JPH01282829A - ウエハプローバ - Google Patents
ウエハプローバInfo
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- JPH01282829A JPH01282829A JP11145888A JP11145888A JPH01282829A JP H01282829 A JPH01282829 A JP H01282829A JP 11145888 A JP11145888 A JP 11145888A JP 11145888 A JP11145888 A JP 11145888A JP H01282829 A JPH01282829 A JP H01282829A
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- Japan
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- wafer
- needle
- stage
- probe
- tip
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、半導体チップのプローブ検査を行なうための
ウェハプローバ、特にプローブカードのプローブニード
ルの針先の形状を入力し、これにより針先の汚れ、割れ
、摩耗を検出し、針先の汚れの場合には清掃を行ない、
その他の場合にはテストを中止する機能もしくはプロー
ブニードルの針先のオーバドライブ時の位置またはその
軌跡から針先の位置変化を検出し、これを修正する機能
を有するウエハブローパに関するものである。
ウェハプローバ、特にプローブカードのプローブニード
ルの針先の形状を入力し、これにより針先の汚れ、割れ
、摩耗を検出し、針先の汚れの場合には清掃を行ない、
その他の場合にはテストを中止する機能もしくはプロー
ブニードルの針先のオーバドライブ時の位置またはその
軌跡から針先の位置変化を検出し、これを修正する機能
を有するウエハブローパに関するものである。
[従来の技術]
ウェハプローバとは、半導体ウェハ上に形成された多数
のICチップの特性を測定する際に用いられる装置であ
る。
のICチップの特性を測定する際に用いられる装置であ
る。
実際のテストはICテスタが行なうが、ウェハプローバ
は、このICテスタと前記ウェハ上の各ICチップとの
電気的コンタクトを正確に行なわせる。この電気的コン
タクトは、ICチップのポンディングパッド位置に対応
した接触針(プローブニードル)を有するプローブカー
ドと呼ばれるプリント基板を介して正確に行なわれる。
は、このICテスタと前記ウェハ上の各ICチップとの
電気的コンタクトを正確に行なわせる。この電気的コン
タクトは、ICチップのポンディングパッド位置に対応
した接触針(プローブニードル)を有するプローブカー
ドと呼ばれるプリント基板を介して正確に行なわれる。
[発明が解決しようとする問題点]
ところで、従来のウェハプローバにおいては下記のよう
な問題点があり、これらのためにテストの信頼性が低い
場合が多かった。
な問題点があり、これらのためにテストの信頼性が低い
場合が多かった。
(1)プローブニードルの先端にポンディングパッドの
材質であるアルミニウムが付着し、これが良好な電気的
コンタクトの防げとなっていた。
材質であるアルミニウムが付着し、これが良好な電気的
コンタクトの防げとなっていた。
(ii)プローブニードルの先端が割れることがあり、
このため正しい針圧荷重で正確な位置に針先を当てるこ
とが困難な場合があった。
このため正しい針圧荷重で正確な位置に針先を当てるこ
とが困難な場合があった。
(iii)プローブニードルの先端が摩耗のため犬きく
なり、ポンディングパッドから外れる場合があった。
なり、ポンディングパッドから外れる場合があった。
(iv)プローブニードル先端部が変形をし、ポンディ
ングパッドから外れる場合があった。
ングパッドから外れる場合があった。
本発明は上記従来技術の欠点に鑑みなされたものであっ
て、プローブニードルの不良に基づくテストの信頼性低
下を防止したウェハプローバの提供を目的とする。
て、プローブニードルの不良に基づくテストの信頼性低
下を防止したウェハプローバの提供を目的とする。
[問題点を解決するための手段および作用コ前記目的を
達成するため、本発明に係るウェハプローバは、プロー
ブカード設定時またはテスト中においてプローブニード
ルの針先を下からTV左カメラより撮像し、プローブニ
ードル先端部の状態を入力し、アルミニウム等の汚れを
検出した場合には針先の研磨または下から高圧エアー等
をブローすることにより清掃を行ない、針先の割れまた
は摩耗を検出した場合には、外部に警報を発しテストを
中止する。
達成するため、本発明に係るウェハプローバは、プロー
ブカード設定時またはテスト中においてプローブニード
ルの針先を下からTV左カメラより撮像し、プローブニ
ードル先端部の状態を入力し、アルミニウム等の汚れを
検出した場合には針先の研磨または下から高圧エアー等
をブローすることにより清掃を行ない、針先の割れまた
は摩耗を検出した場合には、外部に警報を発しテストを
中止する。
さらに、プローブニードルの針先を透明な板状物体(コ
ンタクトプレート)にテスト時と同様に押し付けこの時
のプローブニードルの針先の位置またはその軌跡を入力
しこれらが所定許容範囲内に入っていない場合には、テ
ストを中止するか、または許容範囲を越えたプローブニ
ードルの針先をXYステージ上のプローブニードルホー
ルド機構により把持しXYステージの移動により強制的
に位置を修正する。
ンタクトプレート)にテスト時と同様に押し付けこの時
のプローブニードルの針先の位置またはその軌跡を入力
しこれらが所定許容範囲内に入っていない場合には、テ
ストを中止するか、または許容範囲を越えたプローブニ
ードルの針先をXYステージ上のプローブニードルホー
ルド機構により把持しXYステージの移動により強制的
に位置を修正する。
[実施例コ
以下、図に示した実施例を用いて本発明の詳細な説明す
る。
る。
第1図は本発明の一実施例を示すウェハプローバの上部
概略図であり、この図において、1はウェハを搭載する
ためのウェハチャック、2はウェハチャック1をθおよ
びZ方向に駆動するθZステージ、3はθZステージ2
をXY力方向駆動するXYステージであり、Xステージ
301、Yステージ302を有している。Xステージ3
01は不図示のベースに固定支持されているガイド30
4.305に案内されて移動し、Yステージ302はX
ステージ301に固定支持されているガイド306,3
07に案内されて移動する。
概略図であり、この図において、1はウェハを搭載する
ためのウェハチャック、2はウェハチャック1をθおよ
びZ方向に駆動するθZステージ、3はθZステージ2
をXY力方向駆動するXYステージであり、Xステージ
301、Yステージ302を有している。Xステージ3
01は不図示のベースに固定支持されているガイド30
4.305に案内されて移動し、Yステージ302はX
ステージ301に固定支持されているガイド306,3
07に案内されて移動する。
308はXステージ301のX方向の位置を不図示のス
ケールを介して検出する位置検出器、309はYステー
ジ302のY方向の位置を不図示のスケールを介して検
出する位置検出器である。
ケールを介して検出する位置検出器、309はYステー
ジ302のY方向の位置を不図示のスケールを介して検
出する位置検出器である。
4はウェハの外形、およびウェハのZ方向の位置(高さ
)を測定するための静電容量型センサ、5はウェハ上の
ICチップのパターンを撮像するための撮像器であり、
顕微鏡501とTVカメラ502を有している。6はI
Cチップ上のボン、ディングパッドと電気的なコンタク
トをとるためのプローブニードル(図では多数のプロー
ブニードルのうち端部に位置する4木のみを示している
)、7は各プローブニードル6の先端(針先)がICチ
ップ上に所定の状態で配列されているポンディングパッ
ド群のそれぞれに1対1で一致するように、各プローブ
ニードル6を配列固定したプリント基板であるプローブ
カードである。
)を測定するための静電容量型センサ、5はウェハ上の
ICチップのパターンを撮像するための撮像器であり、
顕微鏡501とTVカメラ502を有している。6はI
Cチップ上のボン、ディングパッドと電気的なコンタク
トをとるためのプローブニードル(図では多数のプロー
ブニードルのうち端部に位置する4木のみを示している
)、7は各プローブニードル6の先端(針先)がICチ
ップ上に所定の状態で配列されているポンディングパッ
ド群のそれぞれに1対1で一致するように、各プローブ
ニードル6を配列固定したプリント基板であるプローブ
カードである。
10はタッチプレートで、プローブニードル6の先端群
を2方向に沿って上から押し付けた際の微小な荷重を検
出することにより、プローブニードル6の針先群の高さ
を計測するために用いられる。11はプローブニードル
6の針先群の概略位置を検出するために用いるレーザビ
ーム、12はレーザビーム11を出力する半導体レーザ
、13はレーザビーム11をウェハチャツク1中央部に
おいて集光するための集光レンズ、14は半導体レーザ
12からのレーザビーム11をウェハチャック1の上面
と平行になるように曲げるプリズム、15はウェハチャ
