JPH01317115A - 細長い形状のシリカゾル及びその製造法 - Google Patents
細長い形状のシリカゾル及びその製造法Info
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Landscapes
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、新規なるシリカゾル及びその製造方法に関す
る。更に特質的に述べれば、この新規なシリカゾルは、
そのコロイダルシリカ粒子の形状に特徴を有し、固体表
面上で乾燥されると優れた被膜性を示し、塗料その他種
々の分野に用いられる。
る。更に特質的に述べれば、この新規なシリカゾルは、
そのコロイダルシリカ粒子の形状に特徴を有し、固体表
面上で乾燥されると優れた被膜性を示し、塗料その他種
々の分野に用いられる。
(従来の技術)
シリカゾルは一般に、低粘度の状態から高粘度の状態を
経て終局的にゲル化する性質を有する。従って、同一の
SiO2含量であるならば、高粘度品よりも低粘度品の
方が安定性が高いと評価される。また、シリカゾルは、
それに含まれるコロイダルシリカ粒子の形状が真珠に近
い程、−層低い粘度を示す。この故に、従来より、球状
のコロイダルシリカ粒子からなるゾルを効率よく製造す
るための改良に係わる提案は多いが、シリカゾル中に分
散しているコロイダルシリカ粒子の形状を非球状にコン
トロールすることによりシリカゾルの性能を改良しよう
とする提案は見られない。
経て終局的にゲル化する性質を有する。従って、同一の
SiO2含量であるならば、高粘度品よりも低粘度品の
方が安定性が高いと評価される。また、シリカゾルは、
それに含まれるコロイダルシリカ粒子の形状が真珠に近
い程、−層低い粘度を示す。この故に、従来より、球状
のコロイダルシリカ粒子からなるゾルを効率よく製造す
るための改良に係わる提案は多いが、シリカゾル中に分
散しているコロイダルシリカ粒子の形状を非球状にコン
トロールすることによりシリカゾルの性能を改良しよう
とする提案は見られない。
従来から知られているコロイダルシリカ粒子の形状とし
ては、米国特許第2680721号明細書に添付された
図面に、代表的な三つのタイプが示されている。その一
つは、上記の如き球状のものであり、同図面第1図に示
され、その二は、短径に対する長径の比がほぼ2〜3の
非球状のものであり同図面第2図下段に示されている。
ては、米国特許第2680721号明細書に添付された
図面に、代表的な三つのタイプが示されている。その一
つは、上記の如き球状のものであり、同図面第1図に示
され、その二は、短径に対する長径の比がほぼ2〜3の
非球状のものであり同図面第2図下段に示されている。
そしてその三は、同図面第3図下段に示されている不定
形のものである。この3番目の不定形の粒子は、この米
国特許第2680721号明細書に説明されているよう
に、より小さいシリカ粒子が鎖状に連結することによっ
て形成された3次元網目構造体からその鎖の切断によっ
て生した分断片が粒子成長した結果束したものであり、
1個の粒子に着目すると、細長い形状を有するが、その
伸長が同一平面内に存するように制御されてはいない。
形のものである。この3番目の不定形の粒子は、この米
国特許第2680721号明細書に説明されているよう
に、より小さいシリカ粒子が鎖状に連結することによっ
て形成された3次元網目構造体からその鎖の切断によっ
て生した分断片が粒子成長した結果束したものであり、
1個の粒子に着目すると、細長い形状を有するが、その
伸長が同一平面内に存するように制御されてはいない。
上記米国特許第2680721号明細書は、球状のコロ
イダルシリカ粒子からなるシリカゾルをつくる方法とし
て、径5ミリミクロン以上の球状シリカゾルに1価の塩
基を加えてpH7〜10.5とし、電解質の不存在化に
160〜300℃で加熱する方法を開示している。
イダルシリカ粒子からなるシリカゾルをつくる方法とし
て、径5ミリミクロン以上の球状シリカゾルに1価の塩
基を加えてpH7〜10.5とし、電解質の不存在化に
160〜300℃で加熱する方法を開示している。
米国特許第2900348号明細書は、水ガラスの水溶
液に酸を加えることによって生成させたゲルを水洗し、
このゲルにアルカリを加えてpH9〜95とし、更に9
5〜100℃で加熱することによるシリカゾルをつくる
方法を開示している。この方法は所謂解膠法と呼ばれる
ものであって、この方法により得られたシリカゾルのコ
ロイダルシリカ粒子は、上記2番目又は3番目のタイプ
の形状を有するものである。
液に酸を加えることによって生成させたゲルを水洗し、
このゲルにアルカリを加えてpH9〜95とし、更に9
5〜100℃で加熱することによるシリカゾルをつくる
方法を開示している。この方法は所謂解膠法と呼ばれる
ものであって、この方法により得られたシリカゾルのコ
ロイダルシリカ粒子は、上記2番目又は3番目のタイプ
の形状を有するものである。
(発明が解決しようとする課題)
粒子径4〜150ミリミクロンの球状のコロイダルシリ
カからなるゾルは安定性が高く、種々の用途分野に用い
られているが、この良好な分散性を与えている粒子の球
形は、場合によっては、例えば、このシリカゾル含有組
成物から形成された被膜にクラックを生し易くさせたり
、また、このシリカゾルとセラミックファイバーを含有
する組成物を乾燥するときにも、コロイダルシリカ粒子
の移行が起り、その乾燥物表面が粉立ち易い等の実用上
の問題を生起させる。
カからなるゾルは安定性が高く、種々の用途分野に用い
られているが、この良好な分散性を与えている粒子の球
形は、場合によっては、例えば、このシリカゾル含有組
成物から形成された被膜にクラックを生し易くさせたり
、また、このシリカゾルとセラミックファイバーを含有
する組成物を乾燥するときにも、コロイダルシリカ粒子
の移行が起り、その乾燥物表面が粉立ち易い等の実用上
の問題を生起させる。
このような問題が起ると、シリカゾルに更に別の成分を
加えて改良することが行われるが、充分な改良を達成す
ることは容易でない。
加えて改良することが行われるが、充分な改良を達成す
ることは容易でない。
上記通常の解膠法によって得られるシリカゾルは、その
安定性が充分でなく、場合によっては、保存中にシリカ
の沈澱が生しることもある。そのコロイダルシリカ粒子
は非球形であるが、上記球状のコロイダルシリカからな
るシリカゾルを用いた場合に生しる問題をやはり生じさ
せる。
安定性が充分でなく、場合によっては、保存中にシリカ
の沈澱が生しることもある。そのコロイダルシリカ粒子
は非球形であるが、上記球状のコロイダルシリカからな
るシリカゾルを用いた場合に生しる問題をやはり生じさ
せる。
本発明は、コロイダルシリカ粒子の形状を改変すること
によって改良された性能を示す安定なシリカゾルを提供
しようとするものであり、更に、この改良に係わるシリ
カゾルを効率よく製造する方法を提供しようとするもの
である。
によって改良された性能を示す安定なシリカゾルを提供
しようとするものであり、更に、この改良に係わるシリ
カゾルを効率よく製造する方法を提供しようとするもの
である。
(課題を解決するための手段)
本発明のシリカゾルはSiO□40重量%以下の濃度を
有し、安定である。そしてこのゾルの液状媒体中に分散
している非晶質コロイダルシリカ粒子の形状が、動的光
散乱法による測定粒子径D1として40〜500ミリミ
クロンの大きさを有し、電子顕微鏡によって観察すると
この粒子は5〜40ミリミクロンの範囲内の一様な太さ
で一平面内のみに長く伸長している形状を有し、そして
この伸長度として窒素ガス吸着法(以下、BET法とい
う。)によって測定されるこの粒式によって与えらえる
換算粒子径D2ミリミクロンと上記り、ミリミクロンと
の比DI/D2の値が5以上である細長い形状である点
に特徴を有する。
有し、安定である。そしてこのゾルの液状媒体中に分散
している非晶質コロイダルシリカ粒子の形状が、動的光
散乱法による測定粒子径D1として40〜500ミリミ
クロンの大きさを有し、電子顕微鏡によって観察すると
この粒子は5〜40ミリミクロンの範囲内の一様な太さ
で一平面内のみに長く伸長している形状を有し、そして
この伸長度として窒素ガス吸着法(以下、BET法とい
う。)によって測定されるこの粒式によって与えらえる
換算粒子径D2ミリミクロンと上記り、ミリミクロンと
の比DI/D2の値が5以上である細長い形状である点
に特徴を有する。
この発明のゾルとして、そのコロイダルシリカ粒子の形
状が、電子顕微鏡によって観察される粒子の太さが5〜
20ミリミクロンであって、動的光散乱法による粒子径
が40〜300ミリミクロンであり、そしてり、/D2
が5以上である如きシリカゾルは、先ず、下記 (a)
、(b)及び(C)の工程: (a)S102として1〜6重量%含有し、かつ、pH
が2〜5である活性珪酸のコロイド水溶液に、水溶性の
カルシウム塩、マグネシウム塩又はこれらの混合物を含
有する水溶液を、上記活性珪酸のSiO□に対してCa
OlMgO又はこの両者として重量比1500〜850
0ppmとなる量加えて混合する工程、 (bl (al工程により得られた水溶液に、アルカ
リ金属水酸化物、水溶性有機塩基又はそれらの水溶性珪
酸塩をSiO2/M2O (但し、SiO□は上記活
性珪酸に由来するシリカ分と上記珪酸塩のシリカ分の含
量を、そしてMは上記アルカリ金属原子又は有機塩基の
分子を表わす。)モル比として20〜200となるよう
に加えて混合する工程、及び (cl (b)工程によって得られた混合物を60〜
250℃て05〜40時間加熱する工程を包含すること
を特徴とする製造方法によって効率よく得られる。
状が、電子顕微鏡によって観察される粒子の太さが5〜
20ミリミクロンであって、動的光散乱法による粒子径
が40〜300ミリミクロンであり、そしてり、/D2
が5以上である如きシリカゾルは、先ず、下記 (a)
、(b)及び(C)の工程: (a)S102として1〜6重量%含有し、かつ、pH
が2〜5である活性珪酸のコロイド水溶液に、水溶性の
カルシウム塩、マグネシウム塩又はこれらの混合物を含
有する水溶液を、上記活性珪酸のSiO□に対してCa
OlMgO又はこの両者として重量比1500〜850
0ppmとなる量加えて混合する工程、 (bl (al工程により得られた水溶液に、アルカ
リ金属水酸化物、水溶性有機塩基又はそれらの水溶性珪
酸塩をSiO2/M2O (但し、SiO□は上記活
性珪酸に由来するシリカ分と上記珪酸塩のシリカ分の含
量を、そしてMは上記アルカリ金属原子又は有機塩基の
分子を表わす。)モル比として20〜200となるよう
に加えて混合する工程、及び (cl (b)工程によって得られた混合物を60〜
250℃て05〜40時間加熱する工程を包含すること
を特徴とする製造方法によって効率よく得られる。
更に、本発明のゾルとして、そのコロイダルシリカ粒子
の大きさが上記大きさからこれより大きいもの、すなわ
ち、電子顕微鏡によって観察される粒子の太さが5〜4
0ミリミクロンであって、動的光散乱法による粒子径が
40〜500ミリミクロンであり、そしてり、/D2が
5以上である如きシリカゾルは、先ず、下記(a′)、
(b′)及び(a′)の工程: (a′)平均粒子径3〜30ミリミクロンのコロイダル
シリカをSiO2として05〜25重量%を含有し、か
つ、pnが1〜5である酸性水性シリカ。
の大きさが上記大きさからこれより大きいもの、すなわ
ち、電子顕微鏡によって観察される粒子の太さが5〜4
0ミリミクロンであって、動的光散乱法による粒子径が
40〜500ミリミクロンであり、そしてり、/D2が
5以上である如きシリカゾルは、先ず、下記(a′)、
(b′)及び(a′)の工程: (a′)平均粒子径3〜30ミリミクロンのコロイダル
シリカをSiO2として05〜25重量%を含有し、か
つ、pnが1〜5である酸性水性シリカ。
ゾルに、水溶性のカルシウム塩、マグネシウム塩又はこ
れらの混合物を含有する水溶液を、上記酸性ゾルのSi
O2に対してCaOlMgO又はこの両者として0.1
5〜1.00重量%となる量加えて混合する工程、 (b’lfa′)工程により得られた液に、アルカリ金
属水酸化物、水溶性有機塩基又はそれらの水溶性珪酸塩
を5in2/M2o(但し、SiO2は上記酸性シリカ
ゾルに由来するシリカ分と上記珪酸塩のシリカ分の含量
を、そしてMは上記アルカリ金属原子又は有機塩基の分
子を表わす。)モル比として20〜300となるように
加えて混合する工程、 (c′)(b′)工程によって得られた混合物を60〜
300℃で0.5〜40時間加熱する工程を包含する方
法により、効率よく製造される。
れらの混合物を含有する水溶液を、上記酸性ゾルのSi
O2に対してCaOlMgO又はこの両者として0.1
5〜1.00重量%となる量加えて混合する工程、 (b’lfa′)工程により得られた液に、アルカリ金
属水酸化物、水溶性有機塩基又はそれらの水溶性珪酸塩
を5in2/M2o(但し、SiO2は上記酸性シリカ
ゾルに由来するシリカ分と上記珪酸塩のシリカ分の含量
を、そしてMは上記アルカリ金属原子又は有機塩基の分
子を表わす。)モル比として20〜300となるように
加えて混合する工程、 (c′)(b′)工程によって得られた混合物を60〜
300℃で0.5〜40時間加熱する工程を包含する方
法により、効率よく製造される。
本発明のゾルを構成するコロイダルシリカ粒子は、電子
顕微鏡を用いた撮影写真によってその形状を見ることが
できる。このゾル中に存在する多数のコロイダルシリカ
粒子は、形状が同一に限られてはいないが、共通して細
長い形を有する。この多数のコロイダルシリカ粒子は、
はぼ真直なもの、屈曲しているもの、分枝な有するもの
、環を有するものの4種類に大別されるが、それらの分
率を正確な数字で表わすことは困難である。けれども写
真によれば、屈曲しているものと分枝を有するものの分
率が最も高く、これらのタイプのものが大半を占める。
顕微鏡を用いた撮影写真によってその形状を見ることが
できる。このゾル中に存在する多数のコロイダルシリカ
粒子は、形状が同一に限られてはいないが、共通して細
長い形を有する。この多数のコロイダルシリカ粒子は、
はぼ真直なもの、屈曲しているもの、分枝な有するもの
、環を有するものの4種類に大別されるが、それらの分
率を正確な数字で表わすことは困難である。けれども写
真によれば、屈曲しているものと分枝を有するものの分
率が最も高く、これらのタイプのものが大半を占める。
1個の粒子に着目すると、この粒子の一端から他端まで
太さがほぼ一様である。このほぼ一様であることは、ゾ
ルの製造条件に由来するものであり、そして太さもゾル
の製造条件により変り、製造の経験則に従って定められ
る。一定の方法でつくられたゾル中の多数のコロイダル
シリカ粒子は、この太さがほぼ一定している。本発明の
製造方法によって得られるゾルのコロイダルシリカ粒子
の太さは5〜40ミリミクロンの範囲内にある。しかし
、一定の方法で作られたゾル中の多数のコロイダルシリ
カ粒子の長さは一定していない。けれども写真によれば
、長さは太さの3倍以上であり、通常、数倍〜数十倍の
長さを有する粒子が大半を占める。
太さがほぼ一様である。このほぼ一様であることは、ゾ
ルの製造条件に由来するものであり、そして太さもゾル
の製造条件により変り、製造の経験則に従って定められ
る。一定の方法でつくられたゾル中の多数のコロイダル
シリカ粒子は、この太さがほぼ一定している。本発明の
製造方法によって得られるゾルのコロイダルシリカ粒子
の太さは5〜40ミリミクロンの範囲内にある。しかし
、一定の方法で作られたゾル中の多数のコロイダルシリ
カ粒子の長さは一定していない。けれども写真によれば
、長さは太さの3倍以上であり、通常、数倍〜数十倍の
長さを有する粒子が大半を占める。
本発明のゾルを構成する上記の如き細長い形状のコロイ
ダルシリカ粒子は、更にもう一つ特徴を有している。そ
れは、この細長い伸長が同一平面内に存するということ
である。屈曲していても、また、分枝状であっても同一
平面内の伸長を有するから、全ての粒子は形状が異なっ
ていても重ならない限り、同一平面内に、これら粒子の
太さに相当する高さで横たえることができる。本発明の
ゾルのコロイダルシリカ粒子の電子顕微鏡による撮影写
真では、通常、これら細長い形状のコロイダルシリカ粒
子は重なっているために、1個の粒子の一端と他端とを
見定め難く、従ってその粒子の長さを測定し難い。また
、写真では、平面から垂直な方向にも、つまり、3次元
方向の粒子の伸長が存するか否かも見定め難い。けれど
