JPH0129401B2 - - Google Patents
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- JPH0129401B2 JPH0129401B2 JP58119723A JP11972383A JPH0129401B2 JP H0129401 B2 JPH0129401 B2 JP H0129401B2 JP 58119723 A JP58119723 A JP 58119723A JP 11972383 A JP11972383 A JP 11972383A JP H0129401 B2 JPH0129401 B2 JP H0129401B2
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- Japan
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- sample
- microscope
- peak value
- value
- interference fringe
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/24—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は物体の凸凹形状を干渉縞を使つて検出
する装置に関するものである。
する装置に関するものである。
従来例の構成とその問題点
従来の形状認識装置の具体構成を第１図に示
す。１は試料で表面は円筒形状をしている、２は
試料を照明する光源、３は参照光ミラー、４はビ
ームスプリツターであり、光源２から出た光はビ
ームスプリツター４により２光束に分けられ、試
料１表面で反射した光と参照光ミラー３で反射し
た光が干渉し干渉縞を発生する。５は対物レン
ズ、６は試料１を走査するガルバノミラー、７は
試料１の実像面上に設けられたスリツト、８はス
リツト７を通過する光を検出する光電子増倍管で
ある。９は特定の周波数の光のみを通すフイルタ
ーである。ガルバノミラー６に試料１を走査した
時に光電子増倍管８により検出される干渉縞の波
形は第２図に示すようになる。第２図に示す波形
の干渉縞の１次の波、２次の波……をそれぞれ認
識すれば照明の波長とから試料の表面形状を知る
ことができるが、データ数が膨大になり信号処理
が複雑なうえに、表面形状が複雑な試料の表面凹
凸形状を認識することは困難である。
す。１は試料で表面は円筒形状をしている、２は
試料を照明する光源、３は参照光ミラー、４はビ
ームスプリツターであり、光源２から出た光はビ
ームスプリツター４により２光束に分けられ、試
料１表面で反射した光と参照光ミラー３で反射し
た光が干渉し干渉縞を発生する。５は対物レン
ズ、６は試料１を走査するガルバノミラー、７は
試料１の実像面上に設けられたスリツト、８はス
リツト７を通過する光を検出する光電子増倍管で
ある。９は特定の周波数の光のみを通すフイルタ
ーである。ガルバノミラー６に試料１を走査した
時に光電子増倍管８により検出される干渉縞の波
形は第２図に示すようになる。第２図に示す波形
の干渉縞の１次の波、２次の波……をそれぞれ認
識すれば照明の波長とから試料の表面形状を知る
ことができるが、データ数が膨大になり信号処理
が複雑なうえに、表面形状が複雑な試料の表面凹
凸形状を認識することは困難である。
発明の目的
本発明は上記欠点に鑑み、簡単な信号処理で試
料の凹凸形状を検出する形状検出装置を提供する
ことを目的とする。
料の凹凸形状を検出する形状検出装置を提供する
ことを目的とする。
発明の構成
干渉縞発生手段を有する顕微鏡と、前記顕微鏡
の実像面近傍に設けた撮像装置あるいは光電変換
装置と、前記撮像装置あるいは光電変換装置より
得られる干渉縞濃淡レベルを判定する判定手段
と、試料と前記顕微鏡との相対位置を検出する検
出手段よりなり、前記試料表面の複数箇所で干渉
縞濃淡レベル値を判定し、前記判定手段の信号に
