JPH01286197A - 半導体記憶装置 - Google Patents
半導体記憶装置Info
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- JPH01286197A JPH01286197A JP88116284A JP11628488A JPH01286197A JP H01286197 A JPH01286197 A JP H01286197A JP 88116284 A JP88116284 A JP 88116284A JP 11628488 A JP11628488 A JP 11628488A JP H01286197 A JPH01286197 A JP H01286197A
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- word
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は半導体記憶技術さらには読出し増幅回路の駆
動方式に適用して特に有効な技術に関し、例えばリフレ
ッシュ動作を必要とするダイナミック型RAM (ラン
ダムアクセスメモリ)に利用して有効な技術に関する。
動方式に適用して特に有効な技術に関し、例えばリフレ
ッシュ動作を必要とするダイナミック型RAM (ラン
ダムアクセスメモリ)に利用して有効な技術に関する。
[従来の技術]
電荷蓄積型のメモリセルからなるダイナミック型RAM
においては、キャパシタに蓄積された情報電荷のリーク
による情報消滅を防止するため周期的なリフレッシュ動
作が必要となる。
においては、キャパシタに蓄積された情報電荷のリーク
による情報消滅を防止するため周期的なリフレッシュ動
作が必要となる。
従来のダイナミック型
シュコントローラを白滝し、メモリマットの構成に応じ
てメモリアレイの一行または数行を同時に選択してリフ
レッシュを行なうようになっていた。
てメモリアレイの一行または数行を同時に選択してリフ
レッシュを行なうようになっていた。
例えば標準4メガDRAMでは、16■Sに1024回
の割合でリフレッシュを行なうように規定されているた
め、−度に選択されるべきメモリセルの数は4096ビ
ツトである。従って、一つのワード線に接続されている
メモリセルの数が1024ビツトのDRAMでは4本の
ワード線を、また一つのワード線上のメモリセルの数が
2048ビツトのDRAMでは2本のワード線をリフレ
ッシュの際に同時に選択するようにしている。
の割合でリフレッシュを行なうように規定されているた
め、−度に選択されるべきメモリセルの数は4096ビ
ツトである。従って、一つのワード線に接続されている
メモリセルの数が1024ビツトのDRAMでは4本の
ワード線を、また一つのワード線上のメモリセルの数が
2048ビツトのDRAMでは2本のワード線をリフレ
ッシュの際に同時に選択するようにしている。
DRAMに関しては、例えば特願昭61−195322
号がある。
号がある。
[発明が解決しようとする課題]
ところで、1つ1つのリフレッシュ動作は、リードアン
ドライトすなわちメモリセルの情報を読み出して再び同
一の情報を書き込むものである。
ドライトすなわちメモリセルの情報を読み出して再び同
一の情報を書き込むものである。
従って、上記のように一度に4096ビツトのメモリセ
ルをリフレッシュするためには、少なくとも4096個
のセンスアンプ(読出し増幅回路)が必要である。
ルをリフレッシュするためには、少なくとも4096個
のセンスアンプ(読出し増幅回路)が必要である。
従来のダイナミックRAMでは、通常のデータ読出し時
においてもリフレッシュサイクルから決まる数(4メガ
DRAMでは4096個)のセンスアンプを同時に駆動
して、これらのセンスアンプに読み出されたデータの中
から所望のものをカラムアドレスによって選択してメイ
ンアンプで増幅し、出力するようになっていた。
においてもリフレッシュサイクルから決まる数(4メガ
DRAMでは4096個)のセンスアンプを同時に駆動
して、これらのセンスアンプに読み出されたデータの中
から所望のものをカラムアドレスによって選択してメイ
ンアンプで増幅し、出力するようになっていた。
このようにリフレッシュサイクルから決まる吸うのセン
スアンプをすべて同時に駆動する方式においては、セン
スアンプの動作に伴うビット線の充放電によって非常に
大きな消費電力が必要になるという問題点があった。
スアンプをすべて同時に駆動する方式においては、セン
スアンプの動作に伴うビット線の充放電によって非常に
大きな消費電力が必要になるという問題点があった。
本発明の目的は、リフレッシュ動作を必要とするダイナ
