JPH01294878A - カラーブラウン管用シャドウマスクの製造方法 - Google Patents
カラーブラウン管用シャドウマスクの製造方法Info
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- JPH01294878A JPH01294878A JP12187688A JP12187688A JPH01294878A JP H01294878 A JPH01294878 A JP H01294878A JP 12187688 A JP12187688 A JP 12187688A JP 12187688 A JP12187688 A JP 12187688A JP H01294878 A JPH01294878 A JP H01294878A
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- colored
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
この発明は、カラーブラウン管用シャドウマスクの製造
方法に関する。
方法に関する。
(従来の技術)
シャドウマスク型カラーブラウン管は、第2図に示すよ
うに、パネル(1)およびこのパネル(1)に一体に接
合された漏斗状のファンネル(2)からなる外囲器(3
)を有し、そのパネル(1)内面に形成された青、緑、
赤に発光する3色蛍光体層からなる蛍光面(4)に対向
して、その内側にシャドウマスク(5)が装着されてい
る。また、ファンネル(2)のネック(6)内に3電子
ビームを放出する電子銃(7)が配設されている。そし
て、この電子銃(7)から放出される3電子ビームを上
記シャドウマスク(5)により制御して各対応する蛍光
体層に射突させることにより、蛍光面(4)上にカラー
画像を表示する構造になっている。
うに、パネル(1)およびこのパネル(1)に一体に接
合された漏斗状のファンネル(2)からなる外囲器(3
)を有し、そのパネル(1)内面に形成された青、緑、
赤に発光する3色蛍光体層からなる蛍光面(4)に対向
して、その内側にシャドウマスク(5)が装着されてい
る。また、ファンネル(2)のネック(6)内に3電子
ビームを放出する電子銃(7)が配設されている。そし
て、この電子銃(7)から放出される3電子ビームを上
記シャドウマスク(5)により制御して各対応する蛍光
体層に射突させることにより、蛍光面(4)上にカラー
画像を表示する構造になっている。
かかるシャドウマスク(5)は、上記蛍光面(4)と対
向するマスク本体(9)に、円形状、スロット状など所
定形状の多数の電子ビーム通過孔が所定の配列で形成さ
れており、第3図に示すように、その電子ビーム通過孔
(10)は、孔内壁に衝突して蛍光面方向に反射する電
子ビームを少なくするために、蛍光面側の開口(11)
が電子銃側の開口(12)より大きく、かつ電子銃側の
開口(12)に近い位置を最小径部(13)とする鼓形
に形成されている(直径d1 >d2 >d3 >。
向するマスク本体(9)に、円形状、スロット状など所
定形状の多数の電子ビーム通過孔が所定の配列で形成さ
れており、第3図に示すように、その電子ビーム通過孔
(10)は、孔内壁に衝突して蛍光面方向に反射する電
子ビームを少なくするために、蛍光面側の開口(11)
が電子銃側の開口(12)より大きく、かつ電子銃側の
開口(12)に近い位置を最小径部(13)とする鼓形
に形成されている(直径d1 >d2 >d3 >。
従来よりこのシャドウマスク(5)は、フtト・エツチ
ング法により製造されている。すなわち、第4図(A)
図に示すように、低炭素鋼などからなる板厚0.15a
程度の板状のシャドウマスク素材(15)の両面に、た
とえば牛乳力ぜイン酸アルカリおよび重クロム酸塩など
の増感剤を主成分とする感光液を塗イ■し乾燥して感光
膜(16)を形成する。
ング法により製造されている。すなわち、第4図(A)
図に示すように、低炭素鋼などからなる板厚0.15a
程度の板状のシャドウマスク素材(15)の両面に、た
とえば牛乳力ぜイン酸アルカリおよび重クロム酸塩など
の増感剤を主成分とする感光液を塗イ■し乾燥して感光
膜(16)を形成する。
そして(B)図に示すように、その両面の感光膜(16
)に、シャドウマスクの両面の電子ビーム通過孔の開口
に対応して大小大きさの異なるパターンが形成された一
対のネガ板(17aL (17b)を密着して露光し、
