JPH01289672A - 個々に位置ぎめされた研磨粒をもつ研磨シート - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （１）発明の分野の背景 この発明は、通常は可撓性を有しパインター層につけら
れた研磨粒子又は粒を伴う支持体をもったタイプの、通
常は可撓性を有する研磨シート又は被覆された研磨材に
関する。

（２）従来の技術 米国特許第７９４．４９５によれば、少くとも１９０５
年以前に、破壊されてない「研磨面は、暫くすると金属
加工（又はその他の加工）による研磨面からの磨滅した
微細な粒子によって閉鎖され固着され」、これらの材料
はドツトパターンの研磨粒子を適用することによって効
果的に取除くことができることが発見された。米国特許
第１゜６５７、７８４　（Ｂｃｒｇｓｔｏｒｍ　）にお
いては、ドツトパターンはバインダーを支持体に施し、
そのあとで、バインダー及び接着した研磨粒の１部を掻
きとることにより得られる。より一般的には接着材がド
ツトパターンに施しされ、その結果研磨粒はそのパター
ンにだけ接着される。米国特許第４゜３１７．６６０　
（にｒａＮｉｓ　ａｔ　ａｌ）においては、接着材のド
ツトパターンは、接着材を型紙の孔を通して施すことに
よって得られる。多数の研磨粒を各ドツトに着けた後、
研磨粒は糊剤で被覆される。

市場で見られるこのようなドツトパターンの研磨シート
には、各ドツトに研磨粒の山や突起があり、その粒の山
は糊剤で被覆されている。名山の高さは多かれ少なかれ
バラツキがあるので、個々の山、名山の個々の粒は異っ
た負荷をうけ、そのため不平均な研削が生じる。糊剤は
研磨粒の研削作用を妨害すると共に、糊剤が研磨粒を被
覆するバラツキが大きいので、不平均な研削を生じる。

従来の研磨シートの不平均研削は又、それらの研磨粒の
不規則な大きさや形によっても起る。この作用は同じ寸
法の球形粒を用いることによって低減された。球形研磨
粒の他の形式は、４１機物又は無機物の研磨粒子の多数
のマトリックスによって構成される。これらの均一・性
の故に、このような合成粉は、磨滅するにつれてそれ自
身更新される。このようにして、不規則な研磨粒を被覆
した研磨シートを用いたときより長時間に亘って比較的
均一な研削作用を維持することができる。このような合
成研磨粒は米国特許第３．９１６，５８４　（Ｈｏｗａ
ｒｄ　ｅｔ　ａｔ、　）　：第４．１１２．６３１（）
ｌｏｗａｒｄ）　；及び第４，５４１．８４２（Ｒｏｓ
ｔｏｃｋｅｒ　）において開示されている。

米国特許第Ｒｅ、　２９．８０８　（１１１ａＱｒｌＯ
ｒ）は砕は易いマトリックスの表面に結合した研磨粒子
によって構成された中空球を示している。ｗａｇｎｅｒ
特許の第１図は、これらの球がバインダー層中に均一・
に位置ぎめされていることを示しているとしても、この
中空球は「結合材と混合され、研磨体の形につくられた
あと、結合材は硬化され研磨ベルトを製造している間に
中空体は普通の方法で基材に結合される」と特許は述べ
ている。（第６１１１゜４３〜４８行）。実施例１にお
いては、製造準備された研磨粒子球は、木綿の綾織ｍ維
Ｆの樹脂層の上に均一に分散されている。

従来の研磨シートが同寸法の合成球形粒を採用した時で
さえも、それらの製造条件の差により、製造する時によ
って異った研削速度のシートができる。従って従来の研
磨シートを、数値制御又はロボット制御の下に使うとき
は、それを使う前に各ジャンボロールの研削速度の試験
が必要であった。

研磨シート普通長尺物でつくられ、貯蔵や出荷の便のた
めロールに巻かれる。最終的にシートは望みの寸法と形
にダイカットされる。例えばレンズ磨き用としてデイジ
−パッドにカットされる。

このようにすると、ダイは研磨粒に接触しその刃先は鈍
くなり、短期に再研磨の必要が生じる。

（３）、Ｌ些ｉ見亘１１ 研磨工具はダイアモンドのような１ｆｆｉ粒を手作業で
組みつけることによって屡々つくられるが、このような
粒は極めて大きいものである。市販されている研磨シー
トには手作業のものはないと信じられている。

