曲画定パラメータを有す
   る、反射体セグメントマトリックスとして画成する工程
   、および 前記わん曲画成パラメータから、前記マトリックスに相
   当する表面を形成する工程から成る方法で形成されたこ
   とを特徴とする反射体。 （２２）少くとも１個の反射体を含む光学系の、入出力
   特性を指定する工程、 前記指定特性から、反射面形状を決定する工程、および 前記指定特性に従つて、光学系動作の出力モデルを形成
   する工程から成ることを特徴とする反射面形成方法。 （２３）さらに、工作機械中心部を制御して、反射を模
   写する加工手順を決定する工程から成ることを特徴とす
   る特許請求の範囲第２２項に記載の方法。 （２４）さらに、前記模写面から、反射面をモールド再
   生する工程から成ることを特徴とする、特許請求の範囲
   第２３項に記載の方法。 （２５）さらに、前記入出力特性指定工程に修正を加え
   ながら繰り返すことにより、所定の反射体特性および出
   力モデルを修正する工程から成ることを特徴とする、特
   許請求の範囲第２２項に記載の方法。 （２６）前記出力モデルが、シミュレーションを含むこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第２２項に記載の方法。 （２７）コンピュータ生成、機械制御命令に従つて、光
   学特質面を形成する工作機械システムであって、 所定の光反射形状に形成される基板、 前記基板表面を切削する切削工具、 前記基板表面を、実質的に無摩擦状態で切削加工する手
   段、および 前記切削加工手段を制御することにより、前記工具で前
   記基板を所望形状に切削する手段から成ることを特徴と
   するシステム。 （２８）前記工具が切削工具であり、前記加工手段が前
   記切削工具を高速回転駆動するドライバを含むことを特
   徴とする、特許請求の範囲第２７項に記載のシステム。 （２９）前記ドライバが、約７０，０００ＲＰＭで前記
   工具を駆動する様に作動することを特徴とする、特許請
   求の範囲第２８項に記載のシステム。 （３０）前記ドライバが、前記工具を、空気軸受する手
   段を含むことを特徴とする、特許請求の範囲第２９項に
   記載のシステム。 （３１）前記制御手段が、工具位置検出手段、および所
   望工具軌跡および検出された工具位置を画定する駆動信
   号に応答して、前記工具軌跡に沿つて、前記工具を移動
   させる手段を含むことを特徴とする、特許請求の範囲第
   ２７項に記載のシステム。 （３２）前記検出手段が、干渉計を含むことを特徴とす
   る特許請求の範囲第３０項に記載のシステム。 （３３）前記工具が、ＥＤＭ工具であることを特徴とす
   る、特許請求の範囲第２７項に記載のシステム。 （３４）複数の反射体セグメントの、直交方向における
   寸法および曲率特性を指定する工程、および 前記セグメントを周辺境界でアセンブルすることにより
   、セグメントの相対境界における、直交方向曲率特性の
   曲率半径が、各境界に対して、同一のベクトル方向にな
   る様に、反射面を３次元空間で画成する工程から成るこ
   とを特徴とする反射面形成、方法。 （３５）さらに、ミラー形状を３次元空間で表わすデー
   タから反射体性能をシミュレートする工程から成ること
   を特徴とする、特許請求の範囲第３３項に記載の方法。 （３６）前記シミュレート工程が、ミラー漸次変化（歪
   形）識別工程を含むことを特徴とする、特許請求の範囲
   第３５項に記載の方法。 （３７）前記シミュレート工程が、直交軸線に沿って、
   ミラー視界を決定する工程を含むことを特徴とする、特
   許請求の範囲第３５項に記載の方法。 （３８）前記シミュレート工程が、３次元ミラー形状を
   ２次元提示する工程を含むことを特徴とする、特許請求
   の範囲第３５項に記載の方法。 （３９）前記シミュレート工程が、観察者に視界のシミ
   ュレート像を示す工程を含むことを特徴とする、特許請
   求の範囲第３５項に記載の方法。 （４０）前記シミュレート工程が、さらに、前記データ
   に基づき、像の物体間におけるミラー動作を光追跡する
   工程を含むことを特徴とする、特許請求の範囲第３５項
   に記載の方法。 （４１）前記シミュレート工程が、コンピュータ表示工
   程を含むことを特徴とする、特許請求の範囲第３４項に
   記載の方法。 （４２）前記シミュレート工程において、シミュレート
   結果をプリントすることを特徴とする、特許請求の範囲
   第３５項に記載の方法。 （４３）さらに、反射体セグメント指定情報を１回以上
   変更し、変更の度に、反射面画成工程および反射体性能
   シミュレート工程を繰り返す工程から成ることを特徴と