上記両面の感光膜(16)にネガ板(17a)。
)に、シャドウマスクの両面の電子ビーム通過孔の開口
に対応して大小大きさの異なるパターンが形成された一
対のネガ板(17aL (17b)を密着して露光し、
上記両面の感光膜(16)にネガ板(17a)。
(17b)のパターンを焼付ける。ついで、その両面の
感光膜(16)を現像して未感光部を除去し、(C)図
に示ずように、各ネガ板(17aL (17b)のパタ
ーンに対応するパターンをもつレジス[・膜(18a)
。
感光膜(16)を現像して未感光部を除去し、(C)図
に示ずように、各ネガ板(17aL (17b)のパタ
ーンに対応するパターンをもつレジス[・膜(18a)
。
(18b)を形成する。ざらに必要に応じて、そのレジ
スト膜(18a)、 (18b)をバーニングして耐蝕
性を増強し、その後、このレジスト膜(t8a)、 (
18b)の形成されたシャドウマスク素材(15)を両
面からエツチングして、(D)図に示すように、両面間
を貫通する鼓形の電子ビーム通過孔(10)を形成する
。
スト膜(18a)、 (18b)をバーニングして耐蝕
性を増強し、その後、このレジスト膜(t8a)、 (
18b)の形成されたシャドウマスク素材(15)を両
面からエツチングして、(D)図に示すように、両面間
を貫通する鼓形の電子ビーム通過孔(10)を形成する
。
その後、 ([)図に示すように、両面のレジスト膜(
18a)、 (18b)を剥離して平板状のシャドウマ
スク(5a)としている。
18a)、 (18b)を剥離して平板状のシャドウマ
スク(5a)としている。
(発明が解決しようとする課題)
上記のように、従来よりカラーブラウン管用シャドウマ
スクは、フォト・エツチング法により、シャドウマスク
素材の両面に形成された感光膜に一対のネガ板を密着し
て露光する方法により製造されているが、このような方
法により製造すると、ネガ板にごみが付着したり、また
ネガ板を繰返し使用する間にシャドウマスク素材との接
触により傷付き、それらが露光時に未感光部分を形成し
て、それが電子ビーム通過孔形成部分に重なり合って花
形状を変化さゼ、正常な電子ビーム通過孔をもつシャド
ウマスクが冑られなくなる。また、感光液の塗布むら(
膜厚のむら)や乾燥むら、おるいはネガ板の汚れや現像
むらにより、電子ビーム通過孔の大きさが微妙に変化し
て透過率が変化し、シャドウマスクのむら不良が発生す
る。しかも、従来のシャドウマスクの製造方法では、感
光膜やレジスト膜が透明であるため、エツチング前にそ
の不良の発生原因を発見することができず、エツチング
後の検査により、不良を除外する方法で製造されており
、シャドウマスクの材料効率をいちじるしく悪くしてい
る。
スクは、フォト・エツチング法により、シャドウマスク
素材の両面に形成された感光膜に一対のネガ板を密着し
て露光する方法により製造されているが、このような方
法により製造すると、ネガ板にごみが付着したり、また
ネガ板を繰返し使用する間にシャドウマスク素材との接
触により傷付き、それらが露光時に未感光部分を形成し
て、それが電子ビーム通過孔形成部分に重なり合って花
形状を変化さゼ、正常な電子ビーム通過孔をもつシャド
ウマスクが冑られなくなる。また、感光液の塗布むら(
膜厚のむら)や乾燥むら、おるいはネガ板の汚れや現像
むらにより、電子ビーム通過孔の大きさが微妙に変化し
て透過率が変化し、シャドウマスクのむら不良が発生す
る。しかも、従来のシャドウマスクの製造方法では、感
光膜やレジスト膜が透明であるため、エツチング前にそ
の不良の発生原因を発見することができず、エツチング
後の検査により、不良を除外する方法で製造されており
、シャドウマスクの材料効率をいちじるしく悪くしてい
る。
この発明は、上記問題点を解決するためになされたもの
であり、ネガ板に付着したごみ、ネガ板の11傷、汚れ
などのネガ板の欠点、感光液の塗布むら、乾燥むら、現
像むらなどの不良発生原因をエツチング前に容易に発見
できるようにして、シャドウマスクの材料効率を良好に
させることを目的とする。
であり、ネガ板に付着したごみ、ネガ板の11傷、汚れ
などのネガ板の欠点、感光液の塗布むら、乾燥むら、現
像むらなどの不良発生原因をエツチング前に容易に発見
できるようにして、シャドウマスクの材料効率を良好に
させることを目的とする。
F発明の構成]
(課題を解決プるための手段)
板状のシャドウマスク素材の両面に形成された感光膜に
