JPH01313751A - ガスセンサ - Google Patents

ガスセンサ

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Publication number
JPH01313751A
JPH01313751A JP14547988A JP14547988A JPH01313751A JP H01313751 A JPH01313751 A JP H01313751A JP 14547988 A JP14547988 A JP 14547988A JP 14547988 A JP14547988 A JP 14547988A JP H01313751 A JPH01313751 A JP H01313751A
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JP
Japan
Prior art keywords
film
glass
heater
heat
substrate
Prior art date
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Pending
Application number
JP14547988A
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English (en)
Inventor
Takashi Yamaguchi
隆司 山口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Figaro Engineering Inc
Original Assignee
Figaro Engineering Inc
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Publication date
Application filed by Figaro Engineering Inc filed Critical Figaro Engineering Inc
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  • Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)
  • Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【発明の利用分野1 この発明は、生産性が高くかつ省電力型の、ガスセンサ
に関する。
[従来技術] 省電力型のガスセンサとして、例えば特開昭59−14
3,946号に記載のものがある。このガスセンサでは
、Si基板をアンダーカットエツチングしてSiO□の
薄い橋を設ける。そしてこの橋の上に、ヒータや電極、
ガス検出用の金属酸化物半導体を設ける。このようなガ
スセンサは極めて消費電力が小さいが、同時に製造が困
難である。またSin、の薄い橋は弱く、センサの信頼
性の面からも問題がある。
[発明の課題] この発明は、構造が単純でかつ消費電力の小さなガスセ
ンサを目的とする。
(発明の構成] この発明のガスセンサは、耐熱絶縁性基板上に、ガス検
出用の金属酸化物半導体膜と、半導体装置接続した電極
膜と、ヒータ膜とを有するセンサ本体を設けたガスセン
サにおいて、センサ本体と基板との間に断熱用のガラス
膜を設けたことを特徴とする。
ガラスの熱伝導率は一般に小さく、アルミナ等のセラミ
ック材料のl/20程度である。そこで耐熱絶縁性基板
とセンサ本体との間にガラス膜を置いて断熱すれば、セ
ンサの消費電力を著しく小さくできる。この膜は可能な
限り厚くし、例えば30〜100μm程度のものを用い
る。
ヒータ膜の材料は、一般にはガス検出用の金属酸化物半
導体膜を被毒する成分を含んでいる。そこで好ましくは
、絶縁膜によりヒータ膜と金属酸化物半導体膜とを分離
する。この絶縁膜には任意のものを用い得るが、例えば
膜形成の容易なガラス膜や、ガラスとセラミックの混合
膜を用いる。
絶縁膜は例えば膜厚2〜20μm程度と薄くすることが
好ましく、かつ熱伝導率の高い材料を用いることが好ま
しい。ガラスの熱伝導率は材質を変えても余り変化しな
いので、ガラスにアルミナやシリカ等のセラミック粒子
を混合し、熱伝導率を高めたものが好ましい。
〔実施例] 第」図〜第4図に実施例を示す。第」図において、2は
アルミナを用いた耐熱絶縁性基板で、ムライト、スピネ
ル、窒化ケイ素等を用いても良い。
4は断熱用のガラス膜で、実施例では膜厚40μmのア
ンダーコート用ガラス(酸化ルテニウムヒータ用)を用
いた。6は酸化ルテニウム等のヒータ膜で、膜厚は約l
Oμmである。8は、ヒータ膜6に接続した一対の金電
極で、熱伝導を抑制するため膜厚0.5μmの蒸着膜を
用いた。IOは絶縁膜で、例えば膜厚lOμm程度のガ
ラス膜や、これにアルミナやシリカ等の絶縁性セラミッ
ク粒子を混合して熱伝導率を高めたものを用いる。セラ
ミックとガラスとでは、一般に熱伝導率に大差が有り、
ガラスの熱伝導率はセラミックよりはるかに低い。そこ
で断熱用のガラス膜4を用いることにより、ヒータ6か
ら基板2への伝熱を抑制できる。I2はPtやAu等の
電極膜で、検出電極として用いる。電極膜12は膜厚0
,5μmの金の蒸着膜を用いた。14はSnO,やT1
03、Fe2O3、In、O,等の金属酸化物半導体の
膜で、ガスにより抵抗値が変化するものを用いる。金属
酸化物半導体膜14は、蒸着等の薄膜や、厚さが例えば
10〜20μm程度の印刷膜等を、用いる。
検出電極12やヒータ電極8を断熱膜4の外部まで引き
出し、外部電極20に接続する。外部電極20は膜状と
し、材料には例えば安価なAgやAg−Pd等を用いる
。外部電極20にAg−Pd等を用いると、材料中のA
gのマイグレーションが問題となる。そこで外部電極2
0の露出部を適宜のガラス膜で被覆し、マイグレーショ
ンを防止するのが好ましい。22は外部リードで、F型
リードを用いた。この外部リード22は最初多数結合さ
れてリードフレーム状をなし、外部電極20への接続後
に分断して外部リードとなる。この外部リード22は上
部が3つ又に別れており、その内の2片を用いて、例え
ば外部電極20にハンダ付けする。残る1片で基板2の
裏面を挟みこみ、外部リード22を基板2に結合する。
第2図、第3図に、センサの本体部を拡大して示す。
第4図にセンサの全体構造を示す。2は前記の基板で、
ベースに兼用する。なお24はセンサ本体で、前記のヒ
ータ膜6、絶縁膜lO1電極膜12、金属酸化物半導体
膜14等を意味する。26は合成樹脂等のカバーで、2
8はカバー26の通気口に設けた防爆用の金網である。
なお引火の起こり易さは、発熱部の温度だけでなく、発
熱部の面積にも関係する。そして発熱部の面積を小さく
すると、引火は起こらなくなる。実施例の場合、ヒータ
膜6等の面積は極く小さく、引火は元々起こりにくい。
そこで防爆用金網28は、設けなくても良い。
実施例のガスセンサを特開昭59−143,946号の
センサと比較する。センサ本体はいずれも印刷等により
形成されるから、センサ本体の微細化の程度は同等であ
る。特開昭59−143゜946号のセンサでは、セン
サ本体は基板から分離され消費電力を抑止している。こ
れに対して実施例では、熱伝導率の低いガラス膜4によ
り断熱している。
第5図に、消費電力の節減に適した付帯回路の例を示す
。図において、30は適宜の電源、6は前記のヒータ、
14はSnO2等の金属酸化物半導体膜、32は半導体
膜の負荷抵抗である。34はタイマで、例えば1−10
秒に1回、幅1msec=lomsec程度のヒータ加
熱信号を発する。36はこの信号でオンするスイッチ、
38はサンプルホールド回路、40は演算回路でその出
力をガスの検出信号として用いる。
第6図により、装置の動作を説明する。ヒータ加熱信号
により、センナは間欠的に加熱される。
これに対してセンサの出力V(負荷抵抗32への出力)
は、図の実線や破線のような応答を示す。
そこでこの応答からガスを検出する。例えば信号S、、
S、の時点で出力をサンプリングし、これらの値からガ
スの種類を弁別し、ガス濃度を算出す゛  る。例えば
メタンと水素とでは、加熱に対するセンサ出力の応答波
形が異なり、S lでの出力と82での出力を加味する
と、メタンか水素かの識別ができる。そしてヒータ加熱
信号のデユーティ比を小さくすると、消費電力は著しく
減少する。
[発明の効果1 この発明では、構造が簡単でかつ消費電力の小さなガス
センサが得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は実施例のガスセンサの要部平面図、第2図は第
1図の要部拡大平面図、第3図は第1図の要部拡大断面
図、第4図は実施例のガスセンサの全体構造を表す断面
図である。 第5図は、実施例のガスセンサに適した付帯回路の回路
図、第6図(1)、(2)はその動作波形図である。 図において、    2 耐熱絶縁性基板、4 断熱用
ガラス膜、6 ヒータ膜、 8 ヒータ電極、   lO絶縁膜、 12 検出電極、 14 金属酸化物半導体膜。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)耐熱絶縁性基板上に、ガス検出用の金属酸化物半
    導体膜と、半導体膜に接続した電極膜と、ヒータ膜とを
    有するセンサ本体を設けたガスセンサにおいて、 センサ本体と基板との間に断熱用のガラス膜を設けたこ
    とを特徴とする、ガスセンサ。
  2. (2)前記センサ本体を、ヒータ膜上に絶縁膜を介して
    、半導体膜と電極膜とを積層したものとしたことを特徴
    とする、請求項1に記載のガスセンサ。
  3. (3)前記の絶縁膜をガラス膜もしくはガラスとセラミ
    ックとの混合膜とすると共に、絶縁膜の膜厚を断熱用の
    ガラス膜の膜厚よりも小さくしたことを特徴とする、請
    求項2に記載のガスセンサ。
JP14547988A 1988-06-13 1988-06-13 ガスセンサ Pending JPH01313751A (ja)

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