基づき各々の箇所での前記試料と前記顕微鏡との
相対位置を検出することにより簡単な信号処理で
試料の凹凸形状を検出することができる。
の実像面近傍に設けた撮像装置あるいは光電変換
装置と、前記撮像装置あるいは光電変換装置より
得られる干渉縞濃淡レベルを判定する判定手段
と、試料と前記顕微鏡との相対位置を検出する検
出手段よりなり、前記試料表面の複数箇所で干渉
縞濃淡レベル値を判定し、前記判定手段の信号に
基づき各々の箇所での前記試料と前記顕微鏡との
相対位置を検出することにより簡単な信号処理で
試料の凹凸形状を検出することができる。
実施例の説明
以下本発明の第１の実施例について図面を参照
にしながら説明する。第３図は本発明の第１の実
施例を示す正面図である。第３図において２１は
試料、２２は顕微鏡であり、顕微鏡２２は光源２
３、ビームスプリツター２４、参照光ミラー２
５、対物レンズ２６、ガルバノミラー２７、スリ
ツト２８、光電子増倍管２９で構成されている。
ビームスプリツター２２は光源２３から出た光を
２光束に分け、試料２１で反射した光と、参照光
ミラー２５で反射した光により干渉縞が発生す
る。スリツト２８は試料２１の実像面上に設けら
れ、光電子増倍管２９はスリツト２８の後方に設
けられており、スリツト２８を通過する光を電気
信号に変換する。ガルバノミラー２７は与える電
圧値によつて複数箇所で静止し、試料２１Ｘ方向
の干渉縞検出位置を決定する。３０は顕微鏡２２
を載置し、試料２１Ｙ方向に移動するテーブルで
ある。３１はモータで、出力軸には送りねじ３２
が連結され、顕微鏡２２を試料２１Ｙ方向に移動
させる。モータ３１はスライドテーブル（図示せ
ず）に載つており、送りねじ３２とともにＹ方向
に移動する。３３は顕微鏡の位置を検出する位置
検出センサーで、位置検出センサー３３の位置検
出信号により、試料２１と顕微鏡２２の相対位置
変化を知ることにより、試料２１の凹凸を知るこ
とができる。３４は制御装置であり、干渉縞検出
信号、位置検出信号が入力され、ガルバノ駆動信
号が出力されている。
にしながら説明する。第３図は本発明の第１の実
施例を示す正面図である。第３図において２１は
試料、２２は顕微鏡であり、顕微鏡２２は光源２
３、ビームスプリツター２４、参照光ミラー２
５、対物レンズ２６、ガルバノミラー２７、スリ
ツト２８、光電子増倍管２９で構成されている。
ビームスプリツター２２は光源２３から出た光を
２光束に分け、試料２１で反射した光と、参照光
ミラー２５で反射した光により干渉縞が発生す
る。スリツト２８は試料２１の実像面上に設けら
れ、光電子増倍管２９はスリツト２８の後方に設
けられており、スリツト２８を通過する光を電気
信号に変換する。ガルバノミラー２７は与える電
圧値によつて複数箇所で静止し、試料２１Ｘ方向
の干渉縞検出位置を決定する。３０は顕微鏡２２
を載置し、試料２１Ｙ方向に移動するテーブルで
ある。３１はモータで、出力軸には送りねじ３２
が連結され、顕微鏡２２を試料２１Ｙ方向に移動
させる。モータ３１はスライドテーブル（図示せ
ず）に載つており、送りねじ３２とともにＹ方向
に移動する。３３は顕微鏡の位置を検出する位置
検出センサーで、位置検出センサー３３の位置検
出信号により、試料２１と顕微鏡２２の相対位置
変化を知ることにより、試料２１の凹凸を知るこ
とができる。３４は制御装置であり、干渉縞検出
信号、位置検出信号が入力され、ガルバノ駆動信
号が出力されている。
制御装置３４の構成の一例を第４図によつて説
明する。３５は第５図に示す干渉縞１周期の濃淡
レベルのピーク値P1，P2，P3を検出するピーク
値検出回路である。ピーク値検出回路３５からは
保持回路３６と比較回路３７に濃淡レベルのピー
ク値を出力している。保持回路３６はピーク値検
出回路３５から入力される濃淡レベルのピーク値
を保持し、一周期前のピーク値を比較回路３７に
出力する。比較回路３７はピーク値検出回路３５
から入力される濃淡レベルピーク値と保持回路３
６より入力される一周期前の濃淡レベルピーク値
とを比較する。３８は比較回路３７にピーク値検