米国特許第４．５３６．１９５　（石川）は研磨砥石の
製造法にＩｌｌするもので、各粒子にかかる負荷が均一
になるように管理された方法で研磨粒子を配列しより効
率的で長寿命の砥石をつくっている。石川法の第１の実
施態様においては、電気伝導性のパターンが樹脂バイン
ダーシート上に形成され、ついでそのパターンに吸いつ
けられる研磨粒子を混合した金属イオンを含む電気メツ
キ浴中に浸される。電気伝導性のパターンは写真置版又
は印刷技術によって形成されてもよい。いくつかの研磨
材入りシートが層状におかれて、温圧又は熱圧モールド
法によって研磨砥石にモールドされる。

他の実ＩＩ様は、シートが金属で、その表面がマスクさ
れており、研磨粒子はマスクされてない面積にだけ吸い
つけられる点を除いて第１の実施態様と同じである。研
磨砥石の表面の研磨粒子分缶の１例は第１５図に示され
、ここでは粒子は列に並び粒子間隔は均一である。

（４）　Ｒ１１亘１１ この発明は、従来の技術で得られたものより、より精密
でより研削速度の高い研磨シート又は被覆研磨材を提供
する。更にこの新らしい研磨シートは、研削速度の予測
性がより高いものが提供されると信じられるので、ロボ
ット制御又は数値制御の機械で使う前の研削速度のテス
トの必要性を低減する。

概説すると、この発明の研磨シートはバインダーを伴っ
た支持体をもち、それに研磨粒は強く結合し、実質的に
１つの面上に予め決められた間隔で横方向に配列される
。粒は実質的に同じ大きさである。即ち、９０％粒の寸
法のバラツキは平均寸法の±５０％以である。実質的に
より大きな粒は、この新規な研磨シートが意図する望ま
しい精密仕上、げを提供できないので各研磨粒は３００
μ腸の開孔をもつ篩目を通過すべきである。

粒は研削屑が逃げ出すのに充分な巾を粒の間にもつよう
に、予め決められたパターン（又は異った寸法や形状を
もった粒を用いるときは複数のパターン）に配置される
ことが好ましい。好ましいパターンにおいては、粒の一
つひとつは均等な間隔で、縦横（即ちＸ及びｙ方向）に
延びる列に配置される。別の好ましいパターンにおいて
は、研磨シートは円形の列に等間隔に配置された粒をも
ち、これは円形列の中心と同じ中心をもつ円板にカット
することができる。

研磨粒は等厚で、実質的にすべての粒は被加工物に接触
したとき同じ荷重をうけるように、実質的に同じ高さだ
けバインダー上に突出するよう平均径との差が１０％以
内であることが好ましい。

このようにして特に均一な仕上げが提供される。

「等厚」は各校がすべての方向においてほぼ同じ厚さを
もつことを意味する。等厚誼はそれが球であるかないか
に拘らず直径を有するものと考えることができる。

研磨粒は、被加工物の特定の面を異った速度で研削する
ために、この新規な研磨シートの異った面で異った密度
をもつことができる。これを達成するために必要な密度
決定のための一技法において、均一密度の研磨シートの
磨滅が研究され、最も高い磨滅を示す面における高粒密
度をもつ、新らしい研磨シートが製造される。予め決め
られた粒のパターンは又はこの新規な研磨シートをダイ
カットする面に研磨粒がないようにも選択することがで
きる。こうすればダイをこれまで可能であったｊス上に
長ＩＩ間鋭利に保つことができる。これは又廃棄物を低
減する。

この発明は又、研磨シートを次の逐次工程でつくる新ら
しい製法に関する。

１）小さい研磨粒をキャリアー上の予め決められたパタ
ーンのドツトにだＧ′、！吸いつける。

２）　前述のキャリアーと同調して、粘着性バインダー
層を伴う支持体が前進している間に、吸いつ番ノられた
粒を前述のパターンでバインダー層に移し込む。

３）バインダーを非粘着性に変える。

キャリアーが回転シリンダーの表面にあるときは、この
３工程法は殆んど無限の長さの研磨シートをつくること
が可能で、貯蔵や出荷に便利なようロールに巻くことが
できる。このようなロールにおいては予め決められた研
磨粒のパターンが何回も繰返えされる。このようなロー
ルは、円板や、デイジーや、シート及びベルトなどの様
々な商品に転換できる。