ック1の上面に沿って投射されているレーザビーム11
をレーザビーム検出用の受光素子16に導くためのプリ
ズムである。
を2方向に沿って上から押し付けた際の微小な荷重を検
出することにより、プローブニードル6の針先群の高さ
を計測するために用いられる。11はプローブニードル
6の針先群の概略位置を検出するために用いるレーザビ
ーム、12はレーザビーム11を出力する半導体レーザ
、13はレーザビーム11をウェハチャツク1中央部に
おいて集光するための集光レンズ、14は半導体レーザ
12からのレーザビーム11をウェハチャック1の上面
と平行になるように曲げるプリズム、15はウェハチャ
ック1の上面に沿って投射されているレーザビーム11
をレーザビーム検出用の受光素子16に導くためのプリ
ズムである。
20はプローブニードル6の先端の位置を計測するため
にコンタクトプレート21に押し付けられたプローブニ
ードル6の先端を対物レンズ22を介して撮像するTV
カメラで、Yステージ302上に設けられている。対物
レンズ22はフォーカス位置にある物点からの光束が平
行光となって出射されるような所謂無限補正のレンズで
ある。
にコンタクトプレート21に押し付けられたプローブニ
ードル6の先端を対物レンズ22を介して撮像するTV
カメラで、Yステージ302上に設けられている。対物
レンズ22はフォーカス位置にある物点からの光束が平
行光となって出射されるような所謂無限補正のレンズで
ある。
23はプローブニードル6の先端を照明するための高精
度LEDである。この光源23と、集光レンズ24、ハ
ーフミラ−25で照明系を構成している。27は対物レ
ンズ22よりの平行光束をミラー26を介してTVカメ
ラ20の撮像面に結像させるためのリレーレンズである
。
度LEDである。この光源23と、集光レンズ24、ハ
ーフミラ−25で照明系を構成している。27は対物レ
ンズ22よりの平行光束をミラー26を介してTVカメ
ラ20の撮像面に結像させるためのリレーレンズである
。
28はウェハチャック1に取り付けられたプローブニー
ドル6の針先の研磨に用いるセラミック板であり、θZ
ステージ2のZ軸駆動部(不図示)により、上下動可能
である。
ドル6の針先の研磨に用いるセラミック板であり、θZ
ステージ2のZ軸駆動部(不図示)により、上下動可能
である。
29はウェハチャック1に取り付けられた、プローブニ
ードル6の針先をエアーブローにより清掃するための、
カードブロ一部であり、セラミック板28と同様に02
ステージ2のZ軸駆動部により上下動可能である。
ードル6の針先をエアーブローにより清掃するための、
カードブロ一部であり、セラミック板28と同様に02
ステージ2のZ軸駆動部により上下動可能である。
第2図はプローブニードル針先群を撮像するために用い
る撮像系周辺を示す図である。
る撮像系周辺を示す図である。
第2図において、60はコンタクトプレート21、対物
レンズ22、プローブニードルホルダ63を一体的に固
定保持するホルダアームで、このホルダアーム60の先
端にはタッチプレート10を支持する変形部材30が取
り付けられている。61はボールネジ、62はボールネ
ジ61を回転させることによりホルダアーム60をZ方
向に移動させるパルスモータ、63はプローブニードル
6の針先をホルダアーム60を上昇させることにより把
持するプローブニードルホルダ、64はプローブニード
ル6の先端のそれぞれを撮像するTV左カメラ0および
ウェハの各ICチップのポンディングパッドのそれぞれ
を撮像するTV左カメラ02(第1図参照)からの映像
信号を入力して、プローバシーケンスコントローラ65
の指令により入力画像の2値化、ラベリング、特徴抽出
等を実行する周知の画像処理回路である。プローバシー
ケンスコントローラ65はプローバ全体のシーケンスを
制御すると共に、画像処理回路64から各プローブニー
ドルの針先の中心の位置情報、形状情報を入力可能とな
っている。
レンズ22、プローブニードルホルダ63を一体的に固
定保持するホルダアームで、このホルダアーム60の先
端にはタッチプレート10を支持する変形部材30が取
り付けられている。61はボールネジ、62はボールネ
ジ61を回転させることによりホルダアーム60をZ方
向に移動させるパルスモータ、63はプローブニードル
6の針先をホルダアーム60を上昇させることにより把
持するプローブニードルホルダ、64はプローブニード
ル6の先端のそれぞれを撮像するTV左カメラ0および
ウェハの各ICチップのポンディングパッドのそれぞれ
を撮像するTV左カメラ02(第1図参照)からの映像
信号を入力して、プローバシーケンスコントローラ65
の指令により入力画像の2値化、ラベリング、特徴抽出
等を実行する周知の画像処理回路である。プローバシー
ケンスコントローラ65はプローバ全体のシーケンスを
制御すると共に、画像処理回路64から各プローブニー
ドルの針先の中心の位置情報、形状情報を入力可能とな
っている。
第3図はプローブニードルホルダ63の機能を示す図で
あり、プローブニードルホルダ63はその中心からエア
ーを吹き込ませるようになっており、プローブニードル
6の針先を把持した時に針先にゴミが付着しないように
なっている。
あり、プローブニードルホルダ63はその中心からエア
ーを吹き込ませるようになっており、プローブニードル
6の針先を把持した時に針先にゴミが付着しないように
なっている。
次に第1図〜第3図を用いて本発明の作用の詳細を以下
に述べる。
に述べる。
本発明のウエハプローバにおいては、まず、プローブニ
ードルの自動位置検出が行なわれる。これはまず、XY
ステージ3に支持されているタッチプレート10がプロ
ーブニードル6の針先群の下方に位置する。この後、第
2図のパルスモータ62によるボールネジ61の回転が
開始され、変形部材30に支持されているタッチプレー
ト10はアームホルダ60と共にZ方向に沿って上昇し
、その上面がプローブニードル6の針先群のいくつかに
触れることになる。コントローラ60はこの時のタッチ
プレート10の上面の高さをパルスモータ62に与えた
パルス信号のパルス数に基づいて求め、これからプロー
ブニードル6の針先群の高さ(2方向の位置)を検出す
る。
ードルの自動位置検出が行なわれる。これはまず、XY
ステージ3に支持されているタッチプレート10がプロ
ーブニードル6の針先群の下方に位置する。この後、第
2図のパルスモータ62によるボールネジ61の回転が
開始され、変形部材30に支持されているタッチプレー
ト10はアームホルダ60と共にZ方向に沿って上昇し
、その上面がプローブニードル6の針先群のいくつかに
触れることになる。コントローラ60はこの時のタッチ
プレート10の上面の高さをパルスモータ62に与えた
パルス信号のパルス数に基づいて求め、これからプロー
ブニードル6の針先群の高さ(2方向の位置)を検出す
る。
次に、レーザビーム11によるプローブニードル6の針
先群のXY座標における概略位置計測のため、レーザビ
ーム11を、検出したプローブニードル6の針先群の高
さより100μm程度上方(Z方向)にその光軸が位置
するように、2ステージにより2方向に上昇させる。こ
の後レーザビーム11の集光点がプローブニードル6の
先端部をよぎるようにXステージ301を移動させる。
先群のXY座標における概略位置計測のため、レーザビ
ーム11を、検出したプローブニードル6の針先群の高
さより100μm程度上方(Z方向)にその光軸が位置
するように、2ステージにより2方向に上昇させる。こ
の後レーザビーム11の集光点がプローブニードル6の
先端部をよぎるようにXステージ301を移動させる。
この移動時、プリズム15を通して導びかれるレーザビ
ーム11の光量を受光素子16で検出し、この検出光量
がある割合以下になる複数の場所のXY座標をX位置検
出器308、Y位置検出器309の出力に基づいてコン
トローラ64は検出して記憶する。次いで、レーザビー
ム11のXY座標に対する傾きを変えて前述と同様に、
受光素子16に入射されるレーザビーム11の光量が、
ある割合以下になる複数の場所のXY座標を記憶する0
以上の動作により、プローブニードル6の右下および左
上の各先端部を通る、2本の直線(レーザビーム)の位
置が判明するため、コントローラ64は上述の2つのプ
ローブニードル6の先端部のXY座標上の位置を2本の
直線の交点の式より求める。
ーム11の光量を受光素子16で検出し、この検出光量
がある割合以下になる複数の場所のXY座標をX位置検
出器308、Y位置検出器309の出力に基づいてコン
トローラ64は検出して記憶する。次いで、レーザビー
ム11のXY座標に対する傾きを変えて前述と同様に、
受光素子16に入射されるレーザビーム11の光量が、
ある割合以下になる複数の場所のXY座標を記憶する0
以上の動作により、プローブニードル6の右下および左
上の各先端部を通る、2本の直線(レーザビーム)の位
置が判明するため、コントローラ64は上述の2つのプ
ローブニードル6の先端部のXY座標上の位置を2本の
直線の交点の式より求める。
次にXY座標上の概略位置コンタクトプレート21をX
Yステージ3の移動により位置させる。
Yステージ3の移動により位置させる。
この後、先に計測した針先のZ方向の位置にコンタクト
プレート21をアームホルダ60を介してパルスモータ
62により上昇させる。この状態において、高輝度LE