もこの3次元方向の伸長が存在すると、シリカゾルは、
3次元網目構造又はそれに近い構造の存在に特有の性質
、例えば、著しく高い粘度乃至非流動性を示し、不安定
であるが、本発明のゾルは安定な中粘度の液体である。
ダルシリカ粒子は、更にもう一つ特徴を有している。そ
れは、この細長い伸長が同一平面内に存するということ
である。屈曲していても、また、分枝状であっても同一
平面内の伸長を有するから、全ての粒子は形状が異なっ
ていても重ならない限り、同一平面内に、これら粒子の
太さに相当する高さで横たえることができる。本発明の
ゾルのコロイダルシリカ粒子の電子顕微鏡による撮影写
真では、通常、これら細長い形状のコロイダルシリカ粒
子は重なっているために、1個の粒子の一端と他端とを
見定め難く、従ってその粒子の長さを測定し難い。また
、写真では、平面から垂直な方向にも、つまり、3次元
方向の粒子の伸長が存するか否かも見定め難い。けれど
もこの3次元方向の伸長が存在すると、シリカゾルは、
3次元網目構造又はそれに近い構造の存在に特有の性質
、例えば、著しく高い粘度乃至非流動性を示し、不安定
であるが、本発明のゾルは安定な中粘度の液体である。
従って、本発明のゾルを構成するコロイダルシリカ粒子
は、3次元方向には伸長を有しないものである。本発明
のゾルを構成するコロイダルシリカ粒子の形状の一特徴
である同一平面内の伸長とは、純粋に数学的に厳密な同
一平面内の伸長であるという意味ではない。むしろ、3
次元網目構造又はそれに近い構造を有するシリカゾルが
示す特性を示さないということによって意味付けられる
ものである。
は、3次元方向には伸長を有しないものである。本発明
のゾルを構成するコロイダルシリカ粒子の形状の一特徴
である同一平面内の伸長とは、純粋に数学的に厳密な同
一平面内の伸長であるという意味ではない。むしろ、3
次元網目構造又はそれに近い構造を有するシリカゾルが
示す特性を示さないということによって意味付けられる
ものである。
このような本発明のゾルを構成するコロイダルシリカ粒
子の大きさは、これを写真から推定される長さで表わす
ことは適切でな(、長さに対応する粒子の大きさとして
測定できる動的光散乱法による測定値で表わすのが適切
である。
子の大きさは、これを写真から推定される長さで表わす
ことは適切でな(、長さに対応する粒子の大きさとして
測定できる動的光散乱法による測定値で表わすのが適切
である。
この動的光散乱法による測定値で表わすと、本発明のゾ
ルを構成するコロイダルシリカ粒子の大きさは、40〜
500ミリミクロンである。この動的光散乱法による粒
子径の測定法は、ジャーナル・才ブ ケミカル・フィジ
ックス(Journalof Chemical Ph
ysicsl第57巻第11号(1972年12月)第
4814頁に説明されており、例えば、市販の米国Co
ulter社製N4と呼ばれる装置により容易に粒子径
を測定することができる。通常のBET法によって測定
された比表面積Srn’/gかD2 mμは、細長い形
状のコロイダルシリカ粒子の比表面積と同じ比表面積5
r11″/gを有する仮想の球状コロイダルシリカ粒子
の直径を意味する。従って、上記動的光散乱法によって
測定された粒子径り、 mgと上記D2 muとの比り
、/D2は、細長い形状のコロイダルシリカ粒子の伸長
度を意味し、本発明のシリカゾルはこのD I / D
2の値が5以上である。けれども、通常、本発明のゾ
ルのコロイダルシリカ粒子は、上記比表面積Sとして4
5〜450mF/g程度の値を有するから、上記の式に
よってD2の値として6〜60 mμと算出される。
ルを構成するコロイダルシリカ粒子の大きさは、40〜
500ミリミクロンである。この動的光散乱法による粒
子径の測定法は、ジャーナル・才ブ ケミカル・フィジ
ックス(Journalof Chemical Ph
ysicsl第57巻第11号(1972年12月)第
4814頁に説明されており、例えば、市販の米国Co
ulter社製N4と呼ばれる装置により容易に粒子径
を測定することができる。通常のBET法によって測定
された比表面積Srn’/gかD2 mμは、細長い形
状のコロイダルシリカ粒子の比表面積と同じ比表面積5
r11″/gを有する仮想の球状コロイダルシリカ粒子
の直径を意味する。従って、上記動的光散乱法によって
測定された粒子径り、 mgと上記D2 muとの比り
、/D2は、細長い形状のコロイダルシリカ粒子の伸長
度を意味し、本発明のシリカゾルはこのD I / D
2の値が5以上である。けれども、通常、本発明のゾ
ルのコロイダルシリカ粒子は、上記比表面積Sとして4
5〜450mF/g程度の値を有するから、上記の式に
よってD2の値として6〜60 mμと算出される。
本発明のゾルのコロイダルシリカ粒子は、通常、このり
、/D2で表わされる伸長度として30以下の値を有す
る。
、/D2で表わされる伸長度として30以下の値を有す
る。
本発明のゾルを構成するコロイダルシリカ粒子は、この
ゾルの製造法に由来して若干量の、通常、ゾル中のSi
O2に対して重量比1500〜110000pp程度の
カルシウム若しくはマグネシウムの酸化物又はこの両者
を含有するが、実質的に非晶質のシリカからなる。場合
によっては、このカルシウム若しくはマグネシウムの酸
化物又はこの両者の他に、更にこれら以外の多価金属の
酸化物を少量含有していてもよい。これらカルシウム酸
化物、マグネシウム酸化物等とこれら以外の多価金属酸
化物の合計量は、このゾル中のSiO2に対して重量比
1500〜15000ppm程度である。このカルシウ
ム及びマグネシウム以外1つ の多価金属としては、Sr、 Ba、 Zn、 Sn、
Pb、Cu、 Fe、 Ni、Co、 Mn等のII
価の金属、Aj2、Fe、 Cr、 Y 、 Ti等の
111価の金属、Ti、 Zr、 Sn等のIV価の金
属等が例示される。
ゾルの製造法に由来して若干量の、通常、ゾル中のSi
O2に対して重量比1500〜110000pp程度の
カルシウム若しくはマグネシウムの酸化物又はこの両者
を含有するが、実質的に非晶質のシリカからなる。場合
によっては、このカルシウム若しくはマグネシウムの酸
化物又はこの両者の他に、更にこれら以外の多価金属の
酸化物を少量含有していてもよい。これらカルシウム酸
化物、マグネシウム酸化物等とこれら以外の多価金属酸
化物の合計量は、このゾル中のSiO2に対して重量比
1500〜15000ppm程度である。このカルシウ
ム及びマグネシウム以外1つ の多価金属としては、Sr、 Ba、 Zn、 Sn、
Pb、Cu、 Fe、 Ni、Co、 Mn等のII
価の金属、Aj2、Fe、 Cr、 Y 、 Ti等の
111価の金属、Ti、 Zr、 Sn等のIV価の金
属等が例示される。
本発明のシリカゾルは、通常、40重重量以下、好まし
くは5〜30重量%のSiO2を含有する。このゾルの
粘度は、ゾル中のSiO2の含有率が高い程高い値とな
るが、上記Si0□30重量%以下では、室温で数cp
〜50[]cp程度である。そしてこのゾルは、安定性
が極めて高く、保存中にシリカの沈澱が生ずることも、
増粘が起ることもない。更にこのゾルは、媒体が水、有
機溶媒、水溶性有機溶媒と水との溶液のいずれであって
もよい。媒体が水である水性のゾル、媒体が有機溶媒で
あるオルガノゾルのいずれも、そのコロイダルシリカ粒
子表面に存在するシラノール基によって活性であり、媒
体の除去につれて終局的に不可逆的にゲルに変る。オル
ガノシリカゾルの媒体である有機溶媒としては、このコ
ロイダルシリカ粒子の活性を阻害しないような通常のも
のでよく、例えば、メタノール、エタノール、イソプロ
パツール、ブタノール等のアルコール類、エチレングリ
コール等多価アルコール類、ジメチルエーテル、エチレ
ングリコールのモノメチルエーテル等エーテル類、トル
エン、キシレン等炭化水素溶媒、ジメチルアセトアミド
、ジメチルホルムアミド、その他等が挙げられる。
くは5〜30重量%のSiO2を含有する。このゾルの
粘度は、ゾル中のSiO2の含有率が高い程高い値とな
るが、上記Si0□30重量%以下では、室温で数cp
〜50[]cp程度である。そしてこのゾルは、安定性
が極めて高く、保存中にシリカの沈澱が生ずることも、
増粘が起ることもない。更にこのゾルは、媒体が水、有
機溶媒、水溶性有機溶媒と水との溶液のいずれであって
もよい。媒体が水である水性のゾル、媒体が有機溶媒で
あるオルガノゾルのいずれも、そのコロイダルシリカ粒
子表面に存在するシラノール基によって活性であり、媒
体の除去につれて終局的に不可逆的にゲルに変る。オル
ガノシリカゾルの媒体である有機溶媒としては、このコ
ロイダルシリカ粒子の活性を阻害しないような通常のも
のでよく、例えば、メタノール、エタノール、イソプロ
パツール、ブタノール等のアルコール類、エチレングリ
コール等多価アルコール類、ジメチルエーテル、エチレ
ングリコールのモノメチルエーテル等エーテル類、トル
エン、キシレン等炭化水素溶媒、ジメチルアセトアミド
、ジメチルホルムアミド、その他等が挙げられる。
本発明のシリカゾルとして、そのコロイダルシリカ粒子
の太さが5〜20ミリミクロンであって、動的光散乱法
による粒子径が40〜300ミリミクロンであるものは
、前記の如く、(a)、(b)及び(c)の各工程を経
ることにより先ずアルカリ性の水性のシリカゾルとして
得られる。
の太さが5〜20ミリミクロンであって、動的光散乱法
による粒子径が40〜300ミリミクロンであるものは
、前記の如く、(a)、(b)及び(c)の各工程を経
ることにより先ずアルカリ性の水性のシリカゾルとして
得られる。
この(a)工程に用いられる活性珪酸のコロイド水溶液
は、珪酸及び粒子径3ミリミクロン未満の珪酸の重合体
粒子が共存する液であり、公知の方法により容易に得ら
れる。好ましい活性珪酸のコロイド水溶液は、水溶性珪
酸塩、例えば、5j02/M20(但し、Mはアルカリ
土属原子を示す。)モル比が1〜45程度の水ガラスの
希釈水溶液を陽イオン交換処理することにより得られ、
通常6重量%以下、好ましくは1〜6重量%のSiO□
を含有し、そしてpH5以下、好ましくは2〜5である
ものが用いられる。そしてこのpHは、上記水ガラス水
溶液を陽イオン交換処理する際、その中の陽イオンの一
部を残存させることによっても、あるいは、その中の陽
イオンの全部又は一部を除いた後、得られた活性珪酸の
コロイド水溶液に少量のアルカリ金属水酸化物、水溶性
有機塩基等を加えることによっても容易に調節すること
ができる。この活性珪酸のコロイド水溶液は不安定であ
って、ゲル化し易い性質を有するので、このゲル化を促
進する如き不純物をなるべく含有しないものが好ましく
、また、調製直後のものが好ましい。
は、珪酸及び粒子径3ミリミクロン未満の珪酸の重合体
粒子が共存する液であり、公知の方法により容易に得ら
れる。好ましい活性珪酸のコロイド水溶液は、水溶性珪
酸塩、例えば、5j02/M20(但し、Mはアルカリ
土属原子を示す。)モル比が1〜45程度の水ガラスの
希釈水溶液を陽イオン交換処理することにより得られ、
通常6重量%以下、好ましくは1〜6重量%のSiO□
を含有し、そしてpH5以下、好ましくは2〜5である
ものが用いられる。そしてこのpHは、上記水ガラス水
溶液を陽イオン交換処理する際、その中の陽イオンの一
部を残存させることによっても、あるいは、その中の陽
イオンの全部又は一部を除いた後、得られた活性珪酸の
コロイド水溶液に少量のアルカリ金属水酸化物、水溶性
有機塩基等を加えることによっても容易に調節すること
ができる。この活性珪酸のコロイド水溶液は不安定であ
って、ゲル化し易い性質を有するので、このゲル化を促
進する如き不純物をなるべく含有しないものが好ましく
、また、調製直後のものが好ましい。
更に好ましい活性珪酸のコロイド水溶液は、SiO2/
Na2Oモル比2〜4程度の市販工業製品のナトリウム
水ガラスの希釈水溶液を水素型陽イオン交換樹脂層を通
過せしめることにより得られる。本発明の目的とするゾ
ルが得られる限り、この活性珪酸のコロイド水溶液は、
他の成分を含有していてもよく、そして微量の陽イオン
、陰イオン等を含有していてもよい。
Na2Oモル比2〜4程度の市販工業製品のナトリウム
水ガラスの希釈水溶液を水素型陽イオン交換樹脂層を通
過せしめることにより得られる。本発明の目的とするゾ
ルが得られる限り、この活性珪酸のコロイド水溶液は、
他の成分を含有していてもよく、そして微量の陽イオン
、陰イオン等を含有していてもよい。
(al工程において、この活性珪酸のコロイド水溶液に
は、水溶性のカルシウム塩、マグネシウム塩又はそれら
の混合物が、好ましくはその水溶液として加えられる。
は、水溶性のカルシウム塩、マグネシウム塩又はそれら
の混合物が、好ましくはその水溶液として加えられる。
この添加されるカルシウム塩、マグネシウム塩又はそれ
らの混合物の量としては、上記活性珪酸のコロイド水溶
液中のSiO□に対し重量比1500〜85[10pp
mとなる量である。また、この添加は、撹拌下に行うの
がよく、混合温度及び時間には特に制限はなく、2〜5
0℃で5〜30分程度でよい。加えられるカルシウム塩
及びマグネシウム塩の例としては、カルシウム又はマグ
ネシウムの塩化物、硝酸塩、硫酸塩、スルファミン酸塩
、蟻酸塩、酢酸塩等の無機酸塩及び有機酸塩が挙げられ
る。これらカルシウム塩とマグネシウム塩は混合して用
いてもよい6加えられるこれら塩の水溶液の濃度として
は、特に制限はなく、2〜20重量%程度でよい。この
カルシウム塩、マグネシウム塩等と共に、カルシウム及
びマグネシウム以外の多価金属成分が上記活性珪酸のコ
ロイド水溶液に含まれていると、更に好ましくゾルを製
造できる。このカルシウム及びマグネシウム以外の多価
金属の例としては、Sr、 Ba、、Zn、 Sn、A
I2、Pb、 Cu、 Fe、 Ni、Co1.Mn、
Cr、 Y 、 Ti、Zr等のII価、III価又
はTV価の金属が挙げられる。これら多価金属成分の量
としては、 (al工程に加えられるカルシウム塩、マ
グネシウム塩等の量をCaOlMgO等の量に換算した
とき、これらCaOlMgO等に対し多価金属酸化物と
して10〜80重量%程度が好ましい。
らの混合物の量としては、上記活性珪酸のコロイド水溶
液中のSiO□に対し重量比1500〜85[10pp
mとなる量である。また、この添加は、撹拌下に行うの
がよく、混合温度及び時間には特に制限はなく、2〜5
0℃で5〜30分程度でよい。加えられるカルシウム塩
及びマグネシウム塩の例としては、カルシウム又はマグ
ネシウムの塩化物、硝酸塩、硫酸塩、スルファミン酸塩
、蟻酸塩、酢酸塩等の無機酸塩及び有機酸塩が挙げられ
る。これらカルシウム塩とマグネシウム塩は混合して用
いてもよい6加えられるこれら塩の水溶液の濃度として
は、特に制限はなく、2〜20重量%程度でよい。この
カルシウム塩、マグネシウム塩等と共に、カルシウム及
びマグネシウム以外の多価金属成分が上記活性珪酸のコ
ロイド水溶液に含まれていると、更に好ましくゾルを製
造できる。このカルシウム及びマグネシウム以外の多価
金属の例としては、Sr、 Ba、、Zn、 Sn、A
I2、Pb、 Cu、 Fe、 Ni、Co1.Mn、
Cr、 Y 、 Ti、Zr等のII価、III価又
はTV価の金属が挙げられる。これら多価金属成分の量
としては、 (al工程に加えられるカルシウム塩、マ
グネシウム塩等の量をCaOlMgO等の量に換算した
とき、これらCaOlMgO等に対し多価金属酸化物と
して10〜80重量%程度が好ましい。
上記水ガラスの希釈水溶液を陽イオン交換処理すること
によって得られた活性珪酸のコロイド水溶液に上記多価
金属分が残留している場合には、この多価金属分は酸化
物に換算して上記10〜80重量%の一部として算入さ
れる。残部の多価金属分は上記多価金属の水溶性塩とし
て、加えられるカルシウム塩、マグネシウム塩等と一緒
に活性珪酸のコロイド水溶液に加えるのが好ましい。こ
の多価金属塩の好ましい例としては、塩化物、硝酸塩、
硫酸塩、スルファミン酸塩、蟻酸塩、酢酸塩等無機酸塩
及び有機酸塩が挙げられる。また、亜鉛酸塩、錫酸塩、
アルミン酸塩、鉛酸塩等、例えば、アルミン酸ナトリウ
ム、錫酸ナトリウム等の塩も用いることができる。
によって得られた活性珪酸のコロイド水溶液に上記多価
金属分が残留している場合には、この多価金属分は酸化
物に換算して上記10〜80重量%の一部として算入さ
れる。残部の多価金属分は上記多価金属の水溶性塩とし
て、加えられるカルシウム塩、マグネシウム塩等と一緒
に活性珪酸のコロイド水溶液に加えるのが好ましい。こ
の多価金属塩の好ましい例としては、塩化物、硝酸塩、
硫酸塩、スルファミン酸塩、蟻酸塩、酢酸塩等無機酸塩
及び有機酸塩が挙げられる。また、亜鉛酸塩、錫酸塩、
アルミン酸塩、鉛酸塩等、例えば、アルミン酸ナトリウ
ム、錫酸ナトリウム等の塩も用いることができる。
加えらえる上記カルシウム塩、マグネシウム塩、多価金
属塩等は、活性珪酸のコロイド水溶液と均一に混合する
のが好ましく、通常、水溶液として添加される。
属塩等は、活性珪酸のコロイド水溶液と均一に混合する
のが好ましく、通常、水溶液として添加される。
(bl工程では、上記 (a)工程によって得られた水
溶液に、アルカリ金属水酸化物、水溶性有機塩基又はそ
れらの水溶性珪酸塩が加えられる。この添加は、 (a
+工程の終了後なるべく早く、そして撹拌下に行うのが
好ましい。また、この混合の温度及び時間には特に制限
はなく、2〜50℃で5〜30分程度でよい。加えられ
るアルカリ金属水酸化物、水溶性有機塩基又はそれらの
水溶性珪酸塩は、 fa)工程によって得られた水溶液
と均一に混合されるのが好ましく、直接又は水溶液とし
て添加される。アルカリ金属水酸化物としては、例えば
、ナトリウム、カリウム、リヂウム等の水酸化物が挙げ
られる。有機塩基としては、例えば、テトラエタノール
アンモニウム水酸化物、モノメチルトリエタノールアン
モニウム水酸化物、テトラメチルアンモニウム水酸化物
等第4級アンモニウム水酸化物類、モノエタノールアミ
ン、ジェタノールアミン、トリエタノールアミン、N、
N−ジメチルエタノールアミン、N−(β−アミノメチ
ル)エタノールアミン、N−メチルエタノールアミン、
モツプロバノールアミン、モルホリン等アミン類、その
他塩基性窒素原子含有の有機化合物等が挙げられる。ま
た、それらの水溶性珪酸塩としては、珪酸ナトリウム、
珪酸カリウム、上記第4級アンモニウムの珪酸塩、上記
アミンの珪酸塩等が例示される。また、アルカリ金属又
は有機塩基のアルミン酸塩、錫酸塩、亜鉛酸塩、鉛酸塩
等も用いることができる。これらアルカリ金属水酸化物
、有機塩基、珪酸塩、金属酸塩等は混合して用いてもよ
い。
溶液に、アルカリ金属水酸化物、水溶性有機塩基又はそ
れらの水溶性珪酸塩が加えられる。この添加は、 (a
+工程の終了後なるべく早く、そして撹拌下に行うのが
好ましい。また、この混合の温度及び時間には特に制限
はなく、2〜50℃で5〜30分程度でよい。加えられ
るアルカリ金属水酸化物、水溶性有機塩基又はそれらの
水溶性珪酸塩は、 fa)工程によって得られた水溶液
と均一に混合されるのが好ましく、直接又は水溶液とし
て添加される。アルカリ金属水酸化物としては、例えば
、ナトリウム、カリウム、リヂウム等の水酸化物が挙げ
られる。有機塩基としては、例えば、テトラエタノール
アンモニウム水酸化物、モノメチルトリエタノールアン
モニウム水酸化物、テトラメチルアンモニウム水酸化物
等第4級アンモニウム水酸化物類、モノエタノールアミ
ン、ジェタノールアミン、トリエタノールアミン、N、
N−ジメチルエタノールアミン、N−(β−アミノメチ
ル)エタノールアミン、N−メチルエタノールアミン、
モツプロバノールアミン、モルホリン等アミン類、その
他塩基性窒素原子含有の有機化合物等が挙げられる。ま
た、それらの水溶性珪酸塩としては、珪酸ナトリウム、
珪酸カリウム、上記第4級アンモニウムの珪酸塩、上記
アミンの珪酸塩等が例示される。また、アルカリ金属又
は有機塩基のアルミン酸塩、錫酸塩、亜鉛酸塩、鉛酸塩
等も用いることができる。これらアルカリ金属水酸化物
、有機塩基、珪酸塩、金属酸塩等は混合して用いてもよ
い。
上記アルカリ金属水酸化物のアルカリ金属原子又は有機
塩基の分子なMて表わせば、加えられるアルカリ金属水
酸化物、有機塩基又はそれらの水溶性珪酸塩の量は、
(a)工程に用いられた活性珪酸に由来するシリカ分及
び上記珪酸塩のシリカ分の合計としてSiO21モルに
対しM2Oに換算して20〜200モルとなる量、好ま
しくは60〜100モルとなる量である。この添加によ
って液はp+(7〜10程度を示すに至る。
塩基の分子なMて表わせば、加えられるアルカリ金属水
酸化物、有機塩基又はそれらの水溶性珪酸塩の量は、
(a)工程に用いられた活性珪酸に由来するシリカ分及
び上記珪酸塩のシリカ分の合計としてSiO21モルに
対しM2Oに換算して20〜200モルとなる量、好ま
しくは60〜100モルとなる量である。この添加によ
って液はp+(7〜10程度を示すに至る。
(C1工程では、上記 (b)工程によって得られた混
合物が加熱される。この加熱は60〜250℃て行なわ
れるが、 (a)工程に用いられる活性珪酸のコロイド
水溶液のpHが2〜4のときは、この加熱温度は60〜
150℃の範囲が適当であり、そして (al工程に用
いられる活性珪酸のコロイド水溶液のpHが4を越え5
以下であるときは、この加熱温度は更に高温まで、即ち
、 250℃まで許容される。加熱時間は05〜40時
間程度必要であり、また、この加熱は、上記混合物の撹
拌下に行なうのが好ましく、そしてなるべく水の蒸発の
起らない条件下に行うのが好ましい。
合物が加熱される。この加熱は60〜250℃て行なわ
れるが、 (a)工程に用いられる活性珪酸のコロイド
水溶液のpHが2〜4のときは、この加熱温度は60〜
150℃の範囲が適当であり、そして (al工程に用
いられる活性珪酸のコロイド水溶液のpHが4を越え5
以下であるときは、この加熱温度は更に高温まで、即ち
、 250℃まで許容される。加熱時間は05〜40時
間程度必要であり、また、この加熱は、上記混合物の撹
拌下に行なうのが好ましく、そしてなるべく水の蒸発の
起らない条件下に行うのが好ましい。
この加熱によって、その液中には、5〜20ミリミクロ
ンの範囲内のほぼ一様な太さで一平面内のみの伸長を有
し、かつ、動的光散乱法による粒子径が40〜300ミ
リミクロンである細長い形状のシリカのコロイダル粒子
が生成する。
ンの範囲内のほぼ一様な太さで一平面内のみの伸長を有
し、かつ、動的光散乱法による粒子径が40〜300ミ
リミクロンである細長い形状のシリカのコロイダル粒子
が生成する。
従って、得られた液はゾルであるが、SiO2濃度は、
通常、1〜6重量%程度であり、多量の陰イオンを含む
。このゾルは、通常、更に濃縮されるが、SiO2濃度
10〜30重量%の濃縮ゾル中に存在していてはゾルの
安定化の妨げとなる量又はそれ以上の陰イオンを、 (
cl工程で得られたゾルから除くのが好ましい。この除
去の際には、ゾル中の水の一部も一緒に除去させるのが
好ましい。水の一部がゾルから除かれると、ゾル中のS
iO2濃度が上昇するので、水の除去量としては、Si
O□濃度30重量%以下のゾルが得られる量とするのが
よい。 (cl工程によって得られたゾルから水と陰イ
オンとを一緒に除去する方法としては、通常の微細多孔
性膜、例えば、限外濾過膜を用いてこれらを除く方法が
好ましい。上記陰イオンを除く別の方法としては、イオ
ン交換樹脂によるイオン交換法等が挙げられる。上記安
定化の妨げとなる量の陰イオンを除いた後ならば、蒸発
法等によりゾルを濃縮させることもてきる。 (C)工
程によって得られたゾル又はこの濃縮後のゾルは、適宜
アルカリ添加によるpn調節を行ってもよい。
通常、1〜6重量%程度であり、多量の陰イオンを含む
。このゾルは、通常、更に濃縮されるが、SiO2濃度
10〜30重量%の濃縮ゾル中に存在していてはゾルの
安定化の妨げとなる量又はそれ以上の陰イオンを、 (
cl工程で得られたゾルから除くのが好ましい。この除
去の際には、ゾル中の水の一部も一緒に除去させるのが
好ましい。水の一部がゾルから除かれると、ゾル中のS
iO2濃度が上昇するので、水の除去量としては、Si
O□濃度30重量%以下のゾルが得られる量とするのが
よい。 (cl工程によって得られたゾルから水と陰イ
オンとを一緒に除去する方法としては、通常の微細多孔
性膜、例えば、限外濾過膜を用いてこれらを除く方法が
好ましい。上記陰イオンを除く別の方法としては、イオ
ン交換樹脂によるイオン交換法等が挙げられる。上記安
定化の妨げとなる量の陰イオンを除いた後ならば、蒸発
法等によりゾルを濃縮させることもてきる。 (C)工
程によって得られたゾル又はこの濃縮後のゾルは、適宜
アルカリ添加によるpn調節を行ってもよい。
上記陰イオンと水が除かれたゾルは、SiO2濃度10
〜30重量%であり、室温で数cp〜500cp程度の
粘度を有し、そしてpH8,5〜11を示す。このゾル
中には陰イオンがなおlo00ppm以下、通常200
〜800ppm含まれるが極めて安定である。
〜30重量%であり、室温で数cp〜500cp程度の
粘度を有し、そしてpH8,5〜11を示す。このゾル
中には陰イオンがなおlo00ppm以下、通常200
〜800ppm含まれるが極めて安定である。
また、このゾルはSiO2/M20 (但し、Mは前
記に同じ。)モル比20〜200となる量のアルカリ金
属イオン、有機塩基等が含まれ、更にカルシラム若しく
はマグネシウム又はこれらと前記多価金属がそれらの酸
化物に換算してSiO2に対し1500〜15000p
pm程度含まれる。そしてこのゾルのコロイダルシリカ
粒子は、上記 (C)工程によって既に形成された形状
と大きさを保ち、上記ゾル中に存在するCaOlMaO
又はこれらと多価金属酸化物を含有している。これら化
学分析は通常の方法により容易に行うことができる。
記に同じ。)モル比20〜200となる量のアルカリ金
属イオン、有機塩基等が含まれ、更にカルシラム若しく
はマグネシウム又はこれらと前記多価金属がそれらの酸
化物に換算してSiO2に対し1500〜15000p
pm程度含まれる。そしてこのゾルのコロイダルシリカ
粒子は、上記 (C)工程によって既に形成された形状
と大きさを保ち、上記ゾル中に存在するCaOlMaO
又はこれらと多価金属酸化物を含有している。これら化
学分析は通常の方法により容易に行うことができる。
このコロイダルシリカ粒子の動的光散乱法粒子径は、市
販の装置によって容易に測定され、40〜300ミリミ
クロンである。
販の装置によって容易に測定され、40〜300ミリミ
クロンである。
上記本発明の方法によって得られたゾルは、水の除去に
よって終局的に不可逆的にゲルに変る。このゾルはアル
カリ性の水性ゾルであるが、これを陽イオン交換処理す
れば、酸性の水性シリカゾルが得られ、これに別のアル
カリを加えることにより上記とは別のアルカリ性の水性
シリカゾルを得ることができる。この酸性の水性シリカ
ゾルとしてはpH2〜4のものが好ましい。また、これ
ら酸性の水性ゾルから、陽に帯電したコロイダルシリカ
粒子からなる水性ゾルを、通常の方法により得ることが
できる。更に、これら水性ゾルから、その媒体の水を通
常の方法、例えば、蒸留置換法等により有機溶媒によっ
て置換することにより、オルガノゾルが得られる。これ
ら酸性の水性ゾル、陽に帯電した粒子からなる水性ゾル
、オルガノゾルのいずれも、そのコロイダルシリカ粒子
は既に (c)工程において形成された形状を保持し、
媒体の除去によって終局的に不可逆的にゲルに変る。
よって終局的に不可逆的にゲルに変る。このゾルはアル
カリ性の水性ゾルであるが、これを陽イオン交換処理す
れば、酸性の水性シリカゾルが得られ、これに別のアル
カリを加えることにより上記とは別のアルカリ性の水性
シリカゾルを得ることができる。この酸性の水性シリカ
ゾルとしてはpH2〜4のものが好ましい。また、これ
ら酸性の水性ゾルから、陽に帯電したコロイダルシリカ
粒子からなる水性ゾルを、通常の方法により得ることが
できる。更に、これら水性ゾルから、その媒体の水を通
常の方法、例えば、蒸留置換法等により有機溶媒によっ
て置換することにより、オルガノゾルが得られる。これ
ら酸性の水性ゾル、陽に帯電した粒子からなる水性ゾル
、オルガノゾルのいずれも、そのコロイダルシリカ粒子
は既に (c)工程において形成された形状を保持し、
媒体の除去によって終局的に不可逆的にゲルに変る。
アルカリ性の水性シリカゾル、酸性の水性シリカゾル、
陽に帯電したシリカゾルの各種別毎に、同種の本発明に
よるゾルと従来のゾルとの混合によって安定なゾルを得
ることができる。
陽に帯電したシリカゾルの各種別毎に、同種の本発明に
よるゾルと従来のゾルとの混合によって安定なゾルを得
ることができる。
オルガノゾルについても、溶媒間に相溶性があって、溶
媒によるコロイダルシリカの凝集が起らなければ、本発
明によるゾルと従来のゾルとの混合しこよって安定なゾ
ルを得ることができる。
媒によるコロイダルシリカの凝集が起らなければ、本発
明によるゾルと従来のゾルとの混合しこよって安定なゾ
ルを得ることができる。
本発明のゾルは、更に別の方法によっても得3す
ることかできる。この第2の方法によれば、コロイダル
シリカ粒子の太さが5〜40ミリミクロンであって、動
的光散乱法による粒子径が40〜500ミリミクロンで
あるものが得られる。この第2の方法は前記の如< (
a′l 、 (b′l及び(C′)の工程からなり、太
さの大きい粒子の製造に有利である。
シリカ粒子の太さが5〜40ミリミクロンであって、動
的光散乱法による粒子径が40〜500ミリミクロンで
あるものが得られる。この第2の方法は前記の如< (
a′l 、 (b′l及び(C′)の工程からなり、太
さの大きい粒子の製造に有利である。
(a′)工程に用いられる平均粒子径3〜30ミリミク
ロン、SiO2含有率05〜25重量%、かつ、pH1
〜5である酸性水性シリカゾルは、従来から知られてい
る任意の方法、例えば、前記米国特許第268071号
、同第2900348号等の明細書に記載の方法で造ら
れたものでよく、動的光散乱法による測定粒子径り、と
BET法による測定比表面積から算出される粒子径D2
との比n+/D2の値が5未満のものであれば、そのコ
ロイダルシリカ粒子の形状は球状でも非球状でもよい。
ロン、SiO2含有率05〜25重量%、かつ、pH1
〜5である酸性水性シリカゾルは、従来から知られてい
る任意の方法、例えば、前記米国特許第268071号
、同第2900348号等の明細書に記載の方法で造ら
れたものでよく、動的光散乱法による測定粒子径り、と
BET法による測定比表面積から算出される粒子径D2
との比n+/D2の値が5未満のものであれば、そのコ
ロイダルシリカ粒子の形状は球状でも非球状でもよい。
けれども、生成粒子の太さをその伸長に沿って一様なら
しめるには球状のコロイダルシリカ粒子のゾルを用いる
のが好ましい。
しめるには球状のコロイダルシリカ粒子のゾルを用いる
のが好ましい。
この第2の方法の(a′l 、 (b′l及び(C′)
工程には、前記(al 、 (bl及び(c)の工程と
同様の操作が用いられる。けれども、(a′)工程では
、 CaOlMgO又はこの両者の添加量は、コロイダ
ルシリカのSiO□に対し1.00重量%にまで高める
ことができ、(b′)工程では、アルカリ金属水酸化物
、水溶性有機塩基又はそれらの水溶性珪酸塩の添加量を
SiO□/M20モル比として300まて減少させるこ
とができ、そして(C′)工程では、加熱温度を300
℃にまで高めることができる。
工程には、前記(al 、 (bl及び(c)の工程と
同様の操作が用いられる。けれども、(a′)工程では
、 CaOlMgO又はこの両者の添加量は、コロイダ
ルシリカのSiO□に対し1.00重量%にまで高める
ことができ、(b′)工程では、アルカリ金属水酸化物
、水溶性有機塩基又はそれらの水溶性珪酸塩の添加量を
SiO□/M20モル比として300まて減少させるこ
とができ、そして(C′)工程では、加熱温度を300
℃にまで高めることができる。
この(a′l 、 (b′l及び(C′)工程を経るこ
とにより得られたゾルを、前記と同様にして濃縮するこ
とにより、陰イオン濃度0.1重量%以下であってSi
O2濃度1〜40重量%の安定なアルカリ性水性シリカ
ゾルを得ることができる。また、前記と同様にして酸性
ゾル、陽に帯電したシリカゾル、オルガノゾル、混合ゾ
ル等も得ることができる。
とにより得られたゾルを、前記と同様にして濃縮するこ
とにより、陰イオン濃度0.1重量%以下であってSi
O2濃度1〜40重量%の安定なアルカリ性水性シリカ
ゾルを得ることができる。また、前記と同様にして酸性
ゾル、陽に帯電したシリカゾル、オルガノゾル、混合ゾ
ル等も得ることができる。
(作 用)
本発明のゾルのコロイダルシリカ粒子が細長くて、しか
もその太さが5〜40ミリミクロンの範囲内にあり、そ
して一様な太さで一平面内のみに上記DI102の値で
5以上の伸長を有し、そして動的光散乱法による測定粒
子径が40〜500ミリミクロンであるという細長い形
状は、本発明のゾルの製造法によるものである。このコ
ロイダルシリカ粒子の生成機構の完全解明は困難である
が、下記のように考えられる。
もその太さが5〜40ミリミクロンの範囲内にあり、そ
して一様な太さで一平面内のみに上記DI102の値で
5以上の伸長を有し、そして動的光散乱法による測定粒
子径が40〜500ミリミクロンであるという細長い形
状は、本発明のゾルの製造法によるものである。このコ
ロイダルシリカ粒子の生成機構の完全解明は困難である
が、下記のように考えられる。
先ず、 (aj工程において活性珪酸のコロイド水溶液
にカルシウム若しくはマグネシウムの水溶性塩又はこれ
らの混合物を加えると、カルシウムイオン、マグネシウ
ムイオン等が活性珪酸の粒子に捕捉される。次いで (
bl工程においてアルカリ金属水酸化物、有機塩基、こ
れらの珪酸塩等を加えると、カルシウムイオン、マグネ
シウムイオン等を捕捉した活性珪酸の粒子の一部は数珠
つなぎに凝集し、その結果任意方向に屈曲した細長い糸
状凝集体粒子が生成する。この糸状の凝集体粒子は、−
平面内のみに伸長していなくてもよいし、また、部分的
に三次元網目構造を形成していてもよい。そして (c
)工程において加熱されると、活性珪酸粒子の重合が起
り、上記長い糸状の粒子には切断が、そして上記三次元
構造には破壊が起って、成る長さ、おそらく10〜10
0ミリミクロン程度の長さの断片が生成すると共に、こ
の断片及び長さが短い粒子上では既に捕捉されていたカ
ルシウムイオン、マグネシウムイオン等が作用して、こ
の断片及び短かい糸状粒子の伸長が一平面内のみに存す
るように固定させる。 (C)工程による加熱の継続は
、液中の溶解珪酸及び断片糸の溶離し易い部分から溶離
した溶解珪酸が逐次断片糸の表面に析出して断片糸の太
さを増大せしめる。
にカルシウム若しくはマグネシウムの水溶性塩又はこれ
らの混合物を加えると、カルシウムイオン、マグネシウ
ムイオン等が活性珪酸の粒子に捕捉される。次いで (
bl工程においてアルカリ金属水酸化物、有機塩基、こ
れらの珪酸塩等を加えると、カルシウムイオン、マグネ
シウムイオン等を捕捉した活性珪酸の粒子の一部は数珠
つなぎに凝集し、その結果任意方向に屈曲した細長い糸
状凝集体粒子が生成する。この糸状の凝集体粒子は、−
平面内のみに伸長していなくてもよいし、また、部分的
に三次元網目構造を形成していてもよい。そして (c
)工程において加熱されると、活性珪酸粒子の重合が起
り、上記長い糸状の粒子には切断が、そして上記三次元
構造には破壊が起って、成る長さ、おそらく10〜10
0ミリミクロン程度の長さの断片が生成すると共に、こ
の断片及び長さが短い粒子上では既に捕捉されていたカ
ルシウムイオン、マグネシウムイオン等が作用して、こ
の断片及び短かい糸状粒子の伸長が一平面内のみに存す
るように固定させる。 (C)工程による加熱の継続は
、液中の溶解珪酸及び断片糸の溶離し易い部分から溶離
した溶解珪酸が逐次断片糸の表面に析出して断片糸の太
さを増大せしめる。
この一連のプロセスの結果、 [C)工程終了後の液中
に、5〜20ミリミクロンの範囲内のほぼ一様な太さで
一平面内のみに伸長を有し、長さ15〜200ミリミク
ロン程度の細長い形状のコロイダルシリカ粒子が生成す
る。
に、5〜20ミリミクロンの範囲内のほぼ一様な太さで
一平面内のみに伸長を有し、長さ15〜200ミリミク
ロン程度の細長い形状のコロイダルシリカ粒子が生成す
る。
本発明の(a’ ) 、 (b’ l及び(C′)の工
程からなる上記第2の製造方法によるときも、上記活性
珪酸の微粒子に代って、粒径3〜30ミリミクロンのコ
ロイダルシリカ粒子が同様に作用するものと考えられる
。
程からなる上記第2の製造方法によるときも、上記活性
珪酸の微粒子に代って、粒径3〜30ミリミクロンのコ
ロイダルシリカ粒子が同様に作用するものと考えられる
。
(al工程に用いられる活性珪酸のコロイド水溶液に、
fb)工程に用いられるアルカリ金属水酸化物、有機
塩基又はそれらの水溶性珪酸塩の水溶液を加えてから、
(al工程に用いられるカルシウム塩、マグネシウム
塩又はこれらの混合物の水溶液を加えると、急激にゲル
生成が起り、通常の撹拌手段によっては均一に分散させ
ることすら困難となり、また、その生成ゲルを加熱して
も本発明の上記形状のコロイダルシリカ粒子を生成させ
ることができない。
fb)工程に用いられるアルカリ金属水酸化物、有機
塩基又はそれらの水溶性珪酸塩の水溶液を加えてから、
(al工程に用いられるカルシウム塩、マグネシウム
塩又はこれらの混合物の水溶液を加えると、急激にゲル
生成が起り、通常の撹拌手段によっては均一に分散させ
ることすら困難となり、また、その生成ゲルを加熱して
も本発明の上記形状のコロイダルシリカ粒子を生成させ
ることができない。
(al工程において、用いられる活性珪酸のコロイド水
溶液のSiO□濃度が1重量%以下では、濃縮の際多量
の水の除去を要し効率的でない。
溶液のSiO□濃度が1重量%以下では、濃縮の際多量
の水の除去を要し効率的でない。
また、この活性珪酸のコロイド水溶液のSiO2濃度が
6重量%を超えると、この液は安定性が著しく低下し、
一定品質のゾルの生産を困難ならしめる。従って、この
SiO□濃度は1〜6重量%が好ましいが、かかる濃度
の活性珪酸のコロイド水溶液のうちでも、更にそのpH
が2〜5であるものが好ましい。このpHが5以上では
活性珪酸の水溶液の安定性が著しく低下し、また、(c
)工程を経て得られたゾルのコロイダルシリカ粒子は、
上記細長い形状を有しない。このpHは2以下でもよい
が、酸の添加を要すのみならず、不要な陰イオン量が増
大し好ましくない。
6重量%を超えると、この液は安定性が著しく低下し、
一定品質のゾルの生産を困難ならしめる。従って、この
SiO□濃度は1〜6重量%が好ましいが、かかる濃度
の活性珪酸のコロイド水溶液のうちでも、更にそのpH
が2〜5であるものが好ましい。このpHが5以上では
活性珪酸の水溶液の安定性が著しく低下し、また、(c
)工程を経て得られたゾルのコロイダルシリカ粒子は、
上記細長い形状を有しない。このpHは2以下でもよい
が、酸の添加を要すのみならず、不要な陰イオン量が増
大し好ましくない。
fal工程において、この活性珪酸のコロイド水溶液に
カルシウム塩、マグネシウム塩又はそれらの混合物をそ
の水溶液として加えると、均一な混合を容易に達成でき
る。この均一な混合は、加えられたカルシウムイオン、
マグネシウムイオン等の珪酸による均一な捕捉を容易な
らしめるのに重要である。
カルシウム塩、マグネシウム塩又はそれらの混合物をそ
の水溶液として加えると、均一な混合を容易に達成でき
る。この均一な混合は、加えられたカルシウムイオン、
マグネシウムイオン等の珪酸による均一な捕捉を容易な
らしめるのに重要である。
(al工程に用いられる活性珪酸のコロイド水溶液とし
て、水溶性珪酸塩の水溶液を陽イオン交換処理すること
により得られるものは、溶解又は遊離の陽イオンを液中
に殆ど含有しない。
て、水溶性珪酸塩の水溶液を陽イオン交換処理すること
により得られるものは、溶解又は遊離の陽イオンを液中
に殆ど含有しない。
これに用いられる水滴性珪酸塩としては、安価にかつ容
易に人手できろ水ガラスが好ましい。
易に人手できろ水ガラスが好ましい。
ハロゲン化珪素、アルコキシシラン等を加水分解するこ
とにより得られたシリカをアルカリに溶解することによ
って得られる水溶性珪酸塩は、不純物、特に多価金属の
含有率が低いが高価である。これに対し、−Sに工業製
品の水ガラスには、通常、シリカ分に対し酸化物換算で
数千ppm以下の多価金属が含まれている。この水ガラ
ス水溶液を陽イオン交換処理しても、上記多価金属分の
全量を除去することができない。従って、得られた活性
珪酸のコロイド水溶液には、通常、約5000ppm以
下の量の多価金属酸化物が残留するが、液中活性珪酸又
はその重合体微粒子中にシリカとの化学結合又は吸着に
よって捕捉されているために、液中には溶解又は遊離の
陽イオンとしては存在しない。この残留多価金属成分は
、 (a)工程においてカルシウム塩、マグネシウム塩
等に併用される多価金属成分の一部として算入され、カ
ルシウム塩、マグネシウム塩等と一緒に添加される場合
の多価金属塩と同様に作用する。
とにより得られたシリカをアルカリに溶解することによ
って得られる水溶性珪酸塩は、不純物、特に多価金属の
含有率が低いが高価である。これに対し、−Sに工業製
品の水ガラスには、通常、シリカ分に対し酸化物換算で
数千ppm以下の多価金属が含まれている。この水ガラ
ス水溶液を陽イオン交換処理しても、上記多価金属分の
全量を除去することができない。従って、得られた活性
珪酸のコロイド水溶液には、通常、約5000ppm以
下の量の多価金属酸化物が残留するが、液中活性珪酸又
はその重合体微粒子中にシリカとの化学結合又は吸着に
よって捕捉されているために、液中には溶解又は遊離の
陽イオンとしては存在しない。この残留多価金属成分は
、 (a)工程においてカルシウム塩、マグネシウム塩
等に併用される多価金属成分の一部として算入され、カ
ルシウム塩、マグネシウム塩等と一緒に添加される場合
の多価金属塩と同様に作用する。
(a)工程に加えられるカルシウム塩、マグネシウム塩
又はこれらの混合物の量が、活性珪酸のSiO□に対し
CaOlMgO又はその両者として重量比1500pp
m以下では、最終の生成コロイダルシリカ粒子の形状は
球状又はまゆ状となり、反対に8500ppm以上にも
多いと、 (C)工程を経ても本発明による特殊形状の
コロイダルシリカ粒子を生成させることができない。従
ってこの1500−8500pp重量のCaOlMgO
又はこの両者によって前記の如き方向性を有する細長く
伸びた粒子が生成すると考えられる。そして、このカル
シウム塩、マグネシウム塩等に併用される前記多価金属
成分は、その種類によってコロイダルシリカ粒子の生成
を促進したり、或いは抑制する作用をするが、その量が
CaOlMgO又はその両者に対し酸化物換算約80重
量%以上にも多いと、活性珪酸のコロイド水溶液にゲル
化を起させる。
又はこれらの混合物の量が、活性珪酸のSiO□に対し
CaOlMgO又はその両者として重量比1500pp
m以下では、最終の生成コロイダルシリカ粒子の形状は
球状又はまゆ状となり、反対に8500ppm以上にも
多いと、 (C)工程を経ても本発明による特殊形状の
コロイダルシリカ粒子を生成させることができない。従
ってこの1500−8500pp重量のCaOlMgO
又はこの両者によって前記の如き方向性を有する細長く
伸びた粒子が生成すると考えられる。そして、このカル
シウム塩、マグネシウム塩等に併用される前記多価金属
成分は、その種類によってコロイダルシリカ粒子の生成
を促進したり、或いは抑制する作用をするが、その量が
CaOlMgO又はその両者に対し酸化物換算約80重
量%以上にも多いと、活性珪酸のコロイド水溶液にゲル
化を起させる。
上2 (a)工程におけるカルシウム塩、マグネシウ
ム塩等の添加混合後は、その生成液に、該液中の活性珪
酸の粒子に変化を生じさせないようになるべく早く、
Fb)工程によるアルカリ金属水酸化物、有機塩基又は
それらの珪酸塩が加えられる。これらアルカリ性物質の
添加も、均一な混合を容易ならしめるように、好ましく
は撹拌下に、直接又は5〜30重量%重量%水溶液とし
て添加される。
ム塩等の添加混合後は、その生成液に、該液中の活性珪
酸の粒子に変化を生じさせないようになるべく早く、
Fb)工程によるアルカリ金属水酸化物、有機塩基又は
それらの珪酸塩が加えられる。これらアルカリ性物質の
添加も、均一な混合を容易ならしめるように、好ましく
は撹拌下に、直接又は5〜30重量%重量%水溶液とし
て添加される。
(bl工程におけるこれらアルカリ性物質の添加量が前
記SiO□/M20モル比として20以下では、 (C
)工程による加熱によっては粒子の成長が起らず、反対
にこのモル比が200以上では、(cl工程によって加
熱しても粒子成長が起らずにゲル状物が生成する。従っ
て、SiO□/M20モル比20〜200、好ましくは
60〜100となるように上記アルカリ性物質を加える
と共に、 fcl工程における加熱によって本発明の目
的とする大きさと形状を有するコロイダルシリカ粒子を
生成させることができる。そして、 (bl工程による
上記アルカリ性物質の添加は、撹拌が容易に行えるよう
になるべく低温、好ましくは室温で行うのがよい。
記SiO□/M20モル比として20以下では、 (C
)工程による加熱によっては粒子の成長が起らず、反対
にこのモル比が200以上では、(cl工程によって加
熱しても粒子成長が起らずにゲル状物が生成する。従っ
て、SiO□/M20モル比20〜200、好ましくは
60〜100となるように上記アルカリ性物質を加える
と共に、 fcl工程における加熱によって本発明の目
的とする大きさと形状を有するコロイダルシリカ粒子を
生成させることができる。そして、 (bl工程による
上記アルカリ性物質の添加は、撹拌が容易に行えるよう
になるべく低温、好ましくは室温で行うのがよい。
(C1工程における加熱温度が、60℃以下では本発明
の目的とするコロイダルシリカ粒子に成長させることが
できず、60℃以上での加熱が必要であるが、 (al
工程に用いられる活性珪酸のコロイド水溶液のp)lが
2〜4のときは、加熱温度が150℃を越えるとゲルが
生じ易い。また、fa)工程に用いられる活性珪酸のコ
ロイド水溶液のp■が4を越え5以下のときは、この
fc)工程での加熱温度が150℃を越えてもよいが、
250℃以上にも高いとやはりゲルが生じ易い。
の目的とするコロイダルシリカ粒子に成長させることが
できず、60℃以上での加熱が必要であるが、 (al
工程に用いられる活性珪酸のコロイド水溶液のp)lが
2〜4のときは、加熱温度が150℃を越えるとゲルが
生じ易い。また、fa)工程に用いられる活性珪酸のコ
ロイド水溶液のp■が4を越え5以下のときは、この
fc)工程での加熱温度が150℃を越えてもよいが、
250℃以上にも高いとやはりゲルが生じ易い。
加熱時間は、一定粒子径を意図すれば、60℃以上の高
い温度における程短時間でよく、反対に加熱温度が低け
れば長時間を要す。従って、(cl工程における加熱は
、60〜250℃で0.5〜40時間程度行うのが好ま
しい。 (cl工程終了後は、得られたゾルは冷却され
る。そしてこのゾルは所望に応じ水で希釈することもで
きる。
い温度における程短時間でよく、反対に加熱温度が低け
れば長時間を要す。従って、(cl工程における加熱は
、60〜250℃で0.5〜40時間程度行うのが好ま
しい。 (cl工程終了後は、得られたゾルは冷却され
る。そしてこのゾルは所望に応じ水で希釈することもで
きる。
工業製品としてのゾルには安定性は欠かせ得ない性質で
あり、そして通常、SiO□として10〜30重量%の
濃度が望まれる。この濃度において、アルカリ性の安定
なゾルを得るにはゾル中に存在していてもよい陰イオン
の濃度は、通常11000pp以下である。カルシウム
、マグネシウム、その信条価金属のイオンはコロイダル
シリカ粒子中に捕捉されているから、ゾルの水媒体中に
はゾルの安定化を妨げる程の量て溶存していることはな
い。上記SiO□濃度1濃度1註〜30/M20 (
Mは、前記に同じ。)モル比として20〜200程度の
アルカリ陽イオンをゾル中に含有させる必要がある。こ
のアルカリ陽イオンによって、ゾルは通常pH8.5〜
11を示す。 (c)工程によるゾルから陰イオンを除
去するのに微細多孔性膜を用いると、陽イオンの除去も
一緒に起るので、ゾル中に残存するアルカリ陽イオンの
不足が起る場合がある。このようなときは、ゾルの安定
化に必要となる量の前記アルカリ金属水酸化物、有機塩
基等を更にゾル中に補給しながら濃縮することによって
或は濃縮後に補給することによって、安定なゾルが得ら
れる。限外濾過膜等微細多孔性膜を用いる方法では、ゾ
ル中のコロイダルシリカ粒子は膜を通過しないから、陰
イオンと共に水が流出することによってゾルは同時に濃
縮される。この濃縮されたゾルは、任意に水で希釈する
こともできる。
あり、そして通常、SiO□として10〜30重量%の
濃度が望まれる。この濃度において、アルカリ性の安定
なゾルを得るにはゾル中に存在していてもよい陰イオン
の濃度は、通常11000pp以下である。カルシウム
、マグネシウム、その信条価金属のイオンはコロイダル
シリカ粒子中に捕捉されているから、ゾルの水媒体中に
はゾルの安定化を妨げる程の量て溶存していることはな
い。上記SiO□濃度1濃度1註〜30/M20 (
Mは、前記に同じ。)モル比として20〜200程度の
アルカリ陽イオンをゾル中に含有させる必要がある。こ
のアルカリ陽イオンによって、ゾルは通常pH8.5〜
11を示す。 (c)工程によるゾルから陰イオンを除
去するのに微細多孔性膜を用いると、陽イオンの除去も
一緒に起るので、ゾル中に残存するアルカリ陽イオンの
不足が起る場合がある。このようなときは、ゾルの安定
化に必要となる量の前記アルカリ金属水酸化物、有機塩
基等を更にゾル中に補給しながら濃縮することによって
或は濃縮後に補給することによって、安定なゾルが得ら
れる。限外濾過膜等微細多孔性膜を用いる方法では、ゾ
ル中のコロイダルシリカ粒子は膜を通過しないから、陰
イオンと共に水が流出することによってゾルは同時に濃
縮される。この濃縮されたゾルは、任意に水で希釈する
こともできる。
本発明による第2の製造方法においては、(a′)工程
に用いられる酸性ゾルのSiO2濃度が05重量%以下
では、(C′)工程後に濃縮する際、多量の水の除去を
要し効率的でない。また、このSiO2濃度が25重量
%以上にも高いと、加えらえるCa塩、Mg塩等の量が
多くなり、これら塩が加えられたゾルはゲル化を起し易
く好ましくない。この(a′)工程に用いられる酸性ゾ
ルのpHIJS1以下及び5以上のときは、いずれもゾ
ルの安定性が乏しくなり、(C′)工程により得られた
ゾルのコロイダルシリカ粒子は前記細長い形状を有しな
い。この(a′)工程に用いられる酸性ゾルの粒子径が
30ミリミクロン以上でも、(C′)工程で得られたゾ
ルのコロイダルシリカ粒子はやはり前記細長い形状を有
しない。
に用いられる酸性ゾルのSiO2濃度が05重量%以下
では、(C′)工程後に濃縮する際、多量の水の除去を
要し効率的でない。また、このSiO2濃度が25重量
%以上にも高いと、加えらえるCa塩、Mg塩等の量が
多くなり、これら塩が加えられたゾルはゲル化を起し易
く好ましくない。この(a′)工程に用いられる酸性ゾ
ルのpHIJS1以下及び5以上のときは、いずれもゾ
ルの安定性が乏しくなり、(C′)工程により得られた
ゾルのコロイダルシリカ粒子は前記細長い形状を有しな
い。この(a′)工程に用いられる酸性ゾルの粒子径が
30ミリミクロン以上でも、(C′)工程で得られたゾ
ルのコロイダルシリカ粒子はやはり前記細長い形状を有
しない。
3ミリミクロン未満の粒径のシリカゾルも用い得るが、
前記 (al、 [b)及び (c)工程からなる製造
法による方がはるかに効率的であるから、通常(a′)
工程には3ミリミクロン未満の粒径の酸性シリカゾルは
用いられない。(a′)工程におけるカルシウム塩、マ
グネシウム塩等の添加量は、 (a)工程におけるそれ
らの添加量よりも増大させ得るが、SiO2分に対し1
.00重量%以上になるとやはり(C′)工程によって
は前記細長い形状のコロイダルシリカが得られない。
前記 (al、 [b)及び (c)工程からなる製造
法による方がはるかに効率的であるから、通常(a′)
工程には3ミリミクロン未満の粒径の酸性シリカゾルは
用いられない。(a′)工程におけるカルシウム塩、マ
グネシウム塩等の添加量は、 (a)工程におけるそれ
らの添加量よりも増大させ得るが、SiO2分に対し1
.00重量%以上になるとやはり(C′)工程によって
は前記細長い形状のコロイダルシリカが得られない。
(b′)工程におけるアルカリ性物質の添加量は、 (
b)工程におけるそれらの添加量よりも減少させること
がてきるがSiO□/M20iO□で300以上になる
とやはり(C′)工程においてゲル状物が生成し易い。
b)工程におけるそれらの添加量よりも減少させること
がてきるがSiO□/M20iO□で300以上になる
とやはり(C′)工程においてゲル状物が生成し易い。
(C′)工程における加熱温度は (c)工程における
加熱温度よりもかなり高温まで許容されるが、 300
℃以上ではゲル化が起り易く、また、製造工程の効率を
さ水高めることもない。加熱時間は、やはり、一定粒径
を意図すれば加熱温度が高い程短時間でよく、60〜3
00℃では0.5〜40時間の加熱によって前記細長い
形状のコロイダルシリカ粒子を効率よく生成させること
ができる。
加熱温度よりもかなり高温まで許容されるが、 300
℃以上ではゲル化が起り易く、また、製造工程の効率を
さ水高めることもない。加熱時間は、やはり、一定粒径
を意図すれば加熱温度が高い程短時間でよく、60〜3
00℃では0.5〜40時間の加熱によって前記細長い
形状のコロイダルシリカ粒子を効率よく生成させること
ができる。
この(a′)、 (b′)及び(C′)工程からなる第
2の製造方法によるシリカゾルも、高いSiO2濃度に
おいてはこのゾル中に存在する陰イオン量が11000
pp以上にも高いとゾルの安定性を低下させる。また、
アルカリ性の水性ゾルとしてはSiO□/M20iO□
として20〜300となる量のアルカリ性陽イオンの存
在が安定化のために必要であり、特にシリカゾルを濃縮
する際には、これらゾル中の陰イオン量と陽イオン量と
を上記安定化に必要な範囲に維持することが重要である
。この安定性が保持される限り、ゾルの濃縮は、 (a
l、 (b)及び FC)工程の後に行われる濃縮方法
と同じ方法で行うことができる。
2の製造方法によるシリカゾルも、高いSiO2濃度に
おいてはこのゾル中に存在する陰イオン量が11000
pp以上にも高いとゾルの安定性を低下させる。また、
アルカリ性の水性ゾルとしてはSiO□/M20iO□
として20〜300となる量のアルカリ性陽イオンの存
在が安定化のために必要であり、特にシリカゾルを濃縮
する際には、これらゾル中の陰イオン量と陽イオン量と
を上記安定化に必要な範囲に維持することが重要である
。この安定性が保持される限り、ゾルの濃縮は、 (a
l、 (b)及び FC)工程の後に行われる濃縮方法
と同じ方法で行うことができる。
(実施例)
実施例1
市販のJIS 3号ナトリウム水ガラス(5in2/N
a2Oモル比3.22、S 〕、O02含有率285重
量%)に水を加えて、SiO2濃度36重量%の珪酸ナ
トリウム水溶液を得た。別途用意された商品名アンバー
ライト120Bの陽イオン交換樹脂充填のカラムに、上
記珪酸ナトリウム水溶液を通すことにより、SiO□濃
度356重量%、pH2,81、電導度731μS/a
mの活性珪酸のコロイド水溶液を得た。この液には、i
203とFezO3が合計75ppm残留していた。
a2Oモル比3.22、S 〕、O02含有率285重
量%)に水を加えて、SiO2濃度36重量%の珪酸ナ
トリウム水溶液を得た。別途用意された商品名アンバー
ライト120Bの陽イオン交換樹脂充填のカラムに、上
記珪酸ナトリウム水溶液を通すことにより、SiO□濃
度356重量%、pH2,81、電導度731μS/a
mの活性珪酸のコロイド水溶液を得た。この液には、i
203とFezO3が合計75ppm残留していた。
上記活性珪酸のコロイド水溶液2000 gをガラス製
容器に投入し、次いで10重量%の塩化カルシウム水溶
液8.0gを撹拌下に室温で添加し、30分の後更に1
0重量%の水酸化ナトリウム水溶液12.0 gを撹拌
下に室温で添加した。得られた混合液は、pH7,6を
示し、5io2/[a2oモル比80である。
容器に投入し、次いで10重量%の塩化カルシウム水溶
液8.0gを撹拌下に室温で添加し、30分の後更に1
0重量%の水酸化ナトリウム水溶液12.0 gを撹拌
下に室温で添加した。得られた混合液は、pH7,6を
示し、5io2/[a2oモル比80である。
次いて、上記混合液をステンレス製オートクレーブに仕
込み、 130℃で撹拌下6時間加熱した後冷却して内
容物を取り出した。得られた液はシリカゾルであり、5
iO23,52重量%を含有し、SiO□/ Na2O
滴定法モル比101及びpH9,64であり、CaOは
SiO2に対し重量比5400ppm含まれ、遊離のカ
ルシウムイオンは検出されなかった。
込み、 130℃で撹拌下6時間加熱した後冷却して内
容物を取り出した。得られた液はシリカゾルであり、5
iO23,52重量%を含有し、SiO□/ Na2O
滴定法モル比101及びpH9,64であり、CaOは
SiO2に対し重量比5400ppm含まれ、遊離のカ
ルシウムイオンは検出されなかった。
次いて、上記シリカゲルを限外濾過装置により濃縮した
ところ、SiO2濃度21重量%の濃縮シリカゾルが得
られた。この濃縮ゾルは、分析の結果渚解又は遊離のカ
ルシウムイオンを含まず、比重 1.136、pH9,
24、粘度 125cp(20℃) 、 5iO9/
Na2O滴定法モル比126 、 CaO含有率0.1
13重量%、塩素イオン含有率0.019重量%、硫酸
イオン含有率0.0020重量%、電導度2080μS
/cmてあった。このゾルのコロイダルシリカ粒子は、
電子顕微鏡写真がら観察すると、細長い粒子であり、太
さは12ミリミクロンであった。そしてこのゾルは、動
的光散乱法によるコロイダルシリカ粒子径が846ミリ
ミクロンであった。また、BET法から算出するとこの
コロイダルシリカ粒子径は12ミリミクロンであった。
ところ、SiO2濃度21重量%の濃縮シリカゾルが得
られた。この濃縮ゾルは、分析の結果渚解又は遊離のカ
ルシウムイオンを含まず、比重 1.136、pH9,
24、粘度 125cp(20℃) 、 5iO9/
Na2O滴定法モル比126 、 CaO含有率0.1
13重量%、塩素イオン含有率0.019重量%、硫酸
イオン含有率0.0020重量%、電導度2080μS
/cmてあった。このゾルのコロイダルシリカ粒子は、
電子顕微鏡写真がら観察すると、細長い粒子であり、太
さは12ミリミクロンであった。そしてこのゾルは、動
的光散乱法によるコロイダルシリカ粒子径が846ミリ
ミクロンであった。また、BET法から算出するとこの
コロイダルシリカ粒子径は12ミリミクロンであった。
添付の図面第1図にこのゾルのコロイダルシリカ粒子の
20万倍の電子顕微鏡による撮影写真を示す。
20万倍の電子顕微鏡による撮影写真を示す。
この濃縮シリカゾルを密閉下60℃で保存したところ、
1ケ月後にも変質が認められなかった。
1ケ月後にも変質が認められなかった。
このゾルをガラス板上に塗布し、乾燥したところ、従来
のゾルを用いた場合よりも良好な被膜が形成された。こ
の被膜は水に接触しても、水に溶解しなかった。
のゾルを用いた場合よりも良好な被膜が形成された。こ
の被膜は水に接触しても、水に溶解しなかった。
実施例2
実施例1の活性珪酸のコロイド水溶液(Si02356
%、pH2,81) 2000gをガラス製容器に採り
、これに10重量%塩化カルシウム水溶液80gを撹拌
しながら添加し、次いで10重量%水酸化ナトリウム水
溶液12.0gを撹拌しながら添加することにより、S
iOz/Na2Oモル比80及びpH7,62の混合液
を得た。
%、pH2,81) 2000gをガラス製容器に採り
、これに10重量%塩化カルシウム水溶液80gを撹拌
しながら添加し、次いで10重量%水酸化ナトリウム水
溶液12.0gを撹拌しながら添加することにより、S
iOz/Na2Oモル比80及びpH7,62の混合液
を得た。
この混合液を2.5℃のステンレス製オートクレープ容
器に仕込み、これを130℃で24時間加熱した。得ら
れたシリカゾルは、SiO23.52重量%を含み、S
iO□/Na2O滴定法モル比101であり、CaOは
SiO2に対して重量比5400ppm含まれていた。
器に仕込み、これを130℃で24時間加熱した。得ら
れたシリカゾルは、SiO23.52重量%を含み、S
iO□/Na2O滴定法モル比101であり、CaOは
SiO2に対して重量比5400ppm含まれていた。
このゾルのpHは9.81であった。
このゾルを限外濾過装置によりシリカ濃度15.2重量
%まで濃縮した。得られたゾルは比重1.092 、
pH9,36、粘度225cp、 SiO2/ NaJ
滴定法モル比185 、 CaO820ppm 、
([223ppm、SO424ppm 、電導度162
0u 37cm、 B E T法粒子径145mμ、動
的光散乱法粒子径167 mμであった。このゾルは6
0℃1ケ月安定であった。
%まで濃縮した。得られたゾルは比重1.092 、
pH9,36、粘度225cp、 SiO2/ NaJ
滴定法モル比185 、 CaO820ppm 、
([223ppm、SO424ppm 、電導度162
0u 37cm、 B E T法粒子径145mμ、動
的光散乱法粒子径167 mμであった。このゾルは6
0℃1ケ月安定であった。
実施例3
実施例1の活性珪酸のコロイド水溶液(SiO73,5
6%、pH2,81) 2000gをガラス製容器に採
り、これに10重量%塩化カルシウム水溶液8.0gを
撹拌しながら添加し、次いで10重量%水酸化ナトリウ
ム水溶液13.5 gを撹拌しながら添加することによ
り、SiO□/Na2O法モル比70及びIIH7,8
4の混合液を得た。
6%、pH2,81) 2000gをガラス製容器に採
り、これに10重量%塩化カルシウム水溶液8.0gを
撹拌しながら添加し、次いで10重量%水酸化ナトリウ
ム水溶液13.5 gを撹拌しながら添加することによ
り、SiO□/Na2O法モル比70及びIIH7,8
4の混合液を得た。
この混合液を2.5氾のステンレス製オートクレーブ容
器に仕込み、これを100℃で6時間加熱した。得られ
たシリカゾルは、5iO23,52重量%、SiO2/
Na2O滴定法モル比880であり、CaOは5iO
7に対して5400ppm含まれていた。ゾルのpHは
955であった。
器に仕込み、これを100℃で6時間加熱した。得られ
たシリカゾルは、5iO23,52重量%、SiO2/
Na2O滴定法モル比880であり、CaOは5iO
7に対して5400ppm含まれていた。ゾルのpHは
955であった。
このゾルを限外濾過装置によりシリカ濃度206重量%
まで濃縮した。得られたゾルは比重1.133 、 p
H9,21,粘度45cp、 SiO□/ Na2O滴
定法モル比10[1、CaO111Dppm 、 C
j2 265ppm、SSO435pp 、電導度29
70μS/cm、 B E T法粒子径88川μ、動的
光散乱法粒子径51.8m+tであった。このゾルは6
0℃1ケ月安定であった。
まで濃縮した。得られたゾルは比重1.133 、 p
H9,21,粘度45cp、 SiO□/ Na2O滴
定法モル比10[1、CaO111Dppm 、 C
j2 265ppm、SSO435pp 、電導度29
70μS/cm、 B E T法粒子径88川μ、動的
光散乱法粒子径51.8m+tであった。このゾルは6
0℃1ケ月安定であった。
実施例4
実施例1の市販のナトリウム水ガラスの水溶液を陽イオ
ン交換処理することにより1.SiO23.66重量%
及びpH2,82の活性珪酸のコロイド水溶液を得た。
ン交換処理することにより1.SiO23.66重量%
及びpH2,82の活性珪酸のコロイド水溶液を得た。
この活性珪酸のコロイド水溶液2000 gをガラス製
容器に採り、これに塩酸酸性の952重量%塩化亜鉛水
溶液1.08gを撹拌しながら添加し、次いて10重量
%硝酸カルシウム水溶液12.0gを撹拌しながら添加
し、次に10重量%水酸化ナトリウム水溶液137gを
撹拌しながら添加することにより、SiO2/Na2O
法モル比70及びp)f7.82の混合液を得た。
容器に採り、これに塩酸酸性の952重量%塩化亜鉛水
溶液1.08gを撹拌しながら添加し、次いて10重量
%硝酸カルシウム水溶液12.0gを撹拌しながら添加
し、次に10重量%水酸化ナトリウム水溶液137gを
撹拌しながら添加することにより、SiO2/Na2O
法モル比70及びp)f7.82の混合液を得た。
この混合液を2.5eのステンレス製オートクレーブ容
器に仕込み130℃て6時間加熱した。
器に仕込み130℃て6時間加熱した。
得られたシリカゾルは、SiO23.61重量%を含み
、SiO2/ Na2O滴定法モル比88.0であり、
SiO□に対して重量比CaO5600ppmとZn0
890ppmを含有していた。ゾルのpHは972であ
った。
、SiO2/ Na2O滴定法モル比88.0であり、
SiO□に対して重量比CaO5600ppmとZn0
890ppmを含有していた。ゾルのpHは972であ
った。
このゾルを限外濾過装置によりシリカ濃度218重量%
まで濃縮した。得られたゾルは比重1142、pH9,
37、粘度79cp、 SiO2/ Na2O滴定法モ
ル比123 、 CaO1220ppm 、 ZnO1
95ppm、 CCl230pp 、 NO3345
ppm、 SO424ppmを含有し、電導度2.40
0u 37cm、 B E T法粒子径μ、Omμ、動
的光散乱法粒子径626mμであった。このゾルは、6
0℃て1ケ月安定であった。
まで濃縮した。得られたゾルは比重1142、pH9,
37、粘度79cp、 SiO2/ Na2O滴定法モ
ル比123 、 CaO1220ppm 、 ZnO1
95ppm、 CCl230pp 、 NO3345
ppm、 SO424ppmを含有し、電導度2.40
0u 37cm、 B E T法粒子径μ、Omμ、動
的光散乱法粒子径626mμであった。このゾルは、6
0℃て1ケ月安定であった。
実施例5
実施例1の市販のナトリウム水ガラスの水溶液を陽イオ
ン交換処理することにより、Si0□374重量%及び
pH2,85の活性珪酸のコロイド水溶液を得た。この
活性珪酸のコロイド水溶液2000 gをガラス製容器
に採り、これに10重量%塩化マグネシウム水溶液76
gを撹拌しながら添加し、次いで10重量%水酸化カリ
ウム水溶液17、5 gを撹拌しながら添加することに
より、SiO□/に20モル比80及びpH7,39の
混合液を得た。
ン交換処理することにより、Si0□374重量%及び
pH2,85の活性珪酸のコロイド水溶液を得た。この
活性珪酸のコロイド水溶液2000 gをガラス製容器
に採り、これに10重量%塩化マグネシウム水溶液76
gを撹拌しながら添加し、次いで10重量%水酸化カリ
ウム水溶液17、5 gを撹拌しながら添加することに
より、SiO□/に20モル比80及びpH7,39の
混合液を得た。
この混合液を2512のステンレス製オートクレーブ容
器に仕込み120℃で6時間加熱した。
器に仕込み120℃で6時間加熱した。
得られたシリカゾルは、5LO23,69重量%、Si
O□/に20滴定法モル比101であり、MgOはSi
O□に対して重量比4390ppm含まれていた。ゾル
のpnは847てあった。
O□/に20滴定法モル比101であり、MgOはSi
O□に対して重量比4390ppm含まれていた。ゾル
のpnは847てあった。
このゾル1564gに10重重量水酸化カリウム水溶液
4,5gを撹拌しながら添加し、pHを9.53とした
。
4,5gを撹拌しながら添加し、pHを9.53とした
。
このゾルを限外濾過装置により、シリカ濃度16、2重
量%まて濃縮した。得られたゾルは比重1.100、p
H9,20、粘度69cp、 SiO2/ K2020
滴定法比143であり、MgO710ppm、 fl
301ppm 、 SO459ppmを含有し、電
導度3070μS/em、BET法粒子径11.1 m
μ、動的光散乱法粒子径は855mμであった。このゾ
ルは、60℃1ケ月安定であった。
量%まて濃縮した。得られたゾルは比重1.100、p
H9,20、粘度69cp、 SiO2/ K2020
滴定法比143であり、MgO710ppm、 fl
301ppm 、 SO459ppmを含有し、電
導度3070μS/em、BET法粒子径11.1 m
μ、動的光散乱法粒子径は855mμであった。このゾ
ルは、60℃1ケ月安定であった。
実施例6
実施例5の活性珪酸のコロイド水溶液(SiO23,7
4重量%、pH2,85) 2000 gをガラス製容
器に採り、これに10重量%塩化マグネシウム水溶液4
.8gを撹拌しながら添加し、次いでモノエタノールア
ミン244gを撹拌しながら添加し、SiO□/モノエ
クノールアミン モル比31及びpH762の混合液を
得た。
4重量%、pH2,85) 2000 gをガラス製容
器に採り、これに10重量%塩化マグネシウム水溶液4
.8gを撹拌しながら添加し、次いでモノエタノールア
ミン244gを撹拌しながら添加し、SiO□/モノエ
クノールアミン モル比31及びpH762の混合液を
得た。
この混合液を2,5℃のステンレス製オートクレーブ容
器に仕込み130℃で6時間加熱した。
器に仕込み130℃で6時間加熱した。
得られたシリカゾルは、SiO□3.73重量%、モノ
エタノールアミン0122重量%、SiO□/モノエタ
ノールアミン滴定法モル比365であり、MgOはSi
O2に対して重量比2820ppmであり、pHは90
0てあった。
エタノールアミン0122重量%、SiO□/モノエタ
ノールアミン滴定法モル比365であり、MgOはSi
O2に対して重量比2820ppmであり、pHは90
0てあった。
このゾル1917gにモノエタノールアミン1.0gを
撹拌しながら添加しpHを9,50とした。
撹拌しながら添加しpHを9,50とした。
このゾルを限外濾過装置によりシリカ濃度14.8重量
%まで濃縮した。得られたゾルは比重1.091 、
pH9,19、粘度33cp、モノエタノールアミン含
有率0.362重量%、SiO□/モノエタノールアミ
ン滴定モル比47であり、MgO含有率417ppm
、電導度1670μS/cm、 B E T法粒子径1
0.6mμ、動的光散乱法粒子径は72.5 muであ
った。室温で6ケ月以上安定であった。
%まで濃縮した。得られたゾルは比重1.091 、
pH9,19、粘度33cp、モノエタノールアミン含
有率0.362重量%、SiO□/モノエタノールアミ
ン滴定モル比47であり、MgO含有率417ppm
、電導度1670μS/cm、 B E T法粒子径1
0.6mμ、動的光散乱法粒子径は72.5 muであ
った。室温で6ケ月以上安定であった。
実施例7
市販のJIS 3号ナトリウム水ガラス(5iO229
2重量%、Na209.47重量%、SiO2/ Na
2Oモル比318)をシリカ濃度290重量%に水で希
釈し、陽イオン交換樹脂を充填したカラムに通してSi
O2濃度290重量%及びpH2,85の活性珪酸のコ
ロイド水溶液を得た。残留のAf2203とFe20a
の合計は26ppmであった。上記活性珪酸のコロイド
水溶液2000 gをガラス製容器に採り、これに10
重量%硝酸カルシウム水溶液90gを撹拌しながら添加
し、次いで10重量%水酸化ナトリウム水溶液966g
を撹拌しながら添加し、SiO□/Na2Oモル比8o
とした。pHは7.56であった。この混合液を2.5
℃のステンレス製オートクレーブ容器に仕込み130’
Cで6時間加熱した。得られたシリカゾルは、SiO2
2.87重量%、SiO□/ Na2O滴定法モル比1
13であり、CaOはSiO□に対して重量比5300
ppm含まれ、ゾルのplは967であった。
2重量%、Na209.47重量%、SiO2/ Na
2Oモル比318)をシリカ濃度290重量%に水で希
釈し、陽イオン交換樹脂を充填したカラムに通してSi
O2濃度290重量%及びpH2,85の活性珪酸のコ
ロイド水溶液を得た。残留のAf2203とFe20a
の合計は26ppmであった。上記活性珪酸のコロイド
水溶液2000 gをガラス製容器に採り、これに10
重量%硝酸カルシウム水溶液90gを撹拌しながら添加
し、次いで10重量%水酸化ナトリウム水溶液966g
を撹拌しながら添加し、SiO□/Na2Oモル比8o
とした。pHは7.56であった。この混合液を2.5
℃のステンレス製オートクレーブ容器に仕込み130’
Cで6時間加熱した。得られたシリカゾルは、SiO2
2.87重量%、SiO□/ Na2O滴定法モル比1
13であり、CaOはSiO□に対して重量比5300
ppm含まれ、ゾルのplは967であった。
このゾルを限外濾過装置によりSiO2濃度16.0重
量%まで濃縮した6得られたゾルは比重1.098 、
pH9,32、粘度70cp、 5iO316,0重
量%、SiO2/ Na2O滴定法モル比108 、
Ca0850ppm 、 Cj230ppm、 NN
O3313pp、 SO422ppm、電導度1745
μS/cm、 B E T法粒子径10.9 mμ、動
的光散乱法粒子径は69.3 muであった。このゾル
は60℃1ケ月安定であった。
量%まで濃縮した6得られたゾルは比重1.098 、
pH9,32、粘度70cp、 5iO316,0重
量%、SiO2/ Na2O滴定法モル比108 、
Ca0850ppm 、 Cj230ppm、 NN
O3313pp、 SO422ppm、電導度1745
μS/cm、 B E T法粒子径10.9 mμ、動
的光散乱法粒子径は69.3 muであった。このゾル
は60℃1ケ月安定であった。
実施例8
実施例1で得られたシリカ濃度21.0重量%のシリカ
ゾルを純水でシリカ濃度16重量%に希釈し、陽イオン
交換樹脂を充填したカラムに通してシリカ濃度15.7
重量%の珪酸シリカゾルを得た。
ゾルを純水でシリカ濃度16重量%に希釈し、陽イオン
交換樹脂を充填したカラムに通してシリカ濃度15.7
重量%の珪酸シリカゾルを得た。
得られたゾルは比重1092、pH2,20、粘度13
cp、 Sin□15.7重量%、Na2O190pp
m 、 CaO185ppm 、 C,i2144p
pm 、 SO416ppm 、電導度3.030u
37cm、 B E T法粒子径12.0 mg、動的
光散乱法粒子径は846mμであった。このゾルは室温
3ケ月以上安定であった。
cp、 Sin□15.7重量%、Na2O190pp
m 、 CaO185ppm 、 C,i2144p
pm 、 SO416ppm 、電導度3.030u
37cm、 B E T法粒子径12.0 mg、動的
光散乱法粒子径は846mμであった。このゾルは室温
3ケ月以上安定であった。
実施例9
実施例8で得られた酸性シリカゾル800gを回転式減
圧濃縮器に採り、この器内を真空度650−720 T
orr、液温20〜40℃に保ちながら、これに無水メ
タノール12.020 gを14時間かけて加えると共
に水を共沸留去することによりゾル中の水分をメタノー
ルで置換した。
圧濃縮器に採り、この器内を真空度650−720 T
orr、液温20〜40℃に保ちながら、これに無水メ
タノール12.020 gを14時間かけて加えると共
に水を共沸留去することによりゾル中の水分をメタノー
ルで置換した。
得られたメタノールシリカゾルは、比重0876、粘度
14.5cpであり、SiO2含有率14.3重量%、
H20含有率1.0重量%であった。このゾルは室温3
ケ月以上安定であった。
14.5cpであり、SiO2含有率14.3重量%、
H20含有率1.0重量%であった。このゾルは室温3
ケ月以上安定であった。
比較例1
実施例1の活性珪酸のコロイド水溶液(SiO□3.5
6重量%、pH2,81) 2000gをガラス製容器
に採り、これに10重量%水酸化ナトリウム水溶液12
.0gを撹拌しながら添加し、SiO2/ Na2Oモ
ル比80とした。pHは7,8であった。
6重量%、pH2,81) 2000gをガラス製容器
に採り、これに10重量%水酸化ナトリウム水溶液12
.0gを撹拌しながら添加し、SiO2/ Na2Oモ
ル比80とした。pHは7,8であった。
この混合液を2.5℃のステンレス製オートクレーブ容
器に仕込み130℃で6時間加熱した。
器に仕込み130℃で6時間加熱した。
得られたゾルは、SiO□3.54重量%、S1y□/
Na2O滴定法モル比107及びpH10,07であ
った。このゾルを限外濾過装置にてSiO2濃度21.
9重量%まて濃縮した。得られたゾルは、比重1.14
4、pH9,69、粘度4.3cp、 SiO□21.
9重量%、SiO□/Na2O滴定法モル比126、電
導度2140μS/cm、 BET法粒子径11.0
mμ、動的光散乱法粒子径は26.8 mμであった。
Na2O滴定法モル比107及びpH10,07であ
った。このゾルを限外濾過装置にてSiO2濃度21.
9重量%まて濃縮した。得られたゾルは、比重1.14
4、pH9,69、粘度4.3cp、 SiO□21.
9重量%、SiO□/Na2O滴定法モル比126、電
導度2140μS/cm、 BET法粒子径11.0
mμ、動的光散乱法粒子径は26.8 mμであった。
このゾルの電子顕微鏡による撮影写真を第2図に示した
が、そのコロイダルシリカ粒子の形状は球形である。
が、そのコロイダルシリカ粒子の形状は球形である。
比較例2
実施例1に記載のナトリウム水ガラスに水を加えて濃度
50重量%に希釈し、得られたこの水溶液1500 g
をガラス製容器に採り、これに10%硫酸水溶液380
gを撹拌しながら添加し、pH454とした。
50重量%に希釈し、得られたこの水溶液1500 g
をガラス製容器に採り、これに10%硫酸水溶液380
gを撹拌しながら添加し、pH454とした。
生成したシリカのウェットゲルを濾別し、これに純水4
000 gを注いで洗浄した。得られたウェットゲルを
純水に分散させることにより、SiO2濃度40重量%
の分散液1800 gを得た。これに10重量%水酸化
ナトリウム水溶液12.0gを加え、SiO2/ Na
zOモル比80とした。pHは9.0であった。
000 gを注いで洗浄した。得られたウェットゲルを
純水に分散させることにより、SiO2濃度40重量%
の分散液1800 gを得た。これに10重量%水酸化
ナトリウム水溶液12.0gを加え、SiO2/ Na
zOモル比80とした。pHは9.0であった。
この分散液を2.5℃のステンレス製オートクレーブ容
器に仕込み、次いで130℃で6時間加熱した。得られ
たゾルは、SiO□3.97重量%、SiO2/ Na
2O滴定法モル比87及びpH10,46であった。
器に仕込み、次いで130℃で6時間加熱した。得られ
たゾルは、SiO□3.97重量%、SiO2/ Na
2O滴定法モル比87及びpH10,46であった。
このゾルを限外濾過装置でシリカ濃度212重量%まで
濃縮した。得られたゾルは、比重1 、138 、 p
H9,98、粘度40cp、 SiO□21.2重量%
、SiO□/Na2O滴定法モル比98、電導度252
゜u 37cm、 B E T法粒子径9.9 mμ、
動的光散乱法粒子径912mμであった。このゾルは、
第3図の電子顕微鏡による撮影写真に示されたように、
そのコロイダルシリカ粒子は非球形であるが、細長い形
状を有していない。
濃縮した。得られたゾルは、比重1 、138 、 p
H9,98、粘度40cp、 SiO□21.2重量%
、SiO□/Na2O滴定法モル比98、電導度252
゜u 37cm、 B E T法粒子径9.9 mμ、
動的光散乱法粒子径912mμであった。このゾルは、
第3図の電子顕微鏡による撮影写真に示されたように、
そのコロイダルシリカ粒子は非球形であるが、細長い形
状を有していない。
比較例3
実施例1の活性珪酸のコロイド水溶液(SiO2356
重量%、pH2,81) 2000 gをガラス製容器
に採り、これに10重量%塩化カルシウム水溶液8.0
gを撹拌しながら添加し、次いで10重量%水酸化ナト
リウム水溶液12.0gを撹拌しながら添加しSiO2
/Na2Oモル比80とした。pnは7.62であった
。CaOはSiO2に対して重量比5400ppmであ
った。
重量%、pH2,81) 2000 gをガラス製容器
に採り、これに10重量%塩化カルシウム水溶液8.0
gを撹拌しながら添加し、次いで10重量%水酸化ナト
リウム水溶液12.0gを撹拌しながら添加しSiO2
/Na2Oモル比80とした。pnは7.62であった
。CaOはSiO2に対して重量比5400ppmであ
った。
この混合液を2.5℃のステンレス製オートクレーブ容
器に仕込み、次いで160℃で6時間加熱した。結果は
、容器内にゲル状物質が生成し、流動性を示さなかった
。
器に仕込み、次いで160℃で6時間加熱した。結果は
、容器内にゲル状物質が生成し、流動性を示さなかった
。
比較例4
実施例1の活性珪酸のコロイド水溶液(Si02356
重量%、pH2,81) 2000gをガラス製容器に
採り、これに10重量%塩化カルシウム水溶液8.0g
を撹拌しながら添加し、次いで10重量%水酸化ナトリ
ウム水溶液3.8gを撹拌しながら添加しSin□/
Na2Oモル比250とした。pHは654であった。
重量%、pH2,81) 2000gをガラス製容器に
採り、これに10重量%塩化カルシウム水溶液8.0g
を撹拌しながら添加し、次いで10重量%水酸化ナトリ
ウム水溶液3.8gを撹拌しながら添加しSin□/
Na2Oモル比250とした。pHは654であった。
CaOはSiO2に対して重量比5400ppmであっ
た。
た。
この混合液を2.5℃のステンレス製オートクレーブ容
器に仕込み、次いで130℃で6時間加熱した。結果は
、容器内にゲル状物質が生成し、流動性を示さなかった
。
器に仕込み、次いで130℃で6時間加熱した。結果は
、容器内にゲル状物質が生成し、流動性を示さなかった
。
比較例5
実施例1の活性珪酸のコロイド水溶液(SiO□3.5
6重量%、pH2,81) 2000gをガラス製容器
に採り、これに10重量%塩化カルシウム水溶液16.
0gを撹拌しながら添加し、次いで10重量%水酸化ナ
トリウム水溶液12.0gを撹拌しながら添加しSiO
2/ Na2Oモル比80とした。pHは7.48であ
った。CaOはSiO2に対して重量比110800p
pであった。
6重量%、pH2,81) 2000gをガラス製容器
に採り、これに10重量%塩化カルシウム水溶液16.
0gを撹拌しながら添加し、次いで10重量%水酸化ナ
トリウム水溶液12.0gを撹拌しながら添加しSiO
2/ Na2Oモル比80とした。pHは7.48であ
った。CaOはSiO2に対して重量比110800p
pであった。
この混合液は上記の操作において、水酸化ナトリウム水
溶液添加開始時より20分後、粘度が増加し流動性が低
下した。この流動性の低下したペースト状物質を25℃
のステンレス製オートクレーブ容器に仕込み、次いで1
30℃で6時間加熱した。結果は、容器内にゲル状物質
が生成し、流動性を示さなかった。
溶液添加開始時より20分後、粘度が増加し流動性が低
下した。この流動性の低下したペースト状物質を25℃
のステンレス製オートクレーブ容器に仕込み、次いで1
30℃で6時間加熱した。結果は、容器内にゲル状物質
が生成し、流動性を示さなかった。
実施例10
実施例1て得られたSiO2濃度21重量%のアルカリ
性の水性シリカゾル100gと、比較例1で得られたS
iO□濃度219重量%のアルカリ性の水性シリカゾル
100gとを混合し、得られた混合物を密閉下室部に放
置したが、6ケ月以上安定であった。
性の水性シリカゾル100gと、比較例1で得られたS
iO□濃度219重量%のアルカリ性の水性シリカゾル
100gとを混合し、得られた混合物を密閉下室部に放
置したが、6ケ月以上安定であった。
実施例11
市販のJISB号ナトツナトリウム水ガラス02/Na
2Oモル比322、SiO□含有率285重量%)に純
水を加えて、SiO□濃度33重量%の珪酸ナトリウム
水溶液を得た。別途用意された商品名アンバーライト1
20Bの陽イオン交換樹脂充填のカラムに、上記珪酸ナ
トリウム水溶液を通すことにより、SiO□濃度3.2
重量%、pH2,9]、電導風667μS/cmの活性
珪酸のコロイド水溶液を得た。この液には、Aj220
3とFe2O3が合計67ppm残留していた。上記活
性珪酸のコロイド水溶液2000 gをガラス製容器に
投入し、次いで、10重量%の水酸化すl−IJウム水
溶液1.1gを撹拌下に室温で添加し、10分間撹拌を
続けた。活性珪酸のコロイド水溶液は、[]H4,15
であった。
2Oモル比322、SiO□含有率285重量%)に純
水を加えて、SiO□濃度33重量%の珪酸ナトリウム
水溶液を得た。別途用意された商品名アンバーライト1
20Bの陽イオン交換樹脂充填のカラムに、上記珪酸ナ
トリウム水溶液を通すことにより、SiO□濃度3.2
重量%、pH2,9]、電導風667μS/cmの活性
珪酸のコロイド水溶液を得た。この液には、Aj220
3とFe2O3が合計67ppm残留していた。上記活
性珪酸のコロイド水溶液2000 gをガラス製容器に
投入し、次いで、10重量%の水酸化すl−IJウム水
溶液1.1gを撹拌下に室温で添加し、10分間撹拌を
続けた。活性珪酸のコロイド水溶液は、[]H4,15
であった。
次いて10重量%の硝酸カルシウム水溶液12.1gを
撹拌下に室温で添加し、10分後更に10重量%水酸化
ナトリウム水溶液13.1 gを撹拌下に室温で添加し
た。得られた混合液は、SiO23.18重量%、pH
8,08を示し、SiO□/Na2Oモル比60、Ca
O206ppmである。上記混合液を内容量25!のス
テンレス製オートクレーブ容器に仕込み、130℃て6
時間加熱処理を行なった。得られたシリカゾルは、電子
顕微鏡観察により、コロイダルシリカ粒子が細長い形状
を有することが判った。太さは、約10mμであり、長
さは60〜200 neLであった。又、動的光散乱
法によるコロイダルシリカの粒子径は74.9 mμで
あった。
撹拌下に室温で添加し、10分後更に10重量%水酸化
ナトリウム水溶液13.1 gを撹拌下に室温で添加し
た。得られた混合液は、SiO23.18重量%、pH
8,08を示し、SiO□/Na2Oモル比60、Ca
O206ppmである。上記混合液を内容量25!のス
テンレス製オートクレーブ容器に仕込み、130℃て6
時間加熱処理を行なった。得られたシリカゾルは、電子
顕微鏡観察により、コロイダルシリカ粒子が細長い形状
を有することが判った。太さは、約10mμであり、長
さは60〜200 neLであった。又、動的光散乱
法によるコロイダルシリカの粒子径は74.9 mμで
あった。
又、BET法により算出したこのコロイダルシリカの粒
子径は、126mμであった。このゾルは5iO73,
18重量%を含有し、SiO2/Na2O滴定法モル比
93、pH9,90であり、ゲルの存在は認められなか
った。次いて上記細長い形状のシリカゾル薄液を限外濾
過装置により室温下で濃縮して、SiO2濃度205重
量%の濃縮シリカゾルを得た。得られたゾルは、比重1
132、pH9,59、粘度46.5cp、 SiO□
/Na2O滴定法モル比107 、 CaO013重量
%、 CCl258pp 、 SO439ppm 、
NNO3489pp含有し、電導風は2610μS/c
mであった。濃縮によっても、シリカゾルの形状には変
化は認められなかった。この濃縮シリカゾルを密閉下6
0℃で保存したところ、1ケ月後でも安定であった。こ
のゾルをガラス板上に塗布し乾燥したところ、従来のゾ
ルを用いた場合よりも良好な被膜が形成された。
子径は、126mμであった。このゾルは5iO73,
18重量%を含有し、SiO2/Na2O滴定法モル比
93、pH9,90であり、ゲルの存在は認められなか
った。次いて上記細長い形状のシリカゾル薄液を限外濾
過装置により室温下で濃縮して、SiO2濃度205重
量%の濃縮シリカゾルを得た。得られたゾルは、比重1
132、pH9,59、粘度46.5cp、 SiO□
/Na2O滴定法モル比107 、 CaO013重量
%、 CCl258pp 、 SO439ppm 、
NNO3489pp含有し、電導風は2610μS/c
mであった。濃縮によっても、シリカゾルの形状には変
化は認められなかった。この濃縮シリカゾルを密閉下6
0℃で保存したところ、1ケ月後でも安定であった。こ
のゾルをガラス板上に塗布し乾燥したところ、従来のゾ
ルを用いた場合よりも良好な被膜が形成された。
実施例12
実施例11に用いられたものと同し活性珪酸のコロイド
水溶液(SiO□32重量%、pH2,91,電導風6
67μS/cm) 2000 gをガラス製容器に投入
し、次いで10重量%の水酸化す1〜リウム水溶液1.
2gを撹拌下に室温で添加し、1o分間撹拌を続けた。
水溶液(SiO□32重量%、pH2,91,電導風6
67μS/cm) 2000 gをガラス製容器に投入
し、次いで10重量%の水酸化す1〜リウム水溶液1.
2gを撹拌下に室温で添加し、1o分間撹拌を続けた。
活性珪酸のコロイド水溶液は、pH4,30であった。
次いで10重量%の硝酸カルシウム水l容液11.7g
を撹拌下に室温で添加し、1o分後更に10重量%水酸
化ナトリウム水溶液13.0gを撹拌下に室温で添加し
た。得られた混合液は、SiO□3.18重量%、pl
(8゜14を示し、Sj、02/ Na2Oモル比60
、C:ao 200ppmである。上記混合液を内容量
25ρのステンレス製オートクレーブ容器に仕込み、
170℃で1時間加熱処理を行なった。得られたシリカ
ゾルは、電子顕微鏡観察により、コロイダルシリカ粒子
が細長い形状を有することが判った。太さは、約]2m
μで、長さは60〜300mμであった。又、動的光散
乱法によるコロイダルシリカの粒子径は、117 +
+Bvであった。又、BET法により算出したこのコロ
イダルシリカの粒子径は14 mμであった。このゾル
はSiO23.18重量%を含有し、5lo2/Na2
o滴定法モル比103及びpH10,31であり、ゲル
の存在は認められなかった。次いで上記細長い形状のシ
リカゾル薄液を限外濾過装置により室温下で濃縮して、
SiO□10.0重量%の濃縮シリカゾルを得た。得ら
れたゾルは、比重1.061、pH10,06、粘度2
5cp、 SiO□/ Na2O滴定法モル比1.09
、 CaOO,07重量%、 (J230ppm
、 SSO419pp 、 NO3260ppm含有し
、電導風ば、1420μS/cmてあった。濃縮によっ
ても、シリカゾルの形状には変化は認められなかった。
を撹拌下に室温で添加し、1o分後更に10重量%水酸
化ナトリウム水溶液13.0gを撹拌下に室温で添加し
た。得られた混合液は、SiO□3.18重量%、pl
(8゜14を示し、Sj、02/ Na2Oモル比60
、C:ao 200ppmである。上記混合液を内容量
25ρのステンレス製オートクレーブ容器に仕込み、
170℃で1時間加熱処理を行なった。得られたシリカ
ゾルは、電子顕微鏡観察により、コロイダルシリカ粒子
が細長い形状を有することが判った。太さは、約]2m
μで、長さは60〜300mμであった。又、動的光散
乱法によるコロイダルシリカの粒子径は、117 +
+Bvであった。又、BET法により算出したこのコロ
イダルシリカの粒子径は14 mμであった。このゾル
はSiO23.18重量%を含有し、5lo2/Na2
o滴定法モル比103及びpH10,31であり、ゲル
の存在は認められなかった。次いで上記細長い形状のシ
リカゾル薄液を限外濾過装置により室温下で濃縮して、
SiO□10.0重量%の濃縮シリカゾルを得た。得ら
れたゾルは、比重1.061、pH10,06、粘度2
5cp、 SiO□/ Na2O滴定法モル比1.09
、 CaOO,07重量%、 (J230ppm
、 SSO419pp 、 NO3260ppm含有し
、電導風ば、1420μS/cmてあった。濃縮によっ
ても、シリカゾルの形状には変化は認められなかった。
この濃縮シリカゾルを密閉下60℃で保存したところ、
1ケ月後でも安定であった。このゾルをガラス板上に塗
布し乾燥したところ、従来のゾルを用いた場合よりも良
好な被膜が形成された。
1ケ月後でも安定であった。このゾルをガラス板上に塗
布し乾燥したところ、従来のゾルを用いた場合よりも良
好な被膜が形成された。
実施例13
実施例11に用いられたものと同じ活性珪酸のコロイド
水溶液(SiO□3゜2重量%、pH2,91、電導度
667μS/cm)に純水を加えて、SiO□淵度1.
6重量%、pH2,90、電導度670μS/cmの活
性珪酸薄液を調製した。この活性珪酸薄液2000 g
をガラス製容器に投入し、次いて10重量%の水酸化ナ
トリウム水溶液1.0gを撹拌下に室温で添加し、10
分間撹拌を続けた。活性珪酸のコロイド水溶液は、I)
H4,IOであった。次いで10重量%の硝酸カルシウ
ム水溶液8.8gを撹拌下に室温で添加し、lO分後更
に10重量%水酸化ナトリウム水溶液7.89gを撹拌
下に室温で添加した。得られた混合液は、Si0□15
9重量%、pH7,84を示し、SiO□/ Na2O
モル比60、CaO150ppmである。上記混合液を
内容量25℃のステンレス製オートクレーブ容器に仕込
み、 130℃で6時間加熱処理を行なった。得られた
シリカゾルは、電子顕微鏡観察により、コロイダルシリ
カ粒子が細長い形状を有することが判った。太さは、約
10 mμで、長さは60〜250 mμであった。又
、動的光散乱法によるコロイダルシリカの粒子径は、8
98mμであった。又、BET法により算出したこのコ
ロイダルシリカの粒子径は128mμであった。このゾ
ルは5xO21,59重量%を有し、SiO2/ Na
2O滴定法モル比95及びpH9,47であり、ゲルの
存在は認められなかった。
水溶液(SiO□3゜2重量%、pH2,91、電導度
667μS/cm)に純水を加えて、SiO□淵度1.