研磨粒が不規則な形状であるときには、この３工程法は
８粒の長軸を実質的に支持体に平行な面に横たえる。不
規則形状の粒が実質的に同じ大きさであるときは、その
結果それらは実質的に同じ高さだけバインダーから突出
し、均一な仕上げを与えるように均一な研磨をするよう
になる。

工程２）につづいて、８粒にメニスカスを形成するため
に、普通は加熱によってバインダーを軟化する付加工程
をおくようにバインダーを選択することが好ましい。こ
うすれば８粒の支持体への結合は強くなる。こうずれば
粒を被覆することは不必要となるだろうし、さもなけれ
ば研磨作用を妨害するであろう材料を、８粒の研削面か
ら除くことができる。メニスカスを形成するために熱を
使うときは、研磨粒がバインダーから突出す高さはメニ
スカスを形成するための時間と温度を加減することによ
って調節することができる。各研磨粒にメニスカスが形
成される場合は、工ｖ１２）で加えられる圧力は極めて
軽くすることが可能で、バインダー層に着が付くだけで
充分である。

８粒に対するメニスカス形成に代えて、又はそれに加え
て、研磨粒の結合を強くするために、この新規な研磨シ
ートに糊剤被覆を施すことは可能である。研磨粒がやや
大きい、例えば１００μ凰の開孔をもつ篩目を通らない
ような場合以外は、−膜内にこれは不必要である。研磨
粒が例えばダイアモンドのように高価な場合は、これら
が脱落しないように糊剤被覆することが望ましい。

予め決められたパターンにある１つひとつの研磨粒が、
実質的に同じ大きさであるとはいえ、この新規な研磨シ
ートの選ばれた面積がある大きさの研磨粒を予め決めら
れたあるパターンに配列している一方で、別の面積が予
め決められた別のパターンに異った大ぎの粒を配し、（
れぞれが被加工物の特定の領域で望みの研削速度と仕上
げ精度を提供することはり能である。同じ理由でこの新
規な研磨シートが、２又はそれ以上の異った形態の研磨
粒を採用し、それぞれが別々の予め決められたパターン
に配列されてもよい。２つの寸法の又は形態の研磨粒を
もつ研磨シートをつくるためには、工程１）と２）は工
程３）に先立って第２の寸法又は形態の粒を用いて繰り
返される。

（５）」見立Ｉ」 この新規なシートの各研磨粒は、多数の研磨粒子が無機
又は有機のバインダーマトリクス中にある等厚の合成物
であることが好ましい。例えば、平均径が約４μｍの研
磨粒子は、実質的に同じ直径の、好ましくは２５から１
００μｍの範囲の球をつくるために結合することが可能
である。それらの直径が均一なので、各等厚の粒はバイ
ンダー層から同じ高さだけ突出するように置くことがで
きる。等厚の粒を一つ一つ隣接の粒と等間隔に置くこと
によって、粒はそれぞれ同一の負荷をうけ、その結果実
質的に同一速度で磨滅し、バインダー層から突出する被
覆されてない部分に関する限り同一の性能が維持される
。結論的に、被加工物は、従来の研磨シートが研磨面の
仕上げを不均一にするのに対し、均一な研磨が続けられ
る。

このＦｒＷｉな研磨シートのバインダー層の厚さは好ま
しくは２５から１５０μｍである。この範囲よ厚いと不
経済であり、この範囲より薄いと研磨粒は希望する強さ
で結合しないだろう。バインダー層が溶液又はエマルジ
ョンで被覆される場合は５０μｍを超える均一な層を得
ること困難であろう。

上に概説した３工程法において使用可能なキャリアーは
、東しく株）から「東し無水板」として市販されている
プリント板である。それはシリコーンゴムの層で被覆さ
れた写真感光性の層をもつアルミニウム可撓板である。

中間調のスクリーンを通した光に曝すと、ポジ板のシリ
コーンゴムは、写真感光性材料をシリコーンゴムの露光
された面に強固に結合させ、そのあとでシリコーンゴム
の非露光部分はブラシで取除かれ、露光によってつくら
れた、予め決められたパターンのシリコーンゴムドツト
が残る。そのプリント板はその後シリンダーに巻かれ、
そのシリンダーは研磨粒の流動床の中で回される。粒は
プリント板のシリコーンゴムの残留部分にだけ着き、イ
ンク受容面には看かない。この回転しているプリント板
と同調して動いているバインダーを伴った支持体の上に
、粒は取あげられ、プリント板のパターンでバインダー
層に着床する。支持体が長いときはこのパターンは何回
も繰り返される。