、シャドウマスクの電子ビーム通過孔に対応するパター
ンが形成されたネガ板を密行して露光し、この露光され
た両面の感光膜を現像して上記ネガ板のパターンに対応
するパターンをもつレジスト膜を形成し、このレジスト
膜の形成されたシャドウマスク素材をエツチングして電
子ビーム通過孔を形成するに際し、上記現像後のレジス
ト膜がまだ膨潤しているとぎに、このレジス1〜膜を4
色()て、エツチング前のレジスト膜を検査可能にした
。
、シャドウマスクの電子ビーム通過孔に対応するパター
ンが形成されたネガ板を密行して露光し、この露光され
た両面の感光膜を現像して上記ネガ板のパターンに対応
するパターンをもつレジスト膜を形成し、このレジスト
膜の形成されたシャドウマスク素材をエツチングして電
子ビーム通過孔を形成するに際し、上記現像後のレジス
ト膜がまだ膨潤しているとぎに、このレジス1〜膜を4
色()て、エツチング前のレジスト膜を検査可能にした
。
(作 用)
上記のように、現像後、レジスト膜が膨潤しているとき
に、そのレジスト膜を着色すると、所要の濃度にレジス
ト膜を着色することができ、他の製造工程に支障を及ぼ
すことなく、ネガ板の欠点や感光膜のむらなどの不良発
生原因をエツチング前に容易に発見することができる。
に、そのレジスト膜を着色すると、所要の濃度にレジス
ト膜を着色することができ、他の製造工程に支障を及ぼ
すことなく、ネガ板の欠点や感光膜のむらなどの不良発
生原因をエツチング前に容易に発見することができる。
(実/#i例)
以下、図面を参照してこの発明を実施例に基づいて説明
する。
する。
第1図(A)図に示すように、板厚0.15a程度のた
とえば低炭素鋼からなる板状のシャドウマスク素材(1
5)の両面に感光液を塗布し乾燥して感光膜(16)を
形成する。その感光液としては、たとえば牛乳カゼイン
酸アルカリおよび重クロム酸塩を主成分とするものが使
用される。つぎに(B)図に示すように、その両面の感
光膜(16)にシャドウマスク両面の電子ビーム通過孔
の開口に対応して大小大きさの異なるパターンの形成さ
れた一対のネガ板(17a)、 (17b)を密着して
露光し、両面の感光膜(16)にネガ板(17a)、
(17b)のパターンを焼付ける。
とえば低炭素鋼からなる板状のシャドウマスク素材(1
5)の両面に感光液を塗布し乾燥して感光膜(16)を
形成する。その感光液としては、たとえば牛乳カゼイン
酸アルカリおよび重クロム酸塩を主成分とするものが使
用される。つぎに(B)図に示すように、その両面の感
光膜(16)にシャドウマスク両面の電子ビーム通過孔
の開口に対応して大小大きさの異なるパターンの形成さ
れた一対のネガ板(17a)、 (17b)を密着して
露光し、両面の感光膜(16)にネガ板(17a)、
(17b)のパターンを焼付ける。
ついで、その両面の感光膜(16)を現像して未感光部
を除去()、(C)図に示すように、各ネガ板(17a
)、 (17b)のパターンに対応するパターンをもつ
レジスト膜(18a)、 (18b)を形成する。
を除去()、(C)図に示すように、各ネガ板(17a
)、 (17b)のパターンに対応するパターンをもつ
レジスト膜(18a)、 (18b)を形成する。
そして、この例のシャドウマスクのeJNh法では、上
記現像後のレジスト膜(18a)、 (18b)がまだ
膨潤しているときに、着色液中に浸漬おるいはスプレィ
するなどの任意手段により、(D)図に示すように着色
し、ついで水洗し乾燥して着色レジスト膜(20a)、
(20b)とする。そして、この着色レジスト膜(2
0a)、 (20b)の欠点を検査する。上記着色液と
しては、蛋白質を着色する水溶性のものであればよく、
たとえばローダミンBの0.05重量%水溶液(赤色に
着色)が使用される。
記現像後のレジスト膜(18a)、 (18b)がまだ
膨潤しているときに、着色液中に浸漬おるいはスプレィ
するなどの任意手段により、(D)図に示すように着色
し、ついで水洗し乾燥して着色レジスト膜(20a)、
(20b)とする。そして、この着色レジスト膜(2
0a)、 (20b)の欠点を検査する。上記着色液と
しては、蛋白質を着色する水溶性のものであればよく、
たとえばローダミンBの0.05重量%水溶液(赤色に
着色)が使用される。
しかるのちに上記レジスト膜(20a)、 (20b)
の形成されたシャドウマスク素材(15)を両面からエ
ツチングして、([)図に示すように、両面間を貫通す
る電子ビーム通過孔(10)を形成する。さらに(F)