D23によりコンタクトプレート21を通してプローブ
ニードル6の針先部を照明し、針先をTV左カメラ0で
撮像する。
プレート21をアームホルダ60を介してパルスモータ
62により上昇させる。この状態において、高輝度LE
D23によりコンタクトプレート21を通してプローブ
ニードル6の針先部を照明し、針先をTV左カメラ0で
撮像する。
この撮像により針先の位置を計測し、さらに、ICチッ
プに対するブロービングテスト時・と同じオーバドライ
ブがかかる高さまでコンタクトプレート21を上昇させ
、この動作中においてプローブニードル6の針先の位置
の軌跡を計測する。
プに対するブロービングテスト時・と同じオーバドライ
ブがかかる高さまでコンタクトプレート21を上昇させ
、この動作中においてプローブニードル6の針先の位置
の軌跡を計測する。
この後コントローラ64はあらかじめ入力されている他
のプローブニードル6の針先の位置へコンタクトプレー
ト21をXYステージ3の移動により位置させ、前述と
同様にオーバドライブをかけた時の針先の位置、または
その軌跡を計測する。
のプローブニードル6の針先の位置へコンタクトプレー
ト21をXYステージ3の移動により位置させ、前述と
同様にオーバドライブをかけた時の針先の位置、または
その軌跡を計測する。
この後コントローラ64は計測した全ての針先の位置ま
たはその軌跡とあらかじめ入力されている理想的な針先
の相対位置および各位置における許容針跡範囲から最適
なプローブカード7の回転角度を計算し、これを不図示
の駆動部により回転させる。但し、各針先について、全
てを許容針跡範囲内に入れることが回転によっても不可
能であると判明した場合には、その主な原因となってい
る針先を特定し、所定の真円度から外れ、さらに所定の
大きさよりも大きい場合には針先にアルミクズ等が付着
したものと判断し、セラミック板28をXYステージ3
の移動により針先の下に位置させ、針先に所定のオーバ
ドライブがかかるようにθ2ステージ2のZステージ部
を上下動させることにより、針先の研摩を行なう。この
場合、研摩に代えてカードブロ一部29をXYステージ
3の移動により針先の下に位置させ、高圧エアーを吹き
付けることにより針先のアルミクズ等を取り除くように
してもよい。
たはその軌跡とあらかじめ入力されている理想的な針先
の相対位置および各位置における許容針跡範囲から最適
なプローブカード7の回転角度を計算し、これを不図示
の駆動部により回転させる。但し、各針先について、全
てを許容針跡範囲内に入れることが回転によっても不可
能であると判明した場合には、その主な原因となってい
る針先を特定し、所定の真円度から外れ、さらに所定の
大きさよりも大きい場合には針先にアルミクズ等が付着
したものと判断し、セラミック板28をXYステージ3
の移動により針先の下に位置させ、針先に所定のオーバ
ドライブがかかるようにθ2ステージ2のZステージ部
を上下動させることにより、針先の研摩を行なう。この
場合、研摩に代えてカードブロ一部29をXYステージ
3の移動により針先の下に位置させ、高圧エアーを吹き
付けることにより針先のアルミクズ等を取り除くように
してもよい。
また針先の形状が所定の真円度から外れ、さらに所定の
大きさよりも小さい場合には針先に割れ等の異常が発生
しているものと判断し、外部に警報を発生し、さらに自
動的にテストに入るのを中止する。
大きさよりも小さい場合には針先に割れ等の異常が発生
しているものと判断し、外部に警報を発生し、さらに自
動的にテストに入るのを中止する。
また、針先の形状がほぼ真円に近く、さらにその大きさ
が所定の大きさよりも大きい場合には、針先が摩耗によ
り使用不可となフたものと判断し、前述と同様に外部に
警報を発生し、さらに自動的にテストに入るのを中止す
る。
が所定の大きさよりも大きい場合には、針先が摩耗によ
り使用不可となフたものと判断し、前述と同様に外部に
警報を発生し、さらに自動的にテストに入るのを中止す
る。
本発明に係る針先の汚れ割れ摩耗の検出または針先位置
計測に、本実施例のウエハプローバでは不図示のプリア
ライメントステージでのプリアライメントを完了したウ
ェハをウェハチャック1に搭載し、このウェハを第1図
に示される静電容量型センサ4の下(Z方向に関して)
にXYステージ3により移動し、その外周部数点を計測
することにより、ウェハのオリエンテーションフラット
の向きを算出し、ウェハチャック1を回転させて、これ
を指定方向に合わせ、かつ、ウェハの中心を算出する。
計測に、本実施例のウエハプローバでは不図示のプリア
ライメントステージでのプリアライメントを完了したウ
ェハをウェハチャック1に搭載し、このウェハを第1図
に示される静電容量型センサ4の下(Z方向に関して)
にXYステージ3により移動し、その外周部数点を計測
することにより、ウェハのオリエンテーションフラット
の向きを算出し、ウェハチャック1を回転させて、これ
を指定方向に合わせ、かつ、ウェハの中心を算出する。
この後、ウェハ上の数点で高さを同様に計測する。これ
はブロービング時に、ウェハ全面におけるオーバドライ
ブ量をウニ八表面の高さのバラツキに左右されずに常に
一定にコントロールするためである。この後、ウェハ上
の右端部(X軸方向での一方の端部)表面を顕微鏡50
1の下にXYステージ3により位置させ、かつ、Zステ
ージ43をパルスモータ45により上下動させて、ウニ
八表面を顕微鏡501のフォーカス位置に設定する。こ
の状態において、TV左カメラ02は顕微鏡501を通
して、ウニ八表面のパターンを撮像し、これに基づいた
映像信号を画像処理装置64に送り込む。画像処理装置
64はプローバシーケンスコントローラ65の指令によ
り、予め記憶しである特徴的なパターンを探し出し、そ
の座標をプローバシーケンスコントローラ65に送り返
す。
はブロービング時に、ウェハ全面におけるオーバドライ
ブ量をウニ八表面の高さのバラツキに左右されずに常に
一定にコントロールするためである。この後、ウェハ上
の右端部(X軸方向での一方の端部)表面を顕微鏡50
1の下にXYステージ3により位置させ、かつ、Zステ
ージ43をパルスモータ45により上下動させて、ウニ
八表面を顕微鏡501のフォーカス位置に設定する。こ
の状態において、TV左カメラ02は顕微鏡501を通
して、ウニ八表面のパターンを撮像し、これに基づいた
映像信号を画像処理装置64に送り込む。画像処理装置
64はプローバシーケンスコントローラ65の指令によ
り、予め記憶しである特徴的なパターンを探し出し、そ
の座標をプローバシーケンスコントローラ65に送り返
す。
次いで、ウェハ上の左端部(X軸方の他方の端部)表面
を顕微鏡501の下に位置させ、右端部と同様な処理を
行なうことにより、プローバシーケンスコントローラ6
5はウェハ上のパターンのチップ配列方向とXYステー
ジ3の軸方向との角度ずれが解るため、これをθZステ
ージ2のθ回転により補正を行なう。
を顕微鏡501の下に位置させ、右端部と同様な処理を
行なうことにより、プローバシーケンスコントローラ6
5はウェハ上のパターンのチップ配列方向とXYステー
ジ3の軸方向との角度ずれが解るため、これをθZステ
ージ2のθ回転により補正を行なう。
さらに、ウェハ上のパターン配列も解るため、ICチッ
プ上のポンディングパッドがプローブニードルの各針先
と一致する位置にXYステージ3をプローブカード7の
下に送り込みテストの実行に入る。
プ上のポンディングパッドがプローブニードルの各針先
と一致する位置にXYステージ3をプローブカード7の
下に送り込みテストの実行に入る。
なお、本発明のウェハプローバは、テスト実行中におい
ても特定チップ数、ウェハ枚数ごとにまたはテスト結果
に不良が連続発生した場合に前述と同様に、各プローブ
ニードルの針先の形状人力により汚れ、割れ、摩耗の自
動検出と、それらの結果による自動清掃または自動テス
ト中止が可能であり、またオーバドライブ時の各プロー
ブニードル針先の位置またはその軌跡入力によるプロー
ブカードの回転補正駆動または特定針先の位置修正が可
能である。
ても特定チップ数、ウェハ枚数ごとにまたはテスト結果
に不良が連続発生した場合に前述と同様に、各プローブ
ニードルの針先の形状人力により汚れ、割れ、摩耗の自
動検出と、それらの結果による自動清掃または自動テス
ト中止が可能であり、またオーバドライブ時の各プロー
ブニードル針先の位置またはその軌跡入力によるプロー
ブカードの回転補正駆動または特定針先の位置修正が可
能である。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明に係るウェハプローバにお
いては、テスト前またはテスト中にプローブニードル先
端を撮像して先端状態を判定し汚れ、割れ等の不良状態
を検出した場合にはテスト中止または不良針先修正動作
を行なうようにシーケンス制御している。したがって、
電気的接触が確実になり、また位置決め精度が向上し、
針先不良のままテストが実行されることがなくテストの
信頼性が高まる。
いては、テスト前またはテスト中にプローブニードル先
端を撮像して先端状態を判定し汚れ、割れ等の不良状態
を検出した場合にはテスト中止または不良針先修正動作
を行なうようにシーケンス制御している。したがって、
電気的接触が確実になり、また位置決め精度が向上し、
針先不良のままテストが実行されることがなくテストの
信頼性が高まる。
第1図は本発明に係るウェハプローバの斜視図、第2図
はプローブニードル先端部撮像系の構成説明図、第3図
はプローブニードルホルダの斜視図である。 1:ウェハチャック、 2:θZステージ、 3:XYステージ、 6:プローブニードル、 11:レーザビーム、 20:TVカメラ、 21:コンタクトプレート、 28:セラミック板、 29:カードブロ一部、 63ニブローブニードルホルダ、 64:画像処理回路、 65:プローバシーケンスコントローラ。 特許出願人 キャノン株式会社 代理人 弁理士 伊 東 哲 也 代理人 弁理士 伊 東 辰 雄
はプローブニードル先端部撮像系の構成説明図、第3図
はプローブニードルホルダの斜視図である。 1:ウェハチャック、 2:θZステージ、 3:XYステージ、 6:プローブニードル、 11:レーザビーム、 20:TVカメラ、 21:コンタクトプレート、 28:セラミック板、 29:カードブロ一部、 63ニブローブニードルホルダ、 64:画像処理回路、 65:プローバシーケンスコントローラ。 特許出願人 キャノン株式会社 代理人 弁理士 伊 東 哲 也 代理人 弁理士 伊 東 辰 雄
Claims (4)
- (1)検査すべき半導体ウェハと電気的に接触するため
のプローブニードル群と、該ウェハを保持するためのウ
ェハチャックと、該ウェハチャックをXおよびY方向に
移動させるためのXYステージと、前記プローブニード
ル群の針先を撮像する撮像手段と、該撮像手段の画像信
号に基づいて該針先の状態を検知するための画像処理手
段と、該画像処理手段により検出した針先状態に基づい
てプローバ動作のシーケンス制御を行なうための制御手
段とを具備したことを特徴とするウェハプローバ。 - (2)ウェハを保持するウェハチャックと、上記ウェハ
チャックをX並びにY方向に移動させるXYステージと
、上記XYステージによってX並びにY方向に関して上
記ウェハチャックと一体的に移動されるプローブニード
ル群の針先の少なくとも一つを撮像する撮像手段とを具
備し、上記撮像手段の画像信号に基づいて上記プローブ
ニードル群の針先の形状、大きさ等を入力し、これらに
より針先の汚れ、割れ、摩耗を検出して、針先に汚れが
ある場合にはこれの清掃を行なうかまたは外部に警報を
発生してテストの実行を中止し、針先が割れまたは摩耗
状態にある場合には、外部に警報を発生してテストの実
行を中止することを特徴とするウェハプローバ。 - (3)ウェハを保持するウェハチャックと、上記ウェハ
チャックをX並びにY方向に移動させるXYステージと
、上記XYステージによってX並びにY方向に関して上
記ウェハチャックと一体的に移動されるコンタクトプレ
ートと、上記コンタクトプレートを上記XYステージに
対してZ方向に移動させる駆動機構と、上記コンタクト
プレートを通して上記プローブニードル群の針先の少な
くとも一つを撮像する撮像手段とにより、上記プローブ
ニードル群の針先の少なくとも一つに上記コンタクトプ
レートを押し付け、この際の上記撮像手段からの画像信
号に基づいて上記プローブニードル群の針先の形状、大
きさ等を入力し、これらにより、針先の汚れ、割れ、摩
耗を検出して針先に汚れがある場合にはこれの清浄を行
なうかまたは外部に警報を発生して、テストの実行を中
止し、針先が割れまたは摩耗状態にある場合には、外部
に警報を発生して、テストの実行を中止することを特徴
とするウェハプローバ。 - (4)ウェハを保持するウェハチャックと、上記ウェハ
チャックをX並びにY方向に移動させるXYステージと
、上記XYステージによってX並びにY方向に関して上
記ウェハチャックと一体的に移動されるコンタクトプレ
ートと、上記コンタクトプレートを上記XYステージに
対してZ方向に移動させる駆動機構と、上記コンタクト
プレートを通して上記プローブニードル群の針先の少な
くとも一つを撮像する撮像手段とにより、上記プローブ
ニードル群の針先の少なくとも一つに上記コンタクトプ
レートを押し付け、この際の上記撮像手段からの画像信
号に基づいて上記プローブニードル群の針先の押し付け
時の位置または軌跡を求め、この位置または軌跡が所定
許容範囲内に入っていない場合に、テスト動作を中止す
るか、もしくは所定許容範囲内に入っていない針先を前
記XYステージ上にあるホールド機構により把持し、こ
の後XYステージを移動させることにより針先を修正す
る機能を有するウェハプローバ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11145888A JPH01282829A (ja) | 1988-05-10 | 1988-05-10 | ウエハプローバ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11145888A JPH01282829A (ja) | 1988-05-10 | 1988-05-10 | ウエハプローバ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01282829A true JPH01282829A (ja) | 1989-11-14 |
Family
ID=14561744
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11145888A Pending JPH01282829A (ja) | 1988-05-10 | 1988-05-10 | ウエハプローバ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01282829A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05166893A (ja) * | 1991-12-17 | 1993-07-02 | Tokyo Kasoode Kenkyusho:Kk | プローブカード検査装置 |
| JPH05166892A (ja) * | 1991-12-12 | 1993-07-02 | Tokyo Kasoode Kenkyusho:Kk | プローブカード検査方法 |
| EP0592878A3 (de) * | 1992-10-15 | 1995-02-01 | Ehlermann Eckhard | Verfahren und Vorrichtung zur Prüfung von Nadelkarten für die Prüfung von integrierten Schaltkreisen. |
| US6306187B1 (en) | 1997-04-22 | 2001-10-23 | 3M Innovative Properties Company | Abrasive material for the needle point of a probe card |
| JP2008191167A (ja) * | 2008-04-21 | 2008-08-21 | Nec Electronics Corp | プローブ装置及び方法 |
| JP2017073454A (ja) * | 2015-10-07 | 2017-04-13 | 三菱電機株式会社 | プローブ位置検査装置、半導体装置の検査装置および半導体装置の検査方法 |
| CN106960804A (zh) * | 2016-01-08 | 2017-07-18 | 三菱电机株式会社 | 评价装置、探针位置的检查方法 |
-
1988
- 1988-05-10 JP JP11145888A patent/JPH01282829A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05166892A (ja) * | 1991-12-12 | 1993-07-02 | Tokyo Kasoode Kenkyusho:Kk | プローブカード検査方法 |
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| CN106568992A (zh) * | 2015-10-07 | 2017-04-19 | 三菱电机株式会社 | 探针位置检查装置、半导体装置的检查装置及半导体装置的检查方法 |
| US10209273B2 (en) | 2015-10-07 | 2019-02-19 | Mitsubishi Electric Corporation | Probe position inspection apparatus, semiconductor device inspection apparatus and semiconductor device inspection method |
| CN106568992B (zh) * | 2015-10-07 | 2019-10-25 | 三菱电机株式会社 | 探针位置检查装置、半导体装置的检查装置及半导体装置的检查方法 |
| CN106960804A (zh) * | 2016-01-08 | 2017-07-18 | 三菱电机株式会社 | 评价装置、探针位置的检查方法 |
| CN106960804B (zh) * | 2016-01-08 | 2020-05-08 | 三菱电机株式会社 | 评价装置、探针位置的检查方法 |
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