上に概説した３工程法において「東し無水板」が使われ
、粘着性のバインダー層がプリント板のシリコーンゴム
に接着される場合には、トランスファーロールをバイン
ダー層とプリント板の間におくことができる。トランス
ファーロールの表面は、粘着性のバインダーに対し、離
脱面として作用し乍ら、プリント板のシリコーンゴムか
ら研磨粒を移動させせるように選ぶべきである。

この新規なシートの大部分の適用に対しては、上記３工
程法の工程１）で形成されるドツトの巾は、各位置に只
１つの研磨粒が着くように充分小さいことが必要である
が、すべてのドツトに確実に粒をつけるために各ドツト
を充分大きくする場合には、いくつかの場所では２つか
３つの粒が隣り合って着く可能性が考えられる。１つの
ドツトに１つだけの粒子を希望する時は、各ドツトはほ
ぼ円形で直径は研磨粒の平均径の３０から９０％の範囲
内であることが好ましい。直径８０μｍの球形の研磨粒
を用いるときは、直径６２μｍのドツトで好結果が得ら
れる。各ドツトの直径が実質的に研磨粒子の直径より大
きいときは、各ドツトに数個の粒子がＩａｍでつくかも
しれない。

上にＩＮ説した３工程法において１つのシリンダーに１
つのプリント板を用いると、継目に研磨粒のパターンの
不連続が生じるかもしれない。この発明の研磨シートで
、そのパターンに継目のないものは、シリンダー型に逐
次被覆されて、円筒形プリント板となり、好ましくはシ
リコーンゴム層を含むものを用いることによって得るこ
とができる。好ましい逐次被覆法は米国特許第３，５１
１゜１７８　（Ｃｕｒｔｉｎ）に記載されている。

若しパターンの継目が問題でなければ、この発明の研磨
シートをつくるための上述の３工程法の工程１）におい
て、次のステップでつくられたキャリアーを用いること
ができる。

１）　金属箔シートの一面をゴムで、他面をフォトレジ
ストで被覆する ２）フォトレジストを予め決められたパターンの光に露
光する。

３）前述のパターンに対応するフォトレジスト面を取除
く。

４）前述の面の金属箔をエツチングで除去し、前述の予
め決められたパターンにゴムを露出する。

特にもし研磨粒子が残ったフォトレジストにひきつけら
れる場合は、エツチング工程のあとに次の工程を加える
ことが好ましい。

５）　残ったフォトレジストの除去。

この新規な研磨シートに使用可能なバインダーの種類と
しては、次のような熱可塑性樹脂である。

即ちエチレン／アクリル酸共重合物、ポリエチレン、及
びＥ、１．デュポン社から商品名ｒ　５ｕｒｌｙｎＪと
して南限されているポリ（エチレンメチルアクリル）酸
である。その他の有用なバインダーは、調質して非粘着
性になるアクリル系感圧接着材である。エポキシ樹脂、
フェノール樹脂、及びポリウレタンのような粘着性の熱
硬化性バインダーも有用である。

この新規な研磨シートの支持体には、湿潤用バインダー
材で飽和したｍ１ｌｌｉ（例えば織物又は紙のような不
織繊維）、方向性をもった熱処理をしたポリプロピレン
のような高分子フィルム、必要に応じて下塗り材を施し
たポリ（エチレンテレフタレート）、又はその他の通常
の支持体用材料が用いられる。

この新規なりＩ磨シートにおいては、研磨粒の表面に研
磨助材を加えると研磨性能を改善することができる。１
ｊｔＷ４助材は又、被覆糊剤に又は微粉末材として加え
ることができる。好ましい研磨助材はＫＢＦ４であり、
その他の研磨助材も又有用であると信じられている。そ
の他の有用な研磨助材には食塩、硫黄、Ｋ　　ＴｉＦ４
、ポリ塩化ビニ−ル、ポリ塩化ビニリデン、クリオライ
ト及びそれらの組合わせ及び混合物が含まれる。研磨助
材の好ましい看は研磨材の被覆面１ＴｒＬ２当り５０か
ら３０（１、好ましくは８０から１６０ｇの水準である
。

（６）Ａｍ団 この発明は添付の図面を参照することにより、より理解
し易くなろう。

第１図は可撓性の支持体に伴はれたバインダー層上に研
磨粒子をつける方法を模式的に示したもので、このよう
にしてこの発明の好ましい研磨シートが提供される。

第２図は第１図に示した装置を用いて粘着性バインダー
層に着けられた研磨粒子を示す電子顕微鏡写真である。

第３図は第２図の中間製品を各粒子にバインダーのメニ
スカスを形成するために加熱してつくられた、この発明
の研磨シートの断片を示す電子顕微鏡写真である。

第４図はデイジ−パッドをつくるために切抜かれたこの
発明の研磨シートの断片を模式的に示したものである。

第１図において回転可能な加熱された金属シリンダー１
０にプリント板１２が取り付けられ、その外面はほぼ円
形のゴムのドツトを残すように現像されている。そのシ
リンダーは一つひとつがコムのドツトの直径よりやや大
きい均一な直径の球形研磨粒１４の流動床の中で回転さ
れる。余分な粒を１５で吸引除去した後、実質的に１個
の研磨粒１４がゴムのドツト１３にそれぞれ接着される
。

感熱性のバインダーＦ３１８を伴った可撓性の支持体１
６がシリンダー１０の表面と同じ速度で移動し乍ら加熱
されたニップロール２０によってプリント板１２に押し
つけられる。シリンダー１０とゴム被覆のニップロール
２０からの熱によってバインダー１Ｉ１１８は粘着性を
帯び、粒子１４はバインダーＷＪ１８の表面に第２図に
示すようにＸ及びＹ方向に延びる列に、間隔をおいて接
着される。

第２図の左上隅ではいくつかの研磨粒が脱落し、バイン
ダー層に小さいクレータ−を残している。

第２図の下部では研磨粒は上部の２倍の密度で着けられ
ている。はとんどの場所で只１つの研磨粒が着けられて
いるが、いくつかのドツトには２つの粒が隣り合って着
いている。

再び第１図を参照すると、粒を担持した支持体１６は赤
外線ランプ２２の列を通過し、そこでバインダーは加熱
されて研磨粒の表面を潤おし、こうしてバインダー層は
流動して各研磨粒の基部の周囲に第３図の電子顕微鏡写
真に示すようにメニスカス２３を形成する。これは研磨
粒を可撓性支持体１６に強く結合させることになる。

この発明によって得られた研磨シート２４には第４図に
示すデイジ−パッドにダイカットされるように研磨粒が
配列されたちのを含む。研磨粒は同心円の列に配列され
、外周に近い花弁の部分２８における密度はデイジ−パ
ッドの中心部３０の密度の２倍になっている。デイジ−
パッド２６が切り抜かれる研磨シートにおいて、それに
沿ってシート２４がダイカットされる花弁の周りの仮想
Ｐｉ１３２の付近には研磨粒がないようにし、ダイが研
磨粒に接触しないようにしている。デイジ−パッドの間
の部分３４には研磨粒がないので粒の損失はない。

次の実施例においてはすべての分層はＩＭで与えられる
。

大１０１ユ この実施例の研磨シートをつくるのに用いられたものは
次の通りである。

１）それぞれが直径的６３μｍで、板の長径と短径両方
向に沿って平行に延びる７、９列／αの列に配置された
ほぼ円形のドツトをつくるために、中［のスクリーンに
対して露光されたネガの「東し無水板」 ２）平均径が４μｍのＡｌ２Ｏ３粒子７７部と、フェノ
ールフォルムアルデヒド樹脂ベースのマトリックス２３
部とでつくられたそれぞれが直径８０μｍの球形研磨粒
。

３）２方向性をもったポリ（エチレンテレフタレート）
ポリエステルフィルムの厚さ０．０５ｍの長尺のロール
で、エチレン／アクリル酸共重合体の０．０５部ｍのバ
インダー層をもったもの。

ドツトをもった板は第１図に示す装置の金属シリンダー
１０に取り付番プられ、球形切磨粒１４は機械的加振機
で流動化され、シリコーンドツト１３に着いた。余剰の
粒は１５で吸引除去された。

バインダー層１８はゴム被覆されたニップロールで約７
０℃に加熱されて粘着性を帯び、研磨粒はそれに移りニ
ップロールのｉＪ　Ｉ　Ｃ１＋当り７９Ｎの力が加えら
れた。赤外線ランプ２２による付加的加熱によってバイ
ンダーは多粒の基部の周りにメニスカスを形成した。

得られた研磨シートのポリエステルフィルム支持体の露
出面はダブルコートされた感圧接着テープで積層され、
この合成物は、花弁が６枚であること以外は第４図のデ
イジ−パッド２６と同形の、直径７．６１のデイジ−パ
ッドにダイカットされた。このパッドは、ＰＰＧから商
品名ＣＲ３９として市場に出されているタイプのポリカ
ーボネート製のレンズの２回目の研磨パッドとして用い
られた。［ＣｏｂｕｒｎＪ　＃　５０６シリンダ一機械
がスピンドルを高速にセットし、注水の下に８９Ｎの荷
重で用いられた。試験は、６．２５／８．２５デイＡブ
トルと２．１５デイオプトルの２つのタイプのラツビン
グ工具を用いて行なわれた。両者とも２９摂のレンズの
減量が測定された。結果は表１の通りである。

表１ 実施例２−６の研磨シートは、表工に示ずように、両方
向におｔ」る列の間隔が異ることを除くと実施例１と同
様に作成された。表Ｉには、同じ球形研磨粒でつくられ
、市販の製品に用いられ方法と同じ方法によりスラリー
で被覆された、約８７０粒／　ｃ１１２の［″対照」デ
イジ−パッドを用いた結果も示しである。この粒密度は
一般的な目的でなされた多数の実験に基づいて選ばれた
もので、実施例３及び実施例４の研磨シートの粒密度の
中間のものであった。

実施例７ ネガの「東し無水板」は、６３μｍのシリコーンゴムの
ドツトをＸ及びＹの方向に２５．６列／１の密度で延び
る列の上につくるために露光された。板は実施例１の球
形研磨粒で覆われ、余剰の粒はそのあとで板を転回し、
叩いて取り除かれた。

板の試験はシリコーンドツトに少くとも１つの粒がある
ことを示した。これらの粒に対して実施例１のポリエス
テルフィルム支持体のバインダー層が重ねられ、その合
成物は約７３℃に加熱された２日−ル積層機に挟みこま
れ、その間にニップロールの巾１ｃｍ当り７９Ｎの力が
加えられた。この合成物は多粒の基部にバインダーがメ
ニスカスを形成するために、その後１１２℃の炉中に１
０分間おかれ、この発明の研磨シートがつくられた。

叉１」１Ｌニユ」− それぞれの直径が６１μｍで、Ｘ及びＹ方向に延びる列
に等間隔に配列されたスポットのパターンを形成するた
めに、円形ドツトのリソコンタクトスクリーンが露光さ
れた。直径６υの内円の内側の単位距離当りのスポット
の列の数は、その円と直径１９．２４１の外円との間の
列の数とはちがわせた。換貫すれば、スポットの数は第
２図に示すように２つの円の境界点でその密度を異にし
た。この手法によって数秒の異った密度の組合わせが、
表■に示すように得られた。

ネガの「東し無水板」は、それぞれコンタク１〜スクリ
ーンを用いて露光され、普通の方法で現像された。現像
された板は金属シリンダーに取りつけられ、実施例１と
同じ方法で直径８３μｍの球形研磨粒を流動床から移し
とるのに用いられ、円の中心と一致した中心をもつ６花
弁のデイジ−パッドがつくられた。デイジ−パッドは実
施例１と同様に試験され、その結果は同じ対照と比較し
て表■に示す。

表■ 実施例１２ 円形ドツトのリソコンタクトスクリーンは、直径２．１
１の円から出発し、直径１５．２ｃｍの円まで拡がる、
標準方程式ｘ＝にφ及びｘ−にφ＋０．３１７ＭＲを用
いた不透明な渦巻パターンをつくるために露光された。

これは２つの円の間に同寸法の不透明と透明の渦巻きを
つくった。その後マスクとして現像されたコンタクトス
クリーンを用い、レーザーがネガの「東し無水板」をマ
スクの透明部を通して露光するために使われ、Ｘ及びｙ
方向に拡がる列上に等間隔に直径６３μ園のドツトパタ
ーンをつくった。現像された根土の渦巻パターンには、
１ｃ１１当り３９．４個のシリコーンドツトができた。

現像された板を実施例７（研磨粒が直径８３μｍである
ことを除く）と同様に用いて、この発明の研磨シートを
作成し、間隔をもった研磨粒の渦巻パターンの中心に中
心をもつ円板に切抜かれた。

実施例１３ 研磨シートは下記以外は実施例７と同様に：ｌ製された
。

ａ）研磨粒は１００メツシユ（開孔１５０μｍ）の篩目
を通り１２０メツシユ（開孔１２５μｍ）の篩目に残っ
た不規則形のＡ１２０３粒子であった。

ｂ）シリコーンドツトは２５．６列／αであった。

Ｃ）研磨シートは炉から取り出されたあとフェノールフ
ォルムアルデヒド樹脂の糊剤を用いた被覆が施され、そ
の被１ｍは炉で調質されたあとの乾燥重量で８０ｇ／Ｔ
ｒＬ２であった。

この研磨シートの支持体はダブルコートの感圧接着テー
プで積層されたあと、７．５０の円板にダイカットされ
た。各円板はその感圧接着材によッテ、次の通り調整さ
れたｒ　ＣｏｂｕｒｎＪ　ＮＱ　５０７シリンダ一機械
に接着された。即ち、スピンドルストロークは７にセッ
ト、スピンドル速度は１００％、クロスストロークは０
１荷重は１３３Ｎとした。被加工物は１０１８軟鋼の内
径４．４５ＣＩｌ。

外径５．４ｃＩｌのリングであった。このリングは、機
械が研磨面を円運動で揺動させるのに対し、その軸を研
磨面に直角にブラケットに取り付けた後、一般に言われ
る平面ラッピングが施された。試験は最終の研磨速度が
０．３ｇ／分になるまで１分間のサイクルで行なわれた
。全研磨量を最終点の仕上げ精度は表■に対照と比較し
て示す。対照は研磨粒子が、粒子とほぼ同じ質１Ｂ（［
５１ち約０．４０ｇ）を含むバインダー層を提供するた
めにスラリーによって被覆されたことを除き、同じ方法
で５１製されたものである。

表　　■ Ｒａ−平均表面粗度 Ｒｔ−山と谷の高低差の最大値

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の方法の模式図である。 第２図は、本発明による粘着性バインダー層に着けられ
た研磨粒子を示す粒子構造の電子顕微鏡写真である。 第３図は、本発明による研磨粒子の断片を丞す粒子構造
の電子顕微鏡写真である。 第４図は、本発明によるデイジ−バット型の研磨シート
の断片の模式図である。 ＦＩＣ）、４

Claims (21)

【特許請求の範囲】
1. （１）研磨粒が強く結合しかつ実質的に１つの平面上に
   予め決められた横方向の間隔をおいて置かれた、実質的
   に均一な厚さのバインダー層を伴う支持体を含み、前述
   の粒が実質的に同じ大きさでかつ３００μｍの開孔をも
   つ篩目を通過し、更に実質的にすべての粒の１部分がバ
   インダー層の表面から突出している研磨シート。
2. （２）請求項１に記載の研磨シートであつて、バインダ
   ー層が各粒においてメニスカスを形成していることを特
   徴とするもの。
3. （３）請求項２に記載の研磨シートであつて、実質的に
   すべての粒が同じ厚さでかつ実質的に同じ直径をもち、
   各粒がバインダーから実質的に同じ高さだけ突出してい
   ることを特徴とするもの。
4. （４）請求項１に記載の研磨シートであつて、単独の粒
   が等間隔の列に配列されていることを特徴とするもの。
5. （５）請求項４に記載の研磨シートであつて、その長尺
   シートがそれ自身ロールの形に巻かれ、前述の粒がその
   シートの全長に亘って多数回繰返される予め決められた
   パターンに配置されていることを特徴とするもの。
6. （６）請求項５に記載の研磨シートであつて、前述の予
   め決められたパターンが、希望する形状の物品にそのシ
   ートを切るための工具に接触する場所におけるバインダ
   ー層が、研磨粒のない面積として残されており、このよ
   うにして切断工具が研磨粒に接触しないように保護され
   ていることを特徴とするもの。
7. （７）請求項１に記載の研磨シートであつて、第１に記
   載した研磨粒とは大きさが異る実質的に等しいサイズの
   付加的研磨粒が、一つひとつ第２の予め決められたパタ
   ーンに配列され、実質的にすべての前述の付加的粒の被
   覆されてない部分がバインダー層の表面から突出してい
   ることを特徴とするもの。
8. （８）請求項１に記載の研磨シートであつて、前述の研
   磨粒が不規則な形状をもちかつ各粒の長軸が実質的に支
   持体に平行な平面に沿つていることを特徴とするもの。
9. （９）請求項１に記載の研磨シートであつて、粒及びバ
   インダー層を糊剤で被覆していることを特徴とするもの
   。
10. （１０）請求項１に記載の研磨シートであつて、実質的
    にすべての粒の１部が被覆されてないことを特徴とする
    もの。
11. （１１）研磨粒が結合されかつ実質的に１平面内に予め
    決められた横方向の間隔をおいて置かれたバインダー層
    を伴う支持体を含み、前述の粒が実質的に同じ大きさで
    、かつ３００μｍの開孔をもつ篩目を通り、実質的にす
    べての粒の１部がバインダー層の表面から突出し、更に
    糊剤で粒及びバインダー層が被覆されている研磨シート
    。
12. （１２）請求項１１に記載の研磨シートであつて、実質
    的にすべての粒が同じ厚さでかつ実質的に同じ直径をも
    ち、各粒がバインダー層から実質的に同じ高さだけ突出
    していることを特徴とするもの。
13. （１３）研磨粒が強く結合しかつ実質的に１平面内にあ
    る、実質的に均一な厚さのバインダー層を伴う支持体を
    含み、前述の粒が３００μｍの開孔をもつ篩目を通過す
    る実質的に同じ大きさのもので、その粒が一つひとつ横
    方向に等間隔に配列され、殆んどすべての位置に粒が１
    個だけある研磨シート。
14. （１４）請求項１３に記載の研磨シートであつて、粒及
    びバインダー層を糊剤で被覆していることを特徴とする
    もの。
15. （１５）次の逐次工程によつて研磨シートを製造する方
    法。 １）小さい研磨粒をキャリアー上の予め決められたパタ
    ーンにおいて横方向に配列されたドットにだけ吸いつけ
    る。 ２）前述のキャリアーと同調して粘着性バインダー層を
    伴う支持体が前進している間に吸いつけられた粒を前述
    のパターンでバインダー層に移す。 ３）バインダーを非粘着性に変える。
16. （１６）請求項１５に記載の方法であつて、工程２）に
    おいて粒がバインダー層に押しつけれらることを特徴と
    する方法。
17. （１７）請求項１６に記載の方法であつて、前述のキャ
    リアーが回転ドラムの円筒形外面を覆い、かつ工程１）
    においてドラムが前述の粒の流動床中で回転することを
    特徴とする方法。
18. （１８）請求項１５に記載の方法であつて、前述のドッ
    トがほぼ円形で、研磨粒の平均寸法の３０〜９０％の範
    囲に入る直径をそれぞれもつことを特徴とする方法。
19. （１９）請求項１５に記載の方法であつて、工程２）の
    次に、各粒にメニスカスを形成するためにバインダーを
    流動化させ、このようにして粒を支持体に強く結びつけ
    る付加工程を含むことを特徴とする方法。
20. （２０）実質的に均一な厚さの研磨粒を予め決められた
    パターンで一つひとつ着けられたバインダー層を伴う支
    持体を含む研磨シートの製造方法であつて、前述の方法
    が次の工程を含む製造方法。 １）金属箔の一面をゴムで、他面をフォトレジストで被
    覆する。 ２）フォトレジストを予め決められたパターンの光に露
    光する。 ３）前述のパターンに対応するフォトレジストの部分を
    取り除く。 ４）前述のパターンにゴムを露出するために金属箔の１
    部を取り除く。 ５）研磨粒を露出されたゴム面に吸い着ける。 ６）露出されたゴム面と同調して粘着性のバインダー層
    を移動し乍ら、吸い着けられた粒をバインダー層に前述
    のパターンで押しつける。 ７）バインダーを非粘着性に変える、このようにして研
    磨シートはつくられ、一つひとつの粒は前述のパターン
    におかれる。
21. （２１）請求項２０に記載の方法であつて、フォトレジ
    ストの残された部分をすベて取り除く追加工程を、工程
    ４）と工程５）の間におくことを特徴とする方法。