JPH01306856A - Plate for planographic printing - Google Patents
Plate for planographic printingInfo
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- JPH01306856A JPH01306856A JP13570588A JP13570588A JPH01306856A JP H01306856 A JPH01306856 A JP H01306856A JP 13570588 A JP13570588 A JP 13570588A JP 13570588 A JP13570588 A JP 13570588A JP H01306856 A JPH01306856 A JP H01306856A
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
- G03G5/147—Cover layers
- G03G5/14708—Cover layers comprising organic material
- G03G5/14713—Macromolecular material
- G03G5/14786—Macromolecular compounds characterised by specific side-chain substituents or end groups
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、電子写真方式で製版される電子写真式平版印
刷用原版に関するものであり、特に、光導電層上に特定
の性質を有する表面層を設ける様にした平版印刷用原版
に関する。Detailed Description of the Invention (Industrial Application Field) The present invention relates to an electrophotographic lithographic printing original plate made by an electrophotographic method, and in particular, a surface having specific properties on a photoconductive layer. This invention relates to a lithographic printing original plate having layers.
(従来技術及びその課B)
現在ダイレクト製版用のオフセット原版には多種のもの
が提案され且つ実用化されているが、中でも、導電性支
持体上に酸化亜鉛のごとき光導電性粒子及び結着樹脂を
主成分とした光導電層を設けた感光体を通常の電子写真
工程を経て、感光体表面に親油性の高いトナー画像を形
成させ、続いて該表面をエッチ液と言われる不惑脂化液
で処理し非画像部分を選択的に親水化することによって
オフセット原版を得る技術が広く用いられている。(Prior art and its section B) Currently, various types of offset original plates for direct plate making have been proposed and put into practical use.Among them, photoconductive particles such as zinc oxide and binders on a conductive support A photoreceptor provided with a photoconductive layer mainly composed of resin is subjected to a normal electrophotographic process to form a highly lipophilic toner image on the surface of the photoreceptor, and then the surface is treated with an unfavorable etchant called an etchant. A widely used technique is to obtain an offset original plate by selectively making non-image areas hydrophilic by treatment with a liquid.
良好な印刷物を得るには、先ずオフセット原版に、原画
が忠実に複写されると共に、感光体表面が不感脂化処理
液となじみ易く、非画像部が充分に親水化されると同時
に耐水性を有し、更に印刷においては、画像を有する光
導電層が離脱しないこと、及び湿し水とのなじみがよく
、印刷枚数が多くなっても汚れが発生しない様に充分に
非画像部の親水性が保持されること、等の性能を有する
必要がある。In order to obtain good printed matter, first, the original image is faithfully copied onto the offset master plate, the surface of the photoreceptor is easily compatible with the desensitizing treatment liquid, and the non-image area is made sufficiently hydrophilic, while at the same time it is water resistant. In addition, during printing, the photoconductive layer with the image does not separate, has good compatibility with dampening water, and has sufficient hydrophilicity in the non-image area to prevent staining even if a large number of prints are made. It is necessary to have performance such as the ability to maintain
特に、オフセット原版としては、不惑脂化性不充分によ
る地汚れ発生が大きな問題であり、これを改良するため
に、不怒脂化性を向上させる酸化亜鉛結着用樹脂の開発
が種々検討されており、例えば、特公昭50−3101
1号、特開昭53−54027号、特開昭54−207
:j5号、特開昭57−202544号、特開昭58−
68046号明細書等に開示されている。しかしながら
これらの不惑脂化性向上に効果があるとされる樹脂であ
っても現実に評価してみると、地汚れ、耐剛力において
未だ満足できるものではない。In particular, as an offset master plate, background smearing due to insufficient fat-proofing properties is a major problem, and in order to improve this problem, various studies have been conducted on the development of zinc oxide binding resins that improve fat-proofing properties. For example, Tokuko Sho 50-3101
No. 1, JP-A-53-54027, JP-A-54-207
:j5, JP-A-57-202544, JP-A-58-
It is disclosed in the specification of No. 68046 and the like. However, even if these resins are said to be effective in improving the anti-grease property, when actually evaluated, they are still unsatisfactory in terms of scumming and stiffness resistance.
一方、光導電性粒子として有機光導電性化合物を用い、
結着樹脂とともに光導電層を砂目立てしたアルミニウム
基板上に設けた電子写真体を用いることもできる。On the other hand, using an organic photoconductive compound as the photoconductive particle,
It is also possible to use an electrophotographic body in which a photoconductive layer is provided together with a binder resin on a grained aluminum substrate.
この種の原版を製版するには、上記と同様に、通常の電
子写真方法により、感光層上にトナー画像を形成した後
、処理液で非画像部を溶解除去する。これにより、非画
像部分はアルミニウム基板となり、親水性となるもので
ある。例えば、特公昭37−17162号、特公昭46
−39405号、特開昭52−2437号、特開昭56
−107246号等に示される、オキサジアゾール化合
物あるいはオキサゾール化合物をスチレン−無水マレイ
ン酸共重合体などのアルカリ可溶性樹脂で結着した感光
層を用いる場合、あるいは、特開昭55−105254
号、特開昭55−16125号、特開昭58−1509
53号、特開昭58−162961号明細書等に示され
る、フタロシアニン系顔料あるいはアブ顔料とアルカリ
可溶性のフェノール樹脂とから成る感光層を用いる場合
等が知られている。To make this type of master plate, as described above, a toner image is formed on the photosensitive layer by a normal electrophotographic method, and then the non-image area is dissolved and removed using a processing liquid. As a result, the non-image portion becomes an aluminum substrate and becomes hydrophilic. For example, Special Publication No. 37-17162, Special Publication No. 17162, Special Publication No. 17162
-39405, JP-A-52-2437, JP-A-56
When using a photosensitive layer in which an oxadiazole compound or an oxazole compound is bound with an alkali-soluble resin such as a styrene-maleic anhydride copolymer, as shown in Japanese Patent Application Laid-open No. 105254-10724, etc.
No., JP-A-55-16125, JP-A-58-1509
It is known that a photosensitive layer comprising a phthalocyanine pigment or an ab pigment and an alkali-soluble phenol resin is used, as shown in Japanese Patent Application Laid-open No. 58-162961 and the like.
しかし、この製版工程では非画像部の感光層を溶解除去
しなければならないために大がかりな装置が必要となり
、時間がかかるため製版速度も遅くなる。更には、処理
液(有機溶剤)としてエチレングリコール、グリセリン
、メタノール、エタノールなどが用いられているため、
この製版法によったのではコスト、安全性、公害、労働
衛生などに問題が残されている。However, in this plate-making process, the photosensitive layer in the non-image area must be dissolved and removed, which requires a large-scale apparatus, and this takes time, resulting in a slow plate-making speed. Furthermore, since ethylene glycol, glycerin, methanol, ethanol, etc. are used as processing liquids (organic solvents),
This plate-making method still poses problems in terms of cost, safety, pollution, and occupational health.
更に、通常の電子写真感光体上に特定の樹脂層を設ける
ことにより製版が容易な非画像部表面粗−水処理型の印
刷版を作成する方法が特公昭45−5606号に示され
ている。すなわち、電子写真感光層上にビニルエーテル
−無水マレイン酸共重合体およびこれと相溶性の疎水性
樹脂とからなる表面層を設けた印刷版が開示されている
。この層はトナー像形成後、非画像部をアルカリで処理
することにより酸無水環部分を加水開環することにより
親水化できる層(親水化可能層)である。Furthermore, Japanese Patent Publication No. 5606/1989 discloses a method for creating a water-treated printing plate with a surface roughness in non-image areas that is easy to plate-make by providing a specific resin layer on an ordinary electrophotographic photoreceptor. . That is, a printing plate is disclosed in which a surface layer comprising a vinyl ether-maleic anhydride copolymer and a hydrophobic resin compatible therewith is provided on an electrophotographic photosensitive layer. This layer is a layer that can be made hydrophilic (hydrophilicizable layer) by treating the non-image area with an alkali to open the acid anhydride ring portion with water after the toner image is formed.
そこで用いられているビニルエーテル−無水マレイン酸
共重合体は、開環して親水化された状態では水溶性とな
ってしまうため、たとえその他の疎水性の樹脂と相溶し
た状態で層が形成されていたとしても、その耐水性はは
なはだしく劣り、耐剛性はせいぜい500〜600枚が
限度であった。The vinyl ether-maleic anhydride copolymer used there becomes water-soluble when the ring is opened and made hydrophilic, so even if it is compatible with other hydrophobic resins, a layer may not be formed. Even if it were, its water resistance was extremely poor, and its rigidity was limited to 500 to 600 sheets at most.
更に、特開昭60−90343号、特開昭60−159
756号、特開昭61−217292号明細書等では、
シリル化されたポリビニルアルコールを主成分とし、且
つ架橋剤を併用した表面層(親水化可能層)を設ける方
法が示されている。Furthermore, JP-A-60-90343, JP-A-60-159
No. 756, JP-A No. 61-217292, etc.,
A method of providing a surface layer (hydrophilicizable layer) containing silylated polyvinyl alcohol as a main component and also using a crosslinking agent is disclosed.
即ち、この層は、トナー像形成後非画像部において、シ
リル化されたポリビニルアルコールを加水分解処理して
親水化するものである。父親水化後の膜強度を保持する
ため、ポリビニルアルコールのシリル化度を調整し、残
存水酸基を架橋剤を用いて架橋している。That is, in this layer, silylated polyvinyl alcohol is hydrolyzed in a non-image area after toner image formation to make it hydrophilic. In order to maintain the film strength after hydration, the degree of silylation of polyvinyl alcohol is adjusted and the remaining hydroxyl groups are crosslinked using a crosslinking agent.
これらにより印刷物の地汚れ性が改良され耐刷枚数が同
上すると記載されている。しかしながら、現実に評価し
てみると、特に地汚れにおいて未だ満足できるものでは
ない。また、シリル化ポリビニルアルコールはポリビニ
ルアルコールをシリル化剤で所望の割合にシリル化する
ことで製造しているが、高分子反応であることから、安
定して製造する事が難しい。更に親水化ポリマーの化学
構造が比定されているため、電子写真感光体としての機
能を阻害しないように、1)帯電性、2)複写画像の品
質(画像部の網点再現性・解像力、非画像部の地力ブリ
等)、3)露光悪魔、等に対して該表面層が影響しない
様にする事が難しい等の問題があった。It is stated that these improve the scumming resistance of printed matter and increase the number of printed sheets. However, when evaluated in reality, it is still unsatisfactory, especially in terms of background stains. Furthermore, silylated polyvinyl alcohol is produced by silylating polyvinyl alcohol to a desired ratio with a silylating agent, but since it is a polymer reaction, it is difficult to produce it stably. Furthermore, since the chemical structure of the hydrophilic polymer has been determined, it is important to ensure that 1) charging properties, 2) quality of copied images (halftone reproducibility and resolution of image areas, There were problems such as difficulty in preventing the surface layer from affecting 3) exposure problems, etc.) and 3) exposure problems.
更に、表面層樹脂として、分解により親水性基を生成す
る官能基を含有する樹脂を用いるものが検討されており
、例えば分解によりヒドロキシル基を生成する官能基を
含有するもの(特願昭62−106417号、特願昭6
2−151507号)、分解によりカルボキシル基を生
成する官能基を含有するもの(特願昭62−28345
号、特願昭62−226694号)、分解によりチオー
ル基を生成する官能基を含有するもの(特願昭62−2
70308号)、分解によりアミノ基を生成する官能基
を含有するもの(特願昭62−42455号)、分解に
よりスルホ基もしくはホスホ基を生成する官能基を含有
するもの(特願昭6242454号)等が開示されてい
る。Furthermore, as the surface layer resin, resins containing functional groups that generate hydrophilic groups upon decomposition are being considered; for example, resins containing functional groups that generate hydroxyl groups upon decomposition (Japanese Patent Application No. 1982 No. 106417, patent application No. 106417
2-151507), those containing functional groups that generate carboxyl groups upon decomposition (Japanese Patent Application No. 62-28345)
(Japanese Patent Application No. 62-226694), those containing a functional group that generates a thiol group by decomposition (Japanese Patent Application No. 62-226694);
70308), those containing a functional group that generates an amino group upon decomposition (Japanese Patent Application No. 62-42455), and those containing a functional group that generates a sulfo group or phospho group upon decomposition (Japanese Patent Application No. 6242454). etc. are disclosed.
これらの樹脂は不感脂化液又は印刷時に用いる湿し水に
より加水分解又は加水素分解されて親水性基を生成する
樹脂であり、これらを平版印刷用原版の表面層樹脂とし
て用いると、分解により生成される上記親水性基によっ
て非画像部の親水性が向上し、画像部の親油性と非画像
部の親水性が明確となり、印刷時に非画像部に印刷イン
キが付着するのを防止し、その結果として地汚れのない
鮮明な画質の印刷物を多数枚印刷することが可能となる
と記載されている。These resins are resins that are hydrolyzed or hydrolyzed by desensitizing liquid or dampening water used during printing to generate hydrophilic groups, and when these resins are used as surface layer resins of planographic printing original plates, they are The generated hydrophilic group improves the hydrophilicity of the non-image area, makes the lipophilicity of the image area and the hydrophilicity of the non-image area clear, and prevents printing ink from adhering to the non-image area during printing. It is stated that as a result, it becomes possible to print a large number of prints with clear image quality and no background smear.
しかしながら、これらの樹脂を用いても地汚れ、耐剛力
において未だ満足できるものではなく、上記の如き親水
性基性成官能基を含有する樹脂を用いた場合でも、非画
像部における親水性を更に向上させるべく、その含有量
を増大させた場合には、分解により生成した親水性基に
より親水性が増大するとともに表面層樹脂が水溶性とな
ってしまうため、特にその持続性において問題のあるこ
とが判った。However, even when these resins are used, they are still not satisfactory in terms of scumming and stiffness resistance, and even when using resins containing hydrophilic functional groups such as those mentioned above, it is difficult to further improve the hydrophilicity in non-image areas. If the content is increased in order to improve the performance, the hydrophilicity increases due to the hydrophilic groups generated by decomposition, and the surface layer resin becomes water-soluble, which poses a problem, especially in its sustainability. It turns out.
従って、非画像部の親水性による効果がより向上し、更
に持続性が向上する技術の出現が望まれる。Therefore, it is desired to develop a technique that further improves the effect of hydrophilicity in non-image areas and further improves durability.
更に、従来の技術では電子写真特性、皮膜性等の総合的
バランスをとる際の素材組成の許容範囲が狭い等の問題
があった。Further, in the conventional technology, there were problems such as a narrow allowable range of material composition when achieving a comprehensive balance of electrophotographic properties, film properties, etc.
本発明は、以上の様な電子写真式平版印刷用原版の有す
る問題点を改良するものである。The present invention is intended to improve the problems of electrophotographic lithographic printing original plates as described above.
本発明の目的は、原画に対して忠実な複写画像を再現し
、且つオフセット原版として全面−様な地汚れはもちろ
ん、点状の地汚れをも発生させない、不感脂化性の優れ
た平版印刷用原版を提供することである。The purpose of the present invention is to reproduce a copy image that is faithful to the original image, and to provide a lithographic printing method that has excellent desensitization properties and does not cause not only full-scale background smudges but also dotted smudges as an offset original plate. The purpose is to provide the original version.
本発明の他の目的は、印刷において印刷枚数が増加して
も非画像部の親水性が充分保たれ、地汚れが発生しない
、高耐剛力を有する平版印刷版を提供するものである。Another object of the present invention is to provide a lithographic printing plate which maintains sufficient hydrophilicity in non-image areas even when the number of printed sheets increases, does not cause scumming, and has high stiffness resistance.
本発明の他の目的は、表面層に用いられ、非画像部にお
いて親水化可能な樹脂であり、かつその製造が容易であ
る樹脂を有する平版印刷用原版を提供することである。Another object of the present invention is to provide a lithographic printing original plate having a resin that can be used in the surface layer, can be made hydrophilic in non-image areas, and is easy to manufacture.
本発明の他の目的は、電子写真特性、皮膜性等の総合的
バランスをとる際の素材組成の許容範囲の広い平版印刷
用原版を提供することである。Another object of the present invention is to provide a lithographic printing original plate having a wide range of material composition tolerances when achieving a comprehensive balance of electrophotographic properties, film properties, etc.
(課題を解決するための手段)
上記諸口的は、導電性支持体上に少なくとも1層の光導
電層を設け、更にその最上層に表面層を設けて成る電子
写真感光体を利用した平版印刷用原版において、該表面
層の主成分が、分解によりチオール基、ホスホ基、アミ
ノ基及びスルホ基のうちの少なくとも1つの基を生成す
る官能基を少なくとも1種含有する樹脂であり、且つ架
橋剤が共存している事を特徴とする電子写真式平版印刷
用原版により解決されることが見出された。(Means for Solving the Problems) The above-mentioned method is based on lithographic printing using an electrophotographic photoreceptor comprising at least one photoconductive layer on a conductive support and a surface layer on the top layer. In the original plate, the main component of the surface layer is a resin containing at least one functional group that generates at least one group among a thiol group, a phospho group, an amino group, and a sulfo group upon decomposition, and a crosslinking agent. It has been found that the problem can be solved by an original plate for electrophotographic planographic printing, which is characterized by the coexistence of the above problems.
本発明は平版印刷用原版の表面層の樹脂の少なくとも1
部に、分解して少なくとも1個のチオール基、ホスホ基
、アミノ基及び/又はスルホ基を生成する官能基を少な
くとも1種含有する樹脂を含有し、且つ、該樹脂を架橋
する架橋剤を共存させる事を特徴としている。これによ
り本発明による平版印刷用原版は、原画に対して忠実な
複写画像を再現し、非画像部の親水性が良好であるため
地汚れも発生せず、更に非画像部親水性の持続力向上に
より耐刷力が優れているという利点を有する。The present invention provides at least one of the resins in the surface layer of a lithographic printing original plate.
contains a resin containing at least one functional group that decomposes to produce at least one thiol group, phospho group, amino group and/or sulfo group, and coexists with a cross-linking agent that cross-links the resin. It is characterized by causing As a result, the lithographic printing original plate according to the present invention reproduces a copy image that is faithful to the original image, has good hydrophilicity in the non-image area, does not cause scumming, and has the ability to maintain hydrophilicity in the non-image area. This has the advantage of excellent printing durability.