図に示すように、両面の着色レジスト膜(20a)、
(20b)を剥離して平板状のシャドウマスク(5a)
とする。
の形成されたシャドウマスク素材(15)を両面からエ
ツチングして、([)図に示すように、両面間を貫通す
る電子ビーム通過孔(10)を形成する。さらに(F)
図に示すように、両面の着色レジスト膜(20a)、
(20b)を剥離して平板状のシャドウマスク(5a)
とする。
ところで、上記のようにエツチング前に現像されたレジ
スト膜(18a)、 (18b)を着色すると、従来エ
ツチング後でないと発見できなかったネガ板(17a)
、 (17b)の欠点や感光膜(16)のむらなどの不
良発生原因をエツチング前に容易に発見することができ
、従来エツチングで発生していた不良を未然に防止して
、エツチング装置の稼働率を向上させ、かつ欠点などの
発見されたシャドウマスク素材(15)をエツチングす
ることなく回収して再使用することにより、シャドウマ
スクの材料歩留を大幅に向上させることができる。しか
も、このシャドウマスクの製造方法では、現像後の膨潤
しているレジスト膜(18a)、 (18b)を着色す
るので、その着色が容易であり、他の製造工程に支障を
及ぼすことなく、レジスト膜(18a)、 (18b)
を所要の濃度に着色して、容易に欠点を発見しやすい着
色レジスト膜(20a)、 (20b)とすることがで
きる。
スト膜(18a)、 (18b)を着色すると、従来エ
ツチング後でないと発見できなかったネガ板(17a)
、 (17b)の欠点や感光膜(16)のむらなどの不
良発生原因をエツチング前に容易に発見することができ
、従来エツチングで発生していた不良を未然に防止して
、エツチング装置の稼働率を向上させ、かつ欠点などの
発見されたシャドウマスク素材(15)をエツチングす
ることなく回収して再使用することにより、シャドウマ
スクの材料歩留を大幅に向上させることができる。しか
も、このシャドウマスクの製造方法では、現像後の膨潤
しているレジスト膜(18a)、 (18b)を着色す
るので、その着色が容易であり、他の製造工程に支障を
及ぼすことなく、レジスト膜(18a)、 (18b)
を所要の濃度に着色して、容易に欠点を発見しやすい着
色レジスト膜(20a)、 (20b)とすることがで
きる。
すなわち、着色レジスト膜の形成方法としては、あらか
じめ着色した感光液を塗布して感光膜を形成する方法が
あるが、このような方法は、露光時の光透過率が低下し
、露光に時間がかかる。その露光時間を短縮するために
増感剤の添加量をふやすと、暗反応が進行してかぶり現
象がおこり、シャドウマスクの品質が低下する。また、
現像により形成されたレジスト膜(t8a)、 (18
b)を−旦乾燥したのちに着色する方法も考えられるが
、このような方法では、レジスト膜中に着色液が浸透し
にくく、欠点の発見に必要な所要の′a度に着色するこ
とが困難である。しかし、この例のようにレジスト膜(
18a)、 (18b)が膨潤しているときに着色する
と、容易に所要の濃度に着色することができる。
じめ着色した感光液を塗布して感光膜を形成する方法が
あるが、このような方法は、露光時の光透過率が低下し
、露光に時間がかかる。その露光時間を短縮するために
増感剤の添加量をふやすと、暗反応が進行してかぶり現
象がおこり、シャドウマスクの品質が低下する。また、
現像により形成されたレジスト膜(t8a)、 (18
b)を−旦乾燥したのちに着色する方法も考えられるが
、このような方法では、レジスト膜中に着色液が浸透し
にくく、欠点の発見に必要な所要の′a度に着色するこ
とが困難である。しかし、この例のようにレジスト膜(
18a)、 (18b)が膨潤しているときに着色する
と、容易に所要の濃度に着色することができる。
[発明の効果]
シャドウマスク素材の両面に形成された感光膜にネガ板
を密着して露光し、その露光された両面の感光膜を現像
して、ネガ板のパターンに対応するパターンをもつレジ
スト膜を形成し、そのレジスト膜がまだ膨潤していると
きに着色し、その後、その着色レジスト膜の形成された
シャドウマスク素材をエツチングすると、他の製造工程
に支障を及ぼすことなく、容易にレジスト膜を欠点の発
見に必要な所要の′a度に着色することができ、従来、
ネガ板の欠点や感光膜のむらなどにより発生していた不
良の発生原因をエツチング前に容易に発見することがで
きる。したがって、従来エツチングで発生した不良を未