ミックRAMにおける消費電力の低減を図ることにある
。
ミックRAMにおける消費電力の低減を図ることにある
。
この発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴に
ついては、本明細書の記述および添附図面から明らかに
なるであろう。
ついては、本明細書の記述および添附図面から明らかに
なるであろう。
[課題を解決するための手段]
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を説明すれば、下記のとおりである。
を説明すれば、下記のとおりである。
すなわち、メモリアレイ内のワード線を細分化して1本
のワード線に接続されるメモリセル数を減少させるとと
もに、読出しや書込み時には細分化されたワード線の中
の1本を選択してそれに属するビット線上のセンスアン
プのみ動作させ、リフレッシュ時には同時に複数のワー
ド線を選択して全センスアンプを動作させるようにする
ものである。
のワード線に接続されるメモリセル数を減少させるとと
もに、読出しや書込み時には細分化されたワード線の中
の1本を選択してそれに属するビット線上のセンスアン
プのみ動作させ、リフレッシュ時には同時に複数のワー
ド線を選択して全センスアンプを動作させるようにする
ものである。
また、ワード線を二重化し、かつメモリセルに直結され
る一方のワード線を細分化して、このサブワード線を各
々スイッチ手段を介して他方のメインワード線に接続可
能な構成とし、リフレッシュ時には同一メインワード線
に対応するすべてのサブワード線をメインワード線に接
続させるとともに、読出し、書込み時には一つのサブワ
ード線のみをメインワード線に接続させるようにするも
のである。
る一方のワード線を細分化して、このサブワード線を各
々スイッチ手段を介して他方のメインワード線に接続可
能な構成とし、リフレッシュ時には同一メインワード線
に対応するすべてのサブワード線をメインワード線に接
続させるとともに、読出し、書込み時には一つのサブワ
ード線のみをメインワード線に接続させるようにするも
のである。
[作用]
上記した手段によれば、リフレッシュ時に駆動されるセ
ンスアンプの数は従来方式と変わらないが、読出し、書
込み時に駆動されるセンスアンプの数はワード線の分割
数に反比例して少なくなる。
ンスアンプの数は従来方式と変わらないが、読出し、書
込み時に駆動されるセンスアンプの数はワード線の分割
数に反比例して少なくなる。
しかも、リフレッシュのサイクルは16+msに102
4回であり、読出しや書込み動作に比べてサイクルがか
なり長いため、多数のセンスアンプが同時に駆動される
リフレッシュ動作の時間は非常に短い、そのため、読出
し、書込み時にセンスアンプにより充放電されるビット
線の数が大幅に減少し、これによって、DRAMの消費
電力の低減を図るという上記目的を達成することができ
る。
4回であり、読出しや書込み動作に比べてサイクルがか
なり長いため、多数のセンスアンプが同時に駆動される
リフレッシュ動作の時間は非常に短い、そのため、読出
し、書込み時にセンスアンプにより充放電されるビット
線の数が大幅に減少し、これによって、DRAMの消費
電力の低減を図るという上記目的を達成することができ
る。
[実施例]
第1図には、本発明を適用したダイナミックRAMの一
実施例が示されている。
実施例が示されている。
同図において1M−ARYは複数のメモリセルMCが、
マトリックス状に配設されたメモリアレイである。また
、ADBはアドレスバッファ、X−DECはメモリアレ
イM−ARY内の1本のワード線Wを選択するXデコー
ダ、Y−DECはメモリアレイ内の一対のビット線BL
、πτを選択して、それに接続されているセンスアンプ
SAをコモン入出力信号線i / oに接続するための
カラムスイッチ対Qyをオン・オフ制御する選択信号Y
Sを形成するYデコーダである。
マトリックス状に配設されたメモリアレイである。また
、ADBはアドレスバッファ、X−DECはメモリアレ
イM−ARY内の1本のワード線Wを選択するXデコー
ダ、Y−DECはメモリアレイ内の一対のビット線BL
、πτを選択して、それに接続されているセンスアンプ
SAをコモン入出力信号線i / oに接続するための
カラムスイッチ対Qyをオン・オフ制御する選択信号Y
Sを形成するYデコーダである。
なお、第1図においてビット線BL、BL上にO印で示
されているのがメモリセルで、−っ−っのメモリセルM
Cは、選択用のスイッチMO3FETと情報電荷蓄積用
のキャパシタとにより構成されている。
されているのがメモリセルで、−っ−っのメモリセルM
Cは、選択用のスイッチMO3FETと情報電荷蓄積用
のキャパシタとにより構成されている。
センスアンプSAの増幅信号は、コモン入出力信号線i
/ oを介してメインアンプMAに送られ、センスア
ンプSAの出力がメインアンプMAでさらに増幅されて
、差動出力d、dとして出力バッファDOBに供給され
るようになっている。
/ oを介してメインアンプMAに送られ、センスア
ンプSAの出力がメインアンプMAでさらに増幅されて
、差動出力d、dとして出力バッファDOBに供給され
るようになっている。
また、入力端子INには、入力バッファDIRが接続さ
れており、入カバソファDIBにより形成された相補書
込みデータ信号Din、Dinは、書込み制御用スイッ
チsw、、sw、を介して共通入出力信号線i / o
上にのせられ、ビット線BL。
れており、入カバソファDIBにより形成された相補書
込みデータ信号Din、Dinは、書込み制御用スイッ
チsw、、sw、を介して共通入出力信号線i / o
上にのせられ、ビット線BL。
BLを介してそのとき選択されているメモリセルに書き
込まれるようになっている。
込まれるようになっている。
なお、センスアンプSAには、ビット線BL。
「工をV c c / 2にプリチャージする回路が設
けられており、ワード線選択時にビット線BL、 Ta
LをV c c / 2にプリチャーシルさせるように
なっている。このとき、センスアンプSAのコモンソー
スラインもV c c / 2にプリチャージされる。
けられており、ワード線選択時にビット線BL、 Ta
LをV c c / 2にプリチャーシルさせるように
なっている。このとき、センスアンプSAのコモンソー
スラインもV c c / 2にプリチャージされる。
さらに、メモリチップ内には、外部から供給されるアド
レスストローブ信号ASや書込み制御信号WE、チップ
選択信号C8等に基づいて、プリチャージ信号φpや上
記書込み制御用スイッチSW、、SW、のコントロール
信号we、出カバソファに供給される出力制御信号φD
OE、メインアンプMAの動作タイミングを与える制御
信号φma等を形成するためのタイミング発生回路TM
Gが設けられている。
レスストローブ信号ASや書込み制御信号WE、チップ
選択信号C8等に基づいて、プリチャージ信号φpや上
記書込み制御用スイッチSW、、SW、のコントロール
信号we、出カバソファに供給される出力制御信号φD
OE、メインアンプMAの動作タイミングを与える制御
信号φma等を形成するためのタイミング発生回路TM
Gが設けられている。
また、タイミング発生回路TMGはリフレッシュアドレ
スを保持するレジスタを有しており、外部からリフレッ
シュタイミングを示す信号が入って来ると、リフレッシ
ュアドレスレジスタをインクリメントしてそのリフレッ
シュアドレスをXデコーダX−DECに供給し、リフレ
ッシュを実行する。
スを保持するレジスタを有しており、外部からリフレッ
シュタイミングを示す信号が入って来ると、リフレッシ
ュアドレスレジスタをインクリメントしてそのリフレッ
シュアドレスをXデコーダX−DECに供給し、リフレ
ッシュを実行する。
ここまでの構成は、従来のダイナミックRAMと略同−
である。しかしてこの実施例では、メモリアレイM−A
RYがワード方向に沿って複数のワードブロックWBO
,WBI、・・・・WBiに分割され、分割されたワー
ドブロックごとに互いに分離されたメモリゲート(各メ
モリセルの選択用MO8のゲート電極を連結させたライ
ン)としてのサブワード線SWが設けられている。アル
ミニ層配線技術を使用したダイナミックRAMでは、ポ
リシリコン層からなるワード線としてのメモリゲートの
上方にアルミニウム層を配線して適当なピッチでそれら
の配線間のコンタクト部を設けて接続させることでワー
ド線の抵抗を下げることができるが、そのような二層配
線技術を適用した場合には、単にポリシリコン層からな
るメモリゲートをワードブロックごとに切断するだけで
上記のような配線構成を実現できる。
である。しかしてこの実施例では、メモリアレイM−A
RYがワード方向に沿って複数のワードブロックWBO
,WBI、・・・・WBiに分割され、分割されたワー
ドブロックごとに互いに分離されたメモリゲート(各メ
モリセルの選択用MO8のゲート電極を連結させたライ
ン)としてのサブワード線SWが設けられている。アル
ミニ層配線技術を使用したダイナミックRAMでは、ポ
リシリコン層からなるワード線としてのメモリゲートの
上方にアルミニウム層を配線して適当なピッチでそれら
の配線間のコンタクト部を設けて接続させることでワー
ド線の抵抗を下げることができるが、そのような二層配
線技術を適用した場合には、単にポリシリコン層からな
るメモリゲートをワードブロックごとに切断するだけで
上記のような配線構成を実現できる。
そして、分割された各サブワード線ごとに、サブワード
線を各ワードブロックにまたがって配設された共通のメ
インワード線MWに接続可能にするためのトランスファ
MO8TMが設けられている。
線を各ワードブロックにまたがって配設された共通のメ
インワード線MWに接続可能にするためのトランスファ
MO8TMが設けられている。
このトランスファMOS TMは、YデコーダY−D
ECから出力されるブロック選択信号WBSによって、
各ワードブロックごとにブロック内のビット線のいずれ
かが選択されるときに同時にオンされるようになってい
る。
ECから出力されるブロック選択信号WBSによって、
各ワードブロックごとにブロック内のビット線のいずれ
かが選択されるときに同時にオンされるようになってい
る。
ただし、従来のダイナミックRAMでは、ビット線を選
択するのはセンスアンプSAによってビット線のレベル
が確定した後であればよいので。
択するのはセンスアンプSAによってビット線のレベル
が確定した後であればよいので。
アドレスマルチプレクス方式で取り込まれた遅い方のカ
ラムアドレスAyに基づいてカラム選択信号YSを°形
成していたが、Y系のアドレス信号Ayに基づいてワー
ドブロックWBの選択を行なう本発明方式においては、
ワード線のレベルの立上がりと略同時に上記ブロック選
択信号WBSが出力される必要がある。
ラムアドレスAyに基づいてカラム選択信号YSを°形
成していたが、Y系のアドレス信号Ayに基づいてワー
ドブロックWBの選択を行なう本発明方式においては、
ワード線のレベルの立上がりと略同時に上記ブロック選
択信号WBSが出力される必要がある。
そこでこの実施例のダイナミックRAMでは。
アドレスノンマルチプレックス方式を採用し、X系およ
びY系のすべてのアドレス信号Ax、Ayを同時に入力
可能な数のアドレス入力ピンが設けられている。一方、
これらのアドレス信号の取込みタイミングを与える信号
としては一種類のアドレスストローブ信号Asが入力可
能とされている。
びY系のすべてのアドレス信号Ax、Ayを同時に入力
可能な数のアドレス入力ピンが設けられている。一方、
これらのアドレス信号の取込みタイミングを与える信号
としては一種類のアドレスストローブ信号Asが入力可
能とされている。
また、外部からリフレッシュタイミングを与えるためリ
フレッシュクロックφrの入力ビンREFも設けられて
いる。
フレッシュクロックφrの入力ビンREFも設けられて
いる。
タイミング発生回路TOは、リフレッシュクロックφr
が入力されると、X系にのみ対応したリフレッシュアド
レスをアドレスバッファADBを介してXデコーダX−
DECに与えて1本のワード線を選択レベルにさせる。
が入力されると、X系にのみ対応したリフレッシュアド
レスをアドレスバッファADBを介してXデコーダX−
DECに与えて1本のワード線を選択レベルにさせる。
これとともに、YデコーダY−DECに対しては、すべ
てのブロック選択信号WBSを選択レベルにさせるよう
な制御信号を与える。そして、YデコーダY−DECか
らのブロック選択信号WBSは、対応するブロック内の
センスアンプSAに対しても共通に供給されており、こ
れによって、メモリアレイ内のすべてのセンスアンプS
Aが同時に駆動され、リフレッシュが実行される。
てのブロック選択信号WBSを選択レベルにさせるよう
な制御信号を与える。そして、YデコーダY−DECか
らのブロック選択信号WBSは、対応するブロック内の
センスアンプSAに対しても共通に供給されており、こ
れによって、メモリアレイ内のすべてのセンスアンプS
Aが同時に駆動され、リフレッシュが実行される。
なお、ブロック選択信号WBSとワード線選択信号の選
択レベルは、メモリセルに対して十分なレベルの電圧を
印加できるようにするためVccよりも2〜3v高くブ
ーストされたレベルにされる。
択レベルは、メモリセルに対して十分なレベルの電圧を
印加できるようにするためVccよりも2〜3v高くブ
ーストされたレベルにされる。
一方、通常のリード・ライト時に、カラムアドレスAy
に対応したビット線の選択信号がYデコーダから出力さ
れると、そのビット線の属するワードブロック用のブロ
ック選択信号WBSのみが選択レベルにされる。そのた
め、1個のワードブロックの中の1つのブロックに属す
るセンスアンプSAのみが、タイミング発生回路TOか
らのプリチャージ信号φPによって駆動され、対応する
ビット線BL、BLをプリチャージするとともに。
に対応したビット線の選択信号がYデコーダから出力さ
れると、そのビット線の属するワードブロック用のブロ
ック選択信号WBSのみが選択レベルにされる。そのた
め、1個のワードブロックの中の1つのブロックに属す
るセンスアンプSAのみが、タイミング発生回路TOか
らのプリチャージ信号φPによって駆動され、対応する
ビット線BL、BLをプリチャージするとともに。
プリチャージされたコモンソー入線に接続されるように
なっている。
なっている。
従って、上記実施例では、一つのサブワード線SWに属
するメモリセルの数を50〜100個程度にすると、4
メガDRAMの場合、リード・ライト時に駆動されるセ
ンスアンプの数がリフレッシュ時の4096個の174
0〜1780となる。
するメモリセルの数を50〜100個程度にすると、4
メガDRAMの場合、リード・ライト時に駆動されるセ
ンスアンプの数がリフレッシュ時の4096個の174
0〜1780となる。
しかも、リフレッシュサイクル自体がリード・ライトサ
イクルに比べてかなり長いため、メモリ全体の消費電力
は従来方式のダイナミックRAMの比べて40%前後も
低減されるようになる。
イクルに比べてかなり長いため、メモリ全体の消費電力
は従来方式のダイナミックRAMの比べて40%前後も
低減されるようになる。
さらに、アルミニ層配線を適用したダイナミックRAM
において、ポリシリコン層からなるメモリゲート(サブ
ワード線)に、二層目(上層)のアルミ層からなるワー
ド線を重ねて配設することで低抵抗化を図った場合、ア
ルミ・ワード線とメモリゲートとを一層目(下層)のア
ルミ層を媒介として短絡させるべくシャント部と呼ばれ
る領域をメモリアレイ内に設けることがある。このシャ
ント部はメモリセルが配設されない領域である。
において、ポリシリコン層からなるメモリゲート(サブ
ワード線)に、二層目(上層)のアルミ層からなるワー
ド線を重ねて配設することで低抵抗化を図った場合、ア
ルミ・ワード線とメモリゲートとを一層目(下層)のア
ルミ層を媒介として短絡させるべくシャント部と呼ばれ
る領域をメモリアレイ内に設けることがある。このシャ
ント部はメモリセルが配設されない領域である。
従ってその場合、シャント部に前述のワードブロック選
択用のトランスファMO8TMを設け。
択用のトランスファMO8TMを設け。
−層目のアルミ層を使ってメインワード線MWおよびサ
ブワード線SWとの接続を行なうようにすれば、トラン
スファMO8TMの追加に伴うメモリアレイの占有面積
の増加を最小限に抑えることができる。
ブワード線SWとの接続を行なうようにすれば、トラン
スファMO8TMの追加に伴うメモリアレイの占有面積
の増加を最小限に抑えることができる。
なお、上記のごとくアルミニ層配線を適用した場合、ブ
ロック選択信号線(WBS)はビット線と並行にこれと
同じ一層目のアルミ層で形成すればよい。
ロック選択信号線(WBS)はビット線と並行にこれと
同じ一層目のアルミ層で形成すればよい。
以上説明したように上記実施例は、メモリアレイ内のワ
ード線を細分化して1本のワード線に接続されるメモリ
セル数を減少させるとともに、読出しや書込み時には細
分化されたワード線の中の1本を選択してそれに属する
データ線上のセンスアンプのみ動作させ、リフレッシュ
時には同時に複数のワード線を選択させるようにしたの
で、リフレッシュ時に駆動されるセンスアンプの数は従
来方式と変わらないが、読出し、書込み時に駆動される
センスアンプの数はワード線の分割数に反比例して少な
くなる。しかも、リフレッシュのサイクルは16m5に
1024回であり、読出しや書込み動作に比べてサイク
ルがかなり長いため、多数のセンスアンプが同時に駆動
されるメモリセル動作の時間は非常に短い、そのため、
読出し、書込み時にセンスアンプによって充放電される
ビット線の数が大幅に減少するという作用により、ダイ
ナミックRAMの消費電力が低減されるという効果があ
る。
ード線を細分化して1本のワード線に接続されるメモリ
セル数を減少させるとともに、読出しや書込み時には細
分化されたワード線の中の1本を選択してそれに属する
データ線上のセンスアンプのみ動作させ、リフレッシュ
時には同時に複数のワード線を選択させるようにしたの
で、リフレッシュ時に駆動されるセンスアンプの数は従
来方式と変わらないが、読出し、書込み時に駆動される
センスアンプの数はワード線の分割数に反比例して少な
くなる。しかも、リフレッシュのサイクルは16m5に
1024回であり、読出しや書込み動作に比べてサイク
ルがかなり長いため、多数のセンスアンプが同時に駆動
されるメモリセル動作の時間は非常に短い、そのため、
読出し、書込み時にセンスアンプによって充放電される
ビット線の数が大幅に減少するという作用により、ダイ
ナミックRAMの消費電力が低減されるという効果があ
る。
また、ワード線を二重化し、かつメモリセルに直結され
る一方のワード線を細分化して、このサブワード線を各
々スイッチ手段を介してメインワード線に接続可能な構
成とし、リフレッシュ時には同一メインワード線に対応
するすべてのサブワード線をメインワード線に接続させ
るとともに、読出し、書込み時には一つのサブワード線
のみをメインワード線に接続させるようにしたので、新
たにプロセスを追加することなく、マスクの変更のみで
所望の動作を行なうダイナミックRAMを形成すること
ができる。
る一方のワード線を細分化して、このサブワード線を各
々スイッチ手段を介してメインワード線に接続可能な構
成とし、リフレッシュ時には同一メインワード線に対応
するすべてのサブワード線をメインワード線に接続させ
るとともに、読出し、書込み時には一つのサブワード線
のみをメインワード線に接続させるようにしたので、新
たにプロセスを追加することなく、マスクの変更のみで
所望の動作を行なうダイナミックRAMを形成すること
ができる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。例えば、上記実施例では
アドレスノンマルチプレクス方式でメモリセルを選択す
るようにしたものについて説明したが、X系アドレスの
ビット数をY系アドレスのビット数よりも大きくして、
ワードブロック選択ビットをX系アドレスに含ませるよ
うにすることによって、変則的ではあるがアドレスマル
チプレクス方式のメモリとすることも可能である。
体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。例えば、上記実施例では
アドレスノンマルチプレクス方式でメモリセルを選択す
るようにしたものについて説明したが、X系アドレスの
ビット数をY系アドレスのビット数よりも大きくして、
ワードブロック選択ビットをX系アドレスに含ませるよ
うにすることによって、変則的ではあるがアドレスマル
チプレクス方式のメモリとすることも可能である。
[発明の効果]
本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば下記のとおりである
。
て得られる効果を簡単に説明すれば下記のとおりである
。
すなわち、リフレッシュ動作を必要とするダイナミック
RAMにおいて、読出し、書込み時にセンスアンプによ
り充放電されるビット線の数を大幅に減少させることに
よって、消費電力の低減を図ることができる。
RAMにおいて、読出し、書込み時にセンスアンプによ
り充放電されるビット線の数を大幅に減少させることに
よって、消費電力の低減を図ることができる。
第1図は本発明に係るダイナミックRAMの一実施例を
示す回路構成図である。 M−ARY・・・・メモリアレイ、WB・・・・ワード
ブロック、MW・・・・メインワード線、SW・・・・
サブワード線、BL、BT・・・・ビット線、SA・・
・・読出し増幅回路(センスアンプ)、Qy・・・・カ
ラムスイッチ、ADH・・・・アドレスバッファ、TG
・・・・タイミング発生回路。
示す回路構成図である。 M−ARY・・・・メモリアレイ、WB・・・・ワード
ブロック、MW・・・・メインワード線、SW・・・・
サブワード線、BL、BT・・・・ビット線、SA・・
・・読出し増幅回路(センスアンプ)、Qy・・・・カ
ラムスイッチ、ADH・・・・アドレスバッファ、TG
・・・・タイミング発生回路。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、所定の周期でメモリセルの情報の書き直しを必要と
するリフレッシュ型半導体記憶装置において、読出し時
にはリフレッシュ時よりも少ない数の読出し増幅回路を
駆動させるような選択信号を形成するように構成されて
なることを特徴とする半導体記憶装置。 2、互いに並行に配設された複数のワード線をそれぞれ
2重化し、一方を細分化してサブワード線とするととも
に、複数のサブワード線をスイッチ手段を介して共通の
メインワード線に接続可能に構成し、上記スイッチ手段
の制御を上記選択信号により行なうようにしてなること
を特徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。 3、上記サブワード線はポリシリコン層又は、ポリサイ
ド層で形成され、メモリセルを構成する選択用スイッチ
MOSFETのゲート電極を兼ねているとともに、メイ
ンワード線はアルミニウム層で形成されていることを特
徴とする請求項2記載の半導体記憶装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP88116284A JPH01286197A (ja) | 1988-05-13 | 1988-05-13 | 半導体記憶装置 |
| KR1019890006106A KR100213602B1 (ko) | 1988-05-13 | 1989-05-08 | 다이나믹형 반도체 기억장치 |
| US08/503,738 US5719815A (en) | 1988-05-13 | 1995-07-18 | Semiconductor memory having a refresh operation cycle and operating at a high speed and reduced power consumption in a normal operation cycle |
| US08/962,351 US5862095A (en) | 1988-05-13 | 1997-10-31 | Semiconductor memory having both a refresh operation cycle and a normal operation cycle and employing an address non-multiplex system |
| US09/234,101 US6108264A (en) | 1988-05-13 | 1999-01-19 | Dynamic type semiconductor memory device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP88116284A JPH01286197A (ja) | 1988-05-13 | 1988-05-13 | 半導体記憶装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01286197A true JPH01286197A (ja) | 1989-11-17 |
Family
ID=14683257
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP88116284A Pending JPH01286197A (ja) | 1988-05-13 | 1988-05-13 | 半導体記憶装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01286197A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998056004A1 (en) * | 1997-06-03 | 1998-12-10 | Fujitsu Limited | Semiconductor memory device |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5972699A (ja) * | 1982-10-18 | 1984-04-24 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体メモリ装置 |
| JPS62241198A (ja) * | 1986-04-14 | 1987-10-21 | Hitachi Ltd | ダイナミツク型ram |
-
1988
- 1988-05-13 JP JP88116284A patent/JPH01286197A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5972699A (ja) * | 1982-10-18 | 1984-04-24 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体メモリ装置 |
| JPS62241198A (ja) * | 1986-04-14 | 1987-10-21 | Hitachi Ltd | ダイナミツク型ram |
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| US6088291A (en) * | 1997-06-03 | 2000-07-11 | Fujitsu Limited | Semiconductor memory device |
| US6246620B1 (en) | 1997-06-03 | 2001-06-12 | Fujitsu Limited | Semiconductor memory device |
| US6459641B2 (en) | 1997-06-03 | 2002-10-01 | Fujitsu Limited | Semiconductor memory device |
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