JPH01314204A - 偏光ビームスプリッタ - Google Patents
偏光ビームスプリッタInfo
- Publication number
- JPH01314204A JPH01314204A JP63145907A JP14590788A JPH01314204A JP H01314204 A JPH01314204 A JP H01314204A JP 63145907 A JP63145907 A JP 63145907A JP 14590788 A JP14590788 A JP 14590788A JP H01314204 A JPH01314204 A JP H01314204A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- grating
- light
- incident light
- surface relief
- gold
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 15
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 13
- 239000010931 gold Substances 0.000 abstract description 13
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 abstract description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 5
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 abstract description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 abstract description 2
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 abstract description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 abstract 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 abstract 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 8
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 229910021532 Calcite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 206010041662 Splinter Diseases 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Optical Head (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は光磁気ディスク用光ヘッドや干渉計等に用いら
れる偏光ビームスプリフタのうち、入射光を直交する２
つの直線偏光に分離するために用いられる偏光ビームス
プリフタに関する。
れる偏光ビームスプリフタのうち、入射光を直交する２
つの直線偏光に分離するために用いられる偏光ビームス
プリフタに関する。
偏光ビームスプリフタは任意の偏光状態の入射光を２つ
の直交する直線偏光成分に分離し、それぞれ異なる伝播
方向へ出射させる機能を存する光学素子で、光デイスク
用ヘッドや、種々の干渉計を始め、光学の様々な分野で
広く応用されている重要かつ基本的な光学部品である。
の直交する直線偏光成分に分離し、それぞれ異なる伝播
方向へ出射させる機能を存する光学素子で、光デイスク
用ヘッドや、種々の干渉計を始め、光学の様々な分野で
広く応用されている重要かつ基本的な光学部品である。
偏光ビームスプリフタの機能は、従来では主に、透明体
の反射あるいは複屈折性物質を用いて実現されてきた。
の反射あるいは複屈折性物質を用いて実現されてきた。
゛
まず、透明体の反射を利用したものについて述べる。透
明な等方媒質の表面に入射する光は、入射面に垂直な振
動面を持つ偏光成分（Ｓ成分）と平行に振動する偏光成
分（Ｐ成分）に対する反射率が異なるために、反射光′
あるいは透過光は偏光される。特に、入射角がその媒質
のブリュースター角のときにＰ成分の反射率が０になる
。このことを利用して、屈折率の異−なる物質を交互に
積み重ねて反射増加膜を構成し、この反射増加膜を入射
光に対してブリュースター角となるよう配置すれば、偏
光ビームスプリッタが得られる。さらに、第２図に示す
ように各偏光成分を直角に分離するためには、基板とな
るガラス１、高屈折率の薄膜２、低屈折率の薄膜３の屈
折率をそれぞれｎ、、ｎ工。
明な等方媒質の表面に入射する光は、入射面に垂直な振
動面を持つ偏光成分（Ｓ成分）と平行に振動する偏光成
分（Ｐ成分）に対する反射率が異なるために、反射光′
あるいは透過光は偏光される。特に、入射角がその媒質
のブリュースター角のときにＰ成分の反射率が０になる
。このことを利用して、屈折率の異−なる物質を交互に
積み重ねて反射増加膜を構成し、この反射増加膜を入射
光に対してブリュースター角となるよう配置すれば、偏
光ビームスプリッタが得られる。さらに、第２図に示す
ように各偏光成分を直角に分離するためには、基板とな
るガラス１、高屈折率の薄膜２、低屈折率の薄膜３の屈
折率をそれぞれｎ、、ｎ工。
ｎＬとすれば、
”９ ＝ ２ ｎｌ”ｒｌＨ２／ （ｎＬ”＋ ｎｏ
２）なる関係を満足するようにすればよい。この例とし
て、 （ａ） ｎｔ ＝ｔ、３ｓｓ （ＭｇＦｚ）、ｎ１
４＝２．０４ （Ｚ ｒ Ｏｘ）を用いるとｎｇ＝１
．６２ （ｂ） ｎＬ ＝１．３８５ （Ｍｇ Ｆｚ）、ｎ
ｏ ＝２．４４ （Ｔ ｉ ０２）を用イルとｎｇ＝
１．７０ を満足するガラスを基板に用いればよい。なお第２図に
おいて、４は接着剤を示している。
２）なる関係を満足するようにすればよい。この例とし
て、 （ａ） ｎｔ ＝ｔ、３ｓｓ （ＭｇＦｚ）、ｎ１
４＝２．０４ （Ｚ ｒ Ｏｘ）を用いるとｎｇ＝１
．６２ （ｂ） ｎＬ ＝１．３８５ （Ｍｇ Ｆｚ）、ｎ
ｏ ＝２．４４ （Ｔ ｉ ０２）を用イルとｎｇ＝
１．７０ を満足するガラスを基板に用いればよい。なお第２図に
おいて、４は接着剤を示している。
次に、複屈折性物質を用いたものについて述べる。複屈
折性の結晶に自然光を入射させれば、直交する２つの直
線偏光に分かれて結晶内を伝播する。この性質を利用し
て偏光ビームスプリンタを作成することができる。この
代表的なものとして、第３図に示すウォラストンプリズ
ム、第４図に示すロソションプリズムが知られている。
折性の結晶に自然光を入射させれば、直交する２つの直
線偏光に分かれて結晶内を伝播する。この性質を利用し
て偏光ビームスプリンタを作成することができる。この
代表的なものとして、第３図に示すウォラストンプリズ
ム、第４図に示すロソションプリズムが知られている。
これらはいずれも水晶のプリズム５，６を組み合わせた
もので、結晶軸の方向は、第３図、第４図では破線と点
で示しである。どちらのプリズムも水晶境界面での複屈
折によって違った方向へ伝播するので、２つの偏光を分
離することができる。第３図のウォラストンプリズムの
方が常光＆？ｔ（０）７と異常光線（Ｅ）８との別れ方
が大きいが、第４図のロッションプリズムでは常光線７
は波長によらずすべて曲がらずに透過する点で便利であ
る。
もので、結晶軸の方向は、第３図、第４図では破線と点
で示しである。どちらのプリズムも水晶境界面での複屈
折によって違った方向へ伝播するので、２つの偏光を分
離することができる。第３図のウォラストンプリズムの
方が常光＆？ｔ（０）７と異常光線（Ｅ）８との別れ方
が大きいが、第４図のロッションプリズムでは常光線７
は波長によらずすべて曲がらずに透過する点で便利であ
る。
水晶の他に用いられる複屈折性結晶としては方解石が一
般的である。方解石を用いたものとしてはフーコープリ
ズムがよく知られている。
般的である。方解石を用いたものとしてはフーコープリ
ズムがよく知られている。
以上述べた偏光ビームスプリフタに関しては、すでに多
（の教科書やハンドブックに詳述されている。例えば、
吉原邦夫著の「物理光学」 （昭和４１年、共立出版発
行）や、田幸敏治、辻内順平。
（の教科書やハンドブックに詳述されている。例えば、
吉原邦夫著の「物理光学」 （昭和４１年、共立出版発
行）や、田幸敏治、辻内順平。
南茂夫編集の「光学的測定ハンドブック」 （昭和５６
年、朝倉書店発行）等があげられる。
年、朝倉書店発行）等があげられる。
以上述べた従来技術による偏光ビームスプリフタは、作
成に大きな工数を必要とし、また、高価な材料が必要で
あった。たとえば、透明体の反射を用いるものであれば
光学研磨したガラスに必要な誘電体薄膜を必要厚さ複数
回蒸着し、さらにそれらを張りつける工数が必要となる
。また複屈折物質を用いる場合には、複屈折結晶を光学
軸に注意しながら研磨して張り合わせるため、工数とと
もに、材料費が価格に占める割合が大きかった。
成に大きな工数を必要とし、また、高価な材料が必要で
あった。たとえば、透明体の反射を用いるものであれば
光学研磨したガラスに必要な誘電体薄膜を必要厚さ複数
回蒸着し、さらにそれらを張りつける工数が必要となる
。また複屈折物質を用いる場合には、複屈折結晶を光学
軸に注意しながら研磨して張り合わせるため、工数とと
もに、材料費が価格に占める割合が大きかった。
つまり、いずれの場合も偏光ビームスプリッタは高価な
ものとなっていた。
ものとなっていた。
本発明の目的は、上記問題点を解決し、安価で、量産性
に富む偏光ビームスプリッタを提供することにある。
に富む偏光ビームスプリッタを提供することにある。
本発明の偏光ビームスプリッタは、
入射光の波長λに対して、ピッチが略波長に等しく、格
子溝深さｄが、０．７５λ＜ｄ＜λなる関係を有する金
属表面レリーフ格子を備え、入射光に対して、格子の略
ブラッグ角となるよう配置されることを特徴としている
。
子溝深さｄが、０．７５λ＜ｄ＜λなる関係を有する金
属表面レリーフ格子を備え、入射光に対して、格子の略
ブラッグ角となるよう配置されることを特徴としている
。
以下図面を参照しながら、本発明の詳細な説明する。
本発明では、金属表面レリーフ格子の回折効率の偏光依
存性を用いて偏光ビームスプリフタを形成する。一般に
表面レリーフ格子は、その格子ピッチＡや格子溝深さｄ
、入射角θ、格子形状等により回折特性を制御すること
ができる。特に、金属で表面を覆った金属表面レリーフ
格子は回折効率に大きな偏光依存性を有し、偏光ビーム
スプリッタへ適用することができる。
存性を用いて偏光ビームスプリフタを形成する。一般に
表面レリーフ格子は、その格子ピッチＡや格子溝深さｄ
、入射角θ、格子形状等により回折特性を制御すること
ができる。特に、金属で表面を覆った金属表面レリーフ
格子は回折効率に大きな偏光依存性を有し、偏光ビーム
スプリッタへ適用することができる。
第５図は、１９８６年１１月発行のジャーナル オブジ
オプティカル ソサイエティ オブ アメリカ Ａ
（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ ｔｈｅ ０ｐｔｉ
ｃａｌ ５ｏｃｉｅｔｙ ｏｆＡｍｅｒｉｃａ Ａ
）誌第１７８０ページから第１７８７ページに掲載され
ているエム、シイ’モハラム（Ｍ、Ｇ、Ｍｏｈａｒａｍ
）とティ・ケイ・ゲイロード（Ｔ、に、Ｇａｙｌｏｒｄ
）著の論文［リガラス カップルド−ウェーブ アナリ
シス オブ メタリック サーフエイスーレリーフグレ
ーテイングズＪ （Ｒｉｇｏｒｏｕｓ ｃｏｕｐｌｅ
ｄ−ｗａｖｅａｎａｌｙｓｉｓ ｏｆ ｍｅｔａｌｌｉ
ｃ ５ｕｒｆａｃｅ−ｒｅｌｉｅｆ ｇｒａｔｉｎｇｓ
）から引用したもので、回折効率の格子溝深さ依存性の
一例を示すための計算結果である。格子ピッチＡ＝１．
０μｍの金の矩形断面表面レリーフ格子にブラッグ角で
波長λ＝１．０μｍの光が入射した場合について示して
いる。縦軸は回折効率、横軸は格子溝深さを波長で規格
化した規格化格子溝深さ（ｄ／λ）を示している。参考
のために、完全導体の場合をｐ、ｃ、とじて示す。格子
溝に平行な電気ベクトルを持つ偏光をＴＥ偏光と呼び、
格子溝に平行な磁気ベクトルを持つ偏光を７Ｍ偏光と呼
ぶことにする。
オプティカル ソサイエティ オブ アメリカ Ａ
（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ ｔｈｅ ０ｐｔｉ
ｃａｌ ５ｏｃｉｅｔｙ ｏｆＡｍｅｒｉｃａ Ａ
）誌第１７８０ページから第１７８７ページに掲載され
ているエム、シイ’モハラム（Ｍ、Ｇ、Ｍｏｈａｒａｍ
）とティ・ケイ・ゲイロード（Ｔ、に、Ｇａｙｌｏｒｄ
）著の論文［リガラス カップルド−ウェーブ アナリ
シス オブ メタリック サーフエイスーレリーフグレ
ーテイングズＪ （Ｒｉｇｏｒｏｕｓ ｃｏｕｐｌｅ
ｄ−ｗａｖｅａｎａｌｙｓｉｓ ｏｆ ｍｅｔａｌｌｉ
ｃ ５ｕｒｆａｃｅ−ｒｅｌｉｅｆ ｇｒａｔｉｎｇｓ
）から引用したもので、回折効率の格子溝深さ依存性の
一例を示すための計算結果である。格子ピッチＡ＝１．
０μｍの金の矩形断面表面レリーフ格子にブラッグ角で
波長λ＝１．０μｍの光が入射した場合について示して
いる。縦軸は回折効率、横軸は格子溝深さを波長で規格
化した規格化格子溝深さ（ｄ／λ）を示している。参考
のために、完全導体の場合をｐ、ｃ、とじて示す。格子
溝に平行な電気ベクトルを持つ偏光をＴＥ偏光と呼び、
格子溝に平行な磁気ベクトルを持つ偏光を７Ｍ偏光と呼
ぶことにする。
（ａ）は入射光量からＯ次回折効率と１次回折効率を引
いたもので、格子の損失を示しており、（ｂ）は１次回
折効率を、（ｃ）はＯ次回折効率を示している。第５図
で、規格化格子溝深さ０．８付近に注目する。ＴＥ偏光
に関しては０次回折効率がほぼ０％であり、１次回折効
率が９０％程度であるのに対し、７Ｍ偏光に関してはＴ
Ｅ偏光の場合と全く逆の特性を示し０次回折効率がほぼ
１００％であるのに対し１次回折効率はほぼ０％となる
。
いたもので、格子の損失を示しており、（ｂ）は１次回
折効率を、（ｃ）はＯ次回折効率を示している。第５図
で、規格化格子溝深さ０．８付近に注目する。ＴＥ偏光
に関しては０次回折効率がほぼ０％であり、１次回折効
率が９０％程度であるのに対し、７Ｍ偏光に関してはＴ
Ｅ偏光の場合と全く逆の特性を示し０次回折効率がほぼ
１００％であるのに対し１次回折効率はほぼ０％となる
。
したがって、１次回折光からＴＥ偏光を、０次回折光か
ら７Ｍ偏光を検出すれば、この格子は偏光ビームスプリ
ッタとして機能することになり、格子型の偏光ビームス
プリフタが実現できる。
ら７Ｍ偏光を検出すれば、この格子は偏光ビームスプリ
ッタとして機能することになり、格子型の偏光ビームス
プリフタが実現できる。
実際に作成可能な格子は、作成条件９作成方法等により
完全な矩形からは幾分誤差を含んだ形状になるため、上
記のような特性は格子溝深さｄに対して０．７５＜ ｄ
／λく１の範囲で達成される。
完全な矩形からは幾分誤差を含んだ形状になるため、上
記のような特性は格子溝深さｄに対して０．７５＜ ｄ
／λく１の範囲で達成される。
第１図は本発明の詳細な説明するための斜視図である。
図中、光の偏光方向を電気ベクトルの方向で示している
。入射光の波長λとほぼ等しいピッチをもち、０．７５
λ＜ｄ＜λなる格子溝深さｄを有する金属表面レリーフ
格子９を、格子のブラッグ角に近い角度（略ブラッグ角
θ璽′）で光が入射するよう配置する。ブラッグ角に一
致させないのは１次回折光と入射光を分離するためであ
る。
。入射光の波長λとほぼ等しいピッチをもち、０．７５
λ＜ｄ＜λなる格子溝深さｄを有する金属表面レリーフ
格子９を、格子のブラッグ角に近い角度（略ブラッグ角
θ璽′）で光が入射するよう配置する。ブラッグ角に一
致させないのは１次回折光と入射光を分離するためであ
る。
入射光が円偏光１０の場合、Ｏ次回折光１１および１次
回折光１２は互いに直交する直線偏光となる。
回折光１２は互いに直交する直線偏光となる。
本実施例に用いた金属表面レリーフ格子９の作成方法を
第６図に基づいて説明する。第６図（ａ）。
第６図に基づいて説明する。第６図（ａ）。
（ｂ）、 （Ｃ）は、それぞれ異なる作成方法を示し
ている。
ている。
第６図（ａ）に示す方法では、基板１３に適当な厚さの
金１４を蒸着し、フォトプロセスにより格子パターンを
形成後、フォトレジストをマスクとして金に湿式あるい
は乾式エツチング法によるエツチングを施して金の表面
レリーフ格子１５を作成する。
金１４を蒸着し、フォトプロセスにより格子パターンを
形成後、フォトレジストをマスクとして金に湿式あるい
は乾式エツチング法によるエツチングを施して金の表面
レリーフ格子１５を作成する。
第６図（ｂ）に示す方法では、ガラスあるいはプラスチ
ックなどの誘電体基板１６を用いて、誘電体基板に対し
て第６図（ａ）の方法と同様のフォロプロセスおよびエ
ツチングを施して表面レリーフを形成したのち、金１７
を蒸着して金属表面レリーフ格子を作成する。
ックなどの誘電体基板１６を用いて、誘電体基板に対し
て第６図（ａ）の方法と同様のフォロプロセスおよびエ
ツチングを施して表面レリーフを形成したのち、金１７
を蒸着して金属表面レリーフ格子を作成する。
第６図（Ｃ）に示す方法では、あらかじめ必要な格子ピ
ッチおよび格子溝深さを持つ金型を作成しておき、この
金型からフォトポリマー法（２Ｐ法）により、基板１８
上のフォトポリマー樹脂１９に金型のレプリカを成形し
、このレプリカの表面に金２０を蒸着して金属表面レリ
ーフ格子を作成する。
ッチおよび格子溝深さを持つ金型を作成しておき、この
金型からフォトポリマー法（２Ｐ法）により、基板１８
上のフォトポリマー樹脂１９に金型のレプリカを成形し
、このレプリカの表面に金２０を蒸着して金属表面レリ
ーフ格子を作成する。
以上の各作成方法の中で、特に第６図（ｃ）で述べた方
法は量産性に冨み、かつ製造ロフト間のばらつきも小さ
く、工業生産に適した方法である。
法は量産性に冨み、かつ製造ロフト間のばらつきも小さ
く、工業生産に適した方法である。
以上の説明においては、金属として金を取りあげたが、
もちろん他の金属材料、例えば銀やアルミニウムなどを
用いることも可能である。これらの金属材料を用いた場
合、金を用いた場合に比べてさらに製造原価を減らすこ
とができる。
もちろん他の金属材料、例えば銀やアルミニウムなどを
用いることも可能である。これらの金属材料を用いた場
合、金を用いた場合に比べてさらに製造原価を減らすこ
とができる。
本発明による偏光ビームスプリッタでは、従来の偏光ビ
ームスプリフタの製作において必要であった光学ガラス
の複数面の光学研磨、および複数回の誘電体物質の蒸着
、あるいは複屈折結晶の使用、および研磨、張り合わせ
といった工程がほとんど無くなり、材料費および製造工
数を大幅に削減でき、安価で量産性に富む偏光ビームス
プリフタが提供できる。
ームスプリフタの製作において必要であった光学ガラス
の複数面の光学研磨、および複数回の誘電体物質の蒸着
、あるいは複屈折結晶の使用、および研磨、張り合わせ
といった工程がほとんど無くなり、材料費および製造工
数を大幅に削減でき、安価で量産性に富む偏光ビームス
プリフタが提供できる。
第１図、第６図は本発明の詳細な説明するための図、
第２図、第３図、第４図は従来の技術を説明するための
図、 第５図は本発明の詳細な説明するための図である。 １・・・・・ガラス ２・・・・・高屈折率薄膜 ３・・・・・低屈折率薄膜 ４・・・・・接着剤 ５．６・・・プリズム ７・・・・・常光線 ８・・・・・異常光線 ９・・・・・金属表面レリーフ格子 １０・・・・・入射円偏光 １１・・・・・０次回折光 １２・・・・・１次回折光 １３、１６．１８・・・基板 １４、１７．２０・・・金 １５・・・・・表面レリーフ格子 １６・・・・・誘電体基板 １９・・・・・フォトポリマー樹脂 第１図 毛２図 Δ＝入 八＝１０ｐｍ ｄｌ八 ｄ／入第５図
図、 第５図は本発明の詳細な説明するための図である。 １・・・・・ガラス ２・・・・・高屈折率薄膜 ３・・・・・低屈折率薄膜 ４・・・・・接着剤 ５．６・・・プリズム ７・・・・・常光線 ８・・・・・異常光線 ９・・・・・金属表面レリーフ格子 １０・・・・・入射円偏光 １１・・・・・０次回折光 １２・・・・・１次回折光 １３、１６．１８・・・基板 １４、１７．２０・・・金 １５・・・・・表面レリーフ格子 １６・・・・・誘電体基板 １９・・・・・フォトポリマー樹脂 第１図 毛２図 Δ＝入 八＝１０ｐｍ ｄｌ八 ｄ／入第５図
Claims (1)
- （１）入射光の波長λに対して、ピッチが略波長に等し
く、格子溝深さｄが、０．７５λ＜ｄ＜λなる関係を有
する金属表面レリーフ格子を備え、入射光に対して、格
子の略ブラッグ角となるよう配置されることを特徴とす
る偏光ビームスプリッタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63145907A JPH01314204A (ja) | 1988-06-15 | 1988-06-15 | 偏光ビームスプリッタ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63145907A JPH01314204A (ja) | 1988-06-15 | 1988-06-15 | 偏光ビームスプリッタ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01314204A true JPH01314204A (ja) | 1989-12-19 |
Family
ID=15395825
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63145907A Pending JPH01314204A (ja) | 1988-06-15 | 1988-06-15 | 偏光ビームスプリッタ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01314204A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04316002A (ja) * | 1991-04-16 | 1992-11-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 偏光素子 |
| JP2006330616A (ja) * | 2005-05-30 | 2006-12-07 | Nippon Zeon Co Ltd | 偏光子およびその製造方法、並びに液晶表示装置 |
| JP2007058106A (ja) * | 2005-08-26 | 2007-03-08 | Nippon Zeon Co Ltd | 偏光分離フィルム、偏光分離フィルムの製造方法、および液晶表示装置 |
| US7872803B2 (en) | 2005-05-27 | 2011-01-18 | Zeon Corporation | Grid polarizing film, method for producing the film, optical laminate, method for producing the laminate, and liquid crystal display |
-
1988
- 1988-06-15 JP JP63145907A patent/JPH01314204A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04316002A (ja) * | 1991-04-16 | 1992-11-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 偏光素子 |
| US7872803B2 (en) | 2005-05-27 | 2011-01-18 | Zeon Corporation | Grid polarizing film, method for producing the film, optical laminate, method for producing the laminate, and liquid crystal display |
| JP2006330616A (ja) * | 2005-05-30 | 2006-12-07 | Nippon Zeon Co Ltd | 偏光子およびその製造方法、並びに液晶表示装置 |
| JP2007058106A (ja) * | 2005-08-26 | 2007-03-08 | Nippon Zeon Co Ltd | 偏光分離フィルム、偏光分離フィルムの製造方法、および液晶表示装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2703930B2 (ja) | 複屈折回折格子型偏光子 | |
| EP1437608A1 (en) | Diffraction device | |
| JP2002540446A (ja) | 回折選択偏光ビームスプリッタおよびそれにより製造されたビームルーチングプリズム | |
| US5175647A (en) | Optical device | |
| JPH01314204A (ja) | 偏光ビームスプリッタ | |
| JPH0950642A (ja) | 光ヘッド装置及びその製造方法 | |
| JP4843819B2 (ja) | 偏光素子および偏光素子を含む光学系 | |
| JPS62212940A (ja) | 光ピツクアツプ | |
| JP2594548B2 (ja) | 偏光ビームスプリツタ | |
| WO1999049339A1 (en) | Hologram polarized light separator | |
| JP3541575B2 (ja) | 光ヘッド装置及びそれに用いる複合異方性回折素子 | |
| JPH01150117A (ja) | 反射型光変調装置 | |
| JPH01314205A (ja) | 偏光ビームスプリッタ | |
| JPH028802A (ja) | 偏光素子 | |
| JP2541548B2 (ja) | 回折格子型光偏光板 | |
| JPH02109086A (ja) | ホログラム焼付装置 | |
| JP3426661B2 (ja) | 光アイソレータ | |
| JPH031641B2 (ja) | ||
| JP2002341124A (ja) | 回折格子部材 | |
| JPH0212621A (ja) | 光ヘッド | |
| JP3299383B2 (ja) | 偏光ビームスプリッタ及びこれを用いた光ヘッド装置 | |
| JPS5986010A (ja) | 光分割装置 | |
| JPH05196813A (ja) | 回折格子型光偏光素子 | |
| Deng et al. | Introduction and Outline | |
| JP3879246B2 (ja) | 偏光光学素子 |