以下に、本発明において用いられる分解して少なくとも
1個のチオール基、ホスホ基、スルホ基及び/又はアミ
ノ基の親水性基を生成する官能基を少なくとも1種含有
する樹脂(以下単に、「親水性基生成官能基含有樹脂」
と称することもある)について詳しく説明する。Below, the resin containing at least one kind of functional group that decomposes to produce at least one hydrophilic group of thiol group, phospho group, sulfo group and/or amino group (hereinafter simply referred to as "hydrophilic group") used in the present invention will be described. “Resin containing functional groups that generate functional groups”
) will be explained in detail.
本発明の親水性基生成官能基含有樹脂に含まれる官能基
は分解によって少なくとも1つの親水性基を生成するが
、1つの官能基から生成する親水性基は1個でも2個以
上でもよい。The functional group contained in the hydrophilic group-generating functional group-containing resin of the present invention generates at least one hydrophilic group by decomposition, and the number of hydrophilic groups generated from one functional group may be one or two or more.
以下、分解により少な(とも1個のチオール基を生成す
る官能基を含有する樹脂(チオール基生成官能基含有樹
脂)について詳述する。かかる樹脂は、
一般式(1): (−3−LA)
で示される官能基を少なくとも1種含有する樹脂である
。Hereinafter, a resin containing a functional group that generates at least one thiol group upon decomposition (thiol group-generating functional group-containing resin) will be described in detail. Such a resin has the general formula (1): (-3-LA ) It is a resin containing at least one type of functional group represented by the following.
一般式(1)(−3−L^〕において、LAは A 1
管
−Si −RA2、 CRA4 、 C
RAS。In general formula (1) (-3-L^), LA is A 1 tube -Si -RA2, CRA4, C
R.A.S.
古、、 II II
−C−0−RAh、−C−0−R”、−3−RA−S
但し、RAI、RAZ及びRAffは、互いに同じでも
異なってもよく、各々炭化水素基又は−〇−R”’(R
AIは炭化水素基を示す)を表わし、RA4、RAS、
RAS、 RA’T、RAJ、RA9及びRAIOは
各々独立に炭化水素基を表わす。II II -C-0-RAh, -C-0-R", -3-RA-S However, RAI, RAZ and RAff may be the same or different, and each represents a hydrocarbon group or -0 -R"'(R
AI represents a hydrocarbon group), RA4, RAS,
RAS, RA'T, RAJ, RA9 and RAIO each independently represent a hydrocarbon group.
上記−服代(−3−LA)の官能基は、分解によって、
チオール基を生成するものであり、以下更に詳しく説明
する。The functional group of the above -Fukudai (-3-LA) is decomposed,
It produces a thiol group, and will be explained in more detail below.
A 1
1、Aが一5t−RA” を表わす場合において、占
・・
RA l、RAI及びRA3は、互いに同じでも異なっ
ていてもよく、各々炭化水素基又は−Q RAI(R
A I Iは炭化水素基を示す)を表わす。RAI〜R
A3で表される炭化水素基としては、好ましくは置換さ
れてもよい炭素数1〜18の直鎖状又は分岐状アルキル
基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オ
クタデシル基、クロロエチル基、メトキシエチル基、メ
トキシプロピル基等)、置換されてもよい脂環式基(例
えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、置換す
れでもよい炭素数゛7〜12のアラルキル基(例えばベ
ンジル基、フェネチル基、クロロベンジル基、フロロベ
ンジル基、メチルベンジル基、メトキシベンジル基、3
−フェニルプロピル基等)及び置換されてもよい芳香族
基(例えばフェニル基、ナフチル基、クロロフェニル基
、トリル基、メトキシフェニル基、メトキシカルボニル
フェニル基、ジクロロフェニル基等)が挙げられる。R
AIIで表される炭化水素基は、好ましくは上記R^1
〜RA3で表される炭化水素基と同義である。In the case where A 1 1, A represents 15t-RA, RA l, RAI and RA3 may be the same or different, and each represents a hydrocarbon group or -Q RAI(R
A I I represents a hydrocarbon group). RAI〜R
The hydrocarbon group represented by A3 is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms which may be substituted (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group). group, decyl group, dodecyl group, octadecyl group, chloroethyl group, methoxyethyl group, methoxypropyl group, etc.), optionally substituted alicyclic group (e.g. cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), number of carbon atoms that may be substituted. 7 to 12 aralkyl groups (e.g. benzyl group, phenethyl group, chlorobenzyl group, fluorobenzyl group, methylbenzyl group, methoxybenzyl group, 3
-phenylpropyl group, etc.) and optionally substituted aromatic groups (eg, phenyl group, naphthyl group, chlorophenyl group, tolyl group, methoxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, dichlorophenyl group, etc.). R
The hydrocarbon group represented by AII is preferably the above R^1
It has the same meaning as the hydrocarbon group represented by ~RA3.
いて、RA4、RAS、RA6、RA7、RA8は各々
炭化水素基を表わす。R”〜RA11で表される炭化水
素基としては、好ましくは置換されていてもよい炭素数
1〜12の直鎖状又は分岐状アルキル基(例えばメチル
基、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基、メト
キシメチル基、エチル基、プロピルLn−7’チル基、
ヘキシル基、3−クロロプロピル基、フェノキシメチル
基、2.2.2−トリフルオロエチル基、t−ブチル基
、ヘキサフルオロ−1−プロピル基、オクチル基、デシ
ル基等)、置換されていてもよい炭素数7〜9のアラル
キル基(例えばベンジル基、フェネチル基、メチルベン
ジル基、トリメチルベンジル基、ヘプタメチルベンジル
基、メトキシベンジル基等)、置換されていてもよい炭
素数6〜12のアリール基(例えばフェニル基、ニトロ
フェニル基、シアノフェニル基、メタンスルホニルフェ
ニル基、メトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、ク
ロロフェニル基、ジクロロフェニル基、トリフルオロメ
チルフェニル基等)が挙げられる。RA4, RAS, RA6, RA7, and RA8 each represent a hydrocarbon group. The hydrocarbon group represented by R'' to RA11 is preferably an optionally substituted linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (for example, a methyl group, a trichloromethyl group, a trifluoromethyl group, Methoxymethyl group, ethyl group, propyl Ln-7'thyl group,
hexyl group, 3-chloropropyl group, phenoxymethyl group, 2.2.2-trifluoroethyl group, t-butyl group, hexafluoro-1-propyl group, octyl group, decyl group, etc.), even if substituted. Good aralkyl groups having 7 to 9 carbon atoms (e.g. benzyl group, phenethyl group, methylbenzyl group, trimethylbenzyl group, heptamethylbenzyl group, methoxybenzyl group, etc.), optionally substituted aryl groups having 6 to 12 carbon atoms (For example, phenyl group, nitrophenyl group, cyanophenyl group, methanesulfonylphenyl group, methoxyphenyl group, butoxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, trifluoromethylphenyl group, etc.).
を表わす場合において、RA9及びRAIOは同じでも
異なっていてもよく、各々炭化水素基を表わし、好まし
くは前記RA4〜RAIIで表される炭化水素基と同義
である。In the case where RA9 and RAIO may be the same or different, each represents a hydrocarbon group, and preferably has the same meaning as the hydrocarbon group represented by RA4 to RAII above.
本発明の他の好ましいチオール基生成官能基含有樹脂は
、−服代(I[)又は−服代(I[I)で示されるチイ
ラン環を少なくとも1種含有する樹脂である。Another preferred thiol group-forming functional group-containing resin of the present invention is a resin containing at least one thiirane ring represented by -Fukudai (I[) or -Fukudai (I[I)].
一般式(II)
AI2
一般式(I[[)
式(n)において、RAI2及びRA13は、互いに同
じでも異なってもよく、各々水素原子又は炭化水素基を
表わす。好ましい炭化水素基は、前記RA4〜RA7で
表される炭化水素基と同義である。General formula (II) AI2 General formula (I[[) In formula (n), RAI2 and RA13 may be the same or different from each other and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. Preferred hydrocarbon groups have the same meaning as the hydrocarbon groups represented by RA4 to RA7 above.
弐(I[I)において、XAは、水素原子又は脂肪族基
を表わす。好ましい脂肪族基としては、炭素数1〜6の
アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基等)を挙げることができる。In 2(I[I), XA represents a hydrogen atom or an aliphatic group. Preferred aliphatic groups include alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group,
butyl group, etc.).
本発明の更なる他の好ましいチオール基生成官能基含有
樹脂は、−服代(IV)で示されるイオウ原子含有のへ
テロ環基を少なくとも1種含有する樹脂である。Still another preferable thiol group-forming functional group-containing resin of the present invention is a resin containing at least one sulfur atom-containing heterocyclic group represented by (IV).
一般式(IV)
式(IV)において、YAは酸素原子又は−NH−基を
表わす。General formula (IV) In formula (IV), YA represents an oxygen atom or an -NH- group.
RA14 、RAl!+及びRA l &は、同じでも
異なっていてもよく、各々水素原子又は炭化水素基を表
わす。好ましい炭化水素基は、前記RA4〜RAffで
表される炭化水素基と同義である。RA14, RAl! + and RA l & may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. Preferred hydrocarbon groups have the same meanings as the hydrocarbon groups represented by RA4 to RAff above.
RAIO及びRA l 11は、同じでも異なっていて
もよく、水素原子、炭化水素基又は−ORAI9(RA
IOは炭化水素基を表わす)を表わす。RAIO及びR
AllIで表される炭化水素基は、好ましくは前記RA
I、 RA 3で表される炭化水素基と同一のもので
ある。RAIOで表される炭化水素基は前記RA11で
表される炭化水素基と同義である。RAIO and RA l 11 may be the same or different and represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group, or -ORAI9(RA
IO represents a hydrocarbon group). RAIO and R
The hydrocarbon group represented by AllI is preferably the RA
I, RA It is the same as the hydrocarbon group represented by 3. The hydrocarbon group represented by RAIO has the same meaning as the hydrocarbon group represented by RA11.
本発明の更なるもう一つの好ましい態様によれば、チオ
ール基生成官能基含有樹脂は、互いに立体的に近い位置
にある少なくとも2つのチオール基を1つの保護基で同
時に保護した形で有する官能基を少なくとも1種含有す
る樹脂である。According to yet another preferred embodiment of the present invention, the thiol group-generating functional group-containing resin has a functional group having at least two thiol groups that are sterically close to each other and simultaneously protected with one protecting group. It is a resin containing at least one kind of.
互いに立体的に近い位置にある少なくとも2つのチオー
ル基を1つの保護基で同時に保護した形で有する官能基
の例としては例えば下記−服代(V)、(Vl)及び(
■)で表わされるものを挙げることができる。Examples of functional groups having at least two thiol groups that are sterically close to each other and simultaneously protected with one protecting group include the following - Futoshiro (V), (Vl) and (
■) can be mentioned.
一般式(V)
一般式(Vl)
一般式(■)
式(v)及び式(Vl)において、ZAはへテロ原子を
介してもよい炭素−炭素結合又はC−S結合同志を直接
連結する化学結合を表わす(但し、イオウ原子間の原子
数は4個以内である)。更に一方の +ZA・・−・C
←結合が単なる結合のみを表わし、例えば下記の様にな
っていてもよい。General formula (V) General formula (Vl) General formula (■) In formula (v) and formula (Vl), ZA directly connects carbon-carbon bonds or C-S bonds, which may be via a heteroatom. Represents a chemical bond (however, the number of atoms between sulfur atoms is 4 or less). Furthermore, one side +ZA...-C
←The bond may represent only a simple bond, for example, as shown below.
式(Vl)において、RA20及びRAllは、同じで
も異なっていてもよく、各々水素原子、炭化水素基又は
−ORAg6 (RAg6は炭化水素基を示す)を表
わず。RA20及びRA21で表される炭化水素基とし
ては、好ましくは炭素数1〜12の置換されていてもよ
いアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘキシル基、2−メトキシエチル基、オ
クチル基等)、炭素数7〜9の置換されていてもよいア
ラルキル基(例えばベンジル基、フェネチル基、メチル
ベンジル基、メトキシベンジル基、クロロベンジル基等
)、炭素数5〜7の脂環式基(例えば、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基等)又は置換されていてもよいア
リール基(例えばフェニル基、クロロフェニル基、メト
キシフェニル基、メチルフェニル基、シアノフェニル基
等)を挙げることができる。RA Z 6で表される炭
化水素基は、RA!(1及びRAllで表される炭化水
素基と同義である。In formula (Vl), RA20 and RAll may be the same or different, and each does not represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group, or -ORAg6 (RAg6 represents a hydrocarbon group). The hydrocarbon group represented by RA20 and RA21 is preferably an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, 2-methoxy ethyl group, octyl group, etc.), optionally substituted aralkyl group having 7 to 9 carbon atoms (e.g. benzyl group, phenethyl group, methylbenzyl group, methoxybenzyl group, chlorobenzyl group, etc.), Examples include alicyclic groups (for example, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.) or optionally substituted aryl groups (for example, phenyl group, chlorophenyl group, methoxyphenyl group, methylphenyl group, cyanophenyl group, etc.). The hydrocarbon group represented by RA Z 6 is RA! (Synonymous with the hydrocarbon group represented by 1 and RAll.
式(■)において、RA22 、RA21 、RA24
、RA2sは、互いに同じでも異なっていてもよく、各
々水素原子又は炭化水素基を表わす。RA22〜RA
2 Sで表される炭化水素基は、好ましくはRA 20
及びRAllで表される炭化水素基と同義である。In formula (■), RA22, RA21, RA24
, RA2s may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. RA22~RA
The hydrocarbon group represented by 2S is preferably RA 20
It has the same meaning as the hydrocarbon group represented by and RAll.
本発明に用いられる一般式U)〜(■)で示される官能
基を少なくとも1種含有する樹脂は、重合体中に含有さ
れるチオール基を高分子反応によって保護基により保護
した形にする方法、又は予め保護基により保護された形
の1つ又は2つ以上のチオール基を含有する単量体の重
合反応もしくは該単量体及びこれと共重合し得る他の単
量体との重合反応により重合する方法により製造される
。The resin containing at least one type of functional group represented by the general formulas U) to (■) used in the present invention can be obtained by a method in which the thiol group contained in the polymer is protected with a protective group by a polymer reaction. , or a polymerization reaction of a monomer containing one or more thiol groups that has been previously protected with a protecting group, or a polymerization reaction of the monomer and another monomer that can be copolymerized with it. It is produced by a method of polymerization.
チオール基を含有する重合体は、該チオール基がラジカ
ル重合を禁止するため、チオール基含有の単量体をその
まま重合することは困難であるため、高分子反応でチオ
ール基を導入する方法かあるいは本発明に用いられる官
能基、イソチウロニウム塩、ブンテ塩等の形にチオール
基を保護した単量体を重合させた後分解反応を行なって
千オール基とする方法で製造される。Polymers containing thiol groups inhibit radical polymerization, so it is difficult to directly polymerize thiol group-containing monomers. The functional group used in the present invention is produced by polymerizing monomers with protected thiol groups in the form of isothiuronium salts, Bunte salts, etc., and then performing a decomposition reaction to form 1,000-ol groups.
従って、重合体中のチオール基を保護した官能基を任意
に調整し得ること、不純物を混入しないこと、あるいは
チオール基を保護した単量体でないと重合しないこと、
更に重合体中のチオール基は最終的には本発明に用いら
れる保護基により保護された形にしなければならないこ
と等の理由から、予め一般式(1)〜(■)の官能基を
含有する単量体からの重合反応により製造する方法が好
ましい。Therefore, it is possible to arbitrarily adjust the functional group that protects the thiol group in the polymer, that it does not contain impurities, or that it will not polymerize unless it is a monomer that protects the thiol group.
Furthermore, since the thiol group in the polymer must ultimately be protected by the protecting group used in the present invention, the polymer contains functional groups of general formulas (1) to (■) in advance. A method of manufacturing by polymerization reaction from monomers is preferred.
1つ又は少なくとも2つのチオール基を、保護基により
保護された官能基に変換する製造法としては、例えば、
岩倉貴男・栗田恵輔著「反応性高分子」230頁〜23
7頁(講談社、1977年刊)、日本化学金属「新実験
化学講座」第14巻、有機化合物の合成と反応〔■〕、
第8章、第1700頁〜1713頁、(丸善株式会社
1978年刊) 、J、 F、 W、 McOmie、
rProtective Groupsin Or
ganic Chemistry」第7章(Plenu
m Press、。As a production method for converting one or at least two thiol groups into a functional group protected by a protecting group, for example,
“Reactive Polymers” by Takao Iwakura and Keisuke Kurita, pages 230-23
7 pages (Kodansha, 1977), Nippon Kagaku Metals "New Experimental Chemistry Course" Volume 14, Synthesis and Reactions of Organic Compounds [■],
Chapter 8, pages 1700-1713, (Maruzen Co., Ltd.
(published in 1978), J., F., W., McOmie,
rProtective Groupsin Or
ganic Chemistry” Chapter 7 (Plenu
m Press,.
1973年刊) 、S、 Patat、 rThe
Chemistry ofThe Th1ol Gro
up Part2 J第12章、第14章(John
Wiley & 5ons+ 1974年刊)等の総説
引例の公知文献記載の方法等を適用することができる。(1973), S., Patat, rThe
Chemistry ofThe Th1ol Gro
up Part2 J Chapters 12 and 14 (John
It is possible to apply the methods described in known literature cited in reviews such as Wiley & 5ons+ (published in 1974).
1又は2以上のチオール基が保護基により保護された単
量体、例えば式(1)〜(■)で表わされる官能基を含
有する単量体は、具体的には、重合性の二重結合を含み
且つチオール基を少なくとも1個含有する化合物を、例
えば、前記した公知文献等に記載された方法に従って、
チオール基を一般式CI)〜(■)の官能基に変換する
か、あるいは−服代(1)〜(■)の官能基を含有する
化合物を重合性の二重結合を含む化合物と反応させる方
法によって、製造することができる。Monomers in which one or more thiol groups are protected with a protecting group, such as monomers containing functional groups represented by formulas (1) to (■), are specifically A compound containing a bond and at least one thiol group, for example, according to the method described in the above-mentioned known literature, etc.
Converting a thiol group to a functional group of the general formula CI) to (■), or reacting a compound containing a functional group of -Fukudai (1) to (■) with a compound containing a polymerizable double bond. It can be manufactured by a method.
−服代(1)〜(■)の官能基を含有する重合成分の繰
り返し単位の具体例として以下の様な例を挙げることが
できるが、本発明の範囲はこれらに限定されるものでは
ない。- Specific examples of repeating units of polymeric components containing functional groups (1) to (■) are listed below, but the scope of the present invention is not limited thereto. .
(1) −(−CH,−CH−)−S COCH
3
(2) −+CH2−CH←
5COCzHs
(3) −(−CH,−CH−)−5COC4H
。(1) -(-CH, -CH-)-S COCH
3 (2) -+CH2-CH← 5COCzHs (3) -(-CH, -CH-)-5COC4H
.
(4) −(−CH2−CH+−5COCRZC
f
(5) −(−CH2−CH−)−SC○0CJ
q
(8) −+CH2−CH+−
S 5i(CHz)3
S−coUじzHs
→CH、−C−→−
Coo(CH2)2S−COOC2H5(22)
CH。(4) -(-CH2-CH+-5COCRZC
f (5) -(-CH2-CH-)-SC○0CJ
q (8) −+CH2−CH+− S 5i(CHz)3 S−coUjizHs →CH, −C−→− Coo(CH2)2S−COOC2H5(22)
CH.
−(−CH2−C+
Coo(CH2)2S C3OCZH5(23)
CH。-(-CH2-C+ Coo(CH2)2S C3OCZH5(23)
CH.
(24) CH3
→CH2−C+
「
(25) −(−CH2−CH−)−C00(CH
2)2S−3i (CH3)3−(−CH2−C+
’5 C3OCzHs
(27) −÷CH,−CH−)−
□
C00(CH2)2SCOOC,H9
CH。(24) CH3 → CH2-C+ " (25) -(-CH2-CH-)-C00(CH
2) 2S-3i (CH3)3-(-CH2-C+ '5 C3OCzHs (27) -÷CH, -CH-)- □ C00(CH2)2SCOOC,H9 CH.
(2B) −(−CH,−C@− C0NH(CH,)、5COOC,H。(2B) -(-CH, -C@- CONH(CH,), 5COOC,H.
(30) −(−CH−CH← S \C/ 凸 I S□S S□S S□S CH。(30) -(-CH-CH← S \C/ Convex I S□S S□S S□S CH.
S□5 (42) CH,。S□5 (42) CH.
−(−CH、−C→− 「 0CH2CHCH2SCOCH3 □ C0CH5 −(−CH、−CH−)− −(−CH2−C→− 5COOC2H5 −(−CH、−C−±− C00(CH2)zS−3C,H。-(-CH, -C→- " 0CH2CHCH2SCOCH3 □ C0CH5 -(-CH, -CH-)- -(-CH2-C→- 5COOC2H5 -(-CH, -C-±- C00(CH2)zS-3C,H.
CH。CH.
翫 −(−CH、−C→− CH。pole -(-CH, -C→- CH.
−(−CH、−C−±−
C00(CH2)Z−3−CONH(CH2)2NI(
CI(3又、本発明において、分解してホスホ基、例え
ば下記−服代(■)又は(IX)の基を生成する官能基
を含有する樹脂について詳しく説明する。-(-CH, -C-±- C00(CH2)Z-3-CONH(CH2)2NI(
CI (3) In the present invention, a resin containing a functional group that decomposes to form a phospho group, for example, a group shown in (■) or (IX) below, will be explained in detail.
−服代(■)
p 1111
RI H
一般式(IX)
QP+2
−P−Z”−H
ZB3 )(
弐(■)において、R1l+は炭化水素基又は7.12
1’(II2 (ここでRI′2は炭化水素基を示し
、Zll2は酸素原子又はイオウ原子を示す)を表わす
。- Clothes cost (■) p 1111 RI H General formula (IX) QP+2 -P-Z''-H ZB3 ) (In 2 (■), R1l+ is a hydrocarbon group or 7.12
1'(II2 (here, RI'2 represents a hydrocarbon group, and Zll2 represents an oxygen atom or a sulfur atom).
Q”は酸素原子又はイオウ原子を表わす。Zll′は酸
素原子又はイオウ原子を表わす。式(IX)において、
Qll、Zll3及びZBl4は、各々独立に酸素原子
又はイオウ原子を表わす。Q" represents an oxygen atom or a sulfur atom. Zll' represents an oxygen atom or a sulfur atom. In formula (IX),
Qll, Zll3 and ZBl4 each independently represent an oxygen atom or a sulfur atom.
RI Iで表わされる炭化水素基としては、好ましくは
置換されていてもよい炭素数1〜12の直鎖状又は分岐
状アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、
デシル基、2−メトキシエチル基、3−メトキシプロピ
ル基、2−エトキシエチル基等)、置換されていてもよ
い脂環式基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシ
ル基等)、置換されていてもよい炭素数7〜12のアラ
ルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、メチル
ベンジル基、メトキシベンジル基、クロロベンジル基等
)、置換されていてもよい芳香族基(例えば、フェニル
基、クロロフェニル基、トリル基、キシリル基、メトキ
シフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、ジクロ
ロフェニル基等)が挙げられる。R12で表わされる炭
化水素基は上記R81で表わされる炭化水素基と同義で
ある。The hydrocarbon group represented by RI I is preferably an optionally substituted linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group). , hexyl group, octyl group,
decyl group, 2-methoxyethyl group, 3-methoxypropyl group, 2-ethoxyethyl group, etc.), optionally substituted alicyclic groups (e.g., cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), optionally substituted Aralkyl groups having 7 to 12 carbon atoms (e.g., benzyl group, phenethyl group, methylbenzyl group, methoxybenzyl group, chlorobenzyl group, etc.), optionally substituted aromatic groups (e.g., phenyl group, chlorophenyl group, tolyl group, etc.) group, xylyl group, methoxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, dichlorophenyl group, etc.). The hydrocarbon group represented by R12 has the same meaning as the hydrocarbon group represented by R81 above.
以上の如き、分解により式(■)又は(IX)で示され
るホスホ基を生成する官能基としては、−服代(χ)及
び/又は(XI)で示される官能基が挙げられる。Examples of the functional group that generates the phosphor group represented by the formula (■) or (IX) upon decomposition include the functional groups represented by the formula (χ) and/or (XI).
一般式(X)
1]
R11
Zll Lll
一般式(XI)
p Zl= II13
□
ZBl l、B2
式(X)及び(XI)において、Qll l、Qll、
Zl、7,83、Z84及びR1はそれぞれ式(■)及
び(IX)で定義した通りの内容を表わす。General formula (X) 1] R11 Zll Lll General formula (XI) p Zl= II13 □ ZBl l, B2 In formulas (X) and (XI), Qll l, Qll,
Zl, 7, 83, Z84 and R1 represent the contents as defined in formulas (■) and (IX), respectively.
Llll、 LIIZ及びII3は互いに独立にそれぞ
れCR1111、CR119、COR1+10、II
II IIを表わす場合において
、RI13及びR14は、互いに同じでも異なってもよ
く、水素原子、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原
子、フッ素原子等)又はメチル基を表わす。X B +
及びXI2は、電子吸引性置換基を表わし、好ましくは
ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子
等)、−CN、−CONH2、N Oa又ハS O2R
II”(R13は、メチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、ヘキシル基、ベンジル基、フェニル基、トリ
ル基、キシリル基、メシチル基等の如き炭化水素基を表
わす)を表わす。nは1又は2を表わす。Llll, LIIZ and II3 are each independently CR1111, CR119, COR1+10, II
When representing II II, RI13 and R14 may be the same or different and represent a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom, a fluorine atom, etc.) or a methyl group. X B +
and XI2 represents an electron-withdrawing substituent, preferably a halogen atom (e.g., chlorine atom, bromine atom, fluorine atom, etc.), -CN, -CONH2, N Oa or S O2R
II'' (R13 is a methyl group, an ethyl group, a propyl group,
represents a hydrocarbon group such as butyl group, hexyl group, benzyl group, phenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, etc.). n represents 1 or 2.
更に、Xl11はメチル基を表わしてもよく、この場合
には、R113及びR1がメチル基でn−1を表わす。Furthermore, Xl11 may represent a methyl group, and in this case, R113 and R1 are methyl groups and represent n-1.
RIIS
L1〜L!l:lが一3t−R”を表わす場合におい占
・・
て、R@S、 RB&及びR1!′7ハ、互イニ同じで
も異なっていてもよく、各々水素原子、炭化水素基又は
−0−R”’ (R”’は炭化水素基を示す)を表わ
す。Rss〜R1?で表される炭化水素基としては、好
ましくは置換されてもよい炭素数1〜18の直鎖状又は
分岐状アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、
ドデシル基、オクタデシル基、クロロエチル基、メトキ
シエチル基、メトキシプロピル基等)、置換されていて
もよい脂環式基(例えばシクロペンチル基、シクロヘキ
シル基等)、置換されてもよい炭素数7〜12のアラル
キル基(例えばベンジル基、フェネチル基、クロロベン
ジル基、メトキシベンジル基等)、置換されていてもよ
い芳香族基(例えばフェニル基、ナフチル基、クロロフ
ェニル基、トリル基、メトキシフェニル基、メトキシカ
ルボニルフェニル基、ジクロロフェニル基等)が挙げら
れる。R1+14で表される炭化水素基はRBS〜R1
17で表される炭化水素基と同義である。RIIS L1~L! When l:l represents 13t-R'', R@S, RB& and R1!'7c may be the same or different, and each represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group or -0 -R"'(R"' represents a hydrocarbon group). The hydrocarbon group represented by Rss to R1? is preferably a linear or branched chain having 1 to 18 carbon atoms that may be substituted. alkyl groups (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group,
dodecyl group, octadecyl group, chloroethyl group, methoxyethyl group, methoxypropyl group, etc.), optionally substituted alicyclic groups (e.g. cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), optionally substituted carbon atoms having 7 to 12 carbon atoms Aralkyl groups (e.g. benzyl group, phenethyl group, chlorobenzyl group, methoxybenzyl group, etc.), optionally substituted aromatic groups (e.g. phenyl group, naphthyl group, chlorophenyl group, tolyl group, methoxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group) group, dichlorophenyl group, etc.). The hydrocarbon group represented by R1+14 is RBS~R1
It has the same meaning as the hydrocarbon group represented by 17.
1、 B 1.Li2が−C−RB8、−C−R1I9
、s−R1112を表わす場合において、R11!l、
R1′9、RIIIO、RBI+及びR812は、各々
独立に炭化水素基を表わす。R11l〜RIII2で表
される炭化水素基としては、好ましくは置換されていて
もよい炭素数1〜6の直鎖状又は分岐状アルキル基(例
えばメチル基、トリクロロメチル基、トリフルオロメチ
ル基、メトキシメチル基、フェノキシメチルL 2,2
.2−トリフルオロエチル基、エチル基、プロピル基、
ヘキシル基、t−ブチル基、ヘキサフルオロ−1−プロ
ピル基等)、置換されていてもよい炭素数7〜9のアラ
ルキル基(例えばベンジル基、フェネチル基、メチルベ
ンジル基、トリメチルベンジル基、ヘプタメチルベンジ
ル基、メトキシベンジル基等)、置換されてもよい炭素
数6〜12のアリール基(例えばフェニル基、トリル基
、キシリル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、
メタンスルホニルフェニル基、メトキシフェニル基、ブ
トキシフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニ
ル基、トリフルオロメチルフェニル基等)が挙げられる
。1, B 1. Li2 is -C-RB8, -C-R1I9
, s-R1112, where R11! l,
R1'9, RIIIO, RBI+ and R812 each independently represent a hydrocarbon group. The hydrocarbon group represented by R111 to RIII2 is preferably an optionally substituted linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (e.g., methyl group, trichloromethyl group, trifluoromethyl group, methoxy Methyl group, phenoxymethyl L 2,2
.. 2-trifluoroethyl group, ethyl group, propyl group,
hexyl group, t-butyl group, hexafluoro-1-propyl group, etc.), optionally substituted aralkyl groups having 7 to 9 carbon atoms (e.g. benzyl group, phenethyl group, methylbenzyl group, trimethylbenzyl group, heptamethyl benzyl group, methoxybenzyl group, etc.), an optionally substituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms (e.g. phenyl group, tolyl group, xylyl group, nitrophenyl group, cyanophenyl group,
(methanesulfonylphenyl group, methoxyphenyl group, butoxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, trifluoromethylphenyl group, etc.).
を表わす場合において、Yl及びYl2はそれぞれ独立
に酸素原子又はイオウ原子を表わす。In the case where Yl and Yl2 each independently represent an oxygen atom or a sulfur atom.
本発明に用いられる官能基を少なくとも1種含有する樹
脂は、重合体に含有される上記の如き式(■)又は(I
X)の親水性基(ホスホ基)を高分子反応によって保護
基により保護した形にする方法、又は予め保護基により
保護された形の官能基(例えば式(X)又は(XI)の
官能基)を含有する単量体の重合反応、又は該単量体及
びこれと共重合し得る他の単量体との重合反応により重
合する方法により製造される。The resin containing at least one functional group used in the present invention is the formula (■) or (I) contained in the polymer.
X) A method in which a hydrophilic group (phospho group) is protected with a protecting group by a polymer reaction, or a functional group that is previously protected with a protecting group (for example, a functional group of formula (X) or (XI)) ), or a polymerization reaction between the monomer and another monomer that can be copolymerized with the monomer.
いずれの方法においても、保護基を導入する方法として
は、同様の合成反応を用いることができる。具体的には
、J、 F、 I+1. McOmie、 rProt
ectivegroups tn Organic C
hemistry J第6章(Pl、enuIrlPr
ess、1973年刊)の総説引例の公知文献に記載の
方法、あるいは日本化学会場「新実験化学講座第14巻
、有機化合物の合成と反応(■〕」第2497頁(丸善
株式会社刊、1978年)等の総説引例の公知文献に記
載のヒドロキシル基への保護基導入の方法と同様の合成
反応、あるいはS。In either method, a similar synthetic reaction can be used to introduce the protecting group. Specifically, J, F, I+1. McOmie, rProt.
activegroups tn Organic C
hemistry J Chapter 6 (Pl, enuIrlPr
ESS, 1973), or Nippon Kagaku Venue, "New Experimental Chemistry Course Volume 14, Synthesis and Reactions of Organic Compounds (■)", page 2497 (Maruzen Co., Ltd., 1978). ), or the same synthetic reaction as the method for introducing a protecting group into a hydroxyl group, as described in the known literature cited in the review, such as S.
Patai、 rThe Chemistry of
the Triol GroupPart2」第13章
、第14章(Wiley−1nterscience1
974年刊) 、T、 W、 Greene、 rP
rotectivegroups in Organi
c 5ynthesis 」第6章(Wiley−In
terscience l 9 B 1年刊)等の総説
引例の公知文献等に記載のチオール基への保護基導入の
方法と同様の合成反応により製造できる。Patai, rThe Chemistry of
the Triol Group Part 2” Chapters 13 and 14 (Wiley-1interscience 1
974), T., W., Greene, rP.
protective groups in Organi
Chapter 6 (Wiley-In
It can be produced by a synthetic reaction similar to the method for introducing a protecting group into a thiol group as described in the known literature cited in the review such as Terscience I9B 1st edition).
−服代(X)及び/又は(XI)の官能基を含有する重
合成分の繰り返し単位となり得る具体的な例として以下
の様な例を挙げることができる。- The following examples can be given as specific examples of repeating units of the polymeric component containing the functional groups of (X) and/or (XI).
しかし、本発明はこれらに限定されるものではない。However, the present invention is not limited thereto.
−(−CH2−CH←
0 P O5t(CHz)3
0 5t(CH:+h
−(−CH2−CH−)−
I
CHzOP OS l (CH3)3□
00−3i(C□)、!
−(−CH、−CH+−
CH2P OS i (C2H5):1OS i (
CzHs)3
O5t(OCH3)3
(61) CH。-(-CH2-CH← 0 P O5t(CHz)3 0 5t(CH:+h -(-CH2-CH-)- I CHzOP OS l (CH3)3□ 00-3i(C□),! -(- CH, -CH+- CH2P OS i (C2H5):1OS i (
CzHs)3O5t(OCH3)3 (61) CH.
暫 −(−CH2−C+ 0=P 0COC,、Hs 書 0COC6H5 一←CH2−C1(−)− CH。temporary -(-CH2-C+ 0=P 0COC,, Hs book 0COC6H5 One←CH2-C1(-)- CH.
fCHz C+
Coo(CHI)20−P−0−COCH3□
0−COCH5
(64) CH,J
□
−(−CHZ−C→−
〇
Coo(CH2)20 P O5i(CHa)i0
−3i(CHx’h
0− S i (Clli) zcaHqCOO(CH
2) 20 P OCH3□
O5i(CHx:h
S−COCH。fCHHz C+ Coo(CHI)20-P-0-COCH3□ 0-COCH5 (64) CH,J □ -(-CHZ-C→- 〇Coo(CH2)20 P O5i(CHa)i0
-3i(CHx'h 0- S i (Clli) zcaHqCOO(CH
2) 20 P OCH3□ O5i (CHx:h S-COCH.
0 COOCt H5 C00(CH2)30−P−S−COOC2H!。0 COOCt H5 C00(CH2)30-P-S-COOC2H! .
□
5−COC2H5
0 5i(OCHa)a
0 5t(CH:+:h
Q COC2H5
1]
Coo(CHz)z〇−P −S CS OCH35
−C3OCH。□ 5-COC2H5 0 5i (OCHa) a 0 5t (CH:+:h Q COC2H5 1] Coo (CHz)z〇-P -S CS OCH35
-C3OCH.
OS l (C,+Hs)s 1: Coo(CHz)z○−P−OC,H。OS l (C, +Hs)s 1: Coo(CHz)z○-P-OC,H.
CH。CH.
□ o−cooc、 トI。□ o-cooc, ToI.
一÷CH2−C−デー
O= P OS i (CH3)1
l−13
竜
0(CH2)2CN
次に、分解によりアミノ基〔例えば−NH,基及び/又
は−NHRC基(RCは炭化水素基を示す)]を生成す
る官能基として、例えば下記−服代(Xn)〜(XIV
)で表わされる基を挙げることができる。1 ÷ CH2-C-deO= POS i (CH3)1 l-13 R0 (CH2)2CN Next, by decomposition, amino groups [e.g. -NH, and/or -NHRC groups (RC is a hydrocarbon group) For example, as a functional group that generates the following
) can be mentioned.
一般式(Xll)
−N−COO−RC2
□
C1
一般式(XII[)
一般式(XTV)
弐(XI[)及び式(XIV)中、PCIは各々、水素
原子、又は炭化水素基を表わす。PCIで表わされる炭
化水素基としては、炭素数1〜12の置換されてもよい
アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデ
シル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、3
−クロロプロピル基、2−シアンエチル基、メトキシメ
チル基、2−メトキシエチル基、2−エトキシエチル基
、2−メトキシカルボニルエチル基、3−メトキシプロ
ピル基、6−クロロヘキシル基等)、炭素数5〜8の脂
環式基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基
等)、炭素数7〜12の置換されてもよいアラルキル基
(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプ
ロピル基、1−フェニルプロピル基、クロロベンジル基
、メトキシベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベン
ジル基等)、及び炭素数6〜12の置換されてもよい7
1J−ル基(例エバフェニル基、クロロフェニル基、ジ
クロロフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基
、クロロメチルフェニル基、クロロフェニル基、メトキ
シフェニル基、エトキシフェニル基、クロロメトキシフ
ェニル基等)が挙げられる。General formula (Xll) -N-COO-RC2 □ C1 General formula (XII[) General formula (XTV) In (XI[) and formula (XIV), PCI each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. The hydrocarbon group represented by PCI includes an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, an octyl group, a decyl group, a dodecyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 3
-chloropropyl group, 2-cyanoethyl group, methoxymethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-ethoxyethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 3-methoxypropyl group, 6-chlorohexyl group, etc.), number of carbon atoms Alicyclic groups having 5 to 8 carbon atoms (e.g., cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), optionally substituted aralkyl groups having 7 to 12 carbon atoms (e.g., benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, 1-phenylpropyl group) group, chlorobenzyl group, methoxybenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, etc.), and optionally substituted 7 having 6 to 12 carbon atoms.
1J-l groups (eg, evaphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, chloromethylphenyl group, chlorophenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, chloromethoxyphenyl group, etc.).
PCIが炭化水素基を表わす場合は、好ましくは炭素数
1〜8の炭化水素基である。When PCI represents a hydrocarbon group, it is preferably a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
式(XII)で表わされる官能基において、RC2は炭
素数2〜12の置換されてもよい脂肪族基を表わし、更
に具体的にはRC2は下記式(XV)で示される基、又
は脂環式基を表わす。In the functional group represented by formula (XII), RC2 represents an optionally substituted aliphatic group having 2 to 12 carbon atoms, and more specifically, RC2 represents a group represented by the following formula (XV) or an alicyclic group. Represents a formula group.
弐(XV)
ct
□
−(−C−+7 Y C
靜・
式(XV)中、RC7及びRCI+は、各々独立に水素
原子、ハロゲン原子(例えば弗素原子、塩素原子等)又
は炭素数1〜12の置換されてもよい炭化水素基(例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシ
ル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、2−メト
キシエチル基、2−クロロエチル基、3−ブロモプロピ
ル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、クロロベンジル
基、メトキシベンジル基、メチルベンジル基、フェネチ
ル基、3−フェニルプロピル基、フェニル基、トリル基
、キシリル基、メシチル基、クロロフェニル基、メトキ
シフェニル基、ジクロロフェニル基、り四ロメチルフェ
ニル基、ナフチル基等)を表わし、Ycは、水素原子、
ハロゲン原子(例えば弗素原子、塩素原子等)、シアノ
基、置換基を含有してもよい炭素数1〜4のアルキル基
(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
トリクロロメチル基、トリフロロメチル基、シアノメチ
ル基等)、脂環式基(例えばシクロプロピル基、ビシク
ロへブタン基等)、置換基を含有してもよい芳香族基(
例えばフェニル、l−IJル基、シアノフェニル基、2
.6−シメチルフエニルi、、2゜4.6−ドリメチル
フエニル基、ヘプタメチルフェニル基、2.6−シメト
キシフエニル基、2゜4.6−)リメトキシフェニル基
、2−プロピルフェニル基、2−7’チルフエニル基、
2−クロロ−6−メチルフェニル基、フラニル基等)、
又は−3O2−RC9(RC9は、Ycの炭化水素基と
同様の内容を表わす)を表わす。nは1又は2を表わす
。2(XV) ct □ -(-C-+7 Y C 靜・ In formula (XV), RC7 and RCI+ each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom (e.g., a fluorine atom, a chlorine atom, etc.) or a carbon number of 1 to 12 optionally substituted hydrocarbon groups (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, methoxymethyl group, ethoxymethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-chloroethyl group, 3-bromopropyl group) , cyclohexyl group, benzyl group, chlorobenzyl group, methoxybenzyl group, methylbenzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, phenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, chlorophenyl group, methoxyphenyl group, dichlorophenyl group, (tetramethylphenyl group, naphthyl group, etc.), and Yc is a hydrogen atom,
Halogen atoms (e.g. fluorine atoms, chlorine atoms, etc.), cyano groups, alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms which may contain substituents (e.g. methyl groups, ethyl groups, propyl groups, butyl groups,
trichloromethyl group, trifluoromethyl group, cyanomethyl group, etc.), alicyclic groups (e.g. cyclopropyl group, bicyclohebutane group, etc.), aromatic groups that may contain substituents (
For example, phenyl, l-IJ group, cyanophenyl group, 2
.. 6-dimethylphenyl i, 2゜4.6-drimethylphenyl group, heptamethylphenyl group, 2.6-simethoxyphenyl group, 2゜4.6-)rimethoxyphenyl group, 2-propylphenyl group , 2-7' tylphenyl group,
2-chloro-6-methylphenyl group, furanyl group, etc.),
or -3O2-RC9 (RC9 represents the same content as the hydrocarbon group of Yc). n represents 1 or 2.
より好ましくは、Ycが水素原子又はアルキル基の場合
には、ウレタン結合の酸素原子に隣接する炭素上のRC
7及びRCllは、水素原子以外の置換基を表わす。More preferably, when Yc is a hydrogen atom or an alkyl group, RC on the carbon adjacent to the oxygen atom of the urethane bond
7 and RCll represent a substituent other than a hydrogen atom.
Ycが水素原子又はアルキル基でない場合にはRC7及
びRC8は上記内容のいずれの基でもよい。When Yc is not a hydrogen atom or an alkyl group, RC7 and RC8 may be any of the groups listed above.
靜・
も1つ以上の電子吸引性基を含有する基を形成する場合
あるいはウレタン結合の酸素原子に隣接する炭素が立体
的にがさ高い基を形成する場合が好ましい例であること
を示すものである。Indicates that preferable examples include cases where a group containing one or more electron-withdrawing groups is formed, or a case where the carbon adjacent to the oxygen atom of the urethane bond forms a sterically bulky group. It is.
Rewで表わされる脂環式基としては、具体的には単環
式炭化水素基(例えば、シクロプロピル基、シクロブチ
ル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、1−メチ
ル−シクロヘキシル基、1−メチルシクロブチル基等)
及び架橋環式炭化水素基(例えば、ビシクロへブタン基
、ビシクロオクタン基、ビシクロオクテン基、ビシクロ
ノナン基、トリシクロへブタン基等)が挙げられる。The alicyclic group represented by Rew is specifically a monocyclic hydrocarbon group (e.g., cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, 1-methyl-cyclohexyl group, 1-methylcyclo butyl group, etc.)
and crosslinked cyclic hydrocarbon groups (eg, bicyclohebutane group, bicyclooctane group, bicyclooctene group, bicyclononane group, tricyclohebutane group, etc.).
−服代(XI[I)において、RC3及びRC4は同じ
でも異なっていてもよく、各々炭素数1〜12の炭化水
素基を表わし、具体的には、式(XIのYcにおける脂
肪族基又は芳香族基ど同様の内容を表わす。- In Fukudai (XI[I), RC3 and RC4 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, specifically, an aliphatic group in Yc of formula (XI or Represents the same content as aromatic groups.
一般式(X IV )において、XC+及びXC2は同
じでも異なっていてもよく、各々酸素原子又はイオウ原
子を表わす。RC5,Rcbは同じでも異なっていても
よく、各々炭素数1〜8の炭化水素基を表わし、具体的
には式(XII)のYCにおける脂肪族基又は芳香族基
と同様の内容を表わす。In the general formula (X IV ), XC+ and XC2 may be the same or different and each represents an oxygen atom or a sulfur atom. RC5 and Rcb may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and specifically represents the same content as the aliphatic group or aromatic group in YC of formula (XII).
本発明に用いられる分解によりアミノ基(例えば−NH
2基及び/又は−NHRc基)を生成する官能基、例え
ば上記−服代(XII)〜(X IV )の群から選択
される官能基を少なくとも1種含有する樹脂は、例えば
、日本化掌編、[新実験化学講座第14巻、有機化合物
の合成と反応(■]」第2555頁(丸善株式会社刊)
、J、 F、 lダ。The decomposition used in the present invention results in amino groups (e.g. -NH
2 groups and/or -NHRc groups), for example, the resin containing at least one functional group selected from the group of -Fukudai (XII) to (XIV), for example, Nippon Kashohen. , [New Experimental Chemistry Course Volume 14, Synthesis and Reactions of Organic Compounds (■]), page 2555 (published by Maruzen Co., Ltd.)
, J, F, lda.
McOmie、 「Protective group
s in Organic Che+++1s−t、r
y」第2章(Plenum PressSl 973年
刊)、rProtective groups in
Organic 5ynthests、1第7章(Jo
hn Wtley & 5ons、 1981 fl)
等の総説引例の公知文献記載の方法によって製造するこ
とができる。McOmie, “Protective group
s in Organic Che+++1s-t, r
y” Chapter 2 (Plenum Press Sl 973), rProtective groups in
Organic 5ynthests, 1 Chapter 7 (Jo
hn Wtley & 5ons, 1981 fl)
It can be produced by the method described in the known literature cited in the review.
重合体中の一般式(XII)〜(XTV)の官能基を任
意に調整し得ること、あるいは、不純物を混入しないこ
と等の理由から、予め一般式(XII)〜(XIV)の
官能基を含有する単量体からの重合反応により製造する
方法が好ましい。具体的には、重合性の二重結合及び1
級又は2級アミノ基を含む単量体を、例えば前記公知文
献等に記載された方法に従って、そのアミノ基を一般式
(XI)〜(XIV)の官能基に変換した後、重合反応
を行なうことにより一般式(Xn)〜(XIV)の官能
基を少なくとも1種含有する樹脂を製造することができ
る。For reasons such as being able to arbitrarily adjust the functional groups of general formulas (XII) to (XTV) in the polymer or preventing the inclusion of impurities, the functional groups of general formulas (XII) to (XIV) are prepared in advance. A method of manufacturing by polymerization reaction from the monomers contained is preferred. Specifically, polymerizable double bonds and 1
A monomer containing a primary or secondary amino group is converted into a functional group of general formulas (XI) to (XIV), for example, according to the method described in the above-mentioned known literature, and then a polymerization reaction is carried out. By this, a resin containing at least one kind of functional group of general formulas (Xn) to (XIV) can be produced.
式(XII)〜(XTV)の官能基の具体例を以下に示
すが本発明はこれらに限定されるものではな(79)
CH。Specific examples of the functional groups of formulas (XII) to (XTV) are shown below, but the present invention is not limited thereto (79)
CH.
□ N HCOOCCH:I CH。□ N HCOOCCH:I CH.
(80) CbH5N HCOOC
CH3
C、H%
(81) −NHCOOCH2CF:1(82)
−NHCOOCH2C(12゜(83)
N COOCH2CH2S ○、 CH3CH。(80) CbH5N HCOOC
CH3C,H% (81) -NHCOOCH2CF: 1 (82)
-NHCOOCH2C (12° (83)
N COOCH2CH2S ○, CH3CH.
(85) CH3N HCOO
CCC13
H3
(94) CH3
(95) CH。(85) CH3N HCOO
CCC13 H3 (94) CH3 (95) CH.
\ す (103)OCH3 □ −N−P−OCR。\ vinegar (103)OCH3 □ -N-P-OCR.
CH,0 (104) OCH,CH20CH。CH,0 (104) OCH, CH20CH.
−NH−P−OCH2CH20CH3 (105) OC,H。-NH-P-OCH2CH20CH3 (105) OC, H.
□
NHP 0C4H9
更に、該分解により少なくとも1つのスルホ基を生成す
る官能基としては、例えば、下記−服代(XVI)又は
(X■)で表わされる官能基が挙げられる。□ NHP 0C4H9 Furthermore, examples of the functional group that generates at least one sulfo group upon decomposition include the functional groups represented by the following formula (XVI) or (X■).
一般式(XVI) 一3Q、−0−R” 一般式(X■) 一3Q2−3−R” fI3 式(XVI)中、Rol+は−(−C)−−Y”、D4 −NHCOR”7を表わす。General formula (XVI) 13Q, -0-R” General formula (X■) 13Q2-3-R” fI3 In formula (XVI), Rol+ is -(-C)--Y'', D4 -Represents NHCOR"7.
式(X■)中、R11gは、炭素数1〜18の置換され
てもよい脂肪族基、又は炭素数6〜22の置換基を有し
てもよいアリール基を表わす。In formula (X), R11g represents an optionally substituted aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 22 carbon atoms, which may have a substituent.
上記−服代(XVI)、(X■)の官能基は、分解によ
って、スルホ基を生成するものであり、以下に更に詳し
く説明する。The above-mentioned functional groups (XVI) and (X■) generate sulfo groups upon decomposition, and will be explained in more detail below.
RDコ
RD′が一+C)−rY’を表わす場合において、D4
Rf13、Roaは同じでも異なってもよく、各々独立
に水素原子、ハロゲン原子(例えば弗素原子、塩素原子
、臭素原子等)、炭素数1〜6の置換されてもよいアル
キル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ペンチル基、ヘキシル基、トリフロロメチル基、
ベンジル基)又はアリール基(例えばフェニル)を表わ
す。YDは炭素数1〜18の置換されてもよいアルキル
基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ド
デシル基、ヘキサデシル基、I・リフロロメチル基、メ
タンスルホニルメチル基、シアンメチル基、2−メI・
キシエチル基、エトキシメチル基、クロロメチル基、ジ
クロロメチル基、トリクロロメチル基、2−メトキシカ
ルボニルエチル基、2−プロポキシカルボニルエチル基
、メチルチオメチル基、エチルチオメチル基、ベンジル
オキシメチル基等)、炭素数2〜18の置換されてもよ
いアルケニル基(例えばビニル基、アリル基等)、炭素
数6〜12の置換基を含有してもよいアリール基(例え
ば、フェニル基、ナフチル基、ニトロフェニル基、ジニ
トロフェニル基、シアノフェニル基、トリフロロメチル
フェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、ブトキシ
カルボニルフェニル基、メタンスルホニルフェニル基、
ベンゼンスルホニルフェニル基、トリル基、キシリル基
、アセトキシフェニル基、ニトロナフチル基等)、又は
(、RD8 (RD8は、脂肪族基又は芳香族基を表わ
し、具体的にはYDで記した該置換基の内容と同一のも
のを表わす)を表わす。nはO1■又は2を表わす。但
し、nが2の時、2つのRD3、RD4はそれぞれ同じ
であっても異なっていてもよい。When RD' represents one+C)-rY', D4 Rf13 and Roa may be the same or different, and each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), a carbon atom, Number 1 to 6 optionally substituted alkyl groups (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, trifluoromethyl group,
benzyl group) or an aryl group (eg phenyl). YD is an optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, I.lifluoromethyl group) group, methanesulfonylmethyl group, cyanmethyl group, 2-meI・
xyethyl, ethoxymethyl, chloromethyl, dichloromethyl, trichloromethyl, 2-methoxycarbonylethyl, 2-propoxycarbonylethyl, methylthiomethyl, ethylthiomethyl, benzyloxymethyl, etc.), carbon Alkenyl groups that may be substituted with 2 to 18 carbon atoms (e.g., vinyl groups, allyl groups, etc.), aryl groups that may contain substituents of 6 to 12 carbon atoms (e.g., phenyl groups, naphthyl groups, nitrophenyl groups) , dinitrophenyl group, cyanophenyl group, trifluoromethylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, methanesulfonylphenyl group,
benzenesulfonylphenyl group, tolyl group, xylyl group, acetoxyphenyl group, nitronaphthyl group, etc.), or (, RD8 (RD8 represents an aliphatic group or an aromatic group, specifically the substituent indicated by YD) (represents the same content as ). n represents O1 or 2. However, when n is 2, the two RD3 and RD4 may be the same or different.
Dff
より好ましくは、置換W:=(−C)ゴYDにお暖
D4
いて、少なくとも1つの電子吸引性基を含有する官能基
が挙げられる。具体的には、nが1又は2で、YDが置
換基としして電子吸引性基を含有しRIl′3
ない炭化水素基の場合、 →ch−において、少なくど
も1ヶ以上のハロゲン原子を含有する。又はnが0.1
又は2で、Yr′が電子吸引性基を少なくとも1つ含有
する。更には、nがOll又は2でYDが−CRDII
である等が挙げられる。Dff is more preferably a functional group containing at least one electron-withdrawing group in the substituted W:=(-C)goYD. Specifically, when n is 1 or 2 and YD is a hydrocarbon group that does not contain an electron-withdrawing group as a substituent, →ch- has at least one halogen atom. contains. or n is 0.1
or 2, in which Yr' contains at least one electron-withdrawing group. Furthermore, n is Oll or 2 and YD is -CRDII
For example,
該電子吸引性基とは、ハメットの置換基定数が正値を示
す置換基であり、例えば、ハロゲン原子、−CO2−1
−C−1−SO,−1−CN。The electron-withdrawing group is a substituent having a positive Hammett's substituent constant, such as a halogen atom, -CO2-1
-C-1-SO, -1-CN.
−NO,等が挙げられる。-NO, etc.
もう1つの好ましい置換基として、−e式(XVI):
C−3o□−Q RD+)において酸素原子に隣
接する炭素原子に少なくとも2つの炭化水素基が置換す
る場合、およびnが0又は1で、Yoがアリール基の時
に、アリール基の2−位及び6−位に置換基を有する場
合が挙げられる。Another preferred substituent is -e formula (XVI):
C-3o Examples include cases where a substituent is present at the 6-position.
いて、Zoは、環状イミド基を形成する有機残基を表わ
す。好ましくは、下記−服代(X■)又は(XIX)で
示される有機残基を表わす。where Zo represents an organic residue forming a cyclic imide group. Preferably, it represents an organic residue represented by (X) or (XIX) below.
−服代(X■)
一般式(XIX)
弐(X■)中、RD9及びR11toは同じでも異なっ
てもよく、各々独立に水素原子、ハロゲン原子(例えば
塩素原子、臭素原子等)、炭素数1〜18の置換されて
もよいアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基
、ドジテル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2−
クロロエチル基、2−メトキシエチル基、2−シアノエ
チル基、3−クロロプロピルL2−(メタンスルホニル
)エチル基、2−(エトキシオキシカルボニル)エチル
基、等)、炭素数7〜12の置換されてもよいアラルキ
ル基(例えば、ヘンシル基、フェネチル基、3−フェニ
ルプロピル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基
、メトキシベンジル基、クロロベンジル基、ブロモベン
ジルJl’) 、ff1i数3〜18の置換されてもよ
いアルケニル基(例エバアリル基、3−メチル−2−プ
ロペニル基)を表わす。mは2又は3の整数を表わす。-Fukudai (X■) General formula (XIX) In 2 (X■), RD9 and R11to may be the same or different, and each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), a carbon number 1 to 18 optionally substituted alkyl groups (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, doditer group, hexadecyl group, octadecyl group, 2-
chloroethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-cyanoethyl group, 3-chloropropyl L2-(methanesulfonyl)ethyl group, 2-(ethoxyoxycarbonyl)ethyl group, etc.), even if substituted with 7 to 12 carbon atoms Good aralkyl group (for example, hensyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, methylbenzyl group, dimethylbenzyl group, methoxybenzyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl Jl'), ff1i number of 3 to 18 substituted It represents a good alkenyl group (eg evaallyl group, 3-methyl-2-propenyl group). m represents an integer of 2 or 3.
RnqとRD t oは連結して環を形成してもよい。Rnq and RDto may be connected to form a ring.
式(XIX)中、R”口 RDI 2は各4式(X■
)中のRD9、RDIOと同義である。また、RD l
l とRIl+2は連結して環を形成してもよい。In formula (XIX), R” mouth RDI 2 is each 4 formulas (X■
) has the same meaning as RD9 and RDIO. Also, RD l
l and RIl+2 may be linked to form a ring.
て、Ro、RDIIは各々水素原子、脂肪族基(具体的
には、R■、Radのそれと同一の内容を表わす)又は
アリール基(具体的にはRI13、R114のそれと同
一の内容を表わす)を表わす。但しRDS及びRDSが
ともに水素原子を表わすことはない。Here, Ro and RDII are each a hydrogen atom, an aliphatic group (specifically, the same content as that of R■ and Rad), or an aryl group (specifically, the same content as that of RI13 and R114) represents. However, both RDS and RDS do not represent a hydrogen atom.
R111が−NHCOR”?を表わす場合において、R
D7は脂肪族基又はアリール基を表わし、具体的には、
R111、Radのそれと同一の内容を各々表わす。When R111 represents -NHCOR"?, R
D7 represents an aliphatic group or an aryl group, specifically,
R111 and Rad each represent the same content.
式(X■)中、R1は、炭素数1〜18の置換されても
よい脂肪族基又は炭素数6〜22の置換基を有してもよ
いアリール基を表わす。更に具体的には前記した式(X
VI)中のYZIにおける脂肪族基及びアリール基と同
様の内容を表わす。In formula (X■), R1 represents an optionally substituted aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms or an aryl group having 6 to 22 carbon atoms which may have a substituent. More specifically, the above formula (X
It represents the same content as the aliphatic group and aryl group in YZI in VI).
本発明に用いられる、−服代(XVI) :〔−5O
□−0−R”り又は−服代(X■)=(−3Q2−〇−
R”)群から選択される官能基を少なくとも1種含有す
る樹脂は、重合体に含有されるスルホ基を、高分子反応
によって一般式(XVI)又は(X■)の官能基に変換
する方法、又は、−服代(XVI)又は(X■)の官能
基を1種又はそれ以上含有する、1種又はそれ以上の単
量体の重合反応、又は該単量体及びこれと共重合し得る
他の単量体との重合反応により重合する方法により製造
される。-Clothing fee (XVI) used in the present invention: [-5O
□−0−R” R or− Clothing cost (X■)=(−3Q2−〇−
The resin containing at least one functional group selected from the group R") can be obtained by converting the sulfo group contained in the polymer into a functional group of general formula (XVI) or (X■) by polymer reaction. or - Polymerization reaction of one or more monomers containing one or more functional groups of (XVI) or (X■), or copolymerization of said monomers and said monomers. It is produced by a method of polymerization by a polymerization reaction with other monomers obtained.
スルホ基に保護基を導入し、保護された形の官能基(例
えば式(XVI)又は(X■)の官能基)とする方法と
しては、例えば、日本化学金円「新実験化学講座」第1
4巻、有機化合物の合成と反応〔■〕、第1793頁、
丸善■(1978年);C,O,Meese、 ”5y
nthesis” 、 12.1041 (1984)
;V、 Konecny、 J、 Demeck
o、 ”Chem、 Zvesti、’ 。A method of introducing a protecting group into a sulfo group to form a protected functional group (for example, a functional group of formula (XVI) or (X■)) is described in, for example, Nippon Kagaku Kinen "New Experimental Chemistry Course", Vol. 1
Volume 4, Synthesis and Reaction of Organic Compounds [■], Page 1793,
Maruzen ■ (1978); C, O, Meese, “5y
12.1041 (1984)
; V, Konecny, J, Demeck
o, ``Chem, Zvesti,''.
27+ 497 (1973); G、 Berner
+ R,Kirchwayr、 G。27+ 497 (1973); G, Berner
+ R, Kirchwayr, G.
R15t、 W、 Rutsch、 ”J、 Rad、
Curing” + 1986+No、10.10等
の底置・文献等に記載の方法を挙げることができる。R15t, W, Rutsch, ”J, Rad,
Curing" + 1986+No., 10.10, etc. can be mentioned.
高分子反応によって該官能基に変換する方法は、高分子
反応においても、単量体における合成方法と同様にして
行なうことができる。The method for converting into the functional group by polymer reaction can be carried out in the same manner as the synthesis method for monomers.
重合体中の一般式(XVI)及び/又は(X■)の官能
基を任意に調整し得ること、あるいは、不純物を混入し
ないこと等の理由から、予め一般式(XVI)及び/又
は(X■)の官能基を含有する単量体からの重合反応に
より製造する方法が好ましい。具体的には、重合性の二
重結合を含むスルホン酸類を、例えば前記した公知文献
等に記載された方法に従って、そのスルホ基を一般式(
XVI)及び/又は(X■)の官能基に変換した後、重
合反応を行なうことにより一般式(XVI)及び/又は
(X■)の官能基を含有する樹脂を製造することができ
る。For reasons such as being able to arbitrarily adjust the functional groups of general formula (XVI) and/or (X Preferred is the method (2) in which the polymer is produced by a polymerization reaction from a monomer containing a functional group. Specifically, a sulfonic acid containing a polymerizable double bond is converted into a sulfo group by the general formula (
After converting the functional group into the functional group of formula (XVI) and/or (X■), a polymerization reaction can be carried out to produce a resin containing the functional group of general formula (XVI) and/or (X■).
一般式(χ■)、(X■)の官能基の具体例を以下に示
すが、本発明はこれらに限定されるものではない。Specific examples of the functional groups of the general formulas (χ■) and (X■) are shown below, but the present invention is not limited thereto.
(10B) −3O,OCH,CF3(110)
−3○zOcHz(CHF)zcHzF(111)
−3O20CH2CCQ3(113) −3o□0(
CH2)2SO2C,H。(10B) -3O,OCH,CF3(110)
-3○zOcHz(CHF)zcHzF(111)
-3O20CH2CCQ3(113) -3o□0(
CH2)2SO2C,H.
どH3 C,H3 (122) −3o□0−CH−COC,H。DoH3 C, H3 (122) -3o□0-CH-COC,H.
(123) −3O20(CH2)ZSO2C2H5
(124) −3o□SC,H7
(125) 〜5O7SC6H13
(126) −3O□5(CH2)20C,H。(123) -3O20(CH2)ZSO2C2H5
(124) -3o□SC,H7 (125) ~5O7SC6H13 (126) -3O□5(CH2)20C,H.
(128) −3O20CH2CHFCH2F前記し
た如く、重合反応で所望の樹脂を製造する方法において
用いられる一般式(1)〜(■)、(X)〜(XrV)
、(XVI)及び(X■)の官能基を含有する共重合体
成分について更に具体的に述べると、例えば下記−服代
(A)の如き成分が挙げられる。但しこれらの共重合体
成分例に限定されるものではない。(128) -3O20CH2CHFCH2F As mentioned above, general formulas (1) to (■), (X) to (XrV) used in the method of producing a desired resin by polymerization reaction
, (XVI) and (X■) are more specifically described, examples include components such as the following (A). However, the copolymer components are not limited to these examples.
一般式(A)
a I a 2
→−CH−C+
X’−Y=W
式(■)中、X′は、−〇−2−CO−1d’
一〇〇〇−1−OCO−1−N−CO−1d ”
(1’−CON−2S O2−5−
3O2N−1−NSO7−1−CH,COO−1
b+
□
−CH,0CO−1−(−C←、2価の芳香族基、又は
2価のへテロ環基を示す。但し、dl、dZ、dl、d
4は、各々水素原子、炭化水素基、又は式(A)中の−
←y’−W)を表わし、bl、b2は同じでも異なって
いてもよく、水素原子、炭化水素基又は式(A)中の→
Y’−W)を表わし、尼は0〜18の整数を示す。I)
’、I:l”で表わされる炭化水素基、およびdl 、
dZ、d3、d4で表わされる炭化水素基は、各々、弐
(1)中のRA l、、 R,A 3で表わされる炭化
水素基と同義である。General formula (A) a I a 2 →-CH-C+ X'-Y=W In formula (■), X' is -〇-2-CO-1d' 1000-1-OCO-1- N-CO-1d”
(1'-CON-2S O2-5-
3O2N-1-NSO7-1-CH,COO-1 b+ □ -CH,0CO-1-(-C←, indicates a divalent aromatic group or a divalent heterocyclic group. However, dl, dZ ,dl,d
4 is each a hydrogen atom, a hydrocarbon group, or - in formula (A)
←y'-W), bl and b2 may be the same or different, and represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group, or → in formula (A)
Y'-W), and ni represents an integer from 0 to 18. I)
', I: a hydrocarbon group represented by l'', and dl,
The hydrocarbon groups represented by dZ, d3, and d4 have the same meanings as the hydrocarbon groups represented by RA l, , R, and A 3 in 2 (1), respectively.
Wは一般式(I)〜(■)、(X)〜(XIV)、(X
VI)及び(X■)で表わされる官能基を表わす。W represents the general formula (I) to (■), (X) to (XIV), (X
It represents a functional group represented by VI) and (X■).
Y’は、結合基X′と官能基Wを連結する、ヘテロ原子
を介していてもよい2価の連結基を表ねしくヘテロ原子
としては、酸素原子、イオウ原子、窒素原子を示す)、
例えば、
□
(−CH=CH−)−3−〇−1−S−1−N−1−C
OO−1−CONH−2−SO2−1−8O□NH−1
−NHCOO−1
−NHCONH−1等の結合単位の単独又は組合せの構
成より成るものである(但しb3、bJは、各々前記b
l 、b2と同義であり、dsは前記dl、d4と同義
である。)
a l 、 a 2は同じでも異なっていてもよく、水
素原子、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子等)
、シアノ基、炭化水素基(例えば、メチル基、エチル基
、プロピル基、ブチル基、メトキシカルボニルメチル基
、エトキシカルボニルメチル基、ブトキシカルボニルメ
チル基等の置換されてもよい炭素数1〜12のアルキル
基;ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基;フェ
ニル基、トリル基、キシリル基、クロロフェニル基等の
アリール基等)、置換されてもよい炭素数1〜12のア
ルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基
、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブ
トキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基等)
、又は式(A)中の−W基を含む置換基で置換されてい
てもよい、炭素数1〜18のアルキル基、アルケニル基
、アラルキル基、脂環式基、芳香族基を表わす。Y' is a divalent linking group that may connect the bonding group X' and the functional group W, and may be via a heteroatom (heteroatoms include an oxygen atom, a sulfur atom, and a nitrogen atom),
For example, □ (-CH=CH-)-3-〇-1-S-1-N-1-C
OO-1-CONH-2-SO2-1-8O□NH-1
-NHCOO-1 -NHCONH-1 and other bonding units singly or in combination (however, b3 and bJ are each the above-mentioned b
ds has the same meaning as dl and d4. ) a l and a 2 may be the same or different, and are hydrogen atoms, halogen atoms (e.g. chlorine atoms, bromine atoms, etc.)
, a cyano group, a hydrocarbon group (for example, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a methoxycarbonylmethyl group, an ethoxycarbonylmethyl group, a butoxycarbonylmethyl group, etc.) aralkyl groups such as benzyl group and phenethyl group; aryl groups such as phenyl group, tolyl group, xylyl group, and chlorophenyl group), optionally substituted alkoxycarbonyl groups having 1 to 12 carbon atoms (e.g. methoxycarbonyl group) , ethoxycarbonyl group, propoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group, hexyloxycarbonyl group, etc.)
, or an alkyl group, alkenyl group, aralkyl group, alicyclic group, or aromatic group having 1 to 18 carbon atoms, which may be substituted with a substituent containing the -W group in formula (A).
又、式(A)中の〔XI Yl )結合残基は−C
−C+一部と−Wを直接連結させてもよい。In addition, the [XI Yl ) bonding residue in formula (A) is -C
A portion of -C+ and -W may be directly connected.
本発明の樹脂における分解して少なくとも1個のチオー
ル基、ホスホ基、スルホ基及び/又はアミノ基の親水性
基を生成する官能基を含有する重合体成分は、樹脂が共
重合体である場合には、全重合体中の30〜100重景
%、特に40〜95重量%、であることが好ましい。ま
た、樹脂の重合体の分子量は103〜106、特に5X
10”〜5X10S、であることが好ましい。In the case where the resin of the present invention is a copolymer, the polymer component containing a functional group that decomposes to produce at least one hydrophilic group of thiol group, phospho group, sulfo group and/or amino group is It is preferably 30 to 100% by weight, particularly 40 to 95% by weight of the total polymer. In addition, the molecular weight of the resin polymer is 103 to 106, especially 5X
10'' to 5X10S, preferably.
又、本発明の樹脂と架橋剤との架橋効果を高めるために
、本発明の樹脂の共重合体成分として−OH基、−3H
基、−N HRl基(R’ は、炭素数1〜8のアルキ
ル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘキシル基等)又はアリール基(例えば、フェニル
基、トリル基、メトキシフェニル基、ブチルフェニル基
等)等を表わす)等の解離性水素原子を少なくとも1種
有する置換基を含有する成分又は、エポキシ基、チオエ
ポキシ基等を含有する成分を存在させてもよい。これら
の極性基を含有する共重合体成分の存在割合は、好まし
くは本発明の樹脂中の0.5〜20重量%であり、より
好ましくは1〜10重量%である。In addition, in order to enhance the crosslinking effect between the resin of the present invention and the crosslinking agent, -OH groups, -3H
group, -N HRl group (R' is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, etc.) or an aryl group (e.g., phenyl group, tolyl group, methoxy group) A component containing a substituent having at least one type of dissociable hydrogen atom such as phenyl group, butylphenyl group, etc.) or a component containing an epoxy group, thioepoxy group, etc. may be present. The proportion of the copolymer component containing these polar groups in the resin of the present invention is preferably 0.5 to 20% by weight, more preferably 1 to 10% by weight.
該極性基を含有する共重合体成分は、例えば、−服代(
A)と共重合し得る、該極性基を含有するビニル系化合
物であればいずれでもよい。具体的には、前記した一般
式(A)に記載したと同様の化合物の置換基中に該極性
基を含有する誘導体等が挙げられる。The copolymer component containing the polar group is, for example,
Any vinyl compound containing the polar group that can be copolymerized with A) may be used. Specifically, derivatives containing the polar group in the substituent of the same compound as described in the general formula (A) above may be mentioned.
更に、本発明の樹脂は、前記した一般式(1)%式%)
は(X■)を含有する単量体及び任意の上記極性基を含
有する単量体と共に、これら以外の他の単量体を共重合
成分として含有してもよい。Furthermore, the resin of the present invention contains a monomer containing the general formula (1) (% formula %) (X) and any of the above polar group-containing monomers as well as other monomers other than these may be contained as a copolymerization component.
例えば、α−オレフィン類、アルカン酸ビニル又はアリ
ルエステル類、アクリロニトリル、メタクリルニトリル
、ビニルエーテル類、アクリルアミド類、メタクリルア
ミド類、スチレン類、複素環ビニル類(例えばビニルピ
ロリドン、ビニルピリジン、ビニルイミダゾール、ビニ
ルチオフェン、ビニルイミダシリン、ビニルピラゾール
、ビニル−ジオキサン、ビニルキノリン、ビニルチアゾ
ール、ビニル−オキサジン等)等が挙げられる。特に酢
酸ビニル、酢酸アリル、アクリロニトリル、メタクリル
ニトリル、スチレン類等は、膜強度向上の点から好まし
い成分である。For example, α-olefins, vinyl alkanoates or allyl esters, acrylonitrile, methacrylnitrile, vinyl ethers, acrylamides, methacrylamides, styrenes, heterocyclic vinyls (e.g. vinylpyrrolidone, vinylpyridine, vinylimidazole, vinylthiophene) , vinylimidacilline, vinylpyrazole, vinyl-dioxane, vinylquinoline, vinylthiazole, vinyl-oxazine, etc.). In particular, vinyl acetate, allyl acetate, acrylonitrile, methacrylonitrile, styrenes, and the like are preferred components from the viewpoint of improving film strength.
本発明において、用いられる架橋剤としては、通常架橋
剤として用いられる化合物を使用することができる。具
体的には、山下晋三・金子東助績「架橋剤ハンドブック
」大成社刊(19B’1年)、高分子データ[高分子デ
ータ・ハンドブック〔基礎編]」培風館(1986年)
等に記載されている化合物を用いることができる。In the present invention, as the crosslinking agent used, compounds commonly used as crosslinking agents can be used. Specifically, Shinzo Yamashita and Azusuke Kaneko, "Crosslinking Agent Handbook" published by Taiseisha (19B'1), Polymer Data [Polymer Data Handbook [Basic Edition]] Baifukan (1986)
Compounds described in et al. can be used.
例えば、有機シラン系化合物(例えば、ビニルトリメト
キシシラン、ビニルトリブトキシシラン、γ−グリシド
キシプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロ
ピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエト
キシシラン等のシランカップリング剤等)、ポリイソシ
アナート系化合物(例えば、トルイレンジイソシアナー
ト、O−トルイレンジイソシアナート、ジフェニルメタ
ンジイソシアナート、トリフェニルメタントリイソシア
ナート、ポリメチレンポリフェニルイソシアナート、ヘ
キサメチレンジイソシアナート、イソホロンジイソシア
ナート、高分子ポリイソシアナート等)、ポリオール系
化合物(例えば、1.4−ブタンジオール、ポリオキシ
プロピレングリコール、ポリオキシアルキレングリコー
ル、1.■。For example, silane coupling agents such as organic silane compounds (e.g., vinyltrimethoxysilane, vinyltributoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane) etc.), polyisocyanate compounds (e.g. toluylene diisocyanate, O-toluylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, polymethylene polyphenylisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, isocyanate, polymeric polyisocyanate, etc.), polyol compounds (for example, 1,4-butanediol, polyoxypropylene glycol, polyoxyalkylene glycol, 1.■).
1−トリメチロールプロパン等)、ポリアミン系化合物
(例えば、エチレンジアミン、γ−ヒドロキシプロピル
化エチレンジアミン、フェニレンジアミン、ヘキサメチ
レンジアミン、N−アミノエチルピペラジン、変性脂肪
族ポリアミン類等)、ポリエポキシ基含有化合物及びエ
ポキシ樹脂(例えば、垣内弘編著「新エポキシ樹脂」昭
晃堂(1985年刊)、橋本邦之編著「エポキシ樹脂」
日刊工業新聞社(1969年刊)等に記載された化合物
類)、メラミン樹脂(例えば、三輪一部・松永英夫編著
「ユリア・メラミン樹脂」日刊工業新聞社(19’69
年刊)等に記載された化合物類)、ポリ(メタ)アクリ
レート系化合物(例えば、大河原信・三枝武夫・東村敏
延編「オリゴマー」講談社(1976年刊)、大森英三
「機能性アクリル系樹脂」テクノシステム(1985年
刊) 等に記載された化合物類が挙げられ、具体的には
ポリエチレングリコールジアクリラート、ネオペンチル
グリコールシアクリラード、1.6−ヘキサンシオール
ジアクリラート、トリメチロールプロパントリアクリラ
ート、ペンタエリスリトールポリアクリラート、ビスラ
エノールA−ジグリシジルエーテルジアクリラート、オ
リゴエステルアクリラート:これらのメタクリラート体
等)等が挙げられる。1-trimethylolpropane, etc.), polyamine compounds (e.g., ethylenediamine, γ-hydroxypropylated ethylenediamine, phenylenediamine, hexamethylenediamine, N-aminoethylpiperazine, modified aliphatic polyamines, etc.), polyepoxy group-containing compounds, and Epoxy resins (for example, "New Epoxy Resin" edited by Hiroshi Kakiuchi, published by Shokodo (1985), "Epoxy Resin" edited by Kuniyuki Hashimoto
Compounds described in Nikkan Kogyo Shimbunsha (1969), etc.), melamine resins (for example, "Uria Melamine Resin" edited by Kazube Miwa and Hideo Matsunaga, Nikkan Kogyo Shimbunsha (19'69)
Poly(meth)acrylate compounds (e.g., "Oligomer" edited by Makoto Okawara, Takeo Saegusa, and Toshinobu Higashimura, published by Kodansha (1976), Eizo Omori "Functional Acrylic Resin") Technosystem (published in 1985), etc., and specific examples include polyethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol cyacrylate, 1,6-hexanesiol diacrylate, and trimethylolpropane triacrylate. , pentaerythritol polyacrylate, bisthraenol A-diglycidyl ether diacrylate, oligoester acrylate: methacrylates thereof, etc.).
本発明に係わる表面層樹脂は、表面層形成物を塗布した
後に、上述の架橋剤により架橋される。The surface layer resin according to the present invention is crosslinked with the above-mentioned crosslinking agent after the surface layer forming product is applied.
架橋を行なうためには、例えば、乾燥条件を高温度及び
/又は長時間とするか又は塗布溶剤の乾燥後、更に加熱
処理することが好ましい。例えば60°C−120°C
で5〜120分間処理する。In order to effect crosslinking, it is preferable, for example, to set the drying conditions to high temperature and/or for a long time, or to perform further heat treatment after drying the coating solvent. For example 60°C-120°C
Process for 5 to 120 minutes.
表面層樹脂には、架橋反応を促進させるために、必要に
応じて、反応促進剤を添加してもよい。例えば、酸(酢
酸、プロピオン酸、酪酸、ベンゼンスルホン酸、p−ト
ルエンスルホン酸等) 、過酸化物、アゾビス系化合物
、増感剤、光重合性単量体等が挙げられる。これら反応
促進剤を上述の架橋剤と併用すると、より穏かな条件で
処理することが可能となる。If necessary, a reaction accelerator may be added to the surface layer resin in order to promote the crosslinking reaction. Examples include acids (acetic acid, propionic acid, butyric acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, etc.), peroxides, azobis compounds, sensitizers, photopolymerizable monomers, and the like. When these reaction accelerators are used in combination with the above-mentioned crosslinking agent, it becomes possible to perform the treatment under milder conditions.
又、架橋は少なくとも本発明の樹脂同志で行なわれるべ
きであるが、他の樹脂との間になされていてもよい。Further, although crosslinking should be carried out at least between the resins of the present invention, it may also be carried out between other resins.
本発明の親水性基生成官能基が分解により親水性基を生
成したときに酸性及びアルカリ性の水溶液に対して難溶
もしくは不溶性である樹脂となることが好ましい。When the hydrophilic group-generating functional group of the present invention generates a hydrophilic group by decomposition, it is preferable that the resin becomes a resin that is sparingly soluble or insoluble in acidic and alkaline aqueous solutions.
樹脂中における架橋剤の存在量は、0.1〜30重量%
、特に0.5〜20重量%が好ましい。The amount of crosslinking agent present in the resin is 0.1 to 30% by weight.
, particularly preferably 0.5 to 20% by weight.
本発明に使用される樹脂とともに従来公知の樹脂も併用
することができる。例えば、シリコーン樹脂、アルキッ
ド樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン
−ブタジェン樹脂、アクリル樹脂等があげられ、具体的
には、栗田隆治・石渡次部、「高分子」、第17巻、第
278頁(1968年);宮木晴視・武井秀彦、「イメ
ージング」、1973(Nα8)第9頁等の総説引例の
公知材料等が挙げられる。Conventionally known resins can also be used together with the resins used in the present invention. Examples include silicone resins, alkyd resins, vinyl acetate resins, polyester resins, styrene-butadiene resins, acrylic resins, etc. Specifically, Ryuji Kurita and Tsugube Ishiwata, "Polymers", Vol. 17, No. 278 (1968); Harumi Miyagi and Hidehiko Takei, "Imaging", 1973 (Nα8), page 9, and other known materials cited in the review.
本発明に使用される樹脂と公知の樹脂とは任意の割合で
混合することができるが、全樹脂量中の親水性基生成官
能基含有樹脂の含有量は30重景%以上、好ましくは4
0重量%以上である。The resin used in the present invention and known resins can be mixed in any proportion, but the content of the hydrophilic group-forming functional group-containing resin in the total amount of resin is 30% or more, preferably 4%.
It is 0% by weight or more.
本発明の親水性基生成官能基を少なくとも1種含有する
樹脂は、不怒脂化液あるいは印刷時に用いる湿し水によ
り加水分解あるいは加水素分解されて親水性基を生成す
る。従って、該樹脂を表面rfI(′a水化可能層)に
含む本平版印刷用原版は、非画像部が上記樹脂中に生成
される親水性基によって親水性化され、画像部の親油性
と明確に区別され、印刷時に非画像部に印刷インキが付
着するのを防止する。その結果として地汚れのない鮮明
な画質の印刷物を従来の樹脂を用いた平版原版よりも多
数枚印刷することが可能となる。The resin containing at least one type of hydrophilic group-forming functional group of the present invention is hydrolyzed or hydrolyzed by a fat-proofing liquid or a dampening solution used during printing to generate a hydrophilic group. Therefore, in the present lithographic printing original plate containing the resin in the surface rfI ('a hydratable layer), the non-image area is made hydrophilic by the hydrophilic groups generated in the resin, and the image area becomes lipophilic. It is clearly distinguished and prevents printing ink from adhering to non-image areas during printing. As a result, it becomes possible to print a larger number of prints with clear image quality and no background smearing than with conventional lithographic original plates using resin.
更に、本発明の樹脂は、架橋反応を起こす架橋剤を含有
しており、表面層を形成する過程あるいは、エツチング
処理前の加熱及び/又は光照射の過程で、架橋反応が起
こり、高分子間で橋架けが形成されるものである。エツ
チング処理及び印刷機上で印刷中の湿し水により、分解
して生成した親水性基含有の樹脂では親水性となり、そ
の含有量が多い場合には水溶性となる。しかし、本発明
の樹脂は、架橋構造を形成していることにより親水性を
保持したまま水への溶解性が著しく低下し難溶性もしく
は不溶性となる。即ち、架橋剤は樹脂が水溶性となり非
画像部から溶出してゆく事を防止する作用を有するもの
である。Furthermore, the resin of the present invention contains a crosslinking agent that causes a crosslinking reaction, and the crosslinking reaction occurs during the process of forming the surface layer or the process of heating and/or light irradiation before etching treatment, and the crosslinking reaction occurs between the polymers. A bridge is formed. The hydrophilic group-containing resin that is decomposed and generated by etching treatment and dampening water during printing on the printing press becomes hydrophilic, and when the content thereof is large, it becomes water-soluble. However, since the resin of the present invention has a crosslinked structure, its solubility in water is significantly reduced while maintaining hydrophilicity, and the resin becomes poorly soluble or insoluble. That is, the crosslinking agent has the effect of preventing the resin from becoming water-soluble and eluting from the non-image area.
より具体的な効果で言うならば、印刷機の大型化あるい
は印圧の変動等印刷条件が厳しくなった場合でも地汚れ
のない鮮明な画質の印刷物を多数枚印刷することが可能
となる。More specifically, it is possible to print a large number of prints with clear image quality without background smudges even when printing conditions become severe, such as when the printing machine becomes larger or printing pressure fluctuates.
親水化可能な表面層自体の強度、電子写真窓光層との接
着性あるいは電子写真特性等の改善のために、前記した
本発明の樹脂以外の樹脂を添加したり、あるいは可塑剤
等を添加してもよい。In order to improve the strength of the hydrophilic surface layer itself, adhesion with the electrophotographic window light layer, electrophotographic properties, etc., resins other than the resin of the present invention described above or plasticizers etc. may be added. You may.
更に、親水化可能な表面層は、トナー現像時の現像特性
、トナー像の接着性あるいは親水化処理後の保水性など
を向上させる目的で、その表面が機械的にマット化され
ていたり、層にマット剤が含有されていてもよい。マッ
ト剤としては、二酸化珪素、酸化亜鉛、酸化チタン、酸
化ジルコニウム、ガラス粒子、アルミナ、クレーなどの
充填剤や、ポリメチルメタアクリレート、ポリスチレン
、フェノール樹脂などの重合体粒子などが例示できる。Furthermore, the surface layer that can be made hydrophilic may have its surface mechanically matted or layered for the purpose of improving development characteristics during toner development, adhesion of toner images, or water retention after hydrophilic treatment. may contain a matting agent. Examples of the matting agent include fillers such as silicon dioxide, zinc oxide, titanium oxide, zirconium oxide, glass particles, alumina, and clay, and polymer particles such as polymethyl methacrylate, polystyrene, and phenol resin.
該表面層を構成する場合に重要な事は、前記の如く、不
感脂化処理後非画像部が充分に親水性に変化することで
ある。What is important when forming the surface layer is that the non-image area becomes sufficiently hydrophilic after the desensitization treatment, as described above.
即ち、この親水性は、例えば、水に対する接触角を測定
することによってt111認することができる。That is, this hydrophilicity can be determined, for example, by measuring the contact angle with water.
不感脂化処理を行なう以前の表面層(親水化可能N)の
表面の水に対する接触角は約60’〜120°であるが
、不感脂化処理後はそれは約56〜20°にまで低下し
、水に非常によく濡れるようになる。このため、印刷版
は親油性トナーからなる画像部と高度に親水性の非画像
部とをその表面に形成していることになる。従って、不
惑脂化処理後の表面層が水との接触角で20度以下にな
る様にすればよい。The contact angle of the surface of the surface layer (hydrophilizable N) with water before the desensitization process is about 60' to 120°, but after the desensitization process, it decreases to about 56 to 20°. , becomes very wet with water. Therefore, the printing plate has an image area made of lipophilic toner and a highly hydrophilic non-image area formed on its surface. Therefore, the contact angle of the surface layer with water after the anti-fat treatment may be 20 degrees or less.
本発明においては、従来のものに比べその親水性が更に
良好である点で特に優れている。The present invention is particularly superior in that its hydrophilicity is even better than conventional ones.
本発明に用いられる電子写真窓光層(光導電N)には、
無機の光導電性化合物、有機の光導電性化合物を問わず
、あらゆる光導電性物質が使用できる。The electrophotographic window optical layer (photoconductive N) used in the present invention includes:
Any photoconductive substance can be used, whether it is an inorganic photoconductive compound or an organic photoconductive compound.
無機光導電性物質としては、例えば、酸化亜鉛、酸化チ
タン、硫化亜鉛、セレン、セレン合金、硫化カドミウム
、セレン化カドミウム、シリコンなどがあげられ、これ
らは結着性樹脂とともに光導電層を形成してもよいし、
また、蒸着あるいはスパッタリング等により単独で光導
電層を形成してもよい。有機の光導電性物質としては、
例えば高分子のものでは、以下の(1)〜(5)のもの
を挙げることができる。Examples of inorganic photoconductive substances include zinc oxide, titanium oxide, zinc sulfide, selenium, selenium alloys, cadmium sulfide, cadmium selenide, and silicon, which together with the binding resin form the photoconductive layer. You can also
Alternatively, the photoconductive layer may be formed alone by vapor deposition, sputtering, or the like. As an organic photoconductive substance,
For example, as polymers, the following (1) to (5) can be mentioned.
(1)特公昭34−10966号公報記載のポリビニル
カルバゾールおよびその誘導体、(2)特公昭43−1
8674号公報、特公昭43−19192号公報記載の
ポリビニルピレン、ポリビニルアントラセン、ポリ−2
−ビニル−4−(4’ −ジメチルアミノフェニル)−
5−フェニル−オキサゾール、ポリ−3−ビニル−N−
エチルカルバゾールなどのビニル重合体、
(3)特公昭43−19193号公報記載のポリアセナ
フチレン、ポリインデン、アセナフチレンとスチレンの
共重合体などのような重合体、
(4)特公昭56−13940号公報などに記載のピレ
ン−ホルムアルデヒド樹脂、プロムビレンーホルムアル
デヒド樹脂、エチルカルバゾール−ホルムアルデヒド樹
脂などの縮合樹脂、
(5)特開昭56−90833号、同56−16155
0号公報に記載された各種のトリフェニルメタンポリマ
ー。(1) Polyvinylcarbazole and its derivatives described in Japanese Patent Publication No. 34-10966, (2) Japanese Patent Publication No. 43-1
Polyvinylpyrene, polyvinylanthracene, poly-2 described in JP-A No. 8674 and Japanese Patent Publication No. 43-19192
-vinyl-4-(4'-dimethylaminophenyl)-
5-phenyl-oxazole, poly-3-vinyl-N-
Vinyl polymers such as ethylcarbazole, (3) Polymers such as polyacenaphthylene, polyindene, copolymers of acenaphthylene and styrene, etc. described in Japanese Patent Publication No. 19193-1983, (4) Japanese Patent Publication No. 13940-1982 Condensation resins such as pyrene-formaldehyde resin, prombylene-formaldehyde resin, and ethylcarbazole-formaldehyde resin described in publications, etc. (5) JP-A-56-90833, JP-A-56-16155
Various triphenylmethane polymers described in Publication No. 0.
また低分子のものでは例えば以下の(6)〜(18)の
ものを挙げることができる。Examples of low molecular weight compounds include the following (6) to (18).
(6)米国特許第3112197号明細書などに記載さ
れているトリアゾール誘導体、
(7)米国特許第3189447号、明細書などに記載
されているオキサジアゾール誘導体、(8)特公昭37
−16096号公報などに記載されているイミダゾール
誘導体、
(9)米国特許第3615402号、同第382098
9号、同3542544号、特公昭45−555号、特
公昭51−10983号、特開昭51−93224号、
特開昭55−17105号、特開昭56−4148号、
特開昭55−108667号、特開昭55−15695
3号、特開昭56−36656号明細書、公報などに記
載のボリアリールアルカン誘導体、
(10)米国特許第3180729号、同第42787
46号、特開昭55−88064号、特開昭55−88
065号、特開昭49−105537号、特開昭55−
51086号、特開昭56−80051号、特開昭56
−88141号、特開昭57−45545号、特開昭5
4−112637号、特開昭55−74546号明細書
、公報などに記載されているピラゾリン誘導体およびピ
ラゾロン誘導体、(11)米国特許第3615404号
明細書、特公昭51−10105号、特開昭54−83
435号、特開昭54−110836号、特開昭54−
119925号、特公昭46−3712号、特公昭47
−28336号明細書、公報などに記載されているフェ
ニレンジアミン誘導体、
(工2)米国特許第3567450号、特公昭49−3
5702号、西独国特許(DAS)1110518号、
米国特許第3180703号、米国特許第324059
7号、米国特許第3658520号、米国特許第423
2103号、米国特許第4175961号、米国特許第
4012376号、特開昭55−144250号、特開
昭56−119132号、特公昭39−27577号、
特開昭56−22437号明細書、公報などに記載され
ているアリールアミン誘導体、
(13)米国特許第3526501号明細書記載のアミ
ン置換カルコン誘導体、
(14)米国特許第3542546号明!lI書などに
記載のN、N−ビカルバジル誘導体、
(15)米国特許第3257203号明細書などに記載
のオキサゾール誘導体、
(16)特開昭56−46234号公報などに記載のス
チリルアントラセン誘導体、
(17)特開昭54−110837号公報などに記載さ
れているフルオレノン誘導体、
(18)米国特許第3717462号、特開昭54−5
9143号、特開昭55−52063号、特開昭55−
52064号、特開昭55−46760号、特開昭55
−85495号、特開昭57−11350号、特開昭5
7−148749号各明細書1公報などに開示されてい
るヒドラゾン誘導体。(6) Triazole derivatives described in U.S. Patent No. 3112197, etc., (7) Oxadiazole derivatives described in U.S. Patent No. 3189447, specifications, etc., (8) Japanese Patent Publication No. 37
Imidazole derivatives described in -16096, etc. (9) U.S. Patent No. 3615402, U.S. Patent No. 382098
No. 9, No. 3542544, Special Publication No. 45-555, No. 10983-1983, Japanese Patent Publication No. 93224-1971,
JP-A-55-17105, JP-A-56-4148,
JP-A-55-108667, JP-A-55-15695
No. 3, polyaryl alkane derivatives described in JP-A-56-36656, publications, etc. (10) U.S. Pat. No. 3,180,729, U.S. Pat.
No. 46, JP-A-55-88064, JP-A-55-88
No. 065, JP-A-49-105537, JP-A-55-
No. 51086, JP-A-56-80051, JP-A-56
-88141, JP-A-57-45545, JP-A-5
Pyrazoline derivatives and pyrazolone derivatives described in No. 4-112637, JP-A-55-74546, publications, etc., (11) U.S. Pat. -83
No. 435, JP-A-54-110836, JP-A-54-
No. 119925, Special Publication No. 1971-3712, Special Publication No. 1977
Phenyl diamine derivatives described in -28336 specification, gazette, etc.
No. 5702, West German Patent (DAS) No. 1110518,
U.S. Patent No. 3180703, U.S. Patent No. 324059
No. 7, U.S. Patent No. 3,658,520, U.S. Patent No. 423
No. 2103, U.S. Patent No. 4175961, U.S. Patent No. 4012376, JP 55-144250, JP 56-119132, JP 39-27577,
Arylamine derivatives described in JP-A-56-22437 and publications, (13) Amine-substituted chalcone derivatives described in US Pat. No. 3,526,501, (14) US Pat. No. 3,542,546! (15) Oxazole derivatives described in U.S. Pat. 17) Fluorenone derivatives described in JP-A-54-110837, etc., (18) U.S. Pat. No. 3,717,462, JP-A-54-5
No. 9143, JP-A-55-52063, JP-A-55-
No. 52064, JP-A-55-46760, JP-A-55
-85495, JP-A-57-11350, JP-A-57-11350
7-148749, each specification 1 publication, and the like.
これらの光導電性物質は、場合により2種類以上併用す
ることもできる。Two or more of these photoconductive substances may be used in combination depending on the case.
これらの光導電性物質の中では、ポリ−N−ビニルカル
バゾール;トリーp−トリルアミンおよびトリフェニル
アミンなどの如きトリアリールアミン;4,4’−ビス
(ジエチルアミン)−2゜2′−ジメチルトリフェニル
メタンなどの如きポリアリールメタン;および3−(4
−ジメチルアミノフェニル)−1,5−ジフェニル−2
−ピラゾリンなどの如きピラゾリン誘導体で代表される
不飽和の複素環含有化合物等が好ましく用いられる。Among these photoconductive materials are poly-N-vinylcarbazole; triarylamines such as tri-p-tolylamine and triphenylamine; 4,4'-bis(diethylamine)-2°2'-dimethyltriphenyl; polyarylmethane such as methane; and 3-(4
-dimethylaminophenyl)-1,5-diphenyl-2
-Unsaturated heterocycle-containing compounds represented by pyrazoline derivatives such as pyrazoline are preferably used.
組合せ得る結合剤としては、従来知られている全てのも
のが利用できる。代表的なものは塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合物、スチレン−ブタジェン共重合物、スチレン
−ブチルメタクリレート共重合物、ポリメタクリレート
、ポリアクリレート、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチ
ラール、アルキド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂
、エポキシエステル樹脂、ポリエステル樹脂等である。As the binder that can be combined, all conventionally known binders can be used. Typical examples include vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, styrene-butadiene copolymer, styrene-butyl methacrylate copolymer, polymethacrylate, polyacrylate, polyvinyl acetate, polyvinyl butyral, alkyd resin, silicone resin, and epoxy resin. , epoxy ester resin, polyester resin, etc.
また、水性のアクリルエマルシロン、アクリルエステル
エマルジョンと組合わせることも可能である。It is also possible to combine it with aqueous acrylic emulsion or acrylic ester emulsion.
結合剤として有用な特定の重合体物質の例については、
リサーチ・ディスクロージャー(Re−search
Disclosure)、109巻、61−6’7頁の
[電子写真要素、材料および方法」という題名の下に記
載されている。For examples of specific polymeric materials useful as binders, see
Research Disclosure
Disclosure), Volume 109, Pages 61-6'7, under the title "Electrophotographic Elements, Materials and Methods".
一般に、本発明に用いられる光導電性組成物に存在させ
る結合剤の量は変更可能である。代表的には結合剤の有
用な量は、光導電性材料と結合剤の混合物の全量に対し
て、約10ないし約90重量%の範囲内である。Generally, the amount of binder present in the photoconductive compositions used in the present invention can vary. Typically useful amounts of binder range from about 10 to about 90% by weight, based on the total amount of the photoconductive material and binder mixture.
更に、分光増感剤として従来公知の化合物を添加するこ
とができる。例えば、キサンチン系色素、トリフェニル
メタン系色素、アジン系色素、フタロシアニン系色素(
含金属)、ポリメチン系色素等が挙げられ、具体的には
、宮本晴視、武井秀彦編、「イメージングJ1973(
Nα8)、2iC,J、 Young、 R,C,A
Revie−工5,469(1954);清田航平等、
電気通信学会論文誌J63−C(No、2)、97 (
1980):原崎勇次等、工業化学雑誌、旦旦、78及
び188 (1963);谷忠昭、日本写真学会誌、主
i、20B (1972) ; Re5earch D
isclosure、 1982年呈上旦、117〜1
18;総合技術資料集「最近の光導電材料と感光体の開
発・実用化」日本科学情報■出版部刊(1986年)等
の総説引例の公知材料等があげられる。Furthermore, conventionally known compounds can be added as spectral sensitizers. For example, xanthine dyes, triphenylmethane dyes, azine dyes, phthalocyanine dyes (
Examples include metal-containing), polymethine dyes, etc. Specifically, examples include "Imaging J1973" edited by Harumi Miyamoto and Hidehiko Takei.
Nα8), 2iC, J, Young, R, C, A
Revie-Ko 5, 469 (1954); Wataru Kiyota,
IEICE Transactions J63-C (No. 2), 97 (
1980): Yuji Harasaki et al., Industrial Chemistry Journal, Dandan, 78 and 188 (1963); Tadaaki Tani, Journal of the Photographic Society of Japan, 20B (1972); Re5earch D
isclosure, 1982 Presentation Day, 117-1
18; Comprehensive technical data collection ``Recent Development and Practical Application of Photoconductive Materials and Photoreceptors'' published by Nihon Kagaku Information Publishing Department (1986), etc. Publicly known materials cited in the review.
光導電層は、−層から形成されていてもよいが、二層以
上の多層から形成されていてもよい。The photoconductive layer may be formed from one layer, or may be formed from two or more layers.
多層である場合には、例えば、前記の無機光導電体また
はフタロシアニン顔料、アゾ顔料などの有機顔料及び必
要により加えられる結着性樹脂からなる電荷発生層と、
前記した嘴分子化合物や低分子化合物及び結着性樹脂か
らなる電荷1般送層とを積層した、いわゆる機能分離型
の光導電性層の形態のものが考えられる。In the case of a multilayer structure, for example, a charge generation layer comprising the above-mentioned inorganic photoconductor or an organic pigment such as a phthalocyanine pigment or an azo pigment, and a binding resin added as necessary;
A so-called functionally separated photoconductive layer may be considered, in which the above-mentioned beak molecule compound or low-molecular compound and a charge transport layer made of a binding resin are laminated.
本発明に用いられる光導電層は、通常用いられる公知の
支持体上に設けることができる。一般に言って電子写真
感光層の支持体は、導電性であることが好ましく、導電
性支持体としては従来と全く同様、例えば、金属、紙、
プラスチックシート等の基体に低抵抗性物質を含浸させ
るなどして導電処理したもの、基体の裏面(感光層を設
ける面と反対面)に導電性を付与し、更にはカール防止
を図る等の目的で少なくとも1層以上をコートしたもの
、前記支持体の表面に耐水性接着層を設けたもの、前記
支持体の表面層に必要に応じて少なくとも1層以上のプ
レコート層が設けられたもの、へ2等を蒸着した基体化
プラスチックを紙にラミネートしたもの等が使用できる
。The photoconductive layer used in the present invention can be provided on a commonly used and known support. Generally speaking, the support of the electrophotographic photosensitive layer is preferably electrically conductive, and examples of the electrically conductive support include metal, paper, etc.
A substrate such as a plastic sheet that has been treated to conductivity by impregnating it with a low-resistance substance, etc. The purpose is to impart conductivity to the back side of the substrate (the side opposite to the side on which the photosensitive layer is provided) and to prevent curling. to those coated with at least one layer or more, those with a water-resistant adhesive layer provided on the surface of the support, and those with at least one pre-coated layer provided on the surface layer of the support as necessary. A material made by laminating a plastic substrate onto which grade 2 is vapor-deposited onto paper can be used.
具体的に、導電性基体あるいは導電化材料の例として、
坂本幸男、「電子写真、114.(Nα1)。Specifically, examples of conductive substrates or conductive materials include:
Yukio Sakamoto, “Electronic photography, 114. (Nα1).
第2〜11頁(197!5)、森賀弘之「入門特殊紙の
化学j高分子刊行会(1975) 1. F。pp. 2-11 (197!5), Hiroyuki Moriga, "Introductory Special Paper Chemistry J Polymer Publishing Association (1975) 1. F.
Hoover、 J、 Macromol、 Sct、
Chem、、 A −4(6)、第1327〜14
17頁(1970)等に記載されているもの等を用いる
ことができる。Hoover, J., Macromol, Sct.
Chem, A-4(6), No. 1327-14
17 (1970) etc. can be used.
適当な支持体上の光導電性組成物の塗布厚は、広く変え
ることができる。普通は、約10ミクロンから約300
ミクロン(但し、乾燥前)の範囲内で塗布することがで
きる。乾燥前の塗布厚の好ましい範囲は、約50ミクロ
ンないし約150ミクロンの範囲内であることがわかっ
た。しかし、この範囲をはずれても有益な結果を得るこ
とができる。この塗布物を乾燥させた場合の厚さは、約
1ミクロンから約50ミクロンの範囲内であればよい。The coating thickness of the photoconductive composition on a suitable support can vary widely. Usually about 10 microns to about 300 microns
It can be applied within the range of microns (before drying). A preferred range of coating thickness before drying has been found to be within the range of about 50 microns to about 150 microns. However, useful results can be obtained even outside this range. The dry thickness of this coating may range from about 1 micron to about 50 microns.
本発明の親水化可能な表面層の厚さは10μm以下であ
り、特にカールソンプロセス用としては0.1〜5μm
であることが好ましい。The thickness of the hydrophilic surface layer of the present invention is 10 μm or less, particularly 0.1 to 5 μm for Carlson process.
It is preferable that
5μmより厚いと、平版印刷用原版の電子写真用窓光体
としての感度の低下や残留電位が高くなるといった不都
合が生じ得る。If it is thicker than 5 μm, disadvantages may occur such as a decrease in sensitivity of the lithographic printing original plate as an electrophotographic window light material and an increase in residual potential.
実際に本発明の平版印刷用原版を作るには、−殻間に、
まず常法に従って導電性支持体上に電子写真感光層(光
導電層)を形成する。次いで、この層の上に、本発明の
樹脂、更には必要により前記した添加剤等を沸点が20
0°C以下の揮発性炭化水素溶剤に溶解又は分散し、こ
れを塗布・乾燥することによって製造することができる
。用いる有機溶剤としては、具体的にはとくにジクロロ
メタン、クロロホルム、1.2−ジクロロエタン、テト
ラクロロエタン、ジクロロプロパンまたはトリクロロエ
タンなどの如き、炭素数1〜3のハロゲン化炭化水素が
好ましい。その他クロロベンゼン、トルエン、キシレン
またはベンゼンなどの如き芳香族炭化水素、アセトンま
たは2−ブタノン等の如きケトン類、テトラヒドロフラ
ンなどの如きエーテルおよびメチレンクロリドなど、塗
布用組成物に用いられる各種の溶剤および上記溶剤の混
合物も使用可能である。In order to actually make the lithographic printing original plate of the present invention, - between the shells,
First, an electrophotographic photosensitive layer (photoconductive layer) is formed on a conductive support according to a conventional method. Next, on this layer, the resin of the present invention and, if necessary, the above-mentioned additives, etc., are added to a boiling point of 20.
It can be produced by dissolving or dispersing it in a volatile hydrocarbon solvent at 0°C or lower, coating it, and drying it. The organic solvent used is specifically preferably a halogenated hydrocarbon having 1 to 3 carbon atoms, such as dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane, tetrachloroethane, dichloropropane, or trichloroethane. Other various solvents used in coating compositions, such as aromatic hydrocarbons such as chlorobenzene, toluene, xylene or benzene, ketones such as acetone or 2-butanone, ethers such as tetrahydrofuran, and methylene chloride, and the above-mentioned solvents. Mixtures of can also be used.
以上の如くして得られた原版を、通常の電子写真法に従
って該原版上にトナー像を形成する。これを不惑脂化処
理液(例えば、酸性又はアルカリ性の水溶液あるいは還
元剤を溶解した水溶液など)で処理して非画像部を親水
性に変えることにより印刷版を得ることができる。A toner image is formed on the original plate obtained as described above in accordance with a conventional electrophotographic method. A printing plate can be obtained by treating this with a fat-free treatment liquid (for example, an acidic or alkaline aqueous solution or an aqueous solution containing a reducing agent) to make the non-image area hydrophilic.
このように、本発明における親水化可能層を用いれば、
・従来公知のあらゆる電子写真感光体が、高品質の平版
印刷用原版として使用が可能となる。In this way, if the hydrophilic layer of the present invention is used,
- Any conventionally known electrophotographic photoreceptor can be used as a high-quality lithographic printing original plate.
親水化可能層は、親木処理後、高い親水性と耐水性が両
立する皮膜であり、また、製版およびトナー画像との接
着性も極めて良好で、したがって得られた平版印刷用原
版は地汚れの発生が非常に抑制されるとともに、高い耐
刷性を有する。The hydrophilic layer is a film that exhibits both high hydrophilicity and water resistance after parent wood treatment, and also has extremely good adhesion to plate making and toner images. In addition to greatly suppressing the occurrence of , it has high printing durability.
さらに、本発明の印刷版は電子写真感光層本来の感度を
ほとんどそのまま維持することができるので、従来の電
子写真製版用の印刷原版に比べ飛曜的に高感度な印刷原
版が得られる。また、従来はひとつの層で光導電性と親
水化が可能であるという性質を持たねばならないため、
酸化亜鉛など限られた材料しか使用できなかったが、本
発明の印刷原版では光導電層と親水化可能層に機能が分
離しているので、光導電層の選択の範囲が広がり、した
がって、たとえば長波長光領域に高感度な材料を選択す
れば、従来不可能であったHe−Neレーザーや半導体
レーザーにより書き込みが可能となる。Furthermore, since the printing plate of the present invention can maintain almost the original sensitivity of the electrophotographic photosensitive layer, it is possible to obtain a printing plate having significantly higher sensitivity than conventional printing plates for electrophotographic engraving. In addition, conventionally, a single layer must have the properties of photoconductivity and hydrophilicity, so
Previously, only limited materials such as zinc oxide could be used, but in the printing original plate of the present invention, the functions are separated into a photoconductive layer and a hydrophilizable layer, so the range of selection of the photoconductive layer is expanded, and therefore, for example, By selecting a material that is highly sensitive to long wavelength light, it becomes possible to write with a He-Ne laser or a semiconductor laser, which was previously impossible.
また、本発明の印刷原版では、非画像部の親水化が、親
水化処理液に数秒間浸漬するだけでできるので、小型、
簡易な装置で製版が可能となる。In addition, in the printing original plate of the present invention, the non-image area can be made hydrophilic by simply immersing it in a hydrophilic treatment solution for a few seconds, so it is small and
Plate making becomes possible with a simple device.
(実施例)
以下に本発明の実施例を例示するが、本発明の内容がこ
れらに限定されるものではない。(Example) Examples of the present invention are illustrated below, but the content of the present invention is not limited thereto.
実施例1
有機光導電性物質として、4.4′−ビス(ジエチルア
ミノ)−2,2’ −ジメチルトリフェニルメタン5g
1ビスフエノールAのポリカーボネート(GE社製、商
品名 レキサン121)5g、下記構造式の分光増感色
素(A)40+ng、化学増悪剤として、下記構造式の
アニリド化合物CB)0.2gとをメチレンクロライド
30dとエチレンクロライド30m1との混合物に溶解
し、感光液とした。Example 1 5 g of 4,4'-bis(diethylamino)-2,2'-dimethyltriphenylmethane as an organic photoconductive substance
5 g of 1-bisphenol A polycarbonate (manufactured by GE, trade name Lexan 121), 40+ng of a spectral sensitizing dye (A) with the following structural formula, and 0.2 g of an anilide compound CB) with the following structural formula as a chemical aggravating agent, were mixed with methylene chloride. It was dissolved in a mixture of 30 d of chloride and 30 ml of ethylene chloride to prepare a photosensitive liquid.
(分光増感色素(A))
(アニリド化合物(B))
この感光液を、ワイヤーラウンドロンドを用いて導電性
透明支持体(100μmのポリエチレンテレフタレート
支持体上に、酸化インジウムの蒸着膜を有する。表面抵
抗103Ω)上に塗布して約4μmの感光層を有する有
機薄膜を得た。(Spectral Sensitizing Dye (A)) (Anilide Compound (B)) This photosensitive solution was applied to a conductive transparent support (a 100 μm polyethylene terephthalate support) with a vapor-deposited film of indium oxide using a wire round iron. An organic thin film having a photosensitive layer of about 4 μm was obtained by coating on a surface (surface resistance: 10 3 Ω).
一方、ベンジルメタクリレート40g、2−ヒドロキシ
エチルメタクリレート12g2本発明の共重合体成分に
相当する単量体(A)48g及びトルエン300gの混
合溶液を窒素気流下、温度75゛Cに加温した後、アゾ
ビスイソブチロニトリル(^、1.B、N、) 1.、
Ogを加え、8時間反応させた。得られた共重合体
の重量平均分子量は48゜000であった。;樹脂CI
)
単量体(A)
CH3
CH,=C
C00(CHz)45OzOCHtCHC1□先に得た
電子写真感光体の表面に、得られた共重合体を5重量%
及びヘキサメチレンジイソシアナートを0.5重量%含
有するトルエン溶液をドクターブレードで塗布し、10
0°Cで2時間乾燥して、約2μmの表面層を形成した
。その感光材料を不感脂化処理液[富士写真フィルム■
製ELP−EX)を用いて、エツチングプロセッサーに
2回通して、不感脂化処理した。On the other hand, after heating a mixed solution of 40 g of benzyl methacrylate, 12 g of 2-hydroxyethyl methacrylate, 48 g of monomer (A) corresponding to the copolymer component of the present invention, and 300 g of toluene to a temperature of 75°C under a nitrogen stream, Azobisisobutyronitrile (^, 1.B, N,) 1. ,
Og was added and reacted for 8 hours. The weight average molecular weight of the obtained copolymer was 48.000. ;Resin CI
) Monomer (A) CH3 CH,=C C00 (CHz) 45OzOCHtCHC1 □ 5% by weight of the obtained copolymer was applied to the surface of the electrophotographic photoreceptor obtained earlier.
A toluene solution containing 0.5% by weight of hexamethylene diisocyanate and hexamethylene diisocyanate was applied with a doctor blade.
It was dried at 0°C for 2 hours to form a surface layer of about 2 μm. The photosensitive material is desensitized using a processing solution [Fuji Photo Film ■]
ELP-EX (manufactured by ELP-EX) was used to desensitize the sample by passing it through an etching processor twice.
これに蒸留水2μlの水滴を乗せ、形成された水との接
触角をゴニオメータ−で測定した所106以下であった
。尚、不感脂化処理前の接触角は、84°であり、明ら
かに、本感光材料の表面層が非常に良好に親水化された
ことを示す。A droplet of 2 μl of distilled water was placed on this, and the contact angle with the water formed was measured with a goniometer and was found to be 106 or less. The contact angle before the desensitization treatment was 84°, clearly indicating that the surface layer of the photosensitive material was made very well hydrophilic.
この様にして得た原版を、負荷電性の液体現像剤を用い
て全自動製版機ELP404V (富士写真フィルム■
製)で製版して、トナー画像を形成し、上記と同条件で
不感脂化処理しこれをオフセットマスターとして、オフ
セット印刷a(桜井製作所■製、52型)にかけ上質紙
上に印刷した。The original plate obtained in this way was processed using a fully automatic plate making machine ELP404V (Fuji Photo Film ■) using a negatively charged liquid developer.
(manufactured by Sakurai Seisakusho, Ltd.) to form a toner image, which was desensitized under the same conditions as above, used as an offset master, and printed on offset printing a (manufactured by Sakurai Seisakusho ■, model 52) on high-quality paper.
印刷物の非画像部の地汚れ及び画像部の画質に問題を生
じないで印刷できる枚数は、10,000枚であった。The number of prints that could be printed without causing problems with scumming in the non-image areas and image quality in the image areas was 10,000.
実施例2
下記構造式のビスアゾ顔料5g、テトラヒドロフラン9
5g及びポリビニルブチラール樹脂(電気化学工業社製
エデン力ブチラール#4000−1)の5重量%テトラ
ヒドロフラン溶液30gの混合物をボールミルで充分に
粉砕した、次いで、この混合物を取り出し、撹拌下、テ
トラヒドロフラン520gを加えた。この分散物をワイ
ヤーラウンドロッドを用いて実施例1で用いた導電性透
明支持体上に塗布して約0.7μmの電荷発生層を形成
した。Example 2 5 g of bisazo pigment with the following structural formula, 9 g of tetrahydrofuran
A mixture of 5 g of polyvinyl butyral resin (Edenki Butyral #4000-1 manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.) and 30 g of a 5% by weight tetrahydrofuran solution was sufficiently ground in a ball mill.Then, this mixture was taken out and 520 g of tetrahydrofuran was added under stirring. Ta. This dispersion was coated onto the conductive transparent support used in Example 1 using a wire round rod to form a charge generation layer of about 0.7 μm.
(ビスアゾ顔料)
次に、下記構造式のヒドラゾン化合物20g、ポリカー
ボネート樹脂(GE社製、商品名レキサン121)20
g及びテトラヒドロフラントロ0gの混合溶液をワイヤ
ーラウンドロッドを用いて上記電荷発生層の上に塗布し
て約18μmの電荷輸送層を形成し、2層から成る感光
層を有する電子写真感光体を得た。(Bisazo pigment) Next, 20 g of a hydrazone compound having the following structural formula, 20 g of a polycarbonate resin (manufactured by GE, trade name: Lexan 121)
A mixed solution of g and 0 g of tetrahydrofuranthro was applied onto the charge generation layer using a wire round rod to form a charge transport layer of about 18 μm to obtain an electrophotographic photoreceptor having a photosensitive layer consisting of two layers. .
(ヒドラゾン化合物)
次に、実施例1で用いたヘキサメチレンジイソシアナー
ト含有の共重合体の5重量%トルエン溶液を、上記感光
層上にドクターブレードで塗布し、温度100°Cで2
時間乾燥して約2μmの表面層を形成した。(Hydrazone compound) Next, a 5% by weight toluene solution of the hexamethylene diisocyanate-containing copolymer used in Example 1 was applied onto the photosensitive layer using a doctor blade, and the mixture was heated at 100°C for 2 hours.
After drying for hours, a surface layer of about 2 μm was formed.
この様にして作製した感光材料をペーパーアナライザー
(川口電機型、5P−428)で−6に■に帯電し、初
期電位(VO)、暗電荷保持率(D、R,R,)及び光
減衰露光量(El、’+。)を測定した所、各々■。−
−550V、D、R,R,= 88%及びE+z+o1
0. 8 (1ux・5ec)であった。The photosensitive material prepared in this way was charged to -6 to ■ using a paper analyzer (Kawaguchi Denki model, 5P-428), and the initial potential (VO), dark charge retention rate (D, R, R,) and optical attenuation were measured. When the exposure amount (El, '+.) was measured, each was ■. −
-550V, D, R, R, = 88% and E+z+o1
0. 8 (1ux・5ec).
更に、これを実施例1と同様に、全自動製版機ELP4
04VでELP−T トナーを用いて製版した所、得
られたオフセット印刷用マスタープレートの濃度は1.
0以上で画質は鮮明であった。Furthermore, in the same manner as in Example 1, a fully automatic plate making machine ELP4 was used.
When the plate was made using ELP-T toner at 0.04 V, the density of the obtained offset printing master plate was 1.
The image quality was clear when it was 0 or higher.
更に、エツチング処理をして、印刷機で印刷した所、一
方杖印刷後の印刷物は、非画像部のカブリがなく、画像
も鮮明であった。Furthermore, when etching was performed and printed using a printing press, the printed matter after cane printing had no fog in the non-image area and the image was clear.
前記した静電特性の評価項目の測定方法は以下の様に行
なった。The above electrostatic property evaluation items were measured as follows.
温度20’C165%RHの暗室中で、各感光材料にペ
ーパーアナライザー(川口電機0菊製ペーパーアナライ
ザー5P−428型)を用いて−6に■で20秒間コロ
ナ放電をさせた後、10秒間放置し、この時の表面電位
V、。を測定した。次いでそのまま暗室中で60秒間静
置した後の電位■7゜を測定し、60秒間暗減衰させた
後の電位の保持性即ち、暗減衰保持率(D、R,R,(
%)〕を(V 70/ V +。)X100(%)で求
めた。In a dark room at a temperature of 20'C and 165% RH, each photosensitive material was subjected to corona discharge for 20 seconds at -6 and ■ using a paper analyzer (Paper Analyzer 5P-428 model manufactured by Kawaguchi Denki 0 Kiku), and then left for 10 seconds. And the surface potential at this time is V. was measured. Next, the potential ■7° was measured after being left to stand still for 60 seconds in a dark room, and the retention of the potential after dark decay for 60 seconds, that is, the dark decay retention rate (D, R, R, (
%)] was calculated as (V70/V+.)X100(%).
又コロナ放電により光導電層表面を一400■に帯電さ
せた後、該光導電層表面を照度2.0ルツクスの可視光
で照射し、表面電位(V+。)が1/10に減衰するま
での時間を求め、これから露光IE、/I。(ルックス
・秒)を算出する。After the surface of the photoconductive layer was charged to -400 μ by corona discharge, the surface of the photoconductive layer was irradiated with visible light at an illuminance of 2.0 lux until the surface potential (V+) attenuated to 1/10. Find the time of exposure and from this, exposure IE, /I. Calculate (looks/seconds).
実施例3
〔メチルメタクリレート/エチルメタクリレート/アク
リル酸(39/60/1重量比)]共重合体(重量平均
分子量42000)45g、酸化亜鉛200 g、ロー
ズベンガル0.03g、テトラブロムフェノールブルー
0.02g、無水フタル酸0.05g及びトルエン30
0gの混合物を、ボールミル中で2時間分散して感光層
形成物を調整し、これを導電処理した紙に乾燥付着量が
25g/rrTとなるようにワイヤーバーで塗布し、1
00°C″′?!1分間乾燥しな。Example 3 [Methyl methacrylate/ethyl methacrylate/acrylic acid (39/60/1 weight ratio)] copolymer (weight average molecular weight 42,000) 45 g, zinc oxide 200 g, rose bengal 0.03 g, tetrabromophenol blue 0. 02g, phthalic anhydride 0.05g and toluene 30
0g of the mixture was dispersed in a ball mill for 2 hours to prepare a photosensitive layer-forming product, which was coated on electrically conductive treated paper with a wire bar so that the dry adhesion amount was 25g/rrT.
00°C'''?! Dry for 1 minute.
一方、グリシジルメタクリレート5g、下記の本発明に
係わる単量体(B)45g及びトルエン150gの混合
溶液を窒素気流下に温度75°Cとし、^、1.B、N
、1. 0gを加え、8時間反応した。On the other hand, a mixed solution of 5 g of glycidyl methacrylate, 45 g of monomer (B) according to the present invention described below, and 150 g of toluene was brought to a temperature of 75°C under a nitrogen stream, and 1. B, N
, 1. 0g was added and reacted for 8 hours.
得られた共重合体の重量平均分子量は37.000であ
った。:樹脂[■]
単量体(B)
CH。The weight average molecular weight of the obtained copolymer was 37.000. : Resin [■] Monomer (B) CH.
CH,=C
C00CR1CI(2NHCOOC(CH,、)+上記
感光体上に、ヘキサメチレンジイソシアナートを0.
4重量%及び上記共重合体を5重量%含有するトルエン
溶液をドクターブレードで塗布し、温度100°Cで1
.5時間乾燥・加熱して、約2μmの表面層を形成した
。CH,=C C00CR1CI(2NHCOOC(CH,,)+0.0% hexamethylene diisocyanate on the above photoreceptor.
A toluene solution containing 4% by weight and 5% by weight of the above copolymer was applied with a doctor blade and heated at 100°C for 1 hour.
.. It was dried and heated for 5 hours to form a surface layer of about 2 μm.
この様にして作製した平版印刷用原版を実施例2と同一
の条件でペーパーアナライザーで静電特性を測定した所
、各々■。=−530V、D、 R,R。The electrostatic properties of the lithographic printing original plates prepared in this manner were measured using a paper analyzer under the same conditions as in Example 2. =-530V, D, R, R.
−83%及びEl/109. 6 (lux−sec)
であった。-83% and El/109. 6 (lux-sec)
Met.
次に、全自動製版機ELP−404Vで、実施例2と同
様に操作した所、得られたオフセット印刷用マスタープ
レートの濃度は1.0以上で画質は鮮明であった。更に
、エツチング処理をして、印刷機で印刷した所、一方杖
印刷後の印刷物は非画像部のカブリがなく画像も鮮明で
あった。Next, the same operation as in Example 2 was carried out using a fully automatic plate making machine ELP-404V, and the density of the obtained offset printing master plate was 1.0 or more and the image quality was clear. Furthermore, when etching was performed and printed using a printing press, the printed matter after cane printing had no fog in the non-image area and the image was clear.
実施例4〜19
実施例1において、本発明の樹脂(1)の代わりに、下
記表−1に示される共重合体を用いる以外は、実施例1
と同様に操作して、各電子写真感光材料を作製した。Examples 4 to 19 Example 1 except that the copolymer shown in Table 1 below was used instead of the resin (1) of the present invention.
Each electrophotographic light-sensitive material was produced in the same manner as described above.
表−1
C)13 CI+3一←CHz
C−6丁−モC11,−C−ト1−H−X−ト1−C
OOC−H9C00(C)12) aOII[重量%組
成比]
表−1(続き1)
表−1(続き2)
表−1(続き3)
これを実施例1と同様に全自動製版機ELP404Vで
製版した所、得られたオフセット印刷用マスタープレー
トの濃度は1.2以上で画質は鮮明であった。更にエツ
チング処理をして印刷機で印刷した所、1万枚印刷後の
印刷物は非画像部のカプリがなく、鮮明な画質であった
。Table-1 C) 13 CI+3-←CHz
C-6-moC11,-C-to1-H-X-to1-C
OOC-H9C00 (C) 12) aOII [wt% composition ratio] Table-1 (Continued 1) Table-1 (Continued 2) Table-1 (Continued 3) This was carried out using the fully automatic plate making machine ELP404V as in Example 1. When the plate was made, the density of the obtained master plate for offset printing was 1.2 or more, and the image quality was clear. Furthermore, when the image was etched and printed using a printing press, the printed matter after printing 10,000 sheets had no capri in the non-image area and had a clear image quality.
更に、この感光材料を(45°C175%RH)の条件
下に2週間放置した後、上記と全く同様の処理を行なっ
たが、経時前と全く変化がなかった一
実施例20
下記化学構造式で示される本発明の共重合体(重量平均
分子量32,000):PA脂(XIX)共重合体:樹
脂(XIX)
を実施例1の樹脂CI)の代わりに用いる以外は、実施
例1と同様の操作を行なって、電子写真感光材料を得た
。Further, this photosensitive material was left under conditions of (45°C, 175% RH) for two weeks, and then treated in exactly the same manner as above, but there was no change at all from before aging.Example 20 The following chemical structural formula Example 1 except that the copolymer of the present invention shown by (weight average molecular weight 32,000): PA resin (XIX) copolymer: resin (XIX) was used instead of resin CI) of Example 1. A similar operation was carried out to obtain an electrophotographic material.
これを実施例1と同様の装置で製版した所、得られたオ
フセット印刷用マスタープレートの濃度は1.0以上で
画質は鮮明であった。更にエツチング処理をして印刷機
で印刷した所、1万枚印刷後の印刷物は、カブリのない
鮮明な画質であった。When this was plate-made using the same apparatus as in Example 1, the density of the obtained offset printing master plate was 1.0 or more and the image quality was clear. Further, when etching was performed and printed on a printing press, the printed matter after printing 10,000 sheets had clear image quality with no fogging.
更に、この感光材料を(45°C175%RH)の条件
下に2週間放置した後、上記と全く同様の処理を行なっ
たが、経時前と全く変化がなかった。Further, this photosensitive material was left under conditions of (45° C., 175% RH) for two weeks and then subjected to the same treatment as above, but there was no change at all compared to before aging.
実施例21〜25
実施例1において用いたヘキサメチレンジイソシアナー
トの代わりに、下記表−2の化合物を用いた他は、実施
例1と同様にして、感光材料を作製した。Examples 21 to 25 Photosensitive materials were produced in the same manner as in Example 1, except that the compounds shown in Table 2 below were used instead of hexamethylene diisocyanate used in Example 1.
表−2
これを、実施例1と同様の装置で製版し、次いでエツチ
ング処理して印刷機で印刷した。製版後得られたオフセ
ット印刷用マスタープレートの濃度は1.0以上で、画
質は鮮明であった。又1月枚印刷後の印刷物の画質は地
力ブリのない鮮明な画像のものであった。Table 2 This was plate-made using the same device as in Example 1, then etched and printed using a printing press. The density of the master plate for offset printing obtained after plate making was 1.0 or more, and the image quality was clear. In addition, the image quality of the printed matter after printing in January was a clear image without any blurring.
(発明の効果)
以上のことから、本発明の樹脂及び架橋剤を含有する親
水化可能層を表面層に有する電子写真式平版印刷用原版
は、親水化処理後、高い親水性と耐水性とが両立する皮
膜であり、しかもトナー画像との接着性も極めて良好で
あるため、得られる平版印刷用原版は、地汚れ及び耐剛
性の両面において優れた品質を有する。(Effects of the Invention) From the above, the electrophotographic lithographic printing original plate having a hydrophilic layer containing the resin and crosslinking agent of the present invention in its surface layer has high hydrophilicity and water resistance after hydrophilic treatment. Since the film is compatible with both of the following and also has extremely good adhesion to the toner image, the resulting lithographic printing original plate has excellent quality in both scumming resistance and rigidity resistance.
更に、本発明の樹脂はその製造が容易である。Furthermore, the resin of the present invention is easy to manufacture.
代理人弁理士(8107)佐々木清隆 1.゛・、
手続補正書
平成1年 9月 1日Representative Patent Attorney (8107) Kiyotaka Sasaki 1.゛・、
Procedural amendment September 1, 1999
Claims (1)
にその最上層に表面層を設けてなる電子写真感光体を利
用した平版印刷用原版において、該表面層の主成分が、
分解によりチオール基、ホスホ基、アミノ基及びスルホ
基のうちの少なくとも1つの基を生成する官能基を少な
くとも1種含有する樹脂であり、且つ架橋剤が共存して
いる事を特徴とする電子写真式平版印刷用原版。In a lithographic printing original plate using an electrophotographic photoreceptor in which at least one photoconductive layer is provided on a conductive support and a surface layer is further provided on the uppermost layer, the main component of the surface layer is:
An electrophotographic resin containing at least one functional group that generates at least one of a thiol group, a phospho group, an amino group, and a sulfo group upon decomposition, and in which a crosslinking agent coexists. Original plate for lithographic printing.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13570588A JPH01306856A (en) | 1988-06-03 | 1988-06-03 | Plate for planographic printing |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13570588A JPH01306856A (en) | 1988-06-03 | 1988-06-03 | Plate for planographic printing |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01306856A true JPH01306856A (en) | 1989-12-11 |
Family
ID=15157962
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13570588A Pending JPH01306856A (en) | 1988-06-03 | 1988-06-03 | Plate for planographic printing |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01306856A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5409798A (en) * | 1991-08-30 | 1995-04-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Plate blank, process for producing printing plate from plate blank, and printing method and apparatus using plate |
| US5533452A (en) * | 1990-11-19 | 1996-07-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of peeling a release film from a photosensitive plate blank |
| US5599648A (en) * | 1990-08-03 | 1997-02-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Surface reforming method, process for production of printing plate, printing plate and printing process |
-
1988
- 1988-06-03 JP JP13570588A patent/JPH01306856A/en active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5599648A (en) * | 1990-08-03 | 1997-02-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Surface reforming method, process for production of printing plate, printing plate and printing process |
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| US5409798A (en) * | 1991-08-30 | 1995-04-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Plate blank, process for producing printing plate from plate blank, and printing method and apparatus using plate |
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