   する、特許請求の範囲第３５項に記載の方法。 （４４）さらに、画定された、３次元反射面に相当する
   形状を有する表面を、むく材で形成する工程から成るこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第３４項に記載の方法。 （４５）前記反射面形成工程が、画成反射面に応答して
   材料を加工する工程を含むことを特徴とする、特許請求
   の範囲第４４項に記載の方法。 （４６）前記加工工程が、高速ダイアモンドビットで加
   工する工程を含むことを特徴とする、特許請求の範囲第
   ４５項に記載の方法。 （４７）前記ダイアモンドビットが、数千回転／分の速
   度で回転されることを特徴とする、特許請求の範囲第４
   ６項に記載の方法。 （４８）前記加工工程が、所定関係に従って、被加工表
   面に対するビット配向を制御する工程を含むことを特徴
   とする、特許請求の範囲第４６項に記載の方法。 （４９）前記所定関係が、表面に対して直交する関係で
   あることを特徴とする、特許請求の範囲第４８項に記載
   の方法。 （５０）複数の反射体セグメントの直交方向における寸
   法および曲率特性を指定する工程、および前記セグメン
   トを、周辺境界でアセンブルすることにより、セグメン
   トの相対境界における、直交方向曲率特性の曲率半径が
   、各境界に対して同一のベクトル方向になる様に、反射
   面を３次元空間で画成する工程から成る反射面形成方法
   で形成されたことを特徴とする反射体。 （５１）前記反射体が、ヘッドアップ表示反射体として
   使用されることを特徴とする、特許請求の範囲第５０項
   に記載の反射体。 （５２）前記反射体が、ヘッドランプアセンブリの１個
   以上の反射体として使用されることを特徴とする、特許
   請求の範囲第５０項に記載の反射体。 （５３）前記反射体が、後方確認ミラーとして使用され
   ることを特徴とする、特許請求の範囲第５０項に記載の
   反射体。 （５４）前記後方確認ミラーとして使用される反射体が
   、リレー反射体と共に使用されることを特徴とする、特
   許請求の範囲第５３項に記載の反射体。 （５５）前記反射体が、偏心マイクロ波送り反射体とし
   て使用されることを特徴とする、特許請求の範囲第５０
   項に記載の反射体。 （５６）直交方向に延びると共に、隣接セグメント境界
   を相体する境界を有する、マトリックス状の反射体セグ
   メントから成り、 各境界が、複数方向の曲率を表わす、曲率半径ベクトル
   を有し、 隣接セグメント境界の曲率半径ベクトルが、同直線形を
   成すと共に、 前記複数セグメントが、セグメント単位で変化する、少
   くとも１個の曲率半径ベクトルを有する、前記マトリッ
   クスの少くとも一方向に延びることを特徴とする反射体
   。 （５７）前記曲率半径ベクトルが、セグメントの一定長
   さを有することを特徴とする、特許請求の範囲第５６項
   に記載の反射体。 （５８）前記曲率半径ベクトルが、マトリックスの最小
   および最大セグメントを有することを特徴とする、特許
   請求の範囲第５７項に記載の反射体。 （５９）光源と共に使用され、前記光源からの光反射に
   より、照度パターンに対する現在強度プロフアルを構成
   する反射体の形成方法であって、前記照度パターン、光
   源場所および特性、および反射体場所を識別する、コン
   ピュータアクセス可能データを送る工程および 放射光を、前記照度パターンを有する選択されたセグメ
   ントに反射させる配向に従って、複数の反射休部分を画
   成する工程から成り、 前記画成工程が、光源、反射体データに基づいて、少く
   とも前記強度プロファイルとマッチする強度で、各パタ
   ーンセグメントを照射するに充分な寸法を有する部分を
   画成することを特徴とする方法。 （６０）前記反射体部分からの少くともあるものが、そ
   れぞれ光源から同一パターンセグメントに光反射する様
   に配向された、複数のミラー素子から成ることを特徴と
   する、特許請求の範囲第５９項に記載の方法。 （６１）前記画成工程が、光追跡工程を含むことを特徴
   とする、特許請求の範囲第５９項に記載の方法。 （６２）前記反射体が、複数反射する複数の個別反射面
   を有することを特徴とする、特許請求の範囲第５９項に
   記載の方法。 （６３）光源と共に使用され、前記光源からの光反射に
   より照度パターンに対する現在強度プロファイルを構成
   すると共に、前記照度パターン、光源場所と特性、およ
   び反射体場所を識別する、コンピュータアクセス可能デ
   ータを送る工程、および放射光を前記照度パターンを有
   する選択されたセグメントに反射させる配向に従って、
   複数の反射体部分を画成する工程から成り、前記画成工
   程において光源・反射体データに基づいて、少くとも前
   記強度プロファイルとマッチする強度で、各パターンセ
   グメントを照射するに充分な寸法を有する部分を画成す
   る方法によって形成されたことを特徴とする反射体。 （６４）光源と共に使用され、前記光源からの光反射に
   より、照度パターンに対する現在強度プロファイルを構
   成する反射体の形成システムであつて、 前記照度パターン、光源場所と特性、および反射体場所
   を識別する、コンピュータアクセス可能データを送る手
   段、および 放射光を、前記照度パターンを有する選択されたセグメ
   ントに反射させる部分配向に従つて、複数の反射体部分
   を画成する手段から成り、前記画成手段が、光源・反射
   体データに基づいて、少くとも前記強度プロファイルと
   マッチする強度を有する各パターンセグメントを照射す
   るに充分な寸法を有する部分を画成することを特徴とす
   るシステム。 （６５）前記反射体部分の少くなくともあるものが、そ
   れぞれ光源から同一パターンセグメントに光反射させる
   様に配向された、複数のミラー素子から成ることを特徴
   とする、特許請求の範囲第６４項に記載のシステム。 （６６）前記画成手段が、光追跡手段を含むことを特徴
   とする、特許請求の範囲第６４項に記載のシステム。 （６７）前記反射体が、複数反射する、複数の個別反射
   面を有することを特徴とする、特許請求の範囲第６４項
   に記載のシステム。 （６８）前記制御手段が、前記工具を、前記基板と相対
   的に重積変調移動させる手段を含むことを特徴とする、
   特許請求の範囲第２７項に記載のシステム。 （６９）前記変調が、円形、三角形、だ円形及びリサジ
   ュー形変調から成る群から選択されることを特徴とする
   、特許請求の範囲第６８項に記載のシステム。 （７０）前記加工工程が、前記材料に溝加工すると共に
   、前記溝加工を変調して平滑溝にする工程を含むことを
   特徴とする、特許請求の範囲第４５項に記載の方法。 （７１）前記変調工程が、円形、三角形、だ円形および
   リサジュー形パターンから成る群から選択されたパター
   ンに従つて、変調する工程を含むことを特徴とする、特
   許請求の範囲第７０項に記載の方法。 （７２）光源からターゲットに光転写する、所定の光転
   写に従って光転写面を形成する方法であつて、 所定の光転写に従って、１個以上の光源点から、対応す
   る複数の小表面点を介して、対応する複数のターゲット
   点にかけて光追跡することにより、各点を位置整合させ
   る工程、および 各表面セグメントの位置および角度配向を決定すること
   により、前記各位置整合点に対応し、追跡光に沿って、
   光反射させる工程から成ることを特徴とする方法。 （７３）さらに、所定のミラーセグメント配向に従つて
   、基板を加工することにより、前記基板表面に、前記所
   定配向に従って配向されたセグメントを有する表面を形
   成する工程から成ることを特徴とする、特許請求の範囲
   第７２項に記載の方法。 （７４）前記加工工程が、前記基板を、高速ダイアモン
   ドチップで加工する工程を含むことを特徴とする、特許
   請求の範囲第７３項に記載の方法。 （７５）前記加工工程が、重積変調加工することにより
   、前記加工工程で形成された溝を平滑化する工程を含む
   ことを特徴とする、特許請求の範囲第７３項に記載の方
   法。 （７６）前記重積変調が、円形、三角形、だ円形および
   リサジュー形パターン変調から成る群から選択されるこ
   とを特徴とする、特許請求の範囲第７５項に記載の方法
   。 （７７）さらに、表面セグメントを所定配向し、光源か
   ら照射することにより成された光転写によって、前記複
   数ターゲット点を含む平面像に対応する像が見えるよう
   にする工程から成ることを特徴とする、特許請求の範囲
   第７２項に記載の方法。 （７８）前記工程が、前記各表面セグメントに対応して
   、光源・ターゲット間を光追跡する工程を含むことを特
   徴とする、特許請求の範囲第７７項に記載の方法。 （７９）前記ターゲットがわん曲面を占めることを特徴
   とする、特許請求の範囲第７２項に記載の方法。 （８０）前記表面セグメントが、前記光源像を、前記タ
   ーゲットで再生する様に配向されていることを特徴とす
   る、特許請求の範囲第７２項に記載の方法。 （８１）前記表面セグメントが、前記光源からの放射光
   に応答して前記ターゲットに、所定エネルギープロファ
   イルを形成する様に配向されていることを特徴とする、
   特許請求の範囲第７２項に記載の方法。