JPH01296066A - 冷凍装置 - Google Patents
冷凍装置Info
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- JPH01296066A JPH01296066A JP12670488A JP12670488A JPH01296066A JP H01296066 A JPH01296066 A JP H01296066A JP 12670488 A JP12670488 A JP 12670488A JP 12670488 A JP12670488 A JP 12670488A JP H01296066 A JPH01296066 A JP H01296066A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は冷凍装置、詳しくは、ホットガスバイパス路と
ホットガス弁とを備え、圧縮機と前記ホットガスバイパ
ス路及び蒸発器との間に形成するデフロスト回路に所定
の冷媒量を循環させてデフロスト運転を行なうようにし
た冷凍装置に関する。
ホットガス弁とを備え、圧縮機と前記ホットガスバイパ
ス路及び蒸発器との間に形成するデフロスト回路に所定
の冷媒量を循環させてデフロスト運転を行なうようにし
た冷凍装置に関する。
(従来の技術)
従来、ホットガスバイパス路とホットガス弁とを用い、
所定の冷媒量でデフロスト運転を可能にした冷凍装置は
、特開昭59−197784号公報に示されているよう
に、デフロスト運転時−定の冷媒を計量し、計量した冷
媒を循環するようにしたものが知られている。
所定の冷媒量でデフロスト運転を可能にした冷凍装置は
、特開昭59−197784号公報に示されているよう
に、デフロスト運転時−定の冷媒を計量し、計量した冷
媒を循環するようにしたものが知られている。
この冷凍装置は、第27図に示した通り、圧縮機(CP
)から吐出されるホットガスを凝縮器(CD)と側路し
て蒸発器(E)にバイパスさせるホットガスバイパス路
(H)と蒸発器(E)へホットガスをバイパスするホッ
トガス量を制御して能力制御を行うホットガス弁(HV
)を備えると共に、前記凝縮器(CD)の下流側に、1
対の電磁弁(SVI)(SV2)とこれら電磁弁(SV
1)(SV、)間に介装する計量器(T)とで構成する
冷媒計量部(A)を設け、デフロスト運転時この計量部
(A)で計量する一定の冷媒量を、前記ホットガスバイ
パス路()I)と蒸発器(E)及び圧縮機(CP)とで
形成するデフロスト回路に流出させ、一定の冷媒量でデ
フロストを行うようにしたものである。
)から吐出されるホットガスを凝縮器(CD)と側路し
て蒸発器(E)にバイパスさせるホットガスバイパス路
(H)と蒸発器(E)へホットガスをバイパスするホッ
トガス量を制御して能力制御を行うホットガス弁(HV
)を備えると共に、前記凝縮器(CD)の下流側に、1
対の電磁弁(SVI)(SV2)とこれら電磁弁(SV
1)(SV、)間に介装する計量器(T)とで構成する
冷媒計量部(A)を設け、デフロスト運転時この計量部
(A)で計量する一定の冷媒量を、前記ホットガスバイ
パス路()I)と蒸発器(E)及び圧縮機(CP)とで
形成するデフロスト回路に流出させ、一定の冷媒量でデ
フロストを行うようにしたものである。
尚、第27図において(EX)は膨張弁、(D)は分流
器である。
器である。
しかして、以上の如く構成する冷凍装置において、前記
計量部(A)による冷媒の計量は、下流側の電磁弁(S
V 1)を閉じた状態でポンプダウン運転を行い、ポ
ンプダウン終了後、前記計量部(A)の上流側電磁弁(
SV2)を閉じることにより行うものであり、この計量
部(A)で計量した冷媒を前記デフロスト回路に流出す
るのは、前記したポンプダウン運転終了後、待機タイマ
ーにより、一定時間(約20秒)の後に上流側の前記電
磁弁(S V 、)を開き、高低圧のバランスで行なっ
ている。つまり、高圧の計量部(A)と低圧となってい
る蒸発器(E)側のデフロスト回路との圧力差で計量部
(A)の冷媒を前記デフロスト回路に流出するようにし
ている。
計量部(A)による冷媒の計量は、下流側の電磁弁(S
V 1)を閉じた状態でポンプダウン運転を行い、ポ
ンプダウン終了後、前記計量部(A)の上流側電磁弁(
SV2)を閉じることにより行うものであり、この計量
部(A)で計量した冷媒を前記デフロスト回路に流出す
るのは、前記したポンプダウン運転終了後、待機タイマ
ーにより、一定時間(約20秒)の後に上流側の前記電
磁弁(S V 、)を開き、高低圧のバランスで行なっ
ている。つまり、高圧の計量部(A)と低圧となってい
る蒸発器(E)側のデフロスト回路との圧力差で計量部
(A)の冷媒を前記デフロスト回路に流出するようにし
ている。
(発明が解決しようとする課題)
所が、以上の如く一定の冷媒を計量してデフロスト運転
を行う場合、前記計量部(A)で計量する冷媒の全量が
デフロスト回路を循環すれば何ら問題はないのであるが
、低外気時(例えば−30℃)、高外気時に比較してデ
フロスト時間が長(なる問題がある。
を行う場合、前記計量部(A)で計量する冷媒の全量が
デフロスト回路を循環すれば何ら問題はないのであるが
、低外気時(例えば−30℃)、高外気時に比較してデ
フロスト時間が長(なる問題がある。
即ち、低外気時には圧縮機や室外配管など庫外に配設さ
れる庫外冷媒配管系統からの熱ロスが大きいし、また、
低外気時において、前記計量部(A)で計量しても高圧
圧力が低くなっているから、計量g (A)で計量した
冷媒の全量がデフロスト回路に流出しないし、また、デ
フロスト運転時、前記電磁弁(S V *>は開状態と
し、また、膨張弁(EX)は通常感温膨張弁が用いられ
ているため、デフロスト運転時には全開若しくは全開に
近い状態となっていることから、デフロスト回路を循環
するホットガスが前記計量部(A)に逆流し、この計量
部(A)で凝縮して溜り込むことになるのであって、デ
フロスト回路を循環する冷媒量が不足するのであって、
前記した熱ロスと冷媒量不足とによりそれだけデフロス
ト時間が長くなるのである。
れる庫外冷媒配管系統からの熱ロスが大きいし、また、
低外気時において、前記計量部(A)で計量しても高圧
圧力が低くなっているから、計量g (A)で計量した
冷媒の全量がデフロスト回路に流出しないし、また、デ
フロスト運転時、前記電磁弁(S V *>は開状態と
し、また、膨張弁(EX)は通常感温膨張弁が用いられ
ているため、デフロスト運転時には全開若しくは全開に
近い状態となっていることから、デフロスト回路を循環
するホットガスが前記計量部(A)に逆流し、この計量
部(A)で凝縮して溜り込むことになるのであって、デ
フロスト回路を循環する冷媒量が不足するのであって、
前記した熱ロスと冷媒量不足とによりそれだけデフロス
ト時間が長くなるのである。
尚、デフロスト時間が長くなれば、それだけ圧縮機入力
が増大するし、また、庫内又は室内の温度が変化するこ
とになるのである。
が増大するし、また、庫内又は室内の温度が変化するこ
とになるのである。
本発明の目的は、低外気時のデフロスト運転における冷
媒量不足によるデフロスト時間が長くなる問題を解決し
、外気温度が低くとも、所定の冷媒量でデフロスト運転
が行なえ、デフロスト時間を短縮できるようにする点に
ある。
媒量不足によるデフロスト時間が長くなる問題を解決し
、外気温度が低くとも、所定の冷媒量でデフロスト運転
が行なえ、デフロスト時間を短縮できるようにする点に
ある。
(ml!を解決するための手段)
本発明は、前記した問題点を解決するため、圧縮機(1
)から吐出されるホットガスを、凝縮器(2,3)を側
路して蒸発器(4)に導入させるホットガスバイパス路
(20)と、該バイパス路(20)にホットガスをバイ
パスさせるホットガス弁(21)とを備え、前記圧縮機
(1)とホットガスバイパス路(20)及び蒸発器(4
)との間でデフロスト回路を形成し、デフロスト運転可
能とした冷凍装置において、デフロスト運転時、前記凝
縮器(2,3)を含むデフロスト運転時の液溜め部から
、前記デフロスト回路に冷媒を供給する冷媒供給手段と
、前記デフロスト回路における冷媒量の不足を検出する
冷媒量不足検出手段と、この検出手段からの検出結果に
より前記冷媒供給手段を作動させて前記デフロスト回路
に不足冷媒量を補給する冷媒補給制御手段とを備えてい
ることを特徴とするものである。
)から吐出されるホットガスを、凝縮器(2,3)を側
路して蒸発器(4)に導入させるホットガスバイパス路
(20)と、該バイパス路(20)にホットガスをバイ
パスさせるホットガス弁(21)とを備え、前記圧縮機
(1)とホットガスバイパス路(20)及び蒸発器(4
)との間でデフロスト回路を形成し、デフロスト運転可
能とした冷凍装置において、デフロスト運転時、前記凝
縮器(2,3)を含むデフロスト運転時の液溜め部から
、前記デフロスト回路に冷媒を供給する冷媒供給手段と
、前記デフロスト回路における冷媒量の不足を検出する
冷媒量不足検出手段と、この検出手段からの検出結果に
より前記冷媒供給手段を作動させて前記デフロスト回路
に不足冷媒量を補給する冷媒補給制御手段とを備えてい
ることを特徴とするものである。
所で、前記冷媒量不足検出手段は、外気温度を検出し、
この外気温度が一定値以下のとき冷媒量の不足を検出し
てもよいが、庫内(室内)温度条件により蒸発器に着霜
する状態が変化することから、庫内温度条件を考慮した
方が最適なデフロスト時間と最適なデフロスト、つまり
氷塊が落下することのないデフロストとが可能になるの
である。
この外気温度が一定値以下のとき冷媒量の不足を検出し
てもよいが、庫内(室内)温度条件により蒸発器に着霜
する状態が変化することから、庫内温度条件を考慮した
方が最適なデフロスト時間と最適なデフロスト、つまり
氷塊が落下することのないデフロストとが可能になるの
である。
従って、外気温度に対応して変化するデフロスト時にお
ける冷媒温度又は圧力を検出し、その検出値に基づいて
冷媒量の不足を検出するのが好ましい。
ける冷媒温度又は圧力を検出し、その検出値に基づいて
冷媒量の不足を検出するのが好ましい。
又、前記冷媒補給制御手段は、前記冷媒量不足検出手段
からの出力で前記冷媒供給手段を制御し、この冷媒供給
手段を介して一定量の冷媒をデフロスト回路に補給する
のであるが、前記冷媒量不足検出手段からの出力値に応
じてそれぞれ一定量の冷媒を補給するのが好ましい。
からの出力で前記冷媒供給手段を制御し、この冷媒供給
手段を介して一定量の冷媒をデフロスト回路に補給する
のであるが、前記冷媒量不足検出手段からの出力値に応
じてそれぞれ一定量の冷媒を補給するのが好ましい。
しかして、前記冷媒量不足検出手段は、吸入ガス温度検
出センサー(TS)を用い、デフロスト運転開始後一定
時間経過したときの吸入ガス温度を検出し、その温度を
もとにデフロスト回路の冷媒量の不足を検出したり、デ
フロスト運転時における前記吸入ガス温度の上昇率を演
算し、この上昇率をもとに冷媒量の不足を検出したり、
また、前記吸入ガス温度がデフロスト運転開始から一定
値になるまでの時間をもとに冷媒量の不足を検出したり
するのである。
出センサー(TS)を用い、デフロスト運転開始後一定
時間経過したときの吸入ガス温度を検出し、その温度を
もとにデフロスト回路の冷媒量の不足を検出したり、デ
フロスト運転時における前記吸入ガス温度の上昇率を演
算し、この上昇率をもとに冷媒量の不足を検出したり、
また、前記吸入ガス温度がデフロスト運転開始から一定
値になるまでの時間をもとに冷媒量の不足を検出したり
するのである。
又、吸入ガス温度検出センサー(TS)を用いる代りに
高圧圧力検出センサー(PS)を用い、デフロスト運転
開始後一定時間経過したときの高圧圧力を検出し、その
圧力をもとにデフロスト回路における冷媒量の不足を検
出してもよいし、また、デフロスト運転時における高圧
圧力の変化率を演算し、この変化率をもとに、換言する
と高圧圧力の下降又は、下降に至るまでの時間をもとに
冷媒量の不足を検出してもよい。
高圧圧力検出センサー(PS)を用い、デフロスト運転
開始後一定時間経過したときの高圧圧力を検出し、その
圧力をもとにデフロスト回路における冷媒量の不足を検
出してもよいし、また、デフロスト運転時における高圧
圧力の変化率を演算し、この変化率をもとに、換言する
と高圧圧力の下降又は、下降に至るまでの時間をもとに
冷媒量の不足を検出してもよい。
また、前記冷媒供給手段としては、主としてインジェク
タ1フ通路(36)とインジェクシーン弁(35)とを
用い、前記インジェクシーン通路(36)を液溜め部と
デフロスト回路との間に介装し、前記冷媒量不足検出手
段からの検出結果により前記インジェクシーン弁(35
)を一定時間又は、検出値に応じた時間開動作させるこ
とにより、前記インジェクシ■ン通路(36)を介して
不足冷媒量を供給するのである。
タ1フ通路(36)とインジェクシーン弁(35)とを
用い、前記インジェクシーン通路(36)を液溜め部と
デフロスト回路との間に介装し、前記冷媒量不足検出手
段からの検出結果により前記インジェクシーン弁(35
)を一定時間又は、検出値に応じた時間開動作させるこ
とにより、前記インジェクシ■ン通路(36)を介して
不足冷媒量を供給するのである。
また、前記冷媒供給手段として、1対の開閉弁(30)
(32)を用いた計量部(33)の第2開閉弁(32)
を利用してもよい。
(32)を用いた計量部(33)の第2開閉弁(32)
を利用してもよい。
この場合、前記第2開閉弁(32)を前記冷媒量不足検
出手段の検出結果により一定時間又は検出値に応じた時
間開動作させることにより、前記計量部(33)から蒸
発器(4)に至る液管を介して不足冷媒量が供給される
のである。
出手段の検出結果により一定時間又は検出値に応じた時
間開動作させることにより、前記計量部(33)から蒸
発器(4)に至る液管を介して不足冷媒量が供給される
のである。
(作用)
低外気時において、デフロスト運転を行う場合、冷媒量
不足検出手段の作動でデフロスト回路中の冷媒量不足が
検出されると、冷媒補給制御手段からの指示で冷媒供給
手段が作動し、不足冷媒量がデフロスト運転時の液溜め
部からデフロスト回路に補給されるのである。
不足検出手段の作動でデフロスト回路中の冷媒量不足が
検出されると、冷媒補給制御手段からの指示で冷媒供給
手段が作動し、不足冷媒量がデフロスト運転時の液溜め
部からデフロスト回路に補給されるのである。
従うて、低外気時におけるデフロスト時間を短縮できる
。
。
また、冷媒量不足検出手段として吸入ガス温度検出セン
サー(TS)又は高圧圧力検出センサー(PS)を用い
、吸入ガス温度又は高圧圧力を検出することにより、冷
媒量不足を、正確に検出できるのであって、必要以上に
補給することにより、高圧スイッチや、圧縮機の過電流
継電器が作動することのない保護領域でのデフロスト運
転を確実に行なえるのである。
サー(TS)又は高圧圧力検出センサー(PS)を用い
、吸入ガス温度又は高圧圧力を検出することにより、冷
媒量不足を、正確に検出できるのであって、必要以上に
補給することにより、高圧スイッチや、圧縮機の過電流
継電器が作動することのない保護領域でのデフロスト運
転を確実に行なえるのである。
また、冷媒補給制御手段として前記冷媒量不足検出手段
の出力に応じて所定量の冷媒を補給することにより、出
力に対し一定量の冷媒を補給する場合に比較し、よりき
め細かな冷媒量の補給が可能となり、デフロスト時間の
短縮と、保護領域内でのデフロスト運転補償との両要求
をともに満足させられるのである。
の出力に応じて所定量の冷媒を補給することにより、出
力に対し一定量の冷媒を補給する場合に比較し、よりき
め細かな冷媒量の補給が可能となり、デフロスト時間の
短縮と、保護領域内でのデフロスト運転補償との両要求
をともに満足させられるのである。
(実施例)
第1図に示したものは、海上コンテナ用冷凍Ifであっ
て、圧縮機(1)、空冷凝縮器(2)、水冷凝縮器(3
)、蒸発!! (4) 、感温部(5a)をもつ感温膨
張弁(5)を備え、これら各機器を冷媒配管(6)で連
結し、前記蒸発器(4)で庫内空気を冷却するようにし
たものである。
て、圧縮機(1)、空冷凝縮器(2)、水冷凝縮器(3
)、蒸発!! (4) 、感温部(5a)をもつ感温膨
張弁(5)を備え、これら各機器を冷媒配管(6)で連
結し、前記蒸発器(4)で庫内空気を冷却するようにし
たものである。
尚、第1図において(7)はドライヤ、(8)はリキッ
ドインジケータ、(θ)はアキュムレータ、(10)は
前記蒸発!! (3)に付設するファン、(11)は前
記空冷凝縮器(2)に付設するファンである。
ドインジケータ、(θ)はアキュムレータ、(10)は
前記蒸発!! (3)に付設するファン、(11)は前
記空冷凝縮器(2)に付設するファンである。
そして、以上の如く構成する冷凍VIll!において、
高圧ガス管(6a)に、前記圧縮機(1)から吐出され
るホットガスを、前記各凝縮器(2)(3)、感温膨張
弁(5)を側路して前記蒸発器(4)にバイパスするホ
ットガスバイパス路(20)を接続し、その出口側を前
記蒸発器(4)の入口側に設ける分流器(12)に接続
し、そしてこのホットガスバイパス路(20)の前記高
圧ガス管(6a)への接続部位に、比例制御弁から成る
ホットガス弁(21)を介装すると共に、前記水冷凝縮
器(3)の下流側、第1図では、前記リキッドインジケ
ータ(8)下流側で、前記膨張弁(5)の上流側に、冷
凍又は冷蔵運転の停止指令及びデフロスト運転の開始指
令で閉じる電磁弁から成る第1開閉機構(以下単に電磁
弁という)(30)を設け、かつ、この第1電磁弁(3
0)の上流側に計量タンク(31)を設けて、前記電磁
弁(30)の閉動作により、ポンプダウン運転を可能と
し、前記計量タンク(31)及び前記凝縮器(2)(3
)を含む液溜め部に冷媒を閉じ込めるようにする一方、
前記計量タンク(31)の上流側、第1図では前記リキ
ッドインジケータ(8)と計量タンク(31)との間に
、前記液溜め部に閉じ込めた冷媒のうち、デフロストに
使用する一定量の冷媒を計量する計量部(33)を形成
する電磁弁から成る第2開閉機横(以下単に電磁弁とい
う)(32)を設け、更に、前記計量部(33)を除く
デフロスト運転時の液溜め部、即ち、第1図では第2電
磁弁(32)とリキッドインジェクケータ(8)との間
に、キャピラリーチューブなどの膨張機構(34)と、
主として電磁弁から成るインジェクシーン弁(35)と
を備えたインジェクシ翳ン通路(36)を分岐し、この
インジェクション通路(36)を、低圧ガス管(6d)
に接続したのである。
高圧ガス管(6a)に、前記圧縮機(1)から吐出され
るホットガスを、前記各凝縮器(2)(3)、感温膨張
弁(5)を側路して前記蒸発器(4)にバイパスするホ
ットガスバイパス路(20)を接続し、その出口側を前
記蒸発器(4)の入口側に設ける分流器(12)に接続
し、そしてこのホットガスバイパス路(20)の前記高
圧ガス管(6a)への接続部位に、比例制御弁から成る
ホットガス弁(21)を介装すると共に、前記水冷凝縮
器(3)の下流側、第1図では、前記リキッドインジケ
ータ(8)下流側で、前記膨張弁(5)の上流側に、冷
凍又は冷蔵運転の停止指令及びデフロスト運転の開始指
令で閉じる電磁弁から成る第1開閉機構(以下単に電磁
弁という)(30)を設け、かつ、この第1電磁弁(3
0)の上流側に計量タンク(31)を設けて、前記電磁
弁(30)の閉動作により、ポンプダウン運転を可能と
し、前記計量タンク(31)及び前記凝縮器(2)(3
)を含む液溜め部に冷媒を閉じ込めるようにする一方、
前記計量タンク(31)の上流側、第1図では前記リキ
ッドインジケータ(8)と計量タンク(31)との間に
、前記液溜め部に閉じ込めた冷媒のうち、デフロストに
使用する一定量の冷媒を計量する計量部(33)を形成
する電磁弁から成る第2開閉機横(以下単に電磁弁とい
う)(32)を設け、更に、前記計量部(33)を除く
デフロスト運転時の液溜め部、即ち、第1図では第2電
磁弁(32)とリキッドインジェクケータ(8)との間
に、キャピラリーチューブなどの膨張機構(34)と、
主として電磁弁から成るインジェクシーン弁(35)と
を備えたインジェクシ翳ン通路(36)を分岐し、この
インジェクション通路(36)を、低圧ガス管(6d)
に接続したのである。
しかして、以上の構成において前記デフロスト回路は、
前記圧縮機(1)からのホットガスが全量ホットガスバ
イパス路(20)に流れるように切換えることにより形
成するのであって、前記圧縮機(1)、ホットガス弁(
21)、ホットガスバイパス路(20)、蒸発II (
4) 、アキエムレータ(9)により形成される。
前記圧縮機(1)からのホットガスが全量ホットガスバ
イパス路(20)に流れるように切換えることにより形
成するのであって、前記圧縮機(1)、ホットガス弁(
21)、ホットガスバイパス路(20)、蒸発II (
4) 、アキエムレータ(9)により形成される。
又、第1図に示したものは、前記小ブトガスバイハス路
(20)にドレンパンヒータ(37)を接続しており、
このドレンパンヒータ(37)も前記デフロスト回路の
一部を形成している。
(20)にドレンパンヒータ(37)を接続しており、
このドレンパンヒータ(37)も前記デフロスト回路の
一部を形成している。
又、前記ホットガス弁(21)は、電圧に比例して前記
ホットガスバイパス路(20)への弁開度を0〜100
%に制御可能とし、前記蒸発器(4)へのホットガスバ
イパス量を制御することにより能力調整を行ない、冷凍
運転及び冷蔵運転を可能にすると共に、デフロスト運転
時にはホットガスの全量がホットガスバイパス路(20
)に流れるようにするのであって、コンビ二一夕を内蔵
するコントローラ(40)によりPID制御が行われる
ようになっている。
ホットガスバイパス路(20)への弁開度を0〜100
%に制御可能とし、前記蒸発器(4)へのホットガスバ
イパス量を制御することにより能力調整を行ない、冷凍
運転及び冷蔵運転を可能にすると共に、デフロスト運転
時にはホットガスの全量がホットガスバイパス路(20
)に流れるようにするのであって、コンビ二一夕を内蔵
するコントローラ(40)によりPID制御が行われる
ようになっている。
又、前記インジェクシソン弁(35)及びインジェクシ
ーン通路(36)は、デフロスト運転時、前記液溜め部
からデフロスト回路に不足の冷媒を供給する冷媒供給手
段を構成するもので、前記インジェクシーン通路(36
)に介装する前記インジェクシーン弁(35)は、前記
デフロスト回路における冷媒量の不足を検出する冷媒量
不足検出手段の検出結果による冷媒補給制御手段の出力
をもとに開動作させ、前記インジェクシ四ン通路(3e
)を介して不足冷媒量を補給するのである。
ーン通路(36)は、デフロスト運転時、前記液溜め部
からデフロスト回路に不足の冷媒を供給する冷媒供給手
段を構成するもので、前記インジェクシーン通路(36
)に介装する前記インジェクシーン弁(35)は、前記
デフロスト回路における冷媒量の不足を検出する冷媒量
不足検出手段の検出結果による冷媒補給制御手段の出力
をもとに開動作させ、前記インジェクシ四ン通路(3e
)を介して不足冷媒量を補給するのである。
第1.2図に示した実施例では、前記冷媒量不足検出手
段としてデフロスト運転開始一定時間(11例えば5分
)後の吸入ガス温度(T)を検出し、この吸入ガス温度
(T)が一定値(T、)以下のとき出力する吸入ガス温
度検出センサー(TS)を用い、また、前記冷媒補給制
御手段として、前記センサー(TS)からの出力で、前
記インジェクシ1ン弁(35)を、一定時間(tIa例
えば5秒)開動作させ、一定量の冷媒を補給する定量制
御手段を設けたものである。
段としてデフロスト運転開始一定時間(11例えば5分
)後の吸入ガス温度(T)を検出し、この吸入ガス温度
(T)が一定値(T、)以下のとき出力する吸入ガス温
度検出センサー(TS)を用い、また、前記冷媒補給制
御手段として、前記センサー(TS)からの出力で、前
記インジェクシ1ン弁(35)を、一定時間(tIa例
えば5秒)開動作させ、一定量の冷媒を補給する定量制
御手段を設けたものである。
即ち、デフロスト運転を行なう場合、前記吸入ガス温度
は、デフロスト運転開始後時間経過と共に変化するが、
その変化は外気温度に対応して異なった変化をするもの
で、第3図に示した通り、外気温度が一30℃の場合、
外気温度が50℃の場合に比較してその変化割合が少な
(、従って、デフロスト開始後一定時間(t t= 5
分)経過したときの吸入ガス温度(T)は、外気温度に
対応し大きく差が生ずるのである。つまり、外気温度が
一30℃のときの吸入ガス温度は、一定時間(t1)を
経過しても0℃に至らないが、外気温度か50℃のとき
の吸入ガス温度は一定時間(t、)の経過前に0℃とな
り、一定時間(tI)経過したときの温度(T、)は0
℃を越えるのである。
は、デフロスト運転開始後時間経過と共に変化するが、
その変化は外気温度に対応して異なった変化をするもの
で、第3図に示した通り、外気温度が一30℃の場合、
外気温度が50℃の場合に比較してその変化割合が少な
(、従って、デフロスト開始後一定時間(t t= 5
分)経過したときの吸入ガス温度(T)は、外気温度に
対応し大きく差が生ずるのである。つまり、外気温度が
一30℃のときの吸入ガス温度は、一定時間(t1)を
経過しても0℃に至らないが、外気温度か50℃のとき
の吸入ガス温度は一定時間(t、)の経過前に0℃とな
り、一定時間(tI)経過したときの温度(T、)は0
℃を越えるのである。
しかして、以上の如く一定時間(t、)後の吸入ガス温
度CT)を検出し、その温度が一定値(T、)のとき出
力することにより、外気温度に対応して冷媒量、の不足
を正確に検出できるのである。
度CT)を検出し、その温度が一定値(T、)のとき出
力することにより、外気温度に対応して冷媒量、の不足
を正確に検出できるのである。
尚、前記センサー(TS)が出力する吸入ガス温度は、
0℃より低い温度(T、)に設定するのであるが、これ
は0℃を越えた値に設定した場合、0℃を越えた状態で
はデフロストが終了するか又は終了近くになる筈である
し、また、第3図からも明らかな通り、吸入ガス温度(
T)は、0℃近くで変化が少なくなることから、0℃よ
り低い温度(T、)に設定するのであり、また、前記一
定時間(t、)を5分間と設定するのは、低外気時(例
えば−30℃)において、前記設定温度(T、)に達す
る時間が大略5分程度であるからである。
0℃より低い温度(T、)に設定するのであるが、これ
は0℃を越えた値に設定した場合、0℃を越えた状態で
はデフロストが終了するか又は終了近くになる筈である
し、また、第3図からも明らかな通り、吸入ガス温度(
T)は、0℃近くで変化が少なくなることから、0℃よ
り低い温度(T、)に設定するのであり、また、前記一
定時間(t、)を5分間と設定するのは、低外気時(例
えば−30℃)において、前記設定温度(T、)に達す
る時間が大略5分程度であるからである。
又、前記インジエクシーン弁(35)を開動作させる時
間(t2)は、前記インジエクシーン通路(36)に介
装する膨張機構(34)を形成するキャピラリーチュー
ブの内径と、前記一定時間< 1 +)後に前記設定温
度(T、)に到達しない場合、つまり、外気温度−30
℃以下のときに不足する冷媒量を基準に設定するのであ
って、弁開時間(t2)を5秒に設定する場合、この5
秒で不足冷媒量が補給されることになるのである。
間(t2)は、前記インジエクシーン通路(36)に介
装する膨張機構(34)を形成するキャピラリーチュー
ブの内径と、前記一定時間< 1 +)後に前記設定温
度(T、)に到達しない場合、つまり、外気温度−30
℃以下のときに不足する冷媒量を基準に設定するのであ
って、弁開時間(t2)を5秒に設定する場合、この5
秒で不足冷媒量が補給されることになるのである。
つまり、低外気時における冷媒の不足量は、不足する原
因から予め設定できるのであり、また、デフロスト時の
適正冷媒循環量は、最適なデフロスト時間に必要な冷媒
量とデフ−スト運転時高圧が上昇して高圧スイッチが作
動したり、圧縮機(1)の過電流継電器が作動したりす
ることのない保護領域で運転を行える冷媒量とにより、
予め設定できるのであるから、この適正冷媒量と不足量
とを勘案して補給量を定めるのである。因みに、外気温
度−30℃を基準に設定する補給量は300ccとして
いる。
因から予め設定できるのであり、また、デフロスト時の
適正冷媒循環量は、最適なデフロスト時間に必要な冷媒
量とデフ−スト運転時高圧が上昇して高圧スイッチが作
動したり、圧縮機(1)の過電流継電器が作動したりす
ることのない保護領域で運転を行える冷媒量とにより、
予め設定できるのであるから、この適正冷媒量と不足量
とを勘案して補給量を定めるのである。因みに、外気温
度−30℃を基準に設定する補給量は300ccとして
いる。
また、デフロスト運転の開始指令は、主としてエアープ
レッシャスイッチ(APS)とデフロストタイマーによ
り行い、デフロスト運転の終了は、主として前記蒸発器
(4)の出口側における吸入ガス温度を検出するデフロ
スト完了サーモスタット(T)I)により行い、また、
デフロスト運転の開始指令により行なうポンプダウン運
転の終了は、低圧スイッチ(LPS)を用いて行なうの
である。
レッシャスイッチ(APS)とデフロストタイマーによ
り行い、デフロスト運転の終了は、主として前記蒸発器
(4)の出口側における吸入ガス温度を検出するデフロ
スト完了サーモスタット(T)I)により行い、また、
デフロスト運転の開始指令により行なうポンプダウン運
転の終了は、低圧スイッチ(LPS)を用いて行なうの
である。
尚、第1図において(HPS)は高圧スイッチ、(HF
O2)は高圧制御スイッチ、(OPS)は油圧保護スイ
ッチ、(WPS)は水圧スイッチである。
O2)は高圧制御スイッチ、(OPS)は油圧保護スイ
ッチ、(WPS)は水圧スイッチである。
又、前記計量部(33)は、計量タンク(31)を用い
て形成しているが、この計量タンク(31)は必ずしも
必要でないし、また、高圧液管(6b)に形成したが、
低圧液管(6C)に形成してもよいのであって、計量タ
ンク(31)を用いない場合は液管を利用し、一定量の
冷媒が計量できるようにすればよい。
て形成しているが、この計量タンク(31)は必ずしも
必要でないし、また、高圧液管(6b)に形成したが、
低圧液管(6C)に形成してもよいのであって、計量タ
ンク(31)を用いない場合は液管を利用し、一定量の
冷媒が計量できるようにすればよい。
しかして、以上の構成において冷凍又は冷蔵運転を行う
場合、コントローラ(40)のセットポイントセレクタ
ー(SPS)により設定温度を設定して行うのであって
、設定温度が一5℃より低い冷凍運転においては、蒸発
器(4)の吸込側に設けるリターンセンサー(R8)を
もとに圧縮機(1)の発停制御により設定温度に調整し
、また、−5℃以上の冷蔵運転においては、吹出側に設
けるサプライセンサー(S S)をもとに、前記ホット
ガス弁(21)を0〜100%の開度に制御し、この開
度に応じた流量でホットガスを蒸発器(4)にバイパス
することにより設定温度に調整するのである。
場合、コントローラ(40)のセットポイントセレクタ
ー(SPS)により設定温度を設定して行うのであって
、設定温度が一5℃より低い冷凍運転においては、蒸発
器(4)の吸込側に設けるリターンセンサー(R8)を
もとに圧縮機(1)の発停制御により設定温度に調整し
、また、−5℃以上の冷蔵運転においては、吹出側に設
けるサプライセンサー(S S)をもとに、前記ホット
ガス弁(21)を0〜100%の開度に制御し、この開
度に応じた流量でホットガスを蒸発器(4)にバイパス
することにより設定温度に調整するのである。
そして、以上の如く冷凍又は冷蔵運転を行なっている際
、前記蒸発器(4)がフロストして前記エアープレッシ
ャスイッチ(APS)が作動するか、又はデフロストタ
イマーが動作してデフロス)1i令が出ると次の如くデ
フロスト運転が行なわれる。
、前記蒸発器(4)がフロストして前記エアープレッシ
ャスイッチ(APS)が作動するか、又はデフロストタ
イマーが動作してデフロス)1i令が出ると次の如くデ
フロスト運転が行なわれる。
先ず、デフロスト運転の開始指令が出ると、前記第1電
磁弁(30)が閉じると共に、前記ホットガス弁(21
)のホットガスバイパス(20)への開度がある場合に
は0%に制御されてポンプダウン運転が始まる。
磁弁(30)が閉じると共に、前記ホットガス弁(21
)のホットガスバイパス(20)への開度がある場合に
は0%に制御されてポンプダウン運転が始まる。
このポンプダウン運転で液冷媒は凝縮器(2)(3)か
ら第1電磁弁(30)に至る部分に閉じ込められるので
あって、液冷媒の閉じ込みの進行と共に低圧圧力が低下
し、この低圧圧力が前記低圧スイッチ(LPS)の設定
値より低くなると、前記低圧スイッチ(LPS)がオフ
動作し、ポンプダウン運転の終了が検出される。
ら第1電磁弁(30)に至る部分に閉じ込められるので
あって、液冷媒の閉じ込みの進行と共に低圧圧力が低下
し、この低圧圧力が前記低圧スイッチ(LPS)の設定
値より低くなると、前記低圧スイッチ(LPS)がオフ
動作し、ポンプダウン運転の終了が検出される。
そして、前記低圧スイッチ(LPS)によるポンプダウ
ン運転の終了が検出されると、圧縮機(1)の運転を継
続したま一前記ホットガス弁(21)が、ホットガスバ
イパス路(20)に対し100%開変に切換えられると
共に、前記蒸発器(4)に付設のファン(10)が停止
されると共にこれら動作と同時に前記第2電磁弁(32
)が閉じると共に、第1電磁弁(30)が開くのである
。
ン運転の終了が検出されると、圧縮機(1)の運転を継
続したま一前記ホットガス弁(21)が、ホットガスバ
イパス路(20)に対し100%開変に切換えられると
共に、前記蒸発器(4)に付設のファン(10)が停止
されると共にこれら動作と同時に前記第2電磁弁(32
)が閉じると共に、第1電磁弁(30)が開くのである
。
しかして、前記第2ffi磁弁(32)の閉動作により
、前記第1電磁弁(30)の閉動作で閉じ込めた冷媒の
うち、デフロスト運転に必要な冷媒量が前記計量部(3
3)において計量されるのであり、斯く計量された冷媒
は、前記第tw1磁弁(30)の開動作により前記デフ
ロスト回路に押し出されデフロスト運転が開始される。
、前記第1電磁弁(30)の閉動作で閉じ込めた冷媒の
うち、デフロスト運転に必要な冷媒量が前記計量部(3
3)において計量されるのであり、斯く計量された冷媒
は、前記第tw1磁弁(30)の開動作により前記デフ
ロスト回路に押し出されデフロスト運転が開始される。
次に、このデフロスト運転を第4図に示したフローチャ
ートに従って説明する。
ートに従って説明する。
先ず、デフロスト運転の開始と同時に、つまり、前記第
111t磁弁(30)の開動作と同時に前記一定時間(
11)を計時するt、タイマーがカウントを開始しくス
テップ101)、一定時間(t r= 5分)の経過で
カウントアツプした後(ステップ102)、そのときの
吸入ガス温度(T)を前記センサー(TS)で検出しく
ステップ103)、その温度(T)が、前記設定温度(
T、)以下のとき(ステップ104)、前記インジェク
シーン弁(35)を開く(ステップ105)と同時に、
前記一定時間(t2)を計時するt2タイマーがカウン
トを開始しくステップ106)、一定時間(t *=
5秒)の経過でカウントアツプした後(ステップ107
)、前記インジェクシーン弁(35)を閉じるのである
(ステップ108)。
111t磁弁(30)の開動作と同時に前記一定時間(
11)を計時するt、タイマーがカウントを開始しくス
テップ101)、一定時間(t r= 5分)の経過で
カウントアツプした後(ステップ102)、そのときの
吸入ガス温度(T)を前記センサー(TS)で検出しく
ステップ103)、その温度(T)が、前記設定温度(
T、)以下のとき(ステップ104)、前記インジェク
シーン弁(35)を開く(ステップ105)と同時に、
前記一定時間(t2)を計時するt2タイマーがカウン
トを開始しくステップ106)、一定時間(t *=
5秒)の経過でカウントアツプした後(ステップ107
)、前記インジェクシーン弁(35)を閉じるのである
(ステップ108)。
また、前記一定時間(t、)後の吸入ガス温度(T)が
、設定温度(T、)より高いときには、前記インジェク
ション弁(35)は開かれることなく、デフロスト完了
サーモ(TH)の動作(ステップ109)で、デフロス
ト運転が終了する(ステップ110)。
、設定温度(T、)より高いときには、前記インジェク
ション弁(35)は開かれることなく、デフロスト完了
サーモ(TH)の動作(ステップ109)で、デフロス
ト運転が終了する(ステップ110)。
以上のように、低外気時のデフロスト運転には、前記イ
ンジェクシーン弁(35)の開動作で、デフロスト運転
時の液溜め部から前記インジェクション弁路(36)を
介して前記デフロスト回路に一定量の冷媒が補給される
ことになるから、前記計量部(3)で計量した冷媒が完
全に排出されなかったり、また、デフロスト運転時にホ
、トガスが逆流して前記計量部(33)に溜め込まれる
ことがあっても、不足冷媒量の補給により適正な冷媒量
でデフロスト運転が可能となり、デフロスト時間を短縮
できるのである。
ンジェクシーン弁(35)の開動作で、デフロスト運転
時の液溜め部から前記インジェクション弁路(36)を
介して前記デフロスト回路に一定量の冷媒が補給される
ことになるから、前記計量部(3)で計量した冷媒が完
全に排出されなかったり、また、デフロスト運転時にホ
、トガスが逆流して前記計量部(33)に溜め込まれる
ことがあっても、不足冷媒量の補給により適正な冷媒量
でデフロスト運転が可能となり、デフロスト時間を短縮
できるのである。
以上説明した実施例は、前記インジェクション弁(35
)を一定時間(tm=5秒)開動作させたが、検出する
吸入ガス温度に応じて、前記インジェクシーン弁(35
)の開動作時間(1)を制御させてもよい。
)を一定時間(tm=5秒)開動作させたが、検出する
吸入ガス温度に応じて、前記インジェクシーン弁(35
)の開動作時間(1)を制御させてもよい。
この場合、吸入ガス温度を検出する吸入ガス温度検出セ
ンサー(TS)として、該センサー(TS)で検出する
検出温度(Tl〜Ts)に応じた出力値を出力するよう
に構成すると共に、前記冷媒補給手段として前記した定
量制御手段の代りに前記センサー(TS)からの出力値
に応じて前記インジェクション弁(35)の開動作時間
(1)を、第5図の如(制御し、前記吸入ガス温度(T
t〜T、)に応じて一定量の冷媒を補給する補給量制
御手段を設けるのである。
ンサー(TS)として、該センサー(TS)で検出する
検出温度(Tl〜Ts)に応じた出力値を出力するよう
に構成すると共に、前記冷媒補給手段として前記した定
量制御手段の代りに前記センサー(TS)からの出力値
に応じて前記インジェクション弁(35)の開動作時間
(1)を、第5図の如(制御し、前記吸入ガス温度(T
t〜T、)に応じて一定量の冷媒を補給する補給量制
御手段を設けるのである。
尚、前記インジェクション弁(35) ノ開動作時間(
1)の設定は、外気温度が例えば−30℃のときにおけ
る開動作時間(ti)、即ち、前記一定時間(t t=
5分)後の吸入ガス温度(T)が前記温度(T1)と
なる場合の開動作時間(t2)を最大とし、吸入ガス温
度(T)が0℃又は0℃に近い温度(T2)になる場合
の開動作時間を0時間として設定するのである。
1)の設定は、外気温度が例えば−30℃のときにおけ
る開動作時間(ti)、即ち、前記一定時間(t t=
5分)後の吸入ガス温度(T)が前記温度(T1)と
なる場合の開動作時間(t2)を最大とし、吸入ガス温
度(T)が0℃又は0℃に近い温度(T2)になる場合
の開動作時間を0時間として設定するのである。
つまり、前記開動作時間(1)は、吸入ガス温度(T)
の関数、t=f (T)%即ち、により設定するのであ
る。
の関数、t=f (T)%即ち、により設定するのであ
る。
斯くすることにより、前記インジェクシーン弁(35)
を前記設定温度(T、)以下で一定時間(t2)開く場
合に比較してよりきめ細かく不足冷媒量の補給が可能と
なり、前記した保護領域内でのデフロスト運転を補償し
ながらデフロスト時間の短縮を行なえるのである。
を前記設定温度(T、)以下で一定時間(t2)開く場
合に比較してよりきめ細かく不足冷媒量の補給が可能と
なり、前記した保護領域内でのデフロスト運転を補償し
ながらデフロスト時間の短縮を行なえるのである。
以上説明した開動作時間(1)の制御を可能にした場合
のデフロスト運転は、第6図に示したフローチャートの
通りに行われるのである。このフローチャートは、第4
図に示したフローチャートと同じであるので、その詳細
な説明は省略し、相違点のみ説明すると、吸入ガス温度
(T)が0℃又は0℃に近い温度(T2)より低いとき
(ステップ104)、前記インジェクシーン弁(35)
の開動作時間(t)を設定しくステップ105)、その
時間経過後(ステップ108)、前記インジェクシーン
弁(35)を閉じるのである。
のデフロスト運転は、第6図に示したフローチャートの
通りに行われるのである。このフローチャートは、第4
図に示したフローチャートと同じであるので、その詳細
な説明は省略し、相違点のみ説明すると、吸入ガス温度
(T)が0℃又は0℃に近い温度(T2)より低いとき
(ステップ104)、前記インジェクシーン弁(35)
の開動作時間(t)を設定しくステップ105)、その
時間経過後(ステップ108)、前記インジェクシーン
弁(35)を閉じるのである。
また、前記吸入ガス温度(T)が前記温度(T2)より
高いとき(ステップ104)には、開動作時間(1)は
0時間となる(ステップ110)。
高いとき(ステップ104)には、開動作時間(1)は
0時間となる(ステップ110)。
又、以上説明した第1実施例及び第2実施例は何れも吸
入ガス温度(T)の絶対値をもとに前記インジェクシ靜
ン弁(35)を制御したが、そ即ち、デフロスト運転時
、吸入ガス温度はデフロスト時間後時間経過と共に変化
するが、その変化は、第8図に示した通り外気温度に対
応してつまり、外気温度が低い程、変化率が低くなり、
デフロスト時間が長くなるのであるから、この変化率(
dT)によっても低外気時における冷V 煤量の不足を正確に検出できるのである。
入ガス温度(T)の絶対値をもとに前記インジェクシ靜
ン弁(35)を制御したが、そ即ち、デフロスト運転時
、吸入ガス温度はデフロスト時間後時間経過と共に変化
するが、その変化は、第8図に示した通り外気温度に対
応してつまり、外気温度が低い程、変化率が低くなり、
デフロスト時間が長くなるのであるから、この変化率(
dT)によっても低外気時における冷V 煤量の不足を正確に検出できるのである。
この場合、前記冷媒量不足検出手段は、第7図に示した
如くデフロスト運転時における吸入ガス温度を検出する
吸入ガス温度検出センサー(TS)と、該センサー(T
S)からの情報をもとに吸入ガス温度の上昇率(dT=
α)を演算し、そ丁丁 の上昇率(α)が一定値(α、)以下のとき出力する出
力部(50)とにより構成するのであり、また、冷媒補
給制御手段として、前記出力部(50)からの出力で前
記インジェクシーン弁(35)を一定時間(ta例えば
5秒)開動作させ、一定量の冷媒を補給する定量制御手
段を設けるのである。
如くデフロスト運転時における吸入ガス温度を検出する
吸入ガス温度検出センサー(TS)と、該センサー(T
S)からの情報をもとに吸入ガス温度の上昇率(dT=
α)を演算し、そ丁丁 の上昇率(α)が一定値(α、)以下のとき出力する出
力部(50)とにより構成するのであり、また、冷媒補
給制御手段として、前記出力部(50)からの出力で前
記インジェクシーン弁(35)を一定時間(ta例えば
5秒)開動作させ、一定量の冷媒を補給する定量制御手
段を設けるのである。
尚、前記出力部(50)が出力する前記吸入ガス温度の
上昇率(α、)は、外気温度が一30℃のときの上昇率
、即ち大略5分で10’C程度上昇する上昇率を基準に
設定するのであり、また、前記インジェクション弁(3
5)の開動作時間(t2)は、第1実施例で説明した理
由により、5秒に設定するのである。
上昇率(α、)は、外気温度が一30℃のときの上昇率
、即ち大略5分で10’C程度上昇する上昇率を基準に
設定するのであり、また、前記インジェクション弁(3
5)の開動作時間(t2)は、第1実施例で説明した理
由により、5秒に設定するのである。
以上のように吸入ガス温度の上昇率(α)をもとに前記
インジェクシーン弁(35)を制御する場合、吸入ガス
温度の絶対値をもとに制御する場合に比較してより正確
な冷媒量の不足を検出できるのである。
インジェクシーン弁(35)を制御する場合、吸入ガス
温度の絶対値をもとに制御する場合に比較してより正確
な冷媒量の不足を検出できるのである。
また、この実施例によるデフロスト運転は、第9図に示
したフローチャートの通りに行われる。即ち、デフロス
ト運転の開始と同時、又は−定時間(例えば5分)後に
前記センサー(TS)により検出する吸入ガス温度をも
とにその上昇率(α)を演算しくステップ201)、そ
の上昇率(α)が予め設定した前記上昇率(設定上昇率
)(αI)以下のとき(ステップ202)、前記インジ
ェクション弁(35)を開く(ステップ203)と同時
に、開動作時間(t2)を計時するt2タイマーがカウ
ントを開始しくステップ204)、一定時間(t 2=
5秒)の経過でカウントアツプした後(ステップ20
5)、前記インジエクシーン弁(35)を閉じるのであ
る(ステップ206)。
したフローチャートの通りに行われる。即ち、デフロス
ト運転の開始と同時、又は−定時間(例えば5分)後に
前記センサー(TS)により検出する吸入ガス温度をも
とにその上昇率(α)を演算しくステップ201)、そ
の上昇率(α)が予め設定した前記上昇率(設定上昇率
)(αI)以下のとき(ステップ202)、前記インジ
ェクション弁(35)を開く(ステップ203)と同時
に、開動作時間(t2)を計時するt2タイマーがカウ
ントを開始しくステップ204)、一定時間(t 2=
5秒)の経過でカウントアツプした後(ステップ20
5)、前記インジエクシーン弁(35)を閉じるのであ
る(ステップ206)。
また、前記上昇率(α)が設定上昇率(α、)より大き
い場合には、前記インジエクシーン弁(35)が開かれ
ることなくデフロスト完了サーモ(TH)の動作(ステ
ップ207)で、デフロスト運転が終了する(ステップ
108)。
い場合には、前記インジエクシーン弁(35)が開かれ
ることなくデフロスト完了サーモ(TH)の動作(ステ
ップ207)で、デフロスト運転が終了する(ステップ
108)。
しかして、この実施例によ、うても、低外気時のデフロ
スト運転には、前記インジェクシジン弁(35)の開動
作で液溜め部から前記インジェクション通路(36)を
介して前記デフロスト回路に一定量の冷媒が補給される
のであって、デフロスト時間を短縮できるのである。
スト運転には、前記インジェクシジン弁(35)の開動
作で液溜め部から前記インジェクション通路(36)を
介して前記デフロスト回路に一定量の冷媒が補給される
のであって、デフロスト時間を短縮できるのである。
また、第3実施例では、第1実施例と同様前記インジェ
クシーン弁(35)を一定時間(t2=5秒)開動作さ
せたが、第2実施例と同様、上昇率(α)に応じて前記
インジェクシーン弁(35)の開動作時間(1)を制御
してもよい。
クシーン弁(35)を一定時間(t2=5秒)開動作さ
せたが、第2実施例と同様、上昇率(α)に応じて前記
インジェクシーン弁(35)の開動作時間(1)を制御
してもよい。
この場合、前記出力部(50)として、前記センサー(
TS)からの情報をもとに演算する上昇率(α、〜α、
)に応じた出力値で出力するように構成すると共に、前
記冷媒補給手段として、前記出力部(50)からの出力
値に応じて前記インジェクシーン弁(35)の開動作時
間を、第10図の如く制御し、前記上昇率(α重〜α5
)に応じて一定量の冷媒を補給する補給量制御手段を設
けるのである。
TS)からの情報をもとに演算する上昇率(α、〜α、
)に応じた出力値で出力するように構成すると共に、前
記冷媒補給手段として、前記出力部(50)からの出力
値に応じて前記インジェクシーン弁(35)の開動作時
間を、第10図の如く制御し、前記上昇率(α重〜α5
)に応じて一定量の冷媒を補給する補給量制御手段を設
けるのである。
尚、前記インジェクシ蓼ン弁(35)の開動作時間(1
)の設定は、第2実施例と同様、外気温度が例えば−3
0℃のときにおける開動作時間(t2)つまり、上昇率
(α)が前記上昇率(α、)になるときの開動作時間(
t2)を最大として、外気温度が0℃のときの上昇率(
α2)では開動作時間を0時間として t=r <α)、即ち t = −t a ・α+β α 窃−α 1 により設定するのである。
)の設定は、第2実施例と同様、外気温度が例えば−3
0℃のときにおける開動作時間(t2)つまり、上昇率
(α)が前記上昇率(α、)になるときの開動作時間(
t2)を最大として、外気温度が0℃のときの上昇率(
α2)では開動作時間を0時間として t=r <α)、即ち t = −t a ・α+β α 窃−α 1 により設定するのである。
この場合も、前記設定上昇率(αI)以下で一定時間(
t2)開く第3実施例に比較してよりきめ細い不足冷媒
量の補給が可能となり、保護領域内でのデフロスト運転
を補償しながらデフロスト時間の短縮が可能となる。
t2)開く第3実施例に比較してよりきめ細い不足冷媒
量の補給が可能となり、保護領域内でのデフロスト運転
を補償しながらデフロスト時間の短縮が可能となる。
この第4実施例のデフロスト運転は第11図に示したフ
ローチャートの通りに行なわれる。
ローチャートの通りに行なわれる。
このフローチャートは第9図に示した第3実施例のフロ
ーチャートと、基本的には同じものであるので、その詳
細は省略し、その相違点のみを説明すると、前記吸入ガ
ス温度の上昇率(α)が、外気温度O℃又は0℃に近い
ときの上昇率(α2)以下のとき(ステップ202)、
前記インジェクシ日ン弁(35)の開動作時間(1)を
設定しくステップ203)、その時間経過後(ステップ
206)、前記インジェクション弁(35)を閉じるの
である(ステップ207)。
ーチャートと、基本的には同じものであるので、その詳
細は省略し、その相違点のみを説明すると、前記吸入ガ
ス温度の上昇率(α)が、外気温度O℃又は0℃に近い
ときの上昇率(α2)以下のとき(ステップ202)、
前記インジェクシ日ン弁(35)の開動作時間(1)を
設定しくステップ203)、その時間経過後(ステップ
206)、前記インジェクション弁(35)を閉じるの
である(ステップ207)。
また、前記吸入ガス温度の上昇率(α)が前記上昇率(
α2)より大きいときなには、開動作時間(1)は0時
間になる(ステップ208)。
α2)より大きいときなには、開動作時間(1)は0時
間になる(ステップ208)。
以上説明した各実施例は、吸入ガス温度(T)及びその
上昇率(α)をもとに前記インジェクシ日ン弁(35)
を制御したが、その他、吸入ガス温度(T)がデフロス
ト運転開始から一定値(T、)になるまでの時間により
制御してもよい。
上昇率(α)をもとに前記インジェクシ日ン弁(35)
を制御したが、その他、吸入ガス温度(T)がデフロス
ト運転開始から一定値(T、)になるまでの時間により
制御してもよい。
第1及び第2実施例では、デフロスト運転開始後一定時
間(11)を経過したときの吸入ガス温度(T)をもと
に前記インジェクシーン弁(35)を制御したのに対し
、この第5実施例ではその逆にしたものである。
間(11)を経過したときの吸入ガス温度(T)をもと
に前記インジェクシーン弁(35)を制御したのに対し
、この第5実施例ではその逆にしたものである。
しかして、第5実施例における冷媒量不足検出手段とし
ては、第12図に示した如くデフロスト運転時における
吸入ガス温度(T)を検出し、吸入ガス温度(T)が一
定値(TI)になったとき出力する吸入ガス温度検出器
(TS)と、デフロスト運転開始から吸入ガス温度(T
)が前記−定値になるまでの時間(to)を計測し、そ
の時間(to)が一定時間(t、)以上のとき出力する
タイマー(TM)をもった出力部(60)とで構成する
のであり、また、前記冷媒補給制御手段として前記出力
部(60)からの出力で前記インジェクシ目ン弁(35
)を一定時間(例えば5秒)開動作させ、一定量の冷媒
を補給する定量制御手段を設けるのである。
ては、第12図に示した如くデフロスト運転時における
吸入ガス温度(T)を検出し、吸入ガス温度(T)が一
定値(TI)になったとき出力する吸入ガス温度検出器
(TS)と、デフロスト運転開始から吸入ガス温度(T
)が前記−定値になるまでの時間(to)を計測し、そ
の時間(to)が一定時間(t、)以上のとき出力する
タイマー(TM)をもった出力部(60)とで構成する
のであり、また、前記冷媒補給制御手段として前記出力
部(60)からの出力で前記インジェクシ目ン弁(35
)を一定時間(例えば5秒)開動作させ、一定量の冷媒
を補給する定量制御手段を設けるのである。
尚、前記出力部(60)が出力する前記一定時間、つま
り、設定時間(t4)は、第13図に示した通り例えば
外気温度が0℃のときにおいて、吸入ガス温度(T)が
0℃になるまでの時間を基準に設定するのであり、また
、前記インジェクシ日ン弁(35)の開動作時間(t2
)は、前記実施例と同様5秒に設定するのである。
り、設定時間(t4)は、第13図に示した通り例えば
外気温度が0℃のときにおいて、吸入ガス温度(T)が
0℃になるまでの時間を基準に設定するのであり、また
、前記インジェクシ日ン弁(35)の開動作時間(t2
)は、前記実施例と同様5秒に設定するのである。
前記一定時間(t4)を吸入ガス温度(T)が0℃にな
るまでの時間を基準にするのは、0℃又はその近くで吸
入ガス温度(T)は最も変化が少なく安定するのを利用
するためで、斯くすることにより吸入ガス温度(T)を
もとに制御する第1.2実施例に比較して制御の安定性
が増大するのである。
るまでの時間を基準にするのは、0℃又はその近くで吸
入ガス温度(T)は最も変化が少なく安定するのを利用
するためで、斯くすることにより吸入ガス温度(T)を
もとに制御する第1.2実施例に比較して制御の安定性
が増大するのである。
又、この第5実施例によるデフロスト運転は、第14図
に示したフローチャートの通りに行なわれる。
に示したフローチャートの通りに行なわれる。
即ち、デフロスト運転の開始と同時に前記タイマー(T
M)がカウントを開始(ステップ301)すると共に、
前記センサー(TS)により吸入ガス温度(T)が検出
される(ステップ302)。
M)がカウントを開始(ステップ301)すると共に、
前記センサー(TS)により吸入ガス温度(T)が検出
される(ステップ302)。
そして、前記吸入ガス温度(T)が0℃になったとき(
ステップ303)、前記タイマー(TM)をカウントア
ツプさせ、その時間(to)を計測しくステップ304
)、その計測時間(t。)と前記設定時間(t4)とを
比較する(ステップ305)。この比較で、前記計測時
間(t。)が設定時間(t4)以上のとき、前記インジ
ェクシ四ン弁(35)を開<(ステップ30θ)と同時
に、開動作時間(t2)を計測するt2タイマーがカウ
ントを開始しくステップ307)、一定時間(5秒)の
経過でカウントアツプした後(ステップ306)、前記
インジエクシeン弁(35)を閉じるのである(ステッ
プ309)。
ステップ303)、前記タイマー(TM)をカウントア
ツプさせ、その時間(to)を計測しくステップ304
)、その計測時間(t。)と前記設定時間(t4)とを
比較する(ステップ305)。この比較で、前記計測時
間(t。)が設定時間(t4)以上のとき、前記インジ
ェクシ四ン弁(35)を開<(ステップ30θ)と同時
に、開動作時間(t2)を計測するt2タイマーがカウ
ントを開始しくステップ307)、一定時間(5秒)の
経過でカウントアツプした後(ステップ306)、前記
インジエクシeン弁(35)を閉じるのである(ステッ
プ309)。
また、前記計測時間(t o)が設定時間(t)より短
かいときには、前記インジェクシジン弁(35)を閉じ
るのである(ステップ309)。
かいときには、前記インジェクシジン弁(35)を閉じ
るのである(ステップ309)。
また、前記計測時間(to)が設定時間(t4)より短
いときには、前記インジェクシーン弁(35)は開かれ
ることなくデフロスト完了サーモ(TH)の動作で(ス
テップ310)、デフロスト運転が終了するのである(
ステップ311)。
いときには、前記インジェクシーン弁(35)は開かれ
ることなくデフロスト完了サーモ(TH)の動作で(ス
テップ310)、デフロスト運転が終了するのである(
ステップ311)。
従って、この実施例によっても、低外気時のデフロスト
運転には、所定の冷媒量が補給されるのであって、デフ
ロスト運転を短縮できるのである。
運転には、所定の冷媒量が補給されるのであって、デフ
ロスト運転を短縮できるのである。
また、第5実施例は前記インジェクシーン弁(35)を
一定時間(5秒)開動作させたが、第2実施例及び第4
実施例と同様、吸入ガス温度(T)が0℃になるまでの
時間< t o、)に応じて前記インジェクション弁(
35)の開動作時間(1)を制御してもよい。
一定時間(5秒)開動作させたが、第2実施例及び第4
実施例と同様、吸入ガス温度(T)が0℃になるまでの
時間< t o、)に応じて前記インジェクション弁(
35)の開動作時間(1)を制御してもよい。
この場合、出力部(60)は、デフロスト運転の開始か
ら吸入ガス温度(T)が一定値(T。
ら吸入ガス温度(T)が一定値(T。
=0℃)になるまでの時間に応じた出力値を出力するよ
うに構成すると共に、冷媒補給手段として、前記出力部
(60)からの出力値に応じて前記インジェクション弁
(35)の開動作時間(1)を、第15図のように制御
し、前記計測時間(to)に応じた一定量の冷媒を補給
する補給量制御手段を設けるのである。
うに構成すると共に、冷媒補給手段として、前記出力部
(60)からの出力値に応じて前記インジェクション弁
(35)の開動作時間(1)を、第15図のように制御
し、前記計測時間(to)に応じた一定量の冷媒を補給
する補給量制御手段を設けるのである。
尚、前記開動作時間(1)の設定は、第2゜4実施例と
間様、外気温度が例えば−30℃のときの開動作時間(
ti)、つまり、前記計測時間(to)が設定時間(t
4)を越えて第16図に示した時間(t、)になるとき
の開動作時間(t2)を最大とし、計測時間(to)が
設定温度(t4)となるとき、つまり外気温度が0℃の
ときの開動作時間(t2)を0時間としてt=f(to
)、即ち、 1 : −1* ・to−β ts ″t4 により設定するのである。
間様、外気温度が例えば−30℃のときの開動作時間(
ti)、つまり、前記計測時間(to)が設定時間(t
4)を越えて第16図に示した時間(t、)になるとき
の開動作時間(t2)を最大とし、計測時間(to)が
設定温度(t4)となるとき、つまり外気温度が0℃の
ときの開動作時間(t2)を0時間としてt=f(to
)、即ち、 1 : −1* ・to−β ts ″t4 により設定するのである。
この場合も、第5実施例に比較してよりきめ細かい不足
冷媒量の補給が可能となる。
冷媒量の補給が可能となる。
この第6図実施例のデフロスト運転は第17図に示した
フローチャートにより行なわれる。
フローチャートにより行なわれる。
このフローチャートは第14図に示した第5実施例のフ
ローチャートと基本的には同じであるので、その詳細は
省略し、その相違点のみを説明すると、計測時間(to
)が設定時間(t4)以上のとき(ステップ305)、
前記インジェクション弁(35)の開動作時間(1)を
設定しくステップ306)、その時間経過後(307)
、前記インジェクシーン弁(35)を閉じるのである
。
ローチャートと基本的には同じであるので、その詳細は
省略し、その相違点のみを説明すると、計測時間(to
)が設定時間(t4)以上のとき(ステップ305)、
前記インジェクション弁(35)の開動作時間(1)を
設定しくステップ306)、その時間経過後(307)
、前記インジェクシーン弁(35)を閉じるのである
。
また、前記計測時間(tO)が設定時間(t4)より短
かいときには開動作時間(1)は0時間になる(ステッ
プ311)。
かいときには開動作時間(1)は0時間になる(ステッ
プ311)。
以上説明した実施例は、何れも吸入ガス温度をもとに前
記インジェクシUン弁(35)を制御したが、その他、
高圧圧力をもとに制御することもできる。
記インジェクシUン弁(35)を制御したが、その他、
高圧圧力をもとに制御することもできる。
この場合、第18図の如く、冷媒量不足検出手段として
、高圧圧力検出センサー(PS)を用い、このセンサー
(PS)を前記圧縮機(1)の吐出口と前記ホットガス
弁(21)の介装位置との間の高圧ガス管(6a)又は
、図示していないが、デフロスト回路に設けるのである
。
、高圧圧力検出センサー(PS)を用い、このセンサー
(PS)を前記圧縮機(1)の吐出口と前記ホットガス
弁(21)の介装位置との間の高圧ガス管(6a)又は
、図示していないが、デフロスト回路に設けるのである
。
所で、デフロスト運転時の高圧圧力(P)は、第19図
に示した如くデフロスト運転時の外気温度により太き(
変わると共に、デフロスト開放後の時間経過と共に変化
し、その変化は、外気温度に対応して異なるのであって
、外気温度による高圧圧力の変化は、吸入ガス温度の変
化より大きい。
に示した如くデフロスト運転時の外気温度により太き(
変わると共に、デフロスト開放後の時間経過と共に変化
し、その変化は、外気温度に対応して異なるのであって
、外気温度による高圧圧力の変化は、吸入ガス温度の変
化より大きい。
即ち、デフロスト運転時の高圧圧力(P)は、低外気時
における計量部(33)からの流出が少ないことと、前
記計量部(33)への逆流による該計量部(33)での
溜り込みとにより冷媒量が減少すると、大きく低下し、
外気温度0℃以下においては、デフロスト運転開始後一
定時間をピークにその後はむしろ減少するのである。
における計量部(33)からの流出が少ないことと、前
記計量部(33)への逆流による該計量部(33)での
溜り込みとにより冷媒量が減少すると、大きく低下し、
外気温度0℃以下においては、デフロスト運転開始後一
定時間をピークにその後はむしろ減少するのである。
従って、前記高圧圧力(P)を検出することにより、外
気温度に対応した冷媒量の不足を、吸入ガス温度(T)
を検出する場合に比較してより正確に行なえるのである
。
気温度に対応した冷媒量の不足を、吸入ガス温度(T)
を検出する場合に比較してより正確に行なえるのである
。
しかして、以上の如く高圧圧力(P)を検出して前記イ
ンジェクシWン弁(35)の制御を行なう場合、デフロ
スト運転開始後一定時間(tI)経過したときの高圧圧
力(P)を検出して行して行う場合とがあるし、また、
これらの検出で前記インジェクシーン弁(35)を開動
作させる場合、一定時間(t2)にする場合と、検出値
に応じて開動作時間(t2)を制御する場合とがある。
ンジェクシWン弁(35)の制御を行なう場合、デフロ
スト運転開始後一定時間(tI)経過したときの高圧圧
力(P)を検出して行して行う場合とがあるし、また、
これらの検出で前記インジェクシーン弁(35)を開動
作させる場合、一定時間(t2)にする場合と、検出値
に応じて開動作時間(t2)を制御する場合とがある。
これらの各形態は、前記した第1乃至第1実施例と基本
的にその考え方が同じであるので、簡単に説明する。
的にその考え方が同じであるので、簡単に説明する。
■ 冷媒量不足検出手段としてデフロスト運転開始後一
定時間(1+)経過したときの高圧圧力CP>を検出し
、高圧圧力(P)が一定圧力(P2)以下のとき、出力
する高圧圧力検出センサー(PS)を用い、冷媒補給制
御手段として前記センサー(PS)からの出力で、前記
インジェクション弁(35)を一定時間(t3)開動作
させ一定量の冷媒を補給する定量制御手段を設ける(第
7実施例)。
定時間(1+)経過したときの高圧圧力CP>を検出し
、高圧圧力(P)が一定圧力(P2)以下のとき、出力
する高圧圧力検出センサー(PS)を用い、冷媒補給制
御手段として前記センサー(PS)からの出力で、前記
インジェクション弁(35)を一定時間(t3)開動作
させ一定量の冷媒を補給する定量制御手段を設ける(第
7実施例)。
この第7実施例において、前記センサー(PS)が出力
する高圧圧力は、外気温度0℃においてデフロスト運転
開始後一定時間(t、)経過したときの高圧圧力(p2
)、例えば8 kgを基準に設定するのであり、また、
前記一定時間(t8)は、大略5分に設定し、前記イン
ジェクシ騨ン弁(35)の開動作時間(t2)は5秒に
設定するのである。
する高圧圧力は、外気温度0℃においてデフロスト運転
開始後一定時間(t、)経過したときの高圧圧力(p2
)、例えば8 kgを基準に設定するのであり、また、
前記一定時間(t8)は、大略5分に設定し、前記イン
ジェクシ騨ン弁(35)の開動作時間(t2)は5秒に
設定するのである。
又、この第7実施例によるデフロスト[iは第20図に
示したフローチャートの通りに行われる。
示したフローチャートの通りに行われる。
■ 冷媒量不足検出手段として、デフロスト運転開始後
一定時間(t+)!!遇したときの高圧圧力(P)を検
出し、この高圧圧力の検出温度に応じた出力値で出力す
る高圧圧力検出センサー(PS)を用い、冷媒補給制御
手段として、前記センサー(PS)からの出力値に応じ
て前記インジェクション弁(35)の開動作時間(1)
を第21図のように制御し1高圧圧力(P、〜P、)に
応じて一定量の冷媒を補給する補給量制御手段を設ける
(第8実施例)。
一定時間(t+)!!遇したときの高圧圧力(P)を検
出し、この高圧圧力の検出温度に応じた出力値で出力す
る高圧圧力検出センサー(PS)を用い、冷媒補給制御
手段として、前記センサー(PS)からの出力値に応じ
て前記インジェクション弁(35)の開動作時間(1)
を第21図のように制御し1高圧圧力(P、〜P、)に
応じて一定量の冷媒を補給する補給量制御手段を設ける
(第8実施例)。
この第8実施例における前記開動作時間(1)の設定は
、外気温度が例えば−30℃のときの開動作時間(tn
)、即ち、前記一定時間(t t= 5分)後の高圧圧
力CP)が、前記設定圧力(P2)より低い圧力(P1
)となるときの開動作時間(t2)を最大とし、高圧圧
力(P)が、前記設定圧力(P、)となるときの開動作
時間を0時間としてt=f(P)、即ち、により設定す
るのである。
、外気温度が例えば−30℃のときの開動作時間(tn
)、即ち、前記一定時間(t t= 5分)後の高圧圧
力CP)が、前記設定圧力(P2)より低い圧力(P1
)となるときの開動作時間(t2)を最大とし、高圧圧
力(P)が、前記設定圧力(P、)となるときの開動作
時間を0時間としてt=f(P)、即ち、により設定す
るのである。
この第8実施例によるデフロスト運転は、第22図に示
したフローチャートの通り行われる。
したフローチャートの通り行われる。
■ 冷媒量不足検出手段として、第23図に示した如く
デフロスト運転時における高圧圧力(P)を検出する高
圧圧力検出センサー(PS)と、該センサー(PS)か
らの情報をもとに高圧圧力負になったとき即ち、高圧圧
力(P)が下降したとき出力する出力部(70)とによ
り構成し、また、冷媒補給制御手段として前記出力部(
70)からの出力で前記インジェクシーン弁(35)を
一定時間(t2例えば5秒)開動作させ、一定量の冷媒
を補給する定量制御手段を設けるのである(第9実施例
)。
デフロスト運転時における高圧圧力(P)を検出する高
圧圧力検出センサー(PS)と、該センサー(PS)か
らの情報をもとに高圧圧力負になったとき即ち、高圧圧
力(P)が下降したとき出力する出力部(70)とによ
り構成し、また、冷媒補給制御手段として前記出力部(
70)からの出力で前記インジェクシーン弁(35)を
一定時間(t2例えば5秒)開動作させ、一定量の冷媒
を補給する定量制御手段を設けるのである(第9実施例
)。
尚、前記出力部(70)が出力する高圧圧力(P)の下
降は、外気温度が0℃以下のとき生ずる。また、この第
9実施例における前記インジェクシーン弁(35)の開
動作時間(t2)は5秒に設定するのである。
降は、外気温度が0℃以下のとき生ずる。また、この第
9実施例における前記インジェクシーン弁(35)の開
動作時間(t2)は5秒に設定するのである。
この第9実施例によるデフロスト運転は第24図に示し
たフローチャートの通りに行うのである。
たフローチャートの通りに行うのである。
■ 冷媒量不足検出手段として、第25図に示した如く
デフロスト運転時における高圧圧力(P)を検出する高
圧圧力検出センサー(PS)と、該センサー(PS)か
らの情報をもとに高圧圧力負になるとき、即ち、高圧圧
力(P)が下降するときの時間(tn)に応じた出力値
で出力するタイマー(TM)をもつ出力部(80)とに
より構成し、また冷媒補給手段として前記出力部(80
)からの出力値に応じて前記インジェクシーン弁(35
)の開動作時間(1)を前記時間(tn)に比例した値
(t=に@tm)(但しkは1より小さい正数)を制御
するのである(第10実施例)。
デフロスト運転時における高圧圧力(P)を検出する高
圧圧力検出センサー(PS)と、該センサー(PS)か
らの情報をもとに高圧圧力負になるとき、即ち、高圧圧
力(P)が下降するときの時間(tn)に応じた出力値
で出力するタイマー(TM)をもつ出力部(80)とに
より構成し、また冷媒補給手段として前記出力部(80
)からの出力値に応じて前記インジェクシーン弁(35
)の開動作時間(1)を前記時間(tn)に比例した値
(t=に@tm)(但しkは1より小さい正数)を制御
するのである(第10実施例)。
この場合、前記高圧圧力(P)で下降するときの時間(
tn)は、目標にするデフロスト時間(例えば45分)
より短かい時間(例えば40分)に制限を加えるのが好
ましい。
tn)は、目標にするデフロスト時間(例えば45分)
より短かい時間(例えば40分)に制限を加えるのが好
ましい。
又、前記インジェクシーン弁(35)の開動作時間(1
)の設定は、外気温度が例えば−30℃のときの開動作
時間(t2)を最大とし、外気温度が0℃のときの開動
作時間を0時間として設定するのである。
)の設定は、外気温度が例えば−30℃のときの開動作
時間(t2)を最大とし、外気温度が0℃のときの開動
作時間を0時間として設定するのである。
この第10実施例によるデフロスト運転は第26図に示
したフローチャート通り行うのである。
したフローチャート通り行うのである。
以上説明した各実施例は、吸入ガス温度(T)、高圧圧
力(P)をもとに前記インジェクシ關ン弁(35)を制
御したが、その他低圧圧力、高圧ガス温度又は外気によ
り制御してもよい。
力(P)をもとに前記インジェクシ關ン弁(35)を制
御したが、その他低圧圧力、高圧ガス温度又は外気によ
り制御してもよい。
また、冷媒供給手段として、インジェクション通路(3
6)及びインジェクシ側ン弁(35)により構成したが
、第1図の如く前記計量@(33)を構成する前記第2
電磁弁(32)を利用して構成してもよい。
6)及びインジェクシ側ン弁(35)により構成したが
、第1図の如く前記計量@(33)を構成する前記第2
電磁弁(32)を利用して構成してもよい。
この場合、前記第2電磁弁(32)の下流側即ち、高圧
液管(6b)及び低圧液管(6c)がインジェクシ璽ン
通路となる。− 更に、以上の実施例は、何れも計量部(33)を設け、
計量した冷媒によりデフロスト運転を行う所謂計量デフ
ロスト方式であるが、前記計量部を用いないで行う単純
デフロスト方式においも同様に適用できる。
液管(6b)及び低圧液管(6c)がインジェクシ璽ン
通路となる。− 更に、以上の実施例は、何れも計量部(33)を設け、
計量した冷媒によりデフロスト運転を行う所謂計量デフ
ロスト方式であるが、前記計量部を用いないで行う単純
デフロスト方式においも同様に適用できる。
(発明の効果)
本発明は、デフロスト運転時の岐溜め部からデフロスト
回路に冷媒を供給する冷媒供給手段を設け、デフロスト
運転時、冷媒量不足検出手段からの検出結果で不足冷媒
量を前記デフロスト回路に補給するようにしたから、外
気温度が低い場合でも、冷媒量不足なくデフロスト運転
が行なえ、従ってデフロスト時間を短縮できるのである
。
回路に冷媒を供給する冷媒供給手段を設け、デフロスト
運転時、冷媒量不足検出手段からの検出結果で不足冷媒
量を前記デフロスト回路に補給するようにしたから、外
気温度が低い場合でも、冷媒量不足なくデフロスト運転
が行なえ、従ってデフロスト時間を短縮できるのである
。
そして、前記冷媒量不足検出手段として吸入ガス温度セ
ンサー(PS)を用い、デフロスト運転開始後一定時間
経過したときの吸入ガス温度をもとに冷媒量不足を検出
することにより、庫内又は室内温度条件を考慮した上で
の冷媒量不足が検出でき、外気温度を検出する場合に比
較して正確な検出が可能となるのである。
ンサー(PS)を用い、デフロスト運転開始後一定時間
経過したときの吸入ガス温度をもとに冷媒量不足を検出
することにより、庫内又は室内温度条件を考慮した上で
の冷媒量不足が検出でき、外気温度を検出する場合に比
較して正確な検出が可能となるのである。
また、吸入ガス温度の上昇率を演算し、この上昇率をも
とに冷媒量不足を検出することにより、吸入ガス温度の
絶対値を検出する場合に比較してより正確な検出が可能
となる。
とに冷媒量不足を検出することにより、吸入ガス温度の
絶対値を検出する場合に比較してより正確な検出が可能
となる。
更に、デフロスト運転開始後吸入ガス温度が一定値(主
として0℃又は0℃近い温度)になるまでの時間を検出
し、この時間をもとに冷媒量不足を検出することにより
、誤差少なく安定した検出が可能となる。
として0℃又は0℃近い温度)になるまでの時間を検出
し、この時間をもとに冷媒量不足を検出することにより
、誤差少なく安定した検出が可能となる。
また、前記冷媒量不足検出手段として高圧圧力検出セン
サー(PS)を用い、デフロスト運転開始後一定時間経
過したときの高圧圧力をもとに冷媒量不足を検出するこ
とにより、吸入ガス温度の検出による場合に比較して外
気温度の変化に対する高圧圧力の変化が大きいことから
、より正確な検出が可能となるし、高圧圧力は、低外気
時即ち0℃以下において下降することになるので、この
下降を検出することにより、つまり高圧圧力の変化率を
演算し、その変化率が負になることを検出することによ
り更に正確な冷媒量不足の検出が可能となるのである。
サー(PS)を用い、デフロスト運転開始後一定時間経
過したときの高圧圧力をもとに冷媒量不足を検出するこ
とにより、吸入ガス温度の検出による場合に比較して外
気温度の変化に対する高圧圧力の変化が大きいことから
、より正確な検出が可能となるし、高圧圧力は、低外気
時即ち0℃以下において下降することになるので、この
下降を検出することにより、つまり高圧圧力の変化率を
演算し、その変化率が負になることを検出することによ
り更に正確な冷媒量不足の検出が可能となるのである。
また、高圧圧力が下降するときの時間を検出して冷媒量
不足を検出することにより、デフロスト運転の終了間際
までの冷媒量不足を検出でき、それだけ監視時間を長く
できるのである。更に、前記冷媒補給制御手段として前
記冷媒量不足検出手段からの検出値に応じて冷媒量を補
給する補給量制御手段を設けることにより、一定量の冷
媒を補給する場合に比較し人よりきめ細かな補給が可能
となり、デフロスト時間を短縮できると共に、高圧スイ
ッチや圧縮機(1)の過電流継電器が作動することのな
い保護領域でのデフロスト運転を可能にできるのである
。
不足を検出することにより、デフロスト運転の終了間際
までの冷媒量不足を検出でき、それだけ監視時間を長く
できるのである。更に、前記冷媒補給制御手段として前
記冷媒量不足検出手段からの検出値に応じて冷媒量を補
給する補給量制御手段を設けることにより、一定量の冷
媒を補給する場合に比較し人よりきめ細かな補給が可能
となり、デフロスト時間を短縮できると共に、高圧スイ
ッチや圧縮機(1)の過電流継電器が作動することのな
い保護領域でのデフロスト運転を可能にできるのである
。
また、前記冷媒供給手段としてインジェクシgン弁(3
5)及びインジェクション通路(36)を用いることに
より、デフロスト時の不足冷媒量の補給が確実に行える
し、また、計量部(33)を構成した冷凍装置において
前記計量部(33)を構成する第2開閉弁(32)を用
いることにより、特別な構造の追加なく不足冷媒の補給
が可能となるのである。
5)及びインジェクション通路(36)を用いることに
より、デフロスト時の不足冷媒量の補給が確実に行える
し、また、計量部(33)を構成した冷凍装置において
前記計量部(33)を構成する第2開閉弁(32)を用
いることにより、特別な構造の追加なく不足冷媒の補給
が可能となるのである。
第1図は本発明の第1実施例を示す冷媒配管系統図、第
2図は制御ブロック図、第3図はデフロスト運転時の外
気温度に対応する吸入ガス温度の変化を表わす吸入ガス
温度特性図、第4図は第1実施例のデフロスト運転時の
フローチャート図、第5図は第2実施例の吸入ガス温度
に対応する弁開動作時間の関係を示す制御図、第6図は
第2実施例のデフロスト運転時のフローチャート図、第
7図は第3実施例の冷媒量不足検出手段のブロック図、
第8図はデフロスト運転時の外気温度に対する吸入ガス
温度の上昇率を表わす吸入ガス温度上昇率特性図、第9
図は第3実施例のデフロスト運転時のフローチャート図
、第10図は第4実施例の吸入ガス温度上昇率に対応す
る弁開動作時間の関係を示す制御図、第11図は第4実
施例のデフロスト運転時のフローチャート図、第12図
は第5実施例の冷媒量不足検出手段のブロック図、第1
3図は第5実施例を説明するための吸入ガス温度特性図
、第14図は第5実施例のデフロスト運転時のフローチ
ャート図、第15図は吸入ガス温度が一定値になるまで
の時間に対応する弁開動作時間の関係を示す制御図、第
16図はデフロスト運転時の吸入ガス温度が一定値(0
℃)になるまでの時間を表わす吸入ガス温度特性図、第
17図は第6実施例のデフロスト運転時のフローチャー
ト図、第18図は第7実施例の冷媒配管系統図、第19
図はデフロスト運転時の外気温度に対応する高圧圧力の
変化を表わす高圧圧力特性図、第20図は第7実施例の
デフロスト運転時のフローチャート図、第21図は第8
実施例の高圧圧力に対応する弁開動作時間の関係を示す
制御図、第22図は第8実施例のデフロスト運転時のフ
ローチャート図、第23図は第9実施例の冷媒量検出手
段のブロック図、第24図は第9実施例のデフロスト運
転のフローチャート図、第25図は第10実施例の冷媒
量不足検出手段のブロック図、第26図は第10実施例
のデフロスト運転のフローチャート図、第27図は従来
例を示す冷媒配管系統図である。 (1)・・・・・・圧縮機 (2)(3)・・・・・・凝縮器 (4)・・・・・・蒸発器 (20)・・・・・・ホットガスバイパス路(21)・
・・・・・ホブトガス弁
2図は制御ブロック図、第3図はデフロスト運転時の外
気温度に対応する吸入ガス温度の変化を表わす吸入ガス
温度特性図、第4図は第1実施例のデフロスト運転時の
フローチャート図、第5図は第2実施例の吸入ガス温度
に対応する弁開動作時間の関係を示す制御図、第6図は
第2実施例のデフロスト運転時のフローチャート図、第
7図は第3実施例の冷媒量不足検出手段のブロック図、
第8図はデフロスト運転時の外気温度に対する吸入ガス
温度の上昇率を表わす吸入ガス温度上昇率特性図、第9
図は第3実施例のデフロスト運転時のフローチャート図
、第10図は第4実施例の吸入ガス温度上昇率に対応す
る弁開動作時間の関係を示す制御図、第11図は第4実
施例のデフロスト運転時のフローチャート図、第12図
は第5実施例の冷媒量不足検出手段のブロック図、第1
3図は第5実施例を説明するための吸入ガス温度特性図
、第14図は第5実施例のデフロスト運転時のフローチ
ャート図、第15図は吸入ガス温度が一定値になるまで
の時間に対応する弁開動作時間の関係を示す制御図、第
16図はデフロスト運転時の吸入ガス温度が一定値(0
℃)になるまでの時間を表わす吸入ガス温度特性図、第
17図は第6実施例のデフロスト運転時のフローチャー
ト図、第18図は第7実施例の冷媒配管系統図、第19
図はデフロスト運転時の外気温度に対応する高圧圧力の
変化を表わす高圧圧力特性図、第20図は第7実施例の
デフロスト運転時のフローチャート図、第21図は第8
実施例の高圧圧力に対応する弁開動作時間の関係を示す
制御図、第22図は第8実施例のデフロスト運転時のフ
ローチャート図、第23図は第9実施例の冷媒量検出手
段のブロック図、第24図は第9実施例のデフロスト運
転のフローチャート図、第25図は第10実施例の冷媒
量不足検出手段のブロック図、第26図は第10実施例
のデフロスト運転のフローチャート図、第27図は従来
例を示す冷媒配管系統図である。 (1)・・・・・・圧縮機 (2)(3)・・・・・・凝縮器 (4)・・・・・・蒸発器 (20)・・・・・・ホットガスバイパス路(21)・
・・・・・ホブトガス弁
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)圧縮機(1)から吐出されるホットガスを、凝縮器
(2、3)を側路して蒸発器(4)に導入させるホット
ガスバイパス路(20)と、該バイパス路(20)にホ
ットガスをバイパスさせるホットガス弁(21)とを備
え、前記圧縮機(1)とホットガスバイパス路(20)
及び蒸発器(4)との間でデフロスト回路を形成し、デ
フロスト運転可能とした冷凍装置において、デフロスト
運転時、前記凝縮器(2、3)を含むデフロスト運転時
の液溜め部から、前記デフロスト回路に冷媒を供給する
冷媒供給手段と、前記デフロスト回路における冷媒量の
不足を検出する冷媒量不足検出手段と、この検出手段か
らの検出結果により前記冷媒供給手段を作動させて前記
デフロスト回路に不足冷媒量を補給する冷媒補給制御手
段とを備えていることを特徴とする冷凍装置。 2)冷媒量不足検出手段がデフロスト運転開始後一定時
間経過したときの吸入ガス温度を検出し、吸入ガス温度
が一定値以下のとき出力する吸入ガス温度検出センサー
(TS)を備え、前記冷媒補給制御手段が、前記センサ
ー(TS)からの出力で一定量の冷媒を補給する定量制
御手段を備えている請求項1記載の冷凍装置。 3)冷媒量不足検出手段がデフロスト運転開始後一定時
間経過したときの吸入ガス温度を検出し、該吸入ガス温
度の検出温度に応じた出力値で出力する吸入ガス温度検
出センサー(TS)を備え、前記冷媒補給制御手段が、
前記センサー(TS)からの出力値に応じて一定量の冷
媒を補給する補給量制御手段を備えている請求項1記載
の冷凍装置。 4)冷媒量不足検出手段が、デフロスト運転時における
吸入ガス温度を検出する吸入ガス温度検出センサー(T
S)と、該センサー(TS)からの情報をもとに吸入ガ
ス温度の上昇率を演算し、その上昇率が一定値以下のと
き出力する出力部(50)とを備え、前記冷媒補給制御
手段が、前記出力部(50)からの出力で一定の冷媒を
補給する定量制御手段を備えている請求項1記載の冷凍
装置。 5)冷媒量不足検出手段が、デフロスト運転時における
吸入ガス温度を検出する吸入ガス温度検出センサー(T
S)を、該センサー(TS)からの情報をもとに吸入ガ
ス温度の上昇率を演算し、その上昇率に応じた出力値で
出力する出力部(50)とを備え、前記冷媒補給制御手
段が前記出力部(50)からの出力値に応じて一定量の
冷媒量を補給する補給量制御手段を備えている請求項1
記載の冷凍装置。 6)冷媒量不足検出手段が、デフロスト運転時における
吸入ガス温度を検出し、該吸入ガス温度が一定値になっ
たとき出力する吸入ガス温度検出センサー(TS)と、
デフロスト運転開始から、吸入ガス温度が前記一定値に
なるまでの時間を計測し、その時間が一定時間以上のと
き出力するタイマー(TM)をもった出力部(60)と
を備え、前記冷媒補給制御手段が前記出力値(60)か
らの出力で一定量の冷媒を補給する定量制御手段を備え
ている請求項1記載の冷凍装置。 7)冷媒量不足検出手段が、デフロスト運転時における
吸入ガス温度を検出し、該吸入ガス温度が一定値になっ
たとき、出力する吸入ガス温度検出センサー(TS)と
、デフロスト運転開始から吸入ガス温度が前記一定値に
なるまでの時間を計測し、その時間に応じた出力値で出
力するタイマー(TM)をもった出力部(60)とを備
え、前記冷媒補給制御手段が前記出力部(60)からの
出力値に応じて一定量の冷媒を補給する補給量制御手段
を備えている請求項1記載の冷凍装置。 8)冷媒量不足検出手段が、デフロスト運転開始後一定
時間経過したときの高圧圧力を検出し、高圧圧力が一定
値以下のとき出力する高圧圧力検出センサー(PS)を
備え、前記冷媒補給制御手段が前記センサー(PS)か
らの出力で一定量の冷媒を補給する定量制御手段を備え
ている請求項1記載の冷凍装置。 9)冷媒量不足検出手段がデフロスト運転開始後一定時
間経過したときの高圧圧力を検出し、該高圧圧力の検出
圧力に応じた出力値で出力する高圧圧力の検出圧力に応
じた出力値で出力する高圧圧力検出センサー(PS)を
備え、前記冷媒補給制御手段が、前記センサー(PS)
からの出力値に応じて一定量の冷媒を補給する補給量制
御手段を備えている請求項1記載の冷凍装置。 10)冷媒量不足検出手段がデフロスト運転時における
高圧圧力を検出する高圧圧力検出センサー(PS)と、
該センサー(PS)からの情報をもとに高圧圧力の変化
率を演算し、その変化率が一定値以下のとき出力する出
力部(70)とを備え、前記冷媒補給制御手段が、前記
出力値(70)からの出力で一定量の冷媒を補給する定
量制御手段を備えている請求項1記載の冷凍装置。 11)冷媒量不足検出手段がデフロスト運転時における
高圧圧力を検出する高圧圧力検出センサー(PS)と、
該センサー(PS)からの情報をもとに高圧圧力の変化
率を演算し、その変化率が一定値以下になると、の時間
に応じた出力値で出力する出力部(70)とを備え、前
記冷媒補給制御手段が前記出力部(70)からの出力値
に応じて一定量の冷媒を補給する補給量制御手段を備え
ている請求項1記載の冷凍装置。 12)圧縮機(1)から吐出されるホットガスを、凝縮
器(2、3)を側路して蒸発器(4)に導入するホット
ガスバイパス路(20)と、該ホットガスバイパス路(
20)にホットガスをバイパスさせるホットガス弁(2
1)とを備え、前記圧縮機(1)とホットガスバイパス
路(20)及び蒸発器(4)との間でデフロスト回路を
形成し、デフロスト運転可能とした冷媒装置において、
前記凝縮器(2、3)の下流側に、前記凝縮器(2、3
)を含む液溜め部の冷媒を計量すると、一定量の冷媒を
前記デフロスト回路に供給する計量部(33)を設ける
一方、デフロスト運転時前記液溜め部からデフロスト回
路に冷媒を供給する冷媒供給手段と、前記デフロスト回
路における冷媒量の不足を検出する冷媒量不足検出手段
と、この検出手段からの検出結果により前記冷媒供給手
段を作動させて前記デフロスト回路に不足冷媒量を補給
する冷媒補給制御手段とを備えていることを特徴とする
冷凍装置。 13)前記計量部(33)は、デフロスト運転の開始指
令で閉じ、液溜め部に冷媒を閉じ込める第1開閉機構(
30)と該第1開閉機構(30)の上流側に位置し、前
記液溜め部に閉じ込めた冷媒のうち、一定量の冷媒を計
量する第2開閉機構(32)とを備えている請求項12
記載の冷凍装置。 14)冷媒供給手段が計量部(33)を形成する第2開
閉機構(32)により形成されている請求項13記載の
冷凍装置。 15)冷媒供給手段が、液溜め部とデフロスト回路とを
結ぶインジェクション通路(36)と、該インジェクシ
ョン通路(36)に介装するインジェクション弁(35
)とから構成されている請求項1又は12記載の冷凍装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12670488A JPH01296066A (ja) | 1988-05-23 | 1988-05-23 | 冷凍装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12670488A JPH01296066A (ja) | 1988-05-23 | 1988-05-23 | 冷凍装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01296066A true JPH01296066A (ja) | 1989-11-29 |
| JPH0571863B2 JPH0571863B2 (ja) | 1993-10-08 |
Family
ID=14941790
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12670488A Granted JPH01296066A (ja) | 1988-05-23 | 1988-05-23 | 冷凍装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01296066A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04306469A (ja) * | 1991-01-25 | 1992-10-29 | Daikin Ind Ltd | 冷凍装置の運転制御装置 |
| WO2011064928A1 (ja) * | 2009-11-25 | 2011-06-03 | ダイキン工業株式会社 | コンテナ用冷凍装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5032827U (ja) * | 1973-07-18 | 1975-04-10 | ||
| JPS625054A (ja) * | 1985-06-28 | 1987-01-12 | ダイキン工業株式会社 | 冷凍装置のデフロスト運転制御装置 |
-
1988
- 1988-05-23 JP JP12670488A patent/JPH01296066A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5032827U (ja) * | 1973-07-18 | 1975-04-10 | ||
| JPS625054A (ja) * | 1985-06-28 | 1987-01-12 | ダイキン工業株式会社 | 冷凍装置のデフロスト運転制御装置 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04306469A (ja) * | 1991-01-25 | 1992-10-29 | Daikin Ind Ltd | 冷凍装置の運転制御装置 |
| WO2011064928A1 (ja) * | 2009-11-25 | 2011-06-03 | ダイキン工業株式会社 | コンテナ用冷凍装置 |
| JP2011133215A (ja) * | 2009-11-25 | 2011-07-07 | Daikin Industries Ltd | コンテナ用冷凍装置 |
| CN102648384A (zh) * | 2009-11-25 | 2012-08-22 | 大金工业株式会社 | 集装箱用制冷装置 |
| US9541317B2 (en) | 2009-11-25 | 2017-01-10 | Daikin Industries, Ltd | Container refrigeration system |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0571863B2 (ja) | 1993-10-08 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |