JPH01307632A - 可変キャパシタンス測定デバイス - Google Patents
可変キャパシタンス測定デバイスInfo
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
検出するために可変キャパシタンスを利用する測定デバ
イスの分野であり、かつ特に圧力を測定するためのキャ
パシタンスダイアフラム圧力計の分野にある。
液体または気体を有するシステムにおいて、その圧力を
正確に測定することが必要である。
。圧力を示すデバイスもあるが、その一方で、測定され
た圧力を他のシステムに送られるように較正された量に
変換する変圧器として働くものもある。たとえば、圧力
を自動的に制御するために電子回路を利用するシステム
において、電子回路の入力として設けられ得る圧力の電
気表示を提供することが望ましい。圧力の電気表示を発
生するために用いられるそのようなデバイスはキャパシ
タンスマノメータまたはキャパシタンスダイアフラム圧
力計である。
日に出された米国特許番号第3,557゜621号に記
載されている。簡単に述べると、そのようなキャパシタ
ンスマノメータはハウジングまたは他のそのような支持
構造によってダイアフラムの周辺に沿って支持される導
電材料を含むダイアフラムを有する。典型的には、ハウ
ジングは導電性金属から構成され、その結果ハウジング
はダイアフラムに導電性経路を提供する。コンデンサの
一方電極として機能するダイアフラムは米国特許番号第
3.557.621号で記載されるように好ましくは固
定されている少なくとも1つの基準電極に近接して位置
決めされる。たとえば、その固定基準電極はそれ自身ハ
ウジングに取付けられているセラミックのディスク状サ
ブストレート上に取付けられることが有利である。
、ダイアフラムの他方の側は測定されるべき未知の可変
圧力にさらされる。ダイアフラムの2つの側面の間の圧
力差はダイアフラムの中心が2つの圧力の低い方の方向
に動くことを引き起こし、かつそのためダイアフラムが
湾曲することを引き起こす。そのような動きおよび結果
として生じる湾曲によって、ダイアフラムの中心はコン
デンサの固定基準電極に近づくかまたは遠ざかり、かつ
2つの電極間のキャパシタンスの対応する変化を引き起
こす。2つの電極間のキャパシタンスはたとえば米国特
許番号第3,557,621号の第2図に示される回路
によってモニタされることができ、それによってダイア
フラムの動きを検出しその圧力の変化を検出する。回路
の電気出力信号は測定された信号値で行なわれる周知の
装置および計算によって測定され得て、圧力差を示す。
かな電流と協働する高インピーダンスデバイスである。
によって引き起こされるいかなる漏洩電流も測定値の不
正確さを招き得る。
たように、可変コンデンサの固定基準電極は典型的には
固定基準電極と同心である導電性ガードリングによって
取囲まれることが有利である。
圧および位相の信号は導電性ガードリングに与えられ、
ダイアフラム(すなわち可動電極)と固定基準電極との
間の漏洩電流を効果的に阻止する。漏洩電流を阻止する
ことによって、キャパシタンスマノメータから得られる
測定値の精度が非常に増加し、特にダイアフラムの動き
が比較的小さい、小さな圧力差の測定に関して非常にそ
の精度は増す。たとえば、キャパシタンスマノメータは
ほぼ10−9大気圧はどの圧力差を測定するように構成
されている。
ような可変キャパシタンスマノメータの精度はマノメー
タがさらされている温度の変化に応答して実質的に変化
し得ることが発見されている。そのような温度の影響は
固定基準電極がそのマノメータの金属ハウジングに関し
て支持されている、固定電極支持(たとえばセラミック
ディスク)の膨張および収縮の差によって引き起こされ
る。たとえば、例示のキャパシタンスマノメータでは、
固定電極は金属ハウジングとは違う熱膨張率を有するセ
ラミックディスク上に取付けられる。
電極を曲げたり湾曲を発生させたりすることによる金属
ハウジングに関して固定電極支持と固定された基準電極
の相対的な動きが引き起こされる。こうして、固定され
た基準電極の中心は温度の変化のためにダイアフラムに
近づくかまたはそこから離れて動くかもしれない。温度
による固定された基準電極の移動によって、圧力の変化
によって引き起こされるキャパシタンスの変化によるキ
ャパシタンス変化と区別がつかないキャパシタンスの変
化が引き起こされる。さらに、温度変化の影響は金属ハ
ウジング−に関した固定電極支持の相対的な動きは典型
的には温度の増減で繰返さないので予測することができ
ないことが知られている。こうして、温度の変化によっ
て測定値の精度に影響を与える偽ったキャパシタンス変
化が引き起こされる。キャパシタンスの温度に関連した
変化を防ぐために、金属ハウジングに関連した固定電極
支持の相対的な動きを減じることが望ましい。
続ける他の問題は残余漂遊キャパシタンスの量がわずか
しかないことである。これらの漂遊キャパシタンスはた
とえば固定電極支持のセラミック材料が固定された基準
電極とハウジングの間の誘電体として働く、固定された
基準電極と金属ハウジングの間にたとえば存在する。同
様の漂遊キャパシタンスはガードリングと金属のハウジ
ングの間に存在する。ガードリングは固定電極支持を介
して金属ハウジングへの漂遊キャパシタンスを実質的に
減じるがその漂遊キャパシタンスを完全になくすことは
可能ではなかった。たとえば、漂遊キャパシタンスは1
つの周知の市場で入手可能なキャパシタンスマノメータ
ではほぼ1ピコフアラツドにまで減じられた。その漂遊
キャパシタンスまたは温度の変化に伴なって変化し、こ
のため他の制御できない変数をキャパシタンスマノメー
タを用いて得られる測定値に導入してしまう。
が望ましい。
タンス変化および誘電体セラミック材料を介する漏洩電
流によって引起こされる漂遊キャパシタンスに関した以
上の問題を解決する。
変コンデンサを含み、かつ可変パラメータに応答する可
変キャパシタンス測定デバイスを開示する。第1の導電
要素は可変パラメータの変化に応答して第1の方向に少
なくとも第1の電極の一部が可変である、可変コンデン
サの第1の電極を含む。第2の導電要素は可変コンデン
サの第2の電極を含む。
関連して第1の方向に実質的に不可動でありかつその第
2の電極は第1の方向に垂直な第2の方向に可動である
ように、第1の電極に近接して第2の電極を取付けるた
めの転がり手段を特徴とする。
1の圧力と第2の圧力との間の圧力差である。この発明
の測定デバイスは取付表面を有するハウジングを含むこ
とが有利である。第1の電極は第1および第2の側面を
有するダイアフラムを含むことが好ましく、そのダイア
フラムは第1の圧力がダイアフラムの第1の側面上にか
つ第2の圧力がダイアフラムの第2の側面にあるように
位置決めされ、少なくともダイアフラムの一部は圧力差
の変化に応答して第1の方向に可動である。
むことが好ましく、その絶縁支持は第2の電極が固定さ
れる第1の表面を有し、第1の電極に近接した第2の電
極を取付けるための転がり手段が絶縁支持とハウジング
の取付は表面との間に置かれた転がり軸受を含み、転が
り軸受の位置は絶縁支持が第1の方向にハウジングの取
付表面に関連して実質的に不可動でありかつその絶縁支
持は第2の方向に取付表面に関して可動であるように選
択される。
支持とハウジングとの間に電気的分離を提供するための
電気絶縁体を含む。転がり軸受はサファイヤを含んでも
よい。それらは球形かまたは円筒形であってもよい。有
利には、それらは実質的に円形の形状で120°離され
て置かれている。この発明の測定デバイスでは、ハウジ
ングは第1の熱膨張率を有する導電性材料からなること
を好ましく、一方で絶縁支持は第1の熱膨張率とは異な
る第2の熱膨張率を有する材料を含む。
説明に関して完全に記されるであろう。
めに、キャパシタンスマノメータで知られる一具体例の
構造および動作がまず説明される。
示の100トール(1,33,10’ Pa)キャパシ
タマノメータ100の外側の透視図を例示する。第3図
はカバーが取外されたキャパシタンスマノメータの内部
部分の展開透視図である。第4図は第1図および第2図
の組立てられたキャパシタンスマノメータの断面図であ
る。第5図ないし第7図はキャパシタンスマノメータの
付加の詳細な図を提供する。例示されているように、キ
ャパシタンスマノメータ100はキャパシタンスマノメ
ータの気密の囲いを提供する中空の圧力シェルまたはハ
ウジング102を含む。中空の圧力シェル102の第1
のキャビティ104へのアクセスは圧力シェル102の
第1の端部110を貫通する中空の圧力チューブ106
によって提供される。圧力チューブ106は圧力シェル
102と圧力チューブ106の間に気密封止を提供する
ために、溶接または他の適切な方法によって圧力シェル
102の第1の端部110に機械的に接続される。圧力
チューブ106はキャパシタンスマノメータ100によ
ってモニタされるべき圧力の源(示されていない)に機
械的に接続可能である。
いない)等に溶接されてもよく、その結果真空ライン内
の圧力は圧力シェル102の第1のキャビティ104に
与えられる。
ル102は第2の圧力チューブ122によって貫通され
ている第2の端部120を含む。
キャビティ124へのアクセスを提供する。
のダイアフラム126によって、第1のキャビティ10
4から空気的に分離されている。当該技術分野において
は周知であるように、ダイアフラム126は典型的には
円形の形をしておりかつ支持構造128によってその周
辺のまわりが支持されている。ダイアフラム126はダ
イアフラム126の周辺に気密封止を提供するために、
溶接または他の適切な手段によって支持構造128に接
続される。たとえば、支持構造128はそれらの間に挾
まれたダイアフラムと共に溶接される第1の部分128
Aと第2の部分128Bを含むことが好ましい。
キャビティ124の間に存在するかもしれない圧力差を
受け、低い方の圧力を有するキャビティの方向に凸状に
、かつより高い圧力を有するキャビティの方向に凹状に
なるように一般に歪められるであろう。典型的なキャパ
シタンスマノメータにおいては、ダイアフラム126は
円でかつ対称軸130に関して対称的である。対称軸1
30はダイアフラム126の偏向していない(すなわち
平坦な)状態に対応する平面132に対して垂直である
。圧力差に応じたダイアフラム126の最大の偏向は対
称軸130に沿ったダイアフラム126の中央部分で経
験される。こうして、偏向の方向は平面132に対して
垂直である。ダイアフラムの周辺は支持構造128に固
定されているので、圧力差の変化に応答しても大震的に
は可動ではない。このため、ダイアフラム126の中央
に対してよりも周辺に対してより近接している部分は実
質的にダイアフラム126の中央部分より動きが少ない
。
て既知の基準圧力源かまたは他の圧力源に接続でき、そ
れと第1の圧力チューブ106に与えられる圧力を比較
することが望ましい。その代わりに、第2図および第4
図に例示されているように、第2の圧力チューブ122
は第2のキャビティ124に既知の固定された基準圧力
を与えるために第2のキャビティ124へのアクセスを
提供するために用いられる。その後、その固定された基
準圧力を一定に保ちながら、第2の圧力チューブ122
はつまみ取られて永久に封止され、その結果、第2のキ
ャビティ124は固定した基準圧力に維持される。こう
して、第1の圧力チューブ106に与えられた圧力は常
に既知の固定した基準圧力と比較される。第2の圧力チ
ューブ122に与えられる圧力は製造プロセスの開封止
さ ゛れ得て、封止された動作範囲を有するキャパシ
タンスマノメータを提供する。たとえば、非常に低い圧
力(すなわち、大気の状態に比べそれ以下の圧力)を測
定するために、第2のキャビティ124は第2の圧力チ
ューブ122を介して真空排気される。
シタンスマノメータ、特に絶対圧力を測定するためのも
のにおいて、第2の端部120はゲッター囲い136を
含む。そのゲッター囲い136はスクリーン138によ
って第2のキャビティ124から分離されるゲッター材
料(図示されていない)を収容する。ゲッター材料は第
2のキャビティ124が真空排気されてかつ第2の圧力
チューブ122が閉じられた後も残っている気体の跡を
取除く。残余ガスの除去が好ましいのはそれによって圧
力測定の正確さが邪魔されないからである。
して位置決めされる。第1の固定電極140は一般に円
形でかつ平面132に対して平行な平面142上にあり
対称軸130に対して垂直であることが好ましい。第1
の固定電極14’Oは一般にディスク状で、電気的に絶
縁している固定電極支持144の第1の表面146上に
取付けられる。その固定電極支持144の第1の表面1
46は支持構造128の肩150で止まる肩148を含
む。固定電極支持肩148の寸法と支持構造層150の
寸法は第1の固定電極140がダイアフラム126に関
して既知の固定された位置に置かれるように選択される
。その固定電極支持肩148はスラストリング156に
対する円形の波形座金154の動作によって支持構造層
150に対して適所にしっかりと保持される。圧力は波
形座金54に対して与えられ、こうして圧力シェル10
2の第2の端部120によって固定電極支持144に対
して与えられる。圧力シェル102の第2の端部120
は気密封止を提供するために溶接または他の適切な固着
手段によ、って支持構造128に固定される。典型的に
は、圧力シェル102の内径は第2の端部120の外径
より広い。第2の端部120はまた支持構造128の外
径より大きい直径を有する肩160を含む。圧力シェル
102は第2の端部120の肩に溶接され、その結果小
さなギャップ162が支持構造128の外側と圧カシニ
ル102の内側との間に残り、それによって支持構造1
28と圧力シェル102とが分離される。例示されてい
るように、固定電極支持144は第2のキャビティ12
4内に置かれる。
144に形成され、圧力が固定電極支持144の両側で
等しくされることを確実にする。ダイアフラム126お
よび第1の固定電極140は平行な平板コンデンサの2
つのプレートを含み、その間の空間にはコンデンサの誘
電体が含まれている。たとえば、大気の状態に比べそれ
以下の圧力を測定するための例示のキャパシタンスマノ
メータにおいて、ダイアフラム126と第1の固定電極
140との間の空間の誘電率は真空の誘電率に近づく。
130に沿ったダイアフラム126の中央部分の動きは
ダイアフラム126と第1の固定電極との間の距離が変
化することを引き起こし、それによって2つの電極の間
のキャパシタンスが変化することを引き起こすことがた
やすく理解できるであろう。こうして、ダイアフラム1
26および第1の固定電極140は種々のコンデンサを
含む。キャパシタンスはモニタされ、第1のキャビティ
104と第2のキャビティ124の間の圧力差における
変化が、測定されたキャパシタンスにおける変化から決
定される。 温度における変化および他の非圧力変化に
よって引き起こされるダイアフラム126と固定電極1
40の間のキャパシタンスの重要な変化が存在するかも
しれないので、キャパシタンス変化の測定は、圧力変化
に対しては違う様に変化するが、温度変化等に応答して
実質的に同じ変化をする2つの可変コンデンサによって
達成される。たとえば、米国特許番号第3,557,6
21号では、上で論じられたように、ダイアフラムは第
1の電極と第2の電極との間に位置決めされる。こうし
て、ダイアフラムが圧力差の変化に応じて第1の固定電
極に近づきかつダイアフラムと第1の固定電極との間の
キャパシタンスを増すにつれて、ダイアフラムは第2の
固定電極から遠くなりかつ牛ヤパシタンスを減じる。
スとは対照的に、第1図ないし第7図で例示されるデバ
イスにおいて、第2の固定された電極170は、第1の
固定電極140と一般的に同心でありかつ第1の固定電
極140の外部の周辺から間隔があけられている、導電
性の環状リングが設けられている。ダイアフラム126
および第2の固定電極170は第2の可変コンデンサを
含む。しかしながら、上で述べられたように、圧力変化
に応答したダイアフラム126の動きはダイアフラム1
26の中心近く (すなわち、対称軸130に沿って)
に集中されている。こうして、第2の固定電極170は
ダイアフラム126の中心部分の近くよりもむしろダイ
アフラム126の外部部分の近くに位置決めされるので
、ダイアフラム126と第2の固定電極170の間のキ
ャパシタンスはダイアフラム126と第1の固定電極1
40の間のキャパシタンスの変化に比べてその変化は実
質的に小さい。こうして、キャパシタンスにおける変化
の差が測定されて圧力の変化差が決定される。また、第
2の固定電極170とダイアフラム126の間のキャパ
シタンスならびに第1の固定電極140とダイアフラム
の間のキャパシタンスは温度変化および線形の動き(す
なわち、そのダイアフラムに対してかつそこから離れる
2つの固定電極の動き)に応答してほぼ同じ量および同
じ方向に変化する(すなわちキャパシタンスが増加する
かまたは減少する)。このキャパシタンスにおける「共
通のモード」の変化は一般に無視されることができかつ
既知の電子回路によってたやすく取除かれる。
部120を貫通する導体180に電気的に接続される。
止を提供するために溶接または他の適切な手段によって
第2の端部120に固定される第1の密封された同軸コ
ネクタ182の中央の導体であることが有利である。同
様に、第2の固定電極170は固定電極支持144およ
び第2の端部120を貫通している導体184に電気的
に接続される。第2の導体184は第2の端部120に
また固定される第2の密封された同軸コネクタ180の
中央の導体であると有利である。
圧力シェル102と、第1の中空の圧力チューブ106
は導電性の材料を含む。また典型的には、1個以上のこ
れらの要素は(従来の接地記号190によって第4図に
概略的に示されている)電気接地基準に電気的に接続さ
れる。こうして、電気接続はダイアフラム126から接
地基準までで完了する。示されいる実施例では、第1の
同軸コネクタ182はまた2つの導体の間に気密封止を
提供するガラスまたは他の適切な材料を含む絶縁体19
3によって中央の導体180から間隔をあけられかつ電
気的に分離されている同心の外部導体192を含む。同
心の外部導体192を第2の端部120と接地基準から
電気的に分離させるために、第1の同軸コネクタ182
は第2の端部120を通過する外部の導体192の部分
を取巻く、同心外部シェル194を含むことが好ましい
。
体195によって同心外部導体192から間隔があけら
れかつ電気的に分離されている。同様に、第2の同軸コ
ネクタ186は気密絶縁体197によって中心の導体1
84から間隔があけられかつ電気的に分離されている同
心外部導体196を含む。同心外部シェル198は外部
の導体196を取巻きかつ気密絶縁体199によって外
部の導体196から間隔をあけられている。
られ得る例示の回路が第8図に示される。
2を含む。例示されているように、第1のコンデンサC
1はダイアフラム126と第1の固定電極140の間の
可変キャパシタンスに対応する。同様に、第2のコンデ
ンサC2はダイアフラム126と第2の固定電極170
の間の可変キャパシタンスに対応する。そのダイアフラ
ムおよび2つの固定電極のための対応する参照番号は第
8図に示される。ダイアフラム126に対応する2つの
コンデンサの電極は接地基準190に接続される。第1
のコンデンサC1の電極140は導体180と、コネク
タ182と、電気導体200を介して変圧器206の2
次巻線204の第1の端子202に電気的に接続される
。第2のコンデンサC2の電極170は導体184と、
コネクタ186と、電気的導体210を介して変圧器2
06の2次巻線204の第2の端子212に電気的に接
続される。2次巻線204はセンタータップ214を含
む。電気導体220はセンタータップ214と増幅器2
24の入力222を接続する。増幅器224は非常に高
い入力インピーダンスを有することが好ましく、そうす
れば実質的に0の電流が入力222に流れる。その増幅
器224は電気導体226上で出力信号を出す。 変圧
器206は第1の入力端子232と第2の入力端子23
4とを有する1次巻m230を有する。高周波数信号源
236は第1および第2の入力端子232と234を介
して1次巻線に電気的に接続され、その結果高周波数信
号源236によって発生された信号は1次巻線に与えら
れる。与えられた信号は2次巻線204に結合し2次巻
線204にかかる高周波数電圧を引き起こす。引き起こ
された電圧は第1のコンデンサC1と第2のコンデンサ
C2とに与えられる。その2個のコンデンサの各々に係
る電圧はその2個のコンデンサのそれぞれのキャパシタ
ンスに反比例し、かつそのためダイアフラム126にか
かる作動圧力によって引き起されるダイアフラム126
の偏向に従って変化するであろうということがわかる。
フラム電極126)は電気的に接地基準190に接続さ
れるので、電圧差は第1のコンデンサC1の第1の固定
電極140と第2のコンデンサC2の第2の固定電極1
70との間の電圧差のように見えるであろう。この電圧
差によって電圧がセンタータップ上に現われることが引
き起こされ、それは接地基準190に参照されてかつ第
1のコンデンサC1と第2のコンデンサC2との間のキ
ャパシタンスにおける差に比例している。センタータッ
プ214上の電圧は導体220を介して増幅器224の
入力222に与えられる。増幅器224はセンタータッ
プ電圧を増幅しそしてそれを導体226上の出力信号と
して出す。導体226上の出力信号はキャパシタンスの
差に比例している振幅を有する、信号源236の周波数
の時変信号である。第1のコンデンサC1のキャパシタ
ンスは圧力差の変化に応答してかなり変化しかつ第2の
コンデンサC2のキャパシタンスは圧力差の変化に応答
して比較的変化が少ないので、増幅器224の時変信号
出力の振幅はダイアフラム126にかかる圧力差の変化
に従って変化する。時変信号は従来の復調器240によ
って復調されて、ダイアフラム126にかかる圧力差に
対応するDC電圧レベルを有する導体244上に出力信
号を与える。たとえば、その復調器240は当該技術分
野において周知の同期復調器であると有利である。
明は、固定電極支持がいかなる漏洩電流も有さない完璧
な誘電体であるということを仮定している。しかしなが
ら、米国特許番号第3,557.621号で論じられて
いるように、周囲の湿度および他の要因によって漏洩電
流が固定電極と他のデバイスの他の導電性部分との間に
流れ得る。たとえば、第1図ないし第7図の示される実
施例において、電流漏洩経路が第2の固定電極170か
ら固定電極支持肩148と支持構造肩150とを介して
支持構造128に、そして接地基準190へと存在する
かもしれない。変圧器206の2次巻線204は接地基
準190に関して浮動しているので、この漏洩電流が増
幅器224の入力222から変圧器を介して2次巻線2
04に与えられなくてはならない。増幅器224の入力
インピーダンスは非常に高いので、たとえわずかな量の
漏洩電流が供給されても増幅器224の人力上の電圧を
変化させ、その結果増幅器224の出力から間違った出
力信号を生じることとなる。
る以上の問題の解決を述べ、そこでは付加の導電部材が
電極の一方から支持構造の導電部分に漏洩経路を横切っ
て位置決めされる。その特許で述べられた解決策の実現
は第1図ないし第7図のデバイスにおいて例示されてい
る。第6図に最も明らかに示されているように、第1の
固定電極140の寸法と同様の寸法を有する第2の導電
性ガード250が固定電極支持の第2の表面252上の
固定電極支持144に固定されている。第2の表面25
2は第1の表面146と反対にあり、第1のガード25
0は第1の固定電極140とほぼ整列して位置決めされ
る。第1の固定電極140から第2の端部120への漏
洩経路は、たとえば第1のガード250を横切るであろ
う。漏洩経路を阻止して漏洩電流が第2の端部120に
流れ続けないようにするために、第1の固定電極140
の電圧に等しい電圧電位が第1のガード250に与えら
れる。同様に、第2のガード254は第2の固定電極1
70からの漏洩電流を阻止するために設けられる。第1
図ないし第7図に例示される例示のデバイスにおいて、
第2のガード254は、第1と、第2と、第3の分離し
ているが電気的に相互接続されているガードリング25
4A。
54Aは第1の表面146と、第1の表面146と固定
電極支持肩148の間の隣接した周辺表面256上に位
置決めされる。第2のガードリング254Bは外側の周
辺表面258上に置かれる。第2のガードリング254
Cは第2の固定電極170の反対側の第2の表面252
上に置かれる。3つのガードリング254A、254B
および254Cは電気的相互接続260によって相互接
続され、それはこのデバイスの例示の実施例において、
固定電極支持144の周辺において溝262でメタライ
ゼーションを含む。第2の固定電極170上の電圧と同
じ大きさを実質的に有している電圧が第2のガード25
4に与えられる。
から支持構造128および第2の端部120の隣接した
部分への漏洩電流を阻止するように働く。例示されてい
るように、固定電極支持肩148は支持構造層150と
機械的に接触しており、もし第2のガード254が肩上
に置かれたなら電気接続を引き起こすであろうので、第
2のガード254は連続していない。同様に、第2のガ
ード254はスラストリング156の近くの第2の表面
252の周辺エツジ上になく、いかなるそこへの電気的
接続も防ぐ。
に適当な電圧を提供するための例示の電気回路は第9図
に例示される。第9図において、第8図の要素と対応す
る要素は以前と同じ符号が付けられている。さらに、第
1のが−ど250と第2のガード254の概略的な表示
はそれぞれ第1の固定電極140と第2の固定電極17
0に近接して示される。第1のガード250は第1の同
軸コネクタ182の同心外部導体192に電気的に接続
される、第1のタブ270(第4図を参照)等を介して
相互接続される。第9図の電気回路において、電気導体
200は中心導体200を取巻く同心外部導体274を
含む、第1の同軸ケーブル272の中心導体200であ
る。こうして、第1の同軸コネクタ182の同心外部導
体192は電気的に第1の同軸ケーブル272の同心外
部導体274に接続される。同様に、第2のガード25
4は第2の同軸コネクタ186の外部導体196に電気
的に接続される第2のタブ276を介して相互接続され
る。外部導体196はまた第2の同軸ケーブル282の
中心導体210である電気導体210のまわりの同心外
部導体280に電気的に接続される。
、センタータップ214は各々A部分とB部分とを含む
。その2つの中心導体200および210は第9図では
第3の同軸ケーブル284の中心導体である、変圧器2
06の2次巻線2゜4の第1の端子202Aおよび第2
の端子212Aに接続される。第3または2次巻線同軸
ケーブル284は内部導体204と同心である外部導体
290を有する。2次巻線同軸ケーブル284の外部導
体290は第1の同軸ケーブル272の外部導体274
と第1の端子202Bで接続しかつ第2の同軸ケーブル
282の外部導体280と第2の端子212Bで電気的
に接続している。2次巻線同軸ケーブル284の内部導
体204と外部導体290は共に1次巻線によって引き
起こされる場にあてられる。2次巻線同軸ケーブル28
4の内部導体204および外部導体290はセンタータ
ップ214Aおよび214Bでセンタータップされる。
ータップ214Aは導体220に電気的に接続され、こ
れは外部導体294を有する第4の同軸ケーブル292
の中心導体220であることが好ましい。2次巻線同軸
ケーブル284の外部導体290のセンタータップ21
4Bは同軸ケーブル292の外部導体294に電気的に
接続される。
は×1の増幅器で示される増幅器224の入力端子22
2に電気的に接続される。言換えれば、ライン226上
の増幅器224の出力はあとを辿れば入力端子222上
の入力電圧になる。
される。さらに、ライン226は第4の同軸ケーブル2
92の外部導体294に電気的接続されかつセンタータ
ップ214Bで2次巻線同軸ケーブル284の外部導体
290に接続される。
じである。しかしながら、2次巻線の同軸ケーブル28
4の利用および内部導体204上と同じ電圧を外部導体
290に与えることによって、第1のガード250上の
電圧が第1の固定電極140上の電圧に実質的に等しく
なりかつ節2のガード254上の電圧が第2の固定電極
170上の電圧に実質的に等しくなることを確実にする
。
からの漏洩電流はそれぞれのガードによって提供される
。増幅器224の出力は比較的低いインピーダンス出力
であ・るので、それが要因となるにちがいないまたは弱
らせるにちがいないわずかな漏洩電流はライン226上
の電圧にいかなる重大な影響も及ぼさない。こうして、
第9図の回路は第1のガード250と第2のガード25
4と組合わせて第1図ないし第7図に従って構成された
キャパシタンスマノメータの精度における漏洩電流の影
響を非常に減じることが発見されている。
よそ15ピコフアラツドからおよそ1ピコフアラツドに
減じられた。第1の固定電極140とダイアフラム12
6との間のキャパシタンスは公称はぼ30ピコフアラツ
ドで、そのため第1のガード250と第2のガード25
4によって与えられる遮蔽効果は非常に有益であること
がわかる。
キャパシタンスマノメータは圧力変化の測定を正確なも
のにするが、圧力のずっと小さい増分変化を測定する必
要があることが発見されている。たとんば、測定される
べき圧力が10″″9の大気圧の範囲内にあるデバイス
が構成されている。この範囲内で圧力をn1定するため
に、第2のキャビティ124を測定されるべき範囲内の
圧力にまで真空排気する必要がある。これらの非常に低
い測定範囲において、ダイアフラムの動きによって引き
起こされるキャパシタンスにおける変化は非常に小さく
かつ残余の漂遊キャパシタンスの1ピコフアラツドは正
確な測定を妨害するのに十分であるということが発見さ
れている。たとえば、上で述べられたデバイスにおいて
、固定電極支持肩148と支持構造層150の接合点で
わずかな漏洩経路が存在している。こうして、さらに漂
遊キャパシタンスおよびそれに関連した漏洩電流を減じ
る必要がある。
の問題は金属支持構造128と組合わせてセラミックの
固定電極支持144を用いることから生じる。その固定
電極支持144は支持構造12′8とは異なる熱膨張率
を有する。このため、キャパシタンスマノメータの周囲
温度が変化すると、その固定電極支持144と支持構造
128は異なる速度で膨張しかつ収縮するであろう。こ
の異なる膨張および収縮のために、固定電極支持144
の周辺あたりで、固定電極支持肩148と支持構造層1
50との接合で滑りが生じる必要がある。しかしながら
、波形座金154によ、って支持構造128に与えられ
る圧力のために、その接合部分での摩擦力は非常に大き
い。こうして、膨張または縮小の差のかなりの量が固定
電極支持144の周辺の接合部分で滑りが発生する前に
発生するかもしれず、この結果支持構造128が固定電
極支持144より速い速度で収縮するとき、固定電極支
持144を曲げたり、または支持構造128が固定電極
支持144より速い速度で膨張するとき、固定電極支持
144を平らにしたりする。
キャパシタンスにおける変化は測定されるべきわずかな
圧力変化によって引き起こされるキャパシタンスの変化
に匹敵する。電気回路の温度補償を含むか、または温度
変化を、測定された圧力の計算のファクタとする試みが
なされてきたが、そのような試みは一般に完全にはうま
くいかなかった。成功しなかった1つの理由は、支持構
造層150に関連した固定電極支持肩148の動きは2
つの肩の間の摩擦によって引き起こされる機械的ヒステ
リシスを含むからである。すなわち、温度が一方向に所
与の量だけ変化するときに、支持構造層150に関した
固定電極支持肩148の相対的な曲がりの量は温度がも
との温度に戻るときの相対的な動きの量と必ずしも同じ
ではない。曲がる量は測定された温度変化に基づいては
予測できず、そのため簡単には補償され得ない。このた
め、2つの肩の間の摩擦力をなくす必要がある。
例示されている。第10図は改良された固定電極支持を
示すこの発明の構造要素の展開透視図である。第11図
は固定電極支持の第2の表面透視図である。第12図は
互いに関して要素の位置決めを示す完了されたアセンブ
リの断面図である。第13図および第14図はこの発明
の拡大された部分断面図である。第15図はこの発明の
拡大された部分透視図である。以前に述べられたデバイ
スの要素と同じであるかまたは実質的に似ているこの発
明の要素には以前と同じ参照符号が付けられている。
126が実質的に上で述べられたように構成されている
。この発明は改良された固定電極支持構造300を含む
。固定電極支持300は第1の実質的に平坦な表面31
0と第2の実質的に平坦な表面312を有するセラミッ
クまたは他の適切な絶縁体の円形のディスクを含む。
の周辺表面320と、第2の周辺表面322と、第3の
周辺表面324とを含む。第1の周辺表面320のまわ
りの固定電極支持300の周囲と第3の周辺表面324
のまわりの胸囲は第2の周辺表面322のまわりの周囲
より小さく、そのため第1の固定電極支持肩330は第
1の周辺表面320と第2の周辺表面322の間に規定
され、かつそのため第2の固定電極支持肩332は第2
の周辺表面322と第3の周辺表面324の間に規定さ
れる。第2の固定電極支持肩330および第2の固定電
極支持肩332は平坦でかつ第1の平坦表面310と第
2の平坦表面312に実質的に平行である平面を規定す
る。
300の第1の平坦な表面310に置かれ、第1の平坦
な表面310の実質的に中心にある。導電性材料の環状
リングを含む第2の固定電極342は第1の平坦な表面
310上に置かれかつ第1の固定電極340と実質的に
同心である。
対側の固定された電極支持300の第2の平坦な表面3
12の実質的に中心に置かれる。第2の導電性ガード3
52は第2の固定電極342に隣接してかつそこから間
隔をあけられた第1の平坦な表面310上に置かれ、そ
のため第2のガード352は第2の固定電極342のま
わりに環状リングを形成する。第2のガード352は第
1の周辺表面320、次に第1の肩330、次に第2の
周辺表面322、そして次に第2の肩332、次に第3
の周辺表面324、そして次に第2の平坦表面312へ
と続く。第2の平坦表面312上の第2のガード352
の部分は第1のガード350のまわりでかつそこから間
隔をあけられた環状リングを形成する。この発明の好ま
しい実施例において、固定電極およびガードの導電性材
料は従来の方法によって固定電極支持300上にめっき
される銀である。
第1の導電性のフィードスルーまたは通路360に電気
的に接続される。その通路360は第1の同軸コネクタ
182の中心導体180に電気的な接続を提供する。た
とえば、中心導体180は通路360を介して延びかつ
はんだ付けまたは他の従来の手段によって第1の固定電
極340に電気的に接続されるかもしれない。同様に、
第2の導電性通路362は第2の同軸コネクタ186の
中心導体184と第2の固定電極342を電気的に相互
接続させるために提供される。第1の同軸コネクタ18
゛2の第1のタブ270は第1のガード350に電気的
に接続され、かつ第2の同軸コネクタ186の第2のタ
ブ276は電気的に第2のガード352に接続される。
てきたが、それらは通路360および362ならびに通
路への電気的接続を収容するように完全には円形ではな
いことに気付くべきである。
持肩330は上で述べられた例示の既知のキャパシタン
スマノメータでのように支持構造層150に接触してい
ないことがわかる。むしろ、第1の固定電極支持肩33
0は第1の組の転がり軸受370だけ支持構造層150
から間隔があけられている。第1の組の転がり軸受37
0は工業用サファイヤ(結晶酸化アルミニウム、Al2
O、)のような電気的絶縁材料または同様の硬さおよび
電気絶縁特性を有する他の適切な材料を含むことが有利
である。第1の組の転がり軸受370は第1の固定電極
支持肩330のまわりで空間があけられている。たとえ
ば、例示の好ましいここで記述される実施例においては
、第1の組の転がり軸受は互いに同じ距離だけ間隔があ
けられかつ第1の固定電極支持肩330に沿って120
°離されて置かれている3つの転がり軸受370A。
受370A、370Bおよび370Cの直径は実質的に
等しくなるように選択され、その結果固定電極支持肩3
30は3つの転がり軸受370A、370Bおよび37
0Cの各々によって同じ距離だけ支持構造層50から間
隔があけられ、こうして固定電極支持300の第1の表
面310がダイアフラム126の平面に対して平行な平
面内にあることを確実にする。
グ156の間の第2の固定電極支持肩332上に置かれ
る第2の組の回転軸受380をさらに含む。第2の組の
転がり軸受380は同じ距離だけ第2の支持肩332の
まわりで間隔があけられている(すなわちそれらは互い
に1208離されて位置決めされている)3つの転がり
軸受380A、380Bおよび380Cを含むことが有
利である。その第2の組の転がり軸受380はまたサフ
ァイヤのような硬い結晶絶縁材料を含むと有利である。
力が波形座金154を介してスラストリング156に与
えられかつ第2の組の転がり軸受380と、固定電極支
持300と、第1の組の転がり軸受370に与えられる
。第1の組の転がり軸受370と第2の組の転がり軸受
380のその硬い結晶材料は波形座金154を介して与
えられる圧力では簡単に変形しない。こうして、その2
の組の転がり軸受370および380はダイアフラム1
26の平面に対して垂直方向に固定電極支持300が動
くことを実質的に防ぐ。
定電極支持肩330に第1の組の転がり軸受370と第
2の組の転がり軸受380のそれぞれによって与えられ
るので、この発明の好ましい実施例では、第2のガード
352の複数の小さな区域382は転がり軸受370お
よび380が肩330と332に接している、第1の固
定電極、支持肩330と第2の支持肩332上で取除か
れる。こうして、転がり軸受370および380によっ
て与えられる圧力は第2のガード352の比較的軟らか
い銀材料に対してよりもむしろセラミックの固定電極支
持330の硬い表面に直接に与えられる。
、第14図および第15図に例示されるような円筒形を
有する。また、転がり軸受370および380は従来の
玉軸受のように球形であってもよい。好ましい円筒状の
実施例において、転がり軸受370および380の各々
は固定電極支持300の中心から延在している半径に対
して垂直に配向されている長手方向の軸386を有する
。
外側に転がり、支持構造層150に関してかつスラスト
リング156に関した固定電極支持300の自由な動き
を可能にする。こうして、温度変化によって引き起こさ
れる固定電極支持330および支持構造128の異なる
膨張および縮小が存在するとき、転がり軸受370およ
び380によって提供される固定電極支持330と支持
構造128の間の相対的な動きによって上で述べられた
先行技術のデバイスに関連した反りが防がれる。それゆ
え、曲がりによって引き起こされるキャパシタンスの予
言できない変化は転がり軸受370および380によっ
て実質的に減じられるかまたはなくされる。
390は第1の組の転がり軸受370のために設けられ
かつ第2の軸受保持器392は第2の組の転がり軸受3
80のために設けられる。
して開口部394を有する金属または他の適切な材料の
薄い環状リングである。好ましい実施例では、第1の軸
受保持器390は第1の軸受保持器390のまわりで1
20°離されて位置決めされている3つの開口部394
を有し、その結果転がり軸受は上で述べられたように互
いに等距離に離されて位置決めされる。示される実施例
において、第1の軸受保持器390の開口部394は好
ましい実施例の円筒状の転がり軸受370を収容するた
めに矩形である。第2の軸受保持器392は3つの矩形
の開口部396とともに同様な構造を有する。転がり軸
受の代わりの球形の実施例(示されていない)では、第
1および第2の軸受保持器390および392は球形を
収容するために適切な大きさにされた円形の開口部を有
するであろうことが理解されるべきである。
よび380は実質的に温度変化による膨張および縮小に
より引き起こされるキャパシタンスの変化を減少するか
または取除く。さらに、転がり軸受370および380
は第1の固定電極340と第2の固定電極342と支持
構造128の金属部分との間での漏洩電流によって引き
起こされる固定電極支持330の残余の漂遊キャパシタ
ンスにおいて意義深い減少を提供する。上で述べられた
ように、先行技術のデバイスでは固定電極支持肩148
(第4図)と支持構造層150の間に直接な接触を有す
るこスとが必要であった。こうして、先行技術のデバイ
(第4図)の第2のガード254(すなわち、ガード部
分254A、254Bおよび254C)は固定電極支持
肩148上に第2のガード位置を含まなかった。この結
果、第2のガード254によって提供されるシールドを
妨害しかつ支持構造層150への電気接続を提供する。
のための経路を提供し、かつ支持構造層150は小さな
漂遊キャパシタンスの電極として働く。
流および漂遊キャパシタンスを取除くための2つの基本
を提供する。まず第1に、この発明の第2のガード35
2は転がり軸受370および380と接触する6個の非
常に小さな区域382を除いて第1の表面310から第
2の表面312まで効果的に連続していることがわかる
。こうして、支持構造128と第2の端部120の隣接
している部分の各々への可能性のある漏洩経路は第1の
ガード350または第2のガード352のいずれかによ
って効果的に阻止される。さらに、6個の小さな区域3
82では、固定電極支持330が第1の組の転がり軸受
370の絶縁特性によって支持構造層150から電気的
に分離されかつ第2の組の転がり軸受380の絶縁特性
によってスラストリング156から電気的に分離されて
いる。
技術デバイスにおけるほぼ1ピコフアラツドからこの発
明に従って構成されたデバイスにおけるほぼ0.1ピコ
フアラツドに漂遊キャパシタンスの大きさの減少を提供
すると信じられる。
の破断された透視図を参照すると、第2の周辺表面32
2は銀の第2のガード352の上部に薄いガラスのコー
ティング398を加えることによって電気的に絶縁され
ることがわかる。絶縁ガラスコーティング398は固定
電極支持300が第2のガード352と支持構造128
の間に電気的な接触をせずに支持構造128と接触して
真中に置かれることを可能にするために含まれることが
有利である。
は記述された説明に対する成る修正がこの発明の精神お
よび範囲を超えることなくなされ得ることが明らかとな
るべきである。たとえば、転がり軸受は導電性金属のよ
うな他の材料を含み得る。そのような実施例(図示され
ていない)で鴎、サファイヤを含む絶縁インサートがた
とえば、第1および第2の固定電極支持肩330および
332の隣接部分に設けられ、それぞれ支持構造層15
0およびスラストリング156から固定電極支持肩33
0および332を電気的に分離するために電気的絶縁特
性を提供する。
ルおよび中空の圧力チューブを示す、先行技術に従って
組立てられたキャパシタンスマノメータの透視図である
。 第2図は2つの同軸コネクタ、ゲッター囲いおよびつみ
取られた真空排気チューブを有するマノメータの第2の
端部を示す第1図の組立てられたキャパシタンスマノメ
ータの透視図である。 第3図はキャパシタンスマノメータの内部構造、特にダ
イアフラムや、ダイアフラム支持構造、固定電極支持お
よび2個の固定電極を示す、第1図および第2図のキャ
パシタンスマノメータの展開図である。 第4図はマノメータの構成要素間の位置関係を示す第2
図の線4−4に沿ったキャパシタンスマノメータの断面
図である。 第5図はその上に置かれたガードを示す固定電極支持の
第2の表面の透視図である。 第6図は第2のガードの付加の詳細を示す第3図および
第4図の固定電極支持の破断透視図である。 第7図は第2のガードの第2の部分を相互接続するため
にそこに溝と電気導体の付加的な詳細を示す第3図およ
び第4図の固定電極支持の破断透視図である。 第8図は圧力変化を測定するためにキャパシタンスマノ
メータの基本動作を説明するために用いられるキャパシ
タンスマノメータを組込む例示の電気回路の概略図であ
る。 第9図は固定電極支持の漂遊キャパシタンスによって引
き起こされる電流漏洩に対して電気ガードを提供するた
めに固定電極支持上にガードリング電極とともに協働し
て用いられる例示の改良された電気回路の概略図である
。 第10図は固定電極支持をダイアフラム支持構造から機
械的かつ電気的に分離するために転がり軸受を含むこの
発明の展開透視図である。 第11図は第2の表面上に第1お工び第2のガードを位
置決めすることを示す、この発明の固定電極支持の第2
の表面の透視図である。 第12図は固定電極支持と支持構造とに関連して転がり
軸受を位置決めすることを示すこの発明の断面図である
。 第13図は第2のガードと、固定電極支持の第1、第2
および第3の周辺表面上で第2のガードを絶縁するガラ
ス層の付加の詳細を示すこの発明の拡大された部分断面
図である。 第14図は第1の固定電極支持肩とダイアフラム支持構
造肩の間の適所にある転がり軸受の付加の詳細を示しか
つ第2の固定電極支持肩とスラストリングとの間の適所
にある転がり軸受の付加の詳細を示すこの発明の拡大さ
れた部分断面図である。 第15図は第1および第2の誘電支持肩上のガードされ
ていないローラ接触区域に関して転がり軸受の位置の付
加の詳細を示しかつ軸受保持リングの付加の詳細を示す
、この発明の拡大された破断透視図である。 図において、100はキャパシタンスマノメータ、10
2は圧力シェル、104は第1のキャビティ、106は
圧力チューブ、122は第2の圧力チューブ、124は
第2のキャビティ、126はダイアフラム、130は対
称軸、138はスクリーン、148は固定電極支持肩、
150は支持構造層、180は導体、196は同心外部
導体、214はセンタータップ、224は増幅器、24
0は復調器、290は外部導体、300は絶縁支持、3
20は第1の周辺表面、322は第2の周辺表面、33
2は第2の周辺表面、340は第1の固定電極、352
は導電ガード、370は転がり軸受、390は軸受保持
器である。 (以下余白)
Claims (11)
- (1)可変パラメータに応答する可変キャパシタンス測
定デバイスであって、前記測定デバイスは: 可変コンデンサを含み、前記可変コンデンサは:前記可
変コンデンサの第1の電極(340)を含む第1の導電
性要素を含み、前記第1の電極(340)の少なくとも
一部分は前記可変パラメータの変化に応答して第1の方
向に可動であり;前記可変コンデンサの第2の電極(3
42)を含む第2の導電要素を含み、 前記第2の電極(342)が前記第1の電極(340)
と関連して前記第1の方向に実質的に不可動でありかつ
前記第2の電極(342)は前記第1の方向に垂直な第
2の方向に可動であるように、前記第1の電極(340
)に近接して前記第2の電極(342)を取付けるため
の転がり手段(370)を特徴とする、測定デバイス。 - (2)前記可変パラメータが第1の圧力と第2の圧力と
の間の圧力差である、請求項1記載の可変キャパシタン
ス測定デバイス。 - (3)そこに取付け表面(330、332)を有するハ
ウジング(102)をさらに含む、請求項1または2記
載の可変キャパシタンス測定デバイス。 - (4)前記第1の電極(340)は第1および第2の側
面を有するダイアフラム(126)を含み、前記ダイア
フラム(126)は前記第1の圧力が前記ダイアフラム
(126)の前記第1の側面上にありかつ前記第2の圧
力が前記ダイアフラム(126)の前記第2の側面にあ
るように位置決めされ、少なくとも前記ダイアフラム(
126)の一部分が前記圧力差の変化に応答して前記第
1の方向に可動である、請求項2または3記載の可変キ
ャパシタンス測定デバイス。 - (5)前記ハウジング(102)内の絶縁支持(300
)をさらに含み、前記絶縁支持(300)は前記第2の
電極(342)が固定される第1の表面を有し、 前記第1の電極(340)に近接した前記第2の電極(
342)を取付けるための前記転がり手段(370)が
前記絶縁支持(300)と前記ハウジング(102)の
前記取付表面との間に置かれた転がり軸受(370A、
370B、370C)含み、前記転がり軸受(370A
、370B、370C)の位置は: 前記絶縁支持(300)が前記第1の方向に前記ハウジ
ング(102)の前記取付表面に関して実質的に不可動
であり:かつ 前記絶縁支持(300)が前記第2の方向に前記取付表
面に関して可動であるように選択される、請求項3また
は4記載の可変キャパシタンス測定デバイス。 - (6)前記転がり軸受(370A、370B、370C
)が前記絶縁支持(300)と前記ハウジング(102
)との間に電気的分離を提供するために電気絶縁体を含
む、請求項5記載の可変キャパシタンス測定デバイス。 - (7)前記転がり軸受(370A、370B、370C
)がサファイヤを含む、請求項6記載の可変キャパシタ
ンス測定デバイス。 - (8)前記転がり軸受(370A、370B、370C
)が球である、請求項6記載の可変キャパシタンス測定
デバイス。 - (9)前記転がり軸受(370A、370B、370C
)が円筒形である、請求項6記載の可変キャパシタンス
測定デバイス。 - (10)前記転がり軸受(370A、370B、370
C)が実質的に円形の形状(330)上で120゜離さ
れて実質的に位置決めされている、請求項5記載の可変
キャパシタンス測定デバイス。 - (11)前記ハウジング(102)が第1の熱膨張率を
有する導電性材料からなり、前記絶縁支持(300)が
前記第1の熱膨張率とは異なる第2の熱膨張率を有する
材料を含む、請求項3ないし10のいずれかに記載の可
変キャパシタンス測定デバイス。
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