出回路３５から入力される濃淡レベルのピーク値
が保持回路３６から入力される濃淡レベルのピー
ク値より大きくなる方向にモータ３１の回転方向
を制御するモータ制御回路であり、３９はモータ
３１を駆動するモータ駆動回路である。４０はガ
ルバノミラー２７を複数箇所に静止させるガルバ
ノ駆動回路である。４１はサンプリング回路であ
り、一周期前の濃淡レベルのピーク値が最大とな
つた時に比較回路３７からサンプリング信号が入
力され、その時ガルバノ駆動回路４０からガルバ
ノ駆動信号を読みとり、位置検出センサー３３か
ら位置検出信号を読み取り、両者の値から試料２
１の凹凸形状を検出する。
明する。３５は第５図に示す干渉縞１周期の濃淡
レベルのピーク値P1，P2，P3を検出するピーク
値検出回路である。ピーク値検出回路３５からは
保持回路３６と比較回路３７に濃淡レベルのピー
ク値を出力している。保持回路３６はピーク値検
出回路３５から入力される濃淡レベルのピーク値
を保持し、一周期前のピーク値を比較回路３７に
出力する。比較回路３７はピーク値検出回路３５
から入力される濃淡レベルピーク値と保持回路３
６より入力される一周期前の濃淡レベルピーク値
とを比較する。３８は比較回路３７にピーク値検
出回路３５から入力される濃淡レベルのピーク値
が保持回路３６から入力される濃淡レベルのピー
ク値より大きくなる方向にモータ３１の回転方向
を制御するモータ制御回路であり、３９はモータ
３１を駆動するモータ駆動回路である。４０はガ
ルバノミラー２７を複数箇所に静止させるガルバ
ノ駆動回路である。４１はサンプリング回路であ
り、一周期前の濃淡レベルのピーク値が最大とな
つた時に比較回路３７からサンプリング信号が入
力され、その時ガルバノ駆動回路４０からガルバ
ノ駆動信号を読みとり、位置検出センサー３３か
ら位置検出信号を読み取り、両者の値から試料２
１の凹凸形状を検出する。
次に第３図、第４図のように構成された凸凹形
状検出装置において、第６図を参照にしながら試
料２１表面のＹ方向の位置検出原理について説明
する。
状検出装置において、第６図を参照にしながら試
料２１表面のＹ方向の位置検出原理について説明
する。
第３図に示す光源２３がハロゲン電球のような
インコヒーレント光の場合には可干渉範囲はレー
ザー光のようなコヒーレント光に比べせまく、干
渉縞の濃淡レベルは光源２３から試料２１までの
距離と、光源２３から参照光ミラー２５までの距
離が等しい時、すなわち光源を同時に出た光が干
渉する時に最大となる。よつて試料２１と顕微鏡
２２の相対距離を変化させると、第６図ａに示す
ように干渉縞は除々に鮮明になり、光源２３から
参照光ミラー２５までの距離と、光源２３から試
料２１までの距離が等しくなる位置Ｂで干渉縞は
最も鮮明となり、位置Ｂを通過すると干渉縞は
除々に不鮮明となつてゆく。この干渉縞の濃端レ
ベルの変化を、スリツト２８を通過する光量の変
化により光電子増倍管２９で検出するとその検出
信号は第６図ｂに示すような波形となる。よつて
この干渉縞の濃淡レベルが最大となる時の試料２
１と顕微鏡２２との相対距離を試料２１Ｘ方向の
複数箇所について検出すれば試料２１のＸ方向の
凸凹形状を知ることができる。
インコヒーレント光の場合には可干渉範囲はレー
ザー光のようなコヒーレント光に比べせまく、干
渉縞の濃淡レベルは光源２３から試料２１までの
距離と、光源２３から参照光ミラー２５までの距
離が等しい時、すなわち光源を同時に出た光が干
渉する時に最大となる。よつて試料２１と顕微鏡
２２の相対距離を変化させると、第６図ａに示す
ように干渉縞は除々に鮮明になり、光源２３から
参照光ミラー２５までの距離と、光源２３から試
料２１までの距離が等しくなる位置Ｂで干渉縞は
最も鮮明となり、位置Ｂを通過すると干渉縞は
除々に不鮮明となつてゆく。この干渉縞の濃端レ
ベルの変化を、スリツト２８を通過する光量の変
化により光電子増倍管２９で検出するとその検出
信号は第６図ｂに示すような波形となる。よつて
この干渉縞の濃淡レベルが最大となる時の試料２