然に防止して、エツチング装置の稼動率を向上させ、か
つ欠点などの発見されたシャドウマスク素材を回収して
再使用することによ、す、シャドウマスクの材料効率を
大幅に向上させることができる。
を密着して露光し、その露光された両面の感光膜を現像
して、ネガ板のパターンに対応するパターンをもつレジ
スト膜を形成し、そのレジスト膜がまだ膨潤していると
きに着色し、その後、その着色レジスト膜の形成された
シャドウマスク素材をエツチングすると、他の製造工程
に支障を及ぼすことなく、容易にレジスト膜を欠点の発
見に必要な所要の′a度に着色することができ、従来、
ネガ板の欠点や感光膜のむらなどにより発生していた不
良の発生原因をエツチング前に容易に発見することがで
きる。したがって、従来エツチングで発生した不良を未
然に防止して、エツチング装置の稼動率を向上させ、か
つ欠点などの発見されたシャドウマスク素材を回収して
再使用することによ、す、シャドウマスクの材料効率を
大幅に向上させることができる。
第1図(八)乃至げ)図はそれぞれこの発明の一実施例
でおるカラーブラウン管用シャドウマスクの製造工程の
説明図、第2図はシャドウマスク型カラーブラウン管の
構成図、第3図はそのシャドウマスクの電子ビーム通過
孔の形状を示す断面図、第4図(A)乃至(E)図はそ
れぞれ従来のシャドウマスクの製造工程の説明図である
。 10・・・電子ビーム通過孔 15・・・シャドウマスク素材 16・・・感光膜 17a、 17b・・・一対のネガ仮 18a、18b・・・レジスト膜 20a、20b・・・着色レジスト膜 代理人 弁理士 大 胡 典 夫 ofj /Q 20α 20呑 ♂α 第 1 図
でおるカラーブラウン管用シャドウマスクの製造工程の
説明図、第2図はシャドウマスク型カラーブラウン管の
構成図、第3図はそのシャドウマスクの電子ビーム通過
孔の形状を示す断面図、第4図(A)乃至(E)図はそ
れぞれ従来のシャドウマスクの製造工程の説明図である
。 10・・・電子ビーム通過孔 15・・・シャドウマスク素材 16・・・感光膜 17a、 17b・・・一対のネガ仮 18a、18b・・・レジスト膜 20a、20b・・・着色レジスト膜 代理人 弁理士 大 胡 典 夫 ofj /Q 20α 20呑 ♂α 第 1 図
Claims (1)
- 板状のシャドウマスク素材の両面に形成された感光膜
にシャドウマスクの電子ビーム通過孔に対応するパター
ンが形成されたネガ板を密着して露光し、上記露光され
た両面の感光膜を現像して上記ネガ板のパターンに対応
するパターンをもつレジスト膜を形成し、このレジスト
膜の形成されたシャドウマスク素材をエッチングして上
記電子ビーム通過孔を形成するに際し、上記現像後上記
レジスト膜がまだ膨潤しているときにこのレジスト膜を
着色して上記エッチング前に検査可能にしたことを特徴
とするカラーブラウン管用シャドウマスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12187688A JPH01294878A (ja) | 1988-05-20 | 1988-05-20 | カラーブラウン管用シャドウマスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12187688A JPH01294878A (ja) | 1988-05-20 | 1988-05-20 | カラーブラウン管用シャドウマスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01294878A true JPH01294878A (ja) | 1989-11-28 |
Family
ID=14822111
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12187688A Pending JPH01294878A (ja) | 1988-05-20 | 1988-05-20 | カラーブラウン管用シャドウマスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01294878A (ja) |
-
1988
- 1988-05-20 JP JP12187688A patent/JPH01294878A/ja active Pending
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