6重量%、pH2,90、電導度670μS/cmの活
性珪酸薄液を調製した。この活性珪酸薄液2000 g
をガラス製容器に投入し、次いて10重量%の水酸化ナ
トリウム水溶液1.0gを撹拌下に室温で添加し、10
分間撹拌を続けた。活性珪酸のコロイド水溶液は、I)
H4,IOであった。次いで10重量%の硝酸カルシウ
ム水溶液8.8gを撹拌下に室温で添加し、lO分後更
に10重量%水酸化ナトリウム水溶液7.89gを撹拌
下に室温で添加した。得られた混合液は、Si0□15
9重量%、pH7,84を示し、SiO□/ Na2O
モル比60、CaO150ppmである。上記混合液を
内容量25℃のステンレス製オートクレーブ容器に仕込
み、 130℃で6時間加熱処理を行なった。得られた
シリカゾルは、電子顕微鏡観察により、コロイダルシリ
カ粒子が細長い形状を有することが判った。太さは、約
10 mμで、長さは60〜250 mμであった。又
、動的光散乱法によるコロイダルシリカの粒子径は、8
98mμであった。又、BET法により算出したこのコ
ロイダルシリカの粒子径は128mμであった。このゾ
ルは5xO21,59重量%を有し、SiO2/ Na
2O滴定法モル比95及びpH9,47であり、ゲルの
存在は認められなかった。
次いて上記細長い形状のシリカゾル薄液を限外濾過装置
により室温下で濃縮して、SiO210.1重量%の濃
縮シリカゾルを得た。得られたゾルは、比重1061、
pH9,16、粘度32cp、 5in2/Na2O滴
定法モル比110 、 CaOO,08重量%、 は2
7ppm 、 NO3290ppm、 SO412pp
m含有し、電導度は、1200μS/cmてあった。濃
縮によっても、シリカゾルの形状には変化は認められな
かった。この濃縮シリカゾルを密閉下60 ’Cて保存
したところ、1ケ月後でも安定であった。このゾルをガ
ラス板上に塗布し乾燥したところ、従来のゾルを用いた
場合よりも良好な被膜が形成された。
により室温下で濃縮して、SiO210.1重量%の濃
縮シリカゾルを得た。得られたゾルは、比重1061、
pH9,16、粘度32cp、 5in2/Na2O滴
定法モル比110 、 CaOO,08重量%、 は2
7ppm 、 NO3290ppm、 SO412pp
m含有し、電導度は、1200μS/cmてあった。濃
縮によっても、シリカゾルの形状には変化は認められな
かった。この濃縮シリカゾルを密閉下60 ’Cて保存
したところ、1ケ月後でも安定であった。このゾルをガ
ラス板上に塗布し乾燥したところ、従来のゾルを用いた
場合よりも良好な被膜が形成された。
比較例6
実施例11に記載のものと同し活性珪酸のコロイド水溶
液(SiO23,2重量%、pH2,91、電導度66
7μS/cm)に純水を加えて、SiO2濃度20重量
%、pH2,90、電導度820 g S/arIlの
活性珪酸薄液を調製した。この活性珪酸薄液2000
gをガラス製容器に投入し、次いで10重量%の水酸化
ナトリウム水溶液1.0gを撹拌下に室温で添加し、1
0分間撹拌を続けた。活性珪酸のコロイド水溶液のpH
は432てあった。次いで10重量%の硝酸カルシウム
水溶液30gを撹拌下に室温で添加し、10分後更に1
0重量%水酸化ナトリウム水溶液789gを撹拌下に室
温で添加した。得られた混合液は、SiO21.98重
量%、p+(7,42を示し、SiO2/ Na2Oモ
ル比60、(:ao 500ppmである。
液(SiO23,2重量%、pH2,91、電導度66
7μS/cm)に純水を加えて、SiO2濃度20重量
%、pH2,90、電導度820 g S/arIlの
活性珪酸薄液を調製した。この活性珪酸薄液2000
gをガラス製容器に投入し、次いで10重量%の水酸化
ナトリウム水溶液1.0gを撹拌下に室温で添加し、1
0分間撹拌を続けた。活性珪酸のコロイド水溶液のpH
は432てあった。次いで10重量%の硝酸カルシウム
水溶液30gを撹拌下に室温で添加し、10分後更に1
0重量%水酸化ナトリウム水溶液789gを撹拌下に室
温で添加した。得られた混合液は、SiO21.98重
量%、p+(7,42を示し、SiO2/ Na2Oモ
ル比60、(:ao 500ppmである。
上記混合液を内容量25f2のステンレス製オートクレ
ーブ容器に仕込み、 130℃で6時間加熱処理を行な
った。結果は容器内にゲル状物質が生成し、流動性を示
さなかった6 実施例14 市販のアルカリ性水性ゾル(5eares法による粒子
径5ミリミクロン、SiO2濃度20重量%、比重11
29、pH9,4、粘度4 cp)を水素型陽イオン交
換樹脂で処理することにより得られた酸性シリカゾルに
純水を加えて、SiO□濃度3.2重量%、pH3,2
7の酸性シリカゾルを調製した。この酸性シリカゾル2
000 gを内容量3℃のガラス製容器に投入し、次い
て10重量%の硝酸カルシウム水溶液129gを撹拌下
に添加し、室温下で10分間撹拌した。更に10重量%
の水酸化ナトリウム水溶液142gを撹拌下に室温で添
加し、10分間撹拌を続けた。得られた混合液は、Si
0□316重量%、pH9,3を示し、SiO2/Na
2Oモル比60、Ca0215ppmである。次に上記
混合液を内容量2.5℃のステンレス製オートクレーブ
容器に仕込み、 130℃で6時間加熱処理を行った。
ーブ容器に仕込み、 130℃で6時間加熱処理を行な
った。結果は容器内にゲル状物質が生成し、流動性を示
さなかった6 実施例14 市販のアルカリ性水性ゾル(5eares法による粒子
径5ミリミクロン、SiO2濃度20重量%、比重11
29、pH9,4、粘度4 cp)を水素型陽イオン交
換樹脂で処理することにより得られた酸性シリカゾルに
純水を加えて、SiO□濃度3.2重量%、pH3,2
7の酸性シリカゾルを調製した。この酸性シリカゾル2
000 gを内容量3℃のガラス製容器に投入し、次い
て10重量%の硝酸カルシウム水溶液129gを撹拌下
に添加し、室温下で10分間撹拌した。更に10重量%
の水酸化ナトリウム水溶液142gを撹拌下に室温で添
加し、10分間撹拌を続けた。得られた混合液は、Si
0□316重量%、pH9,3を示し、SiO2/Na
2Oモル比60、Ca0215ppmである。次に上記
混合液を内容量2.5℃のステンレス製オートクレーブ
容器に仕込み、 130℃で6時間加熱処理を行った。
得られたシリカゾルは、電子顕微鏡観察により、コロイ
ダルシリカ粒子が細長い形状を有することが判った。太
さは約10mμで、長さは50〜300mμであった。
ダルシリカ粒子が細長い形状を有することが判った。太
さは約10mμで、長さは50〜300mμであった。
又、動的光散乱法によるコロイダルシリカの粒子径は、
55 mμであった。又、BET法により算出したこの
コロイダルシリカの粒子径は123mμであった。添付
の図面第4図に、このゾルのコロイダルシリカ粒子の2
0万倍の電子顕微鏡による撮影写真を示す。このゾルは
SiO23.16重量%を含有し、Sif□/Na2O
滴定法モル比78及びpH9,6であり、ゲルの存在は
認められなかった。次いで上記細長い形状のシリカゾル
薄液を限外濾過装置により室温下で濃縮して、SiO□
濃度16重量%の濃縮シリカゾルを得た。得られたゾル
は、比重1100、p)+9.54、粘度72cp、
SiO□/ Na2O滴定法モル比90.7、CaO0
11重量%、 112 2.8ppm 、 SO434
ppm 、 NNO3273pp含有し、電導度は20
10u 87cmであった。濃縮によっても、シリカゾ
ルの形状には変化は認められなかった。この濃縮シリカ
ゾルを密閉下60℃で保存したところ、1ケ月後でも安
定であった。このゾルをガラス板上に塗布し乾燥したと
ころ、従来のゾルを用いた場合よりも良好な被膜が形成
された。
55 mμであった。又、BET法により算出したこの
コロイダルシリカの粒子径は123mμであった。添付
の図面第4図に、このゾルのコロイダルシリカ粒子の2
0万倍の電子顕微鏡による撮影写真を示す。このゾルは
SiO23.16重量%を含有し、Sif□/Na2O
滴定法モル比78及びpH9,6であり、ゲルの存在は
認められなかった。次いで上記細長い形状のシリカゾル
薄液を限外濾過装置により室温下で濃縮して、SiO□
濃度16重量%の濃縮シリカゾルを得た。得られたゾル
は、比重1100、p)+9.54、粘度72cp、
SiO□/ Na2O滴定法モル比90.7、CaO0
11重量%、 112 2.8ppm 、 SO434
ppm 、 NNO3273pp含有し、電導度は20
10u 87cmであった。濃縮によっても、シリカゾ
ルの形状には変化は認められなかった。この濃縮シリカ
ゾルを密閉下60℃で保存したところ、1ケ月後でも安
定であった。このゾルをガラス板上に塗布し乾燥したと
ころ、従来のゾルを用いた場合よりも良好な被膜が形成
された。
実施例15
球状コロイダルシリカからなる市販の酸性水性ゾル(B
ET法による粒子径12ミリミクロン、5iO320重
量%、比重1129、pH2,9、粘度2 cp)に純
水を加えて、SiO□濃度3.2重量%、pH3,65
の酸性シリカゾル薄液を調製した。この酸性シリカゾル
薄液2000 gを内容量3ρのガラス製容器に投入し
、次いで10重量%の硝酸カルシウム水溶液11.7g
を撹拌下に添加し、室温下で10分間撹拌した。更に1
0重量%の水酸化ナトリウム水溶液142gを撹拌下に
室温で添加゛し、10分間撹拌を続けた。得られた混合
液は、Si0□316重量%、pH10,47を示し、
SiO3/Na2Oモル比60、Ca0200ppmで
ある。次に上記混合液を内容量25f2のステンレス製
オートクレーブ容器に仕込み、 130℃て6時間加熱
処理を行った。
ET法による粒子径12ミリミクロン、5iO320重
量%、比重1129、pH2,9、粘度2 cp)に純
水を加えて、SiO□濃度3.2重量%、pH3,65
の酸性シリカゾル薄液を調製した。この酸性シリカゾル
薄液2000 gを内容量3ρのガラス製容器に投入し
、次いで10重量%の硝酸カルシウム水溶液11.7g
を撹拌下に添加し、室温下で10分間撹拌した。更に1
0重量%の水酸化ナトリウム水溶液142gを撹拌下に
室温で添加゛し、10分間撹拌を続けた。得られた混合
液は、Si0□316重量%、pH10,47を示し、
SiO3/Na2Oモル比60、Ca0200ppmで
ある。次に上記混合液を内容量25f2のステンレス製
オートクレーブ容器に仕込み、 130℃て6時間加熱
処理を行った。
得られたシリカゾルは、電子顕微鏡観察により、コロイ
ダルシリカ粒子が細長い形状を有す7す ることか判った。太さは15mμで、長さは50〜30
0mμであった。又、動的光散乱法によるコロイダルシ
リカの粒子径は146mμであった。
ダルシリカ粒子が細長い形状を有す7す ることか判った。太さは15mμで、長さは50〜30
0mμであった。又、動的光散乱法によるコロイダルシ
リカの粒子径は146mμであった。
又、BET法により算出したこのコロイダルシリカの粒
子径は147mμであった。このゾルはSiO□3.1
6重量%を含有し、SiO2/ Na2O滴定法モル比
70、pH10,18であり、ゲルの存在は認められな
かった。次いで上記細長い形状のシリカゾル薄液を限外
濾過装置により室温下で濃縮して、SiO2濃度10.
2重量%の濃縮シリカゾルを得た。得られたゾルは、比
重1063、pH9,98、粘度42cp、 SiO□
/ Na2O滴定法モル比89、Ca00.07重量%
、Cj23 ppm 、 SO434ppm 、 NN
O3273pp 、電導度は1900μS/cmてあっ
た。濃縮によってもシリカゾルの形状には変化は認めら
れなかった。この濃縮シリカゾルを密閉下60℃で保存
したところ、1ケ月後でも安定であった。
子径は147mμであった。このゾルはSiO□3.1
6重量%を含有し、SiO2/ Na2O滴定法モル比
70、pH10,18であり、ゲルの存在は認められな
かった。次いで上記細長い形状のシリカゾル薄液を限外
濾過装置により室温下で濃縮して、SiO2濃度10.
2重量%の濃縮シリカゾルを得た。得られたゾルは、比
重1063、pH9,98、粘度42cp、 SiO□
/ Na2O滴定法モル比89、Ca00.07重量%
、Cj23 ppm 、 SO434ppm 、 NN
O3273pp 、電導度は1900μS/cmてあっ
た。濃縮によってもシリカゾルの形状には変化は認めら
れなかった。この濃縮シリカゾルを密閉下60℃で保存
したところ、1ケ月後でも安定であった。
このゾルをガラス板上に塗布し乾燥したところ、従来の
ゾルを用いた場合よりも良好な被膜が形成された。
ゾルを用いた場合よりも良好な被膜が形成された。
実施例16
球状コロイダルシリカからなる市販のアルカリ性水性ゾ
ル(BET法による粒子径8ミリミクロン、SiO23
0重量%、pH9,9、比重1.21、粘度5 cp)
を水素型陽イオン交換樹脂で処理することにより得られ
た酸性水性シリカゾルに純水を加えて、SiO2濃度3
.6重量%、pH3,52の酸性水性シリカゾル薄液を
調製した。この酸性シリカゾル薄液2000 gを内容
量3℃のガラス製容器に投入し、次いて10重量%の塩
化マグネシウム水溶′a、9.0gを撹拌下に添加し、
室温下で10分間撹拌した。更に10重量%の水酸化ナ
トリウム水溶液137gを撹拌下に室温で添加し、10
分間撹拌を続けた。得られた混合液は、5i(h3.5
7重量%、pH9,83を示し、SiO2/ Na2O
モル比70゜Mg0190ppmである。次に上記混合
液を内容量3℃のステンレス製オートクレーブ容器に仕
込み、 140℃て10時間加熱処理を行った。得られ
たシリカゾルは、電子顕微鏡観察により、コロイダルシ
リカ粒子が細長い形状を有することが判った。太さは約
11mμで、長さは40〜250mμであった。又、動
的光散乱法によるコロイダルシリカの粒子径は、88
mμであった。又、BET法により算出したこのコロイ
ダルシリカの粒子径は129mμであった。このゾルは
SiO□3.57重量%を含有し、SiO2/ Naz
O滴定法モル比81、 pH9,83であり、ゲルの存
在は認められなかった。次いで上記細長い形状のシリカ
ゾル薄液を限外濾過装置により室温下で濃縮して、Si
O□濃度15.6重量%の濃縮シリカゾルを得た。
ル(BET法による粒子径8ミリミクロン、SiO23
0重量%、pH9,9、比重1.21、粘度5 cp)
を水素型陽イオン交換樹脂で処理することにより得られ
た酸性水性シリカゾルに純水を加えて、SiO2濃度3
.6重量%、pH3,52の酸性水性シリカゾル薄液を
調製した。この酸性シリカゾル薄液2000 gを内容
量3℃のガラス製容器に投入し、次いて10重量%の塩
化マグネシウム水溶′a、9.0gを撹拌下に添加し、
室温下で10分間撹拌した。更に10重量%の水酸化ナ
トリウム水溶液137gを撹拌下に室温で添加し、10
分間撹拌を続けた。得られた混合液は、5i(h3.5
7重量%、pH9,83を示し、SiO2/ Na2O
モル比70゜Mg0190ppmである。次に上記混合
液を内容量3℃のステンレス製オートクレーブ容器に仕
込み、 140℃て10時間加熱処理を行った。得られ
たシリカゾルは、電子顕微鏡観察により、コロイダルシ
リカ粒子が細長い形状を有することが判った。太さは約
11mμで、長さは40〜250mμであった。又、動
的光散乱法によるコロイダルシリカの粒子径は、88
mμであった。又、BET法により算出したこのコロイ
ダルシリカの粒子径は129mμであった。このゾルは
SiO□3.57重量%を含有し、SiO2/ Naz
O滴定法モル比81、 pH9,83であり、ゲルの存
在は認められなかった。次いで上記細長い形状のシリカ
ゾル薄液を限外濾過装置により室温下で濃縮して、Si
O□濃度15.6重量%の濃縮シリカゾルを得た。
得られたゾルは、比重1098、pH9,70、粘度8
3cp、 SiO2/ Na2O滴定法モル比103、
MgO823ppm、(4171ppm 、 SO42
2ppm 、 NO34ppm含有し、電導度は209
5μS/cmであった。濃縮によってもシリカゾルの形
状には変化は認められなかった。この濃縮シリカゾルを
密閉下60℃で保存したところ、1ケ月後でも安定であ
った。
3cp、 SiO2/ Na2O滴定法モル比103、
MgO823ppm、(4171ppm 、 SO42
2ppm 、 NO34ppm含有し、電導度は209
5μS/cmであった。濃縮によってもシリカゾルの形
状には変化は認められなかった。この濃縮シリカゾルを
密閉下60℃で保存したところ、1ケ月後でも安定であ
った。
このゾルをガラス板上に塗布し乾燥したところ、従来の
ゾルを用いた場合よりも良好な被膜が形成された。
ゾルを用いた場合よりも良好な被膜が形成された。
実施例17
実施例14で用いられたものと同し市販のアルカリ性水
性ゾルを水素型陽イオン交換樹脂で処理することにより
得られた酸性水性シリカゾルに純水を加えて、SiO2
濃度32重量%、pH3,27の酸性シリカゾル薄液を
調製した。この酸性シリカゾル薄>=2000gを内容
量3℃のガラス製容器に投入し、次いて10重量%塩化
カルシウム水溶液4.0gを撹拌下に添加し、室温下で
10分間撹拌し続けた。更にモノエタノールアミン24
4gを撹拌下に室温で添加し、10分間撹拌を続けた。
性ゾルを水素型陽イオン交換樹脂で処理することにより
得られた酸性水性シリカゾルに純水を加えて、SiO2
濃度32重量%、pH3,27の酸性シリカゾル薄液を
調製した。この酸性シリカゾル薄>=2000gを内容
量3℃のガラス製容器に投入し、次いて10重量%塩化
カルシウム水溶液4.0gを撹拌下に添加し、室温下で
10分間撹拌し続けた。更にモノエタノールアミン24
4gを撹拌下に室温で添加し、10分間撹拌を続けた。
得られた混合液は、SiO23.19重量%、pH9,
35を示し、SiO□/モノエタノールアミンモル比2
7、Ca01100ppである。次に上記混合液を内容
量3f2のステンレス製オートクレーブ容器に仕込み、
これを135℃で10時間加熱処理を行った。得られた
シリカゾルは、電子顕微鏡観察により、コロイダルシリ
カ粒子が細長い形状を有することが判った。太さは10
〜15 mu、で、長さは50〜200mμであった。
35を示し、SiO□/モノエタノールアミンモル比2
7、Ca01100ppである。次に上記混合液を内容
量3f2のステンレス製オートクレーブ容器に仕込み、
これを135℃で10時間加熱処理を行った。得られた
シリカゾルは、電子顕微鏡観察により、コロイダルシリ
カ粒子が細長い形状を有することが判った。太さは10
〜15 mu、で、長さは50〜200mμであった。
又、動的光散乱法によるコロイダルシリカの粒子径は、
54.0 +nμであった。又、BET法により算出し
たこのコロイダルシリカの粒子径は10.3 mμであ
った。このゾルはSiO□3.19重量%を含有し、S
iO2/モノ工タノールアミン滴定法モル比36及びp
H9,45であり、ゲルの存在は認められなかった。次
いで上記細長い形状のシリカゾル薄液を限外濾過装置に
より室温下で濃縮して、SiO2濃度15.2重量%の
濃縮シリカゾルを得た。得られたゾル は、比重1.098、pH9,21、粘度E3 cp、
SiO2/モノエタノールアミン滴定法モル比47、
C,a0470ppm、 Cj23ppm 、 SO
435ppm 、 NO3290ppm含有し、電導度
は1300μS/cmであった。濃縮によっても、シリ
カゾルの形状には変化は認められなかった。この濃縮シ
リカゾルを密閉下60℃で保存したところ、1ケ月後で
も安定であった。このゾルをガラス板上に塗布し乾燥し
たところ、従来のゾルを用いた場合よりも良好な被膜が
形成された。
54.0 +nμであった。又、BET法により算出し
たこのコロイダルシリカの粒子径は10.3 mμであ
った。このゾルはSiO□3.19重量%を含有し、S
iO2/モノ工タノールアミン滴定法モル比36及びp
H9,45であり、ゲルの存在は認められなかった。次
いで上記細長い形状のシリカゾル薄液を限外濾過装置に
より室温下で濃縮して、SiO2濃度15.2重量%の
濃縮シリカゾルを得た。得られたゾル は、比重1.098、pH9,21、粘度E3 cp、
SiO2/モノエタノールアミン滴定法モル比47、
C,a0470ppm、 Cj23ppm 、 SO
435ppm 、 NO3290ppm含有し、電導度
は1300μS/cmであった。濃縮によっても、シリ
カゾルの形状には変化は認められなかった。この濃縮シ
リカゾルