JPH0129515Y2 - - Google Patents
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- JPH0129515Y2 JPH0129515Y2 JP3393985U JP3393985U JPH0129515Y2 JP H0129515 Y2 JPH0129515 Y2 JP H0129515Y2 JP 3393985 U JP3393985 U JP 3393985U JP 3393985 U JP3393985 U JP 3393985U JP H0129515 Y2 JPH0129515 Y2 JP H0129515Y2
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- JP
- Japan
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- gas
- pressure
- stop valve
- collecting device
- pressurizing
- Prior art date
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- Expired
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- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 4
- 230000002706 hydrostatic effect Effects 0.000 claims 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 69
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000011224 oxide ceramic Substances 0.000 description 4
- 229910052574 oxide ceramic Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B30—PRESSES
- B30B—PRESSES IN GENERAL
- B30B11/00—Presses specially adapted for forming shaped articles from material in particulate or plastic state, e.g. briquetting presses, tabletting presses
- B30B11/001—Presses specially adapted for forming shaped articles from material in particulate or plastic state, e.g. briquetting presses, tabletting presses using a flexible element, e.g. diaphragm, urged by fluid pressure; Isostatic presses
- B30B11/002—Isostatic press chambers; Press stands therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Fluid Mechanics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本考案は、高温静水圧加圧装置に係り、より具
体的には高圧容器内のガス圧媒による雰囲気が調
整可能な高温静水圧加圧装置に関する。
体的には高圧容器内のガス圧媒による雰囲気が調
整可能な高温静水圧加圧装置に関する。
（従来の技術）
1000〜2000Kgｆ／cm2にも達するガス圧力下で、
被処理体を数百〜2000℃もの高温にして圧縮処理
する技術は、熱間静水圧加圧法（Hot Isostatic
Pressing、以下HIPと略す）と呼ばれ、ガス圧を
もちいるために被処理体が大形あるいは異形であ
るとを問わず、内部まで均一に圧縮され、高温で
あることとあいまつて、真密度化にきわめて有効
なものとして、1960年代に工業化されている。
被処理体を数百〜2000℃もの高温にして圧縮処理
する技術は、熱間静水圧加圧法（Hot Isostatic
Pressing、以下HIPと略す）と呼ばれ、ガス圧を
もちいるために被処理体が大形あるいは異形であ
るとを問わず、内部まで均一に圧縮され、高温で
あることとあいまつて、真密度化にきわめて有効
なものとして、1960年代に工業化されている。
本件出願人も、当該技術については、特公昭55
−30199号公報、特公昭55−50276号公報等で提案
し、又、実操業に供して当業界の脚光をあびてい
る。
−30199号公報、特公昭55−50276号公報等で提案
し、又、実操業に供して当業界の脚光をあびてい
る。
（考案が解決しようとする問題点）
従来のHIP装置は、高圧ガス圧媒を高圧容器に
閉じ込めてHIP処理しており、HIP処理プロセス
の過程で雰囲気ガスの調整を行なうことが不可能
であつた。
閉じ込めてHIP処理しており、HIP処理プロセス
の過程で雰囲気ガスの調整を行なうことが不可能
であつた。
従つて、最近、O2濃度に敏感な酸化物セラミ
ツクスのHIP処理のニーズが高まつており、この
処理の際に、O2濃度をコントロールすると極め
て好ましい結果が得られることが明らかになつて
きたことに対応することができなかつた。
ツクスのHIP処理のニーズが高まつており、この
処理の際に、O2濃度をコントロールすると極め
て好ましい結果が得られることが明らかになつて
きたことに対応することができなかつた。
そこで、本考案は、これらのニーズ、即ち、ガ
ス圧媒の多様化及びそのコントロールは今後の
HIP処理の大きな流れのひとつになることに、対
応できるようにした高温静水圧加圧装置を提供す
るものである。
ス圧媒の多様化及びそのコントロールは今後の
HIP処理の大きな流れのひとつになることに、対
応できるようにした高温静水圧加圧装置を提供す
るものである。
（問題点を解決するための手段）
本考案の技術的手段は、高圧容器１に２つのガ
ス通路８，９が設けられており、一方のガス通路
８にはガス集合装置６及びこの装置からのガスを
圧縮する圧縮機７を含む加圧ラインＡが接続され
ており、他方のガス通路９には流量調整手段１
０、ストツプ弁１１を含むガス排出ラインＢが接
続され、更に、前記流量調整手段１０とストツプ
弁１１との間に、ガス分析計１２を設けた処にあ
る。
ス通路８，９が設けられており、一方のガス通路
８にはガス集合装置６及びこの装置からのガスを
圧縮する圧縮機７を含む加圧ラインＡが接続され
ており、他方のガス通路９には流量調整手段１
０、ストツプ弁１１を含むガス排出ラインＢが接
続され、更に、前記流量調整手段１０とストツプ
弁１１との間に、ガス分析計１２を設けた処にあ
る。
（作用）
(1) 作用の１
第１図、第２図で示すガス集合装置６のガスボ
ンベ６ａ，６ｂ，６ｃにそれぞれ99.5％Ar＋0.5
％O2のガスを使用し、炉床５に支持されている
酸化物セラミツクスの被処理体４をHIP処理する
に、ガス圧縮機７を介して通路８から高圧容器１
の中に当該ガスを加圧供給し、加熱要素３を通電
することによつて、所定温度圧力到達後、これを
保持しておく。
ンベ６ａ，６ｂ，６ｃにそれぞれ99.5％Ar＋0.5
％O2のガスを使用し、炉床５に支持されている
酸化物セラミツクスの被処理体４をHIP処理する
に、ガス圧縮機７を介して通路８から高圧容器１
の中に当該ガスを加圧供給し、加熱要素３を通電
することによつて、所定温度圧力到達後、これを
保持しておく。
そして、所定時間経過後に、ガス排出ラインＢ
のストツプ弁１１を徐々に開くことによつて高圧
容器１内のガス圧媒を通路９を介して少量ずつ排
出せしめて加圧する工程を繰返す。
のストツプ弁１１を徐々に開くことによつて高圧
容器１内のガス圧媒を通路９を介して少量ずつ排
出せしめて加圧する工程を繰返す。
初期0.5％含まれていたO2が被処理体４に吸収
され減少してこれを、流量調整手段１０とストツ
プ弁１１との間に設けたガス分析計１２で分析し
て検出し、この出力をフイードバツクすること
で、O2の減少した圧媒ガスを一部排出し、新た
なガスを通路８を介して供給する。
され減少してこれを、流量調整手段１０とストツ
プ弁１１との間に設けたガス分析計１２で分析し
て検出し、この出力をフイードバツクすること
で、O2の減少した圧媒ガスを一部排出し、新た
なガスを通路８を介して供給する。
これによつて、高圧容器１内の雰囲気ガスを所
定のO2濃度に保つことができる。
定のO2濃度に保つことができる。
(2) 作用の２
ボンベ６ａには99.99％Ar、ボンベ６ｄに99％
Ar＋１％O2、ボンベ６ｃに98％Ar＋２％O2のガ
スをそれぞれ貯蔵しておき、酸化物セラミツクス
である被処理体４をHIP処理するに次の要領で行
なう。
Ar＋１％O2、ボンベ６ｃに98％Ar＋２％O2のガ
スをそれぞれ貯蔵しておき、酸化物セラミツクス
である被処理体４をHIP処理するに次の要領で行
なう。
第１工程
室温にて300Kgｆ／cm2までボンベ６ａから高圧
容器１に供給されたガスを加圧する。
容器１に供給されたガスを加圧する。
第２工程
加熱要素３をして高圧容器１内を400℃／Ｈに
て昇温させる。
て昇温させる。
第３工程
600℃に到達した段階でボンベ６ｂからのガス
を供給して容器１の雰囲気を99％Ar＋１％O2に
切換える。
を供給して容器１の雰囲気を99％Ar＋１％O2に
切換える。
第４工程
800℃に到達した段階でボンベ６ｃからのガス
を供給して容器１の雰囲気を98％Ar＋２％O2に
切換える。
を供給して容器１の雰囲気を98％Ar＋２％O2に
切換える。
第５工程
1000℃保持時に前述した作用の１と同じ操作を
行なう。
行なう。
第６工程
800℃まで温度降下した段階で99％Ar＋１％O2
に切換える。
に切換える。
第７工程
600℃まで温度降下した段階で99.99％Arに切
換える。
換える。
以上の操作により、O2濃度に敏感な酸化物セ
ラミツクスの電気磁気的特性をそこなうことなく
HIP処理により緻密化を行なうことができる。
ラミツクスの電気磁気的特性をそこなうことなく
HIP処理により緻密化を行なうことができる。
（実施例）
第１図において、高圧容器１には上下蓋１Ａ，
１Ｂが着脱自在に装着されている。
１Ｂが着脱自在に装着されている。
なお、容器１の構造としては上下蓋、即ち、ト
ツプクローザー、ボトムクローザをねじ蓋等で締
結した形式でも、方形開口部を有するプレスフレ
ームで押付けた形式であつてもよい。
ツプクローザー、ボトムクローザをねじ蓋等で締
結した形式でも、方形開口部を有するプレスフレ
ームで押付けた形式であつてもよい。
高圧容器１の中には断熱層２、加熱要素３が備
えられており、炉床５上には被処理体４が載置さ
れ、該被処理体４は容器１に挿脱自在である。
えられており、炉床５上には被処理体４が載置さ
れ、該被処理体４は容器１に挿脱自在である。
上下蓋１Ａ，１Ｂにはそれぞれガス通路８，９
が形成されており、一方のガス通路、本例では通
路８に加圧ラインＡが、他方の通路９には排出ラ
インＢがそれぞれ接続されている。
が形成されており、一方のガス通路、本例では通
路８に加圧ラインＡが、他方の通路９には排出ラ
インＢがそれぞれ接続されている。
なお、通路８にラインＢを、通路９にラインＡ
を接続する場合もある。
を接続する場合もある。
加圧ラインＡにはそれぞれストツプ弁１５ａ，
１５ｂ，１５ｃを有するガスボンベ６ａ，６ｂ，
６ｃからなるガス集合装置６が備えられ、分流さ
れたボンベからの各ガスは供給管Ａ１を介してガ
ス圧縮機７に接続され、圧縮機７の出側にはスト
ツプ弁７Ａが設けられている。
１５ｂ，１５ｃを有するガスボンベ６ａ，６ｂ，
６ｃからなるガス集合装置６が備えられ、分流さ
れたボンベからの各ガスは供給管Ａ１を介してガ
ス圧縮機７に接続され、圧縮機７の出側にはスト
ツプ弁７Ａが設けられている。
ガス排出ラインＢには流量調整弁１０、ストツ
プ弁１１がそれぞれ設けられており、更に、前記
流量調整弁（手段）１０とストツプ弁１１との間
に、ガス分析計１２が設けられている。
プ弁１１がそれぞれ設けられており、更に、前記
流量調整弁（手段）１０とストツプ弁１１との間
に、ガス分析計１２が設けられている。
第２図の実施例では、ガス排出ラインＢがそれ
ぞれストツプ弁１６ａ，１６ｂ，１６ｃを介して
ガス集合装置６の各ボンベ６ａ，６ｂ，６ｃに接
続されたもので、その他の構成は第１図の例と共
通している。
ぞれストツプ弁１６ａ，１６ｂ，１６ｃを介して
ガス集合装置６の各ボンベ６ａ，６ｂ，６ｃに接
続されたもので、その他の構成は第１図の例と共
通している。
第３図の実施例は、被処理体４の周囲に、上部
に開口部１３を有する気密コツプ１４を配置し
て、ガス通路８から供給されたガスを図の矢印方
向の経路に循環させながらガス通路９を介して排
出するようにしたものであり、その他の構成は同
一であることから、加圧ラインＡの構成と、排出
ラインＢの構成は省略し、その他、共通部品は共
通符号で示している。
に開口部１３を有する気密コツプ１４を配置し
て、ガス通路８から供給されたガスを図の矢印方
向の経路に循環させながらガス通路９を介して排
出するようにしたものであり、その他の構成は同
一であることから、加圧ラインＡの構成と、排出
ラインＢの構成は省略し、その他、共通部品は共
通符号で示している。
更に、前述の実施例において、ガス分析計１２
の出力をフイードバツクしてガスの排出及び加圧
にフイードバツクさせるようにしている。
の出力をフイードバツクしてガスの排出及び加圧
にフイードバツクさせるようにしている。
従つて、前述の各実施例において、ガス通路９
から圧媒ガスの一部を排出してガス分析計１２で
分析することにより、排出分を他方のガス通路８
から補充することを繰返すこともできるのであ
り、又、少なくとも２種類の特定組成の圧媒ガス
を使用し、昇圧昇温過程においてひとつの組織の
圧媒ガスから他の組成の圧媒ガスへ切換えること
もできることになる。
から圧媒ガスの一部を排出してガス分析計１２で
分析することにより、排出分を他方のガス通路８
から補充することを繰返すこともできるのであ
り、又、少なくとも２種類の特定組成の圧媒ガス
を使用し、昇圧昇温過程においてひとつの組織の
圧媒ガスから他の組成の圧媒ガスへ切換えること
もできることになる。
更に、少なくとも２種類の特定組成の圧媒ガス
を使用し、HIP処理後の降温減圧過程において圧
媒ガスを切換えることもできるのである。
を使用し、HIP処理後の降温減圧過程において圧
媒ガスを切換えることもできるのである。
なお、圧媒としては、純Ar〜Ar＋20％O2ガス
とか純N2〜N2＋20％O2ガス、純Ar〜Ar＋５％
O2ガス、純N2〜N2＋５％H2ガス等であつてもよ
い。
とか純N2〜N2＋20％O2ガス、純Ar〜Ar＋５％
O2ガス、純N2〜N2＋５％H2ガス等であつてもよ
い。
（考案の効果）
本考案によれば、加圧ラインＡにはガス集合装
置６、圧縮機７が設けられ、排出ガスラインＢに
は流量調整弁１０、ストツプ弁１１が設けられ、
各ラインＡ，Ｂがそれぞれ高圧容器１のガス通路
８，９のいずれか一方と他方に接続されているの
で、高圧容器１内の雰囲気を調整することがで
き、ここに、フエライト処理用としてAr中のO2
量をコントロールするシステムを初めとする各種
の被処理体４の高温静水圧加圧装置として有益で
あり、又、排出ラインＢにおける流量調整手段１
０とストツプ弁１１との間に、ガス分析計１２を
設けているので、排出ラインＢのガス濃度等を分
析し、この出力をフイードバツクすることによ
り、加圧ラインＡのガス通路８から捕充、圧媒ガ
スの切換等ができて実益大である。
置６、圧縮機７が設けられ、排出ガスラインＢに
は流量調整弁１０、ストツプ弁１１が設けられ、
各ラインＡ，Ｂがそれぞれ高圧容器１のガス通路
８，９のいずれか一方と他方に接続されているの
で、高圧容器１内の雰囲気を調整することがで
き、ここに、フエライト処理用としてAr中のO2
量をコントロールするシステムを初めとする各種
の被処理体４の高温静水圧加圧装置として有益で
あり、又、排出ラインＢにおける流量調整手段１
０とストツプ弁１１との間に、ガス分析計１２を
設けているので、排出ラインＢのガス濃度等を分
析し、この出力をフイードバツクすることによ
り、加圧ラインＡのガス通路８から捕充、圧媒ガ
スの切換等ができて実益大である。
第１図は第１実施例の一部断面で示す全体構成
図、第２図は第２実施例の全体構成図、第３図は
第３実施例の容器断面図である。 １……高圧容器、３……加熱要素、６……ガス
集合装置、７……圧縮機、８，９……ガス通路、
１０……流量調整手段、１１……ストツプ弁、Ａ
……加圧ライン、Ｂ……ガス排出ライン。
図、第２図は第２実施例の全体構成図、第３図は
第３実施例の容器断面図である。 １……高圧容器、３……加熱要素、６……ガス
集合装置、７……圧縮機、８，９……ガス通路、
１０……流量調整手段、１１……ストツプ弁、Ａ
……加圧ライン、Ｂ……ガス排出ライン。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 高圧容器１の内部に断熱層２、加熱要素３が
配置され、高圧容器１内で被処理体４をガス圧
媒を介して圧縮処理する高温静水圧加圧装置に
おいて、 高圧容器１には少なくとも２つのガス通路
８，９が設けられており、一方のガス通路８に
はガス集合装置６及び該集合装置６からガスを
圧縮するガス圧縮機７を含む加圧ラインＡが接
続されており、他方のガス通路９には流量調整
手段１０、ストツプ弁１１を含むガス排出ライ
ンＢが接続され、更に、前記流量調整手段１０
とストツプ弁１１との間に、ガス分析計１２が
設けられている ことを特徴とする高温静水圧加圧装置。 (2) ガス排出ラインＢが加圧ラインＡのガス集合
装置６に接続されていることを特徴とする実用
新案登録請求の範囲第１項記載の高温静水圧加
圧装置。 (3) ガス集合装置６が少なくとも２つの系統に分
流されており、それぞれの系統毎に異なつた組
成のガス圧媒が貯蔵可能とされていることを特
徴とする実用新案登録請求の範囲第１項又は第
２項のいずれかに記載された高温静水圧加圧装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3393985U JPH0129515Y2 (ja) | 1985-03-08 | 1985-03-08 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3393985U JPH0129515Y2 (ja) | 1985-03-08 | 1985-03-08 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61151197U JPS61151197U (ja) | 1986-09-18 |
| JPH0129515Y2 true JPH0129515Y2 (ja) | 1989-09-07 |
Family
ID=30536852
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3393985U Expired JPH0129515Y2 (ja) | 1985-03-08 | 1985-03-08 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0129515Y2 (ja) |
-
1985
- 1985-03-08 JP JP3393985U patent/JPH0129515Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61151197U (ja) | 1986-09-18 |
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