１と顕微鏡２２との相対距離を試料２１Ｘ方向の
複数箇所について検出すれば試料２１のＸ方向の
凸凹形状を知ることができる。
次に本実施例の動作について説明する。
ガルバノミラー２７にはガルバノ駆動信号が与
えられ、所定の角度だけ振れて静止しており、モ
ータ制御回路３８はモータ駆動回路３９を介して
モータ３１を一方向に駆動する。この時試料２１
を反射する光と参照光ミラー２５を反射する光に
よつて生ずる干渉縞の濃淡レベルを光電子増倍管
２９により光電変換し、ピーク値検出回路３５で
干渉縞一周期の濃淡レベルピーク値を検出する。
ピーク値検出回路３５から濃淡レベルピーク値が
保持回路３６と比較回路３７に出力される。保持
回路３６からは比較回路３７に一周期前の濃淡レ
ベルのピーク値が出力され、比較回路３７で両者
の値を比較する。保持回路３６の濃淡レベルピー
ク値は比較回路３７での比較が終了すれば更新さ
れる。比較回路３７にピーク値検出回路３５より
入力される濃淡レベルピーク値が保持回路３６よ
り入力される干渉縞一周期前の濃淡レベルピーク
値より大きい時にはモータ制御回路３８はモータ
３１を同方向に回転させ続ける。次に保持回路３
６より入力される干渉縞一周期前のピーク値の方
が、ピーク値検出回路３５より入力される濃淡レ
ベルピーク値より大きくなつた時、すなわち保持
回路３６に干渉縞濃淡レベルピーク値の最大値が
保持されている時、比較回路３６はサンプリング
回路４１にサンプリング信号を出力する。サンプ
リング回路４１にサンプリング信号が入力される
と、ガルバノ駆動回路４０からガルバノ駆動信号
を読み取り試料２１のＸ方向の位置を検出し、さ
らに位置検出センサー３３の位置検出信号を読み
取り、試料２１表面のＹ方向の顕微鏡２２との相
対位置を検出する。以上の動作をガルバノミラー
２７へ与えるガルバノ駆動信号すなわちガルバノ
の駆動電圧を変えることにより試料２１Ｘ方向の
複数箇所で繰り返し、試料２１表面の凹凸形状を
検出する。
えられ、所定の角度だけ振れて静止しており、モ
ータ制御回路３８はモータ駆動回路３９を介して
モータ３１を一方向に駆動する。この時試料２１
を反射する光と参照光ミラー２５を反射する光に
よつて生ずる干渉縞の濃淡レベルを光電子増倍管
２９により光電変換し、ピーク値検出回路３５で
干渉縞一周期の濃淡レベルピーク値を検出する。
ピーク値検出回路３５から濃淡レベルピーク値が
保持回路３６と比較回路３７に出力される。保持
回路３６からは比較回路３７に一周期前の濃淡レ
ベルのピーク値が出力され、比較回路３７で両者
の値を比較する。保持回路３６の濃淡レベルピー
ク値は比較回路３７での比較が終了すれば更新さ
れる。比較回路３７にピーク値検出回路３５より
入力される濃淡レベルピーク値が保持回路３６よ
り入力される干渉縞一周期前の濃淡レベルピーク
値より大きい時にはモータ制御回路３８はモータ
３１を同方向に回転させ続ける。次に保持回路３
６より入力される干渉縞一周期前のピーク値の方
が、ピーク値検出回路３５より入力される濃淡レ
ベルピーク値より大きくなつた時、すなわち保持
回路３６に干渉縞濃淡レベルピーク値の最大値が
保持されている時、比較回路３６はサンプリング
回路４１にサンプリング信号を出力する。サンプ
リング回路４１にサンプリング信号が入力される
と、ガルバノ駆動回路４０からガルバノ駆動信号
を読み取り試料２１のＸ方向の位置を検出し、さ
らに位置検出センサー３３の位置検出信号を読み
取り、試料２１表面のＹ方向の顕微鏡２２との相
対位置を検出する。以上の動作をガルバノミラー
２７へ与えるガルバノ駆動信号すなわちガルバノ
の駆動電圧を変えることにより試料２１Ｘ方向の
複数箇所で繰り返し、試料２１表面の凹凸形状を
検出する。
以上のように干渉縞発生手段を有する顕微鏡
と、光電変換器と、干渉縞の濃淡レベルピーク値
検出回路と、濃淡レベルピーク値を保持し一周期
前のピーク値を出力する保持回路と、ピーク値検
出回路の出力と保持回路の出力を比較する比較回
路と、試料と顕微鏡との相互位置を検出する位置
検出手段を設け、干渉縞濃淡レベル周期毎のピー
ク値の最大値近傍での試料と顕微鏡と相対位置を
試料表面の複数箇所で検出することにより、簡単
な信号処理で試料の凹凸形状を精度良く知ること
ができる。
と、光電変換器と、干渉縞の濃淡レベルピーク値
検出回路と、濃淡レベルピーク値を保持し一周期
前のピーク値を出力する保持回路と、ピーク値検
出回路の出力と保持回路の出力を比較する比較回
路と、試料と顕微鏡との相互位置を検出する位置
検出手段を設け、干渉縞濃淡レベル周期毎のピー
ク値の最大値近傍での試料と顕微鏡と相対位置を
試料表面の複数箇所で検出することにより、簡単
な信号処理で試料の凹凸形状を精度良く知ること
ができる。
以下本発明第２の実施例について説明する。
第７図は第２の実施例における制御装置の一例
を示すブロツク図である。制御装置以外の構成は
第１の実施例第３図と同様である。第７図におい
て４２は干渉縞濃淡レベルを検出する検出回路で
あり、４３は検出回路４２の出力値とあらかじめ
定められた干渉縞濃淡レベルの所定値とを比較す
る比較回路である。４４はモータ制御回路であ
り、４５はモータ駆動回路である。４７はサンプ
リング回路であり、検出回路４２の出力値が干渉
縞濃淡レベルの所定値以上になつた時、比較回路
４３よりサンプリング信号が入力され、ガルバノ
駆動回路４６よりガルバノ駆動信号を読みとり、
位置検出センサー３３から位置検出信号を読みと
り、試料２１の形状信号を出力する。
を示すブロツク図である。制御装置以外の構成は
第１の実施例第３図と同様である。第７図におい
て４２は干渉縞濃淡レベルを検出する検出回路で
あり、４３は検出回路４２の出力値とあらかじめ
定められた干渉縞濃淡レベルの所定値とを比較す
る比較回路である。４４はモータ制御回路であ
り、４５はモータ駆動回路である。４７はサンプ
リング回路であり、検出回路４２の出力値が干渉
縞濃淡レベルの所定値以上になつた時、比較回路
４３よりサンプリング信号が入力され、ガルバノ
駆動回路４６よりガルバノ駆動信号を読みとり、
位置検出センサー３３から位置検出信号を読みと
り、試料２１の形状信号を出力する。
以上のように構成された形状検出装置について
以下その動作を説明する。
以下その動作を説明する。
ガルバノミラー２７にはガルバノ駆動信号が与
えられ、所定の角度だけ振れて静止し、モータ制
御回路４４はモータ３１を一方向に回転させ、顕
微鏡２２を一方向に移動する。この時干渉縞濃淡
レベルを光電子増倍管２９により光電変換し、検
出回路４２により検出する。比較回路４３には検
出回路４２より干渉縞濃淡レベルの値が入力さ
れ、あらかじめ定められた値を超えれば、比較回
路４３よりサンプリング信号がサンプリング回路
４７に出力される。サンプリング回路４７にサン
プリング信号が入力されると、ガルバノ駆動回路
４６からガルバノ駆動信号を読み取り試料２１の
Ｘ方向の位置を検出し、位置検出センサー３３よ
り位置検出信号を読み取り試料２１のＹ方向の顕
微鏡との相対位置を検出する。
えられ、所定の角度だけ振れて静止し、モータ制
御回路４４はモータ３１を一方向に回転させ、顕
微鏡２２を一方向に移動する。この時干渉縞濃淡
レベルを光電子増倍管２９により光電変換し、検
出回路４２により検出する。比較回路４３には検
出回路４２より干渉縞濃淡レベルの値が入力さ
れ、あらかじめ定められた値を超えれば、比較回
路４３よりサンプリング信号がサンプリング回路
４７に出力される。サンプリング回路４７にサン
プリング信号が入力されると、ガルバノ駆動回路
４６からガルバノ駆動信号を読み取り試料２１の
Ｘ方向の位置を検出し、位置検出センサー３３よ
り位置検出信号を読み取り試料２１のＹ方向の顕
微鏡との相対位置を検出する。
以上の動作をガルバノミラー２７に与えるガル
バノ駆動信号を変えることにより試料２１Ｘ方向
の複数箇所で繰り返し、試料２１表面の凹凸形状
を検出する。
バノ駆動信号を変えることにより試料２１Ｘ方向
の複数箇所で繰り返し、試料２１表面の凹凸形状
を検出する。
以上のように干渉縞の濃淡レベルを検出する検
出回路と検出回路で検出した干渉縞濃淡レベルを
所定の値と比較する比較回路を設け、干渉縞濃淡
レベルが所定の値を超えた時の試料と顕微鏡の相
対位置を試料表面の複数箇所で検出することによ
り、簡単な信号処理でしかも高速に試料の凹凸形
状を知ることができる。
出回路と検出回路で検出した干渉縞濃淡レベルを
所定の値と比較する比較回路を設け、干渉縞濃淡
レベルが所定の値を超えた時の試料と顕微鏡の相
対位置を試料表面の複数箇所で検出することによ
り、簡単な信号処理でしかも高速に試料の凹凸形
状を知ることができる。
なお第１の実施例、第２の実施例では光電子増
倍管を干渉縞の検出手段として使用しているが、
ITVカメラを使用しても、あるいはダイオード
アレイの光電変換素子を使用しても本発明に含ま
れるものである。
倍管を干渉縞の検出手段として使用しているが、
ITVカメラを使用しても、あるいはダイオード
アレイの光電変換素子を使用しても本発明に含ま
れるものである。
また第１、第２の実施例において、ガルバノミ
ラーによつて試料を走査しているが、試料を移動
させても、あるいはスリツトを移動させても効果
は同じである。
ラーによつて試料を走査しているが、試料を移動
させても、あるいはスリツトを移動させても効果
は同じである。
発明の効果
干渉縞発生手段を有する顕微鏡と、前記顕微鏡
の実像面近傍に設けた撮像装置あるいは光電変換
装置と、前記撮像装置あるいは光電変換装置より
得られる干渉縞濃淡レベル値を判定する判定手段
と、試料と前記顕微鏡との相対位置を検出する位
置検出手段よりなり、前記試料表面の複数箇所で
干渉縞濃淡レベル値を判定し、前記判定手段の信
号に基づき前記試料表面と前記顕微鏡との相対位
置を検出して試料の凹凸形状を検出することによ
り簡単な信号処理で、精度よく試料の凹凸形状を
知ることができる。
の実像面近傍に設けた撮像装置あるいは光電変換
装置と、前記撮像装置あるいは光電変換装置より
得られる干渉縞濃淡レベル値を判定する判定手段
と、試料と前記顕微鏡との相対位置を検出する位
置検出手段よりなり、前記試料表面の複数箇所で
干渉縞濃淡レベル値を判定し、前記判定手段の信
号に基づき前記試料表面と前記顕微鏡との相対位
置を検出して試料の凹凸形状を検出することによ
り簡単な信号処理で、精度よく試料の凹凸形状を
知ることができる。
第１図は従来例の構成を示す説明図、第２図は
干渉縞の波形を示す説明図、第３図は本発明の形
状検出装置の実施例を示す説明図、第４図は本発
明の第１の実施例における制御装置を示すブロツ
ク図、第５図は干渉縞の濃淡レベルを示す説明
図、第６図ａ，ｂは干渉縞の濃淡レベルの変化を
示す説明図、第７図は本発明の第２の実施例の制
御装置を示すブロツク図である。 ２１……試料、２２……顕微鏡、２３……光
源、２４……ビームスプリツタ、２５……参照光
ミラー、２６……対物レンズ、２７……ガルバノ
ミラー、２８……スリツト、２９……光電子増倍
管。
干渉縞の波形を示す説明図、第３図は本発明の形
状検出装置の実施例を示す説明図、第４図は本発
明の第１の実施例における制御装置を示すブロツ
ク図、第５図は干渉縞の濃淡レベルを示す説明
図、第６図ａ，ｂは干渉縞の濃淡レベルの変化を
示す説明図、第７図は本発明の第２の実施例の制
御装置を示すブロツク図である。 ２１……試料、２２……顕微鏡、２３……光
源、２４……ビームスプリツタ、２５……参照光
ミラー、２６……対物レンズ、２７……ガルバノ
ミラー、２８……スリツト、２９……光電子増倍
管。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 干渉縞発生手段を有する顕微鏡と、前記顕微
鏡の実像面近傍に設けた撮像装置あるいは光電変
換装置と、前記撮像装置あるいは光電変換装置よ
り得られる干渉縞濃淡レベル値を判定する判定手
段と、試料と前記顕微鏡との相対位置を検出する
位置検出手段よりなり、前記試料表面の複数箇所
で、干渉縞濃淡レベル値を判定し、前記判定手段
の信号に基づき前記試料と前記顕微鏡との相対位
置を検出する形状検出装置。 ２ 前記判定手段が、干渉縞濃淡レベル値の周期
毎のピーク値を検出し、前記濃淡レベル値の周期
毎のピーク値が最大値となる周期近傍での前記試
料と前記顕微鏡との相対位置を検出する特許請求
の範囲第１項記載の形状検出装置。 ３ 前記判定手段が、前記干渉縞濃淡レベル値の
周期毎のピーク値を検出するピーク値検出回路と
前記ピーク値検出回路によつて検出されたピーク
値を保持し、一周期前のピーク値を出力する保持
回路と、前記ピーク値検出回路より出力される濃
淡レベルピーク値と前記保持回路より出力される
一周期前のピークとを比較する比較回路よりな
り、前記ピーク値検出回路から出力されるピーク
値が前記保持回路から出力される一周期前のピー
ク値より小さくなつた時の前記試料と前記顕微鏡
との相対位置を検出する特許請求の範囲第１項記
載の形状検出装置。 ４ 前記判定手段が、前記干渉縞濃淡レベル値が
所定のレベル値以上になつた時の前記試料と前記
顕微鏡との相対位置を検出する特許請求の範囲第
１項記載の形状検出装置。 ５ 前記判定手段が前記干渉縞濃淡レベル値を検
出する検出回路と、前記検出回路の出力値と所定
の値とを比較する比較回路よりなり、前記干渉縞
濃淡レベル値が所定の値以上になつたことを示す
前記比較回路の信号により前記試料と前記顕微鏡
との相対位置を検出する特許請求の範囲第１項記
載の形状検出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58119723A JPS6011106A (ja) | 1983-06-30 | 1983-06-30 | 形状検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58119723A JPS6011106A (ja) | 1983-06-30 | 1983-06-30 | 形状検出装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6011106A JPS6011106A (ja) | 1985-01-21 |
| JPH0129401B2 true JPH0129401B2 (ja) | 1989-06-09 |
Family
ID=14768523
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58119723A Granted JPS6011106A (ja) | 1983-06-30 | 1983-06-30 | 形状検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6011106A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4485238A (en) * | 1981-12-16 | 1984-11-27 | The Dow Chemical Company | Preparation of ((6-substituted phenoxy-2-pyridinyl)-methyl)-3-(2,2-bis(trifluoromethyl)-1-ethenyl)-2,2-dimethylcyclopropane carboxylates |
| US4681451A (en) * | 1986-02-28 | 1987-07-21 | Polaroid Corporation | Optical proximity imaging method and apparatus |
-
1983
- 1983-06-30 JP JP58119723A patent/JPS6011106A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6011106A (ja) | 1985-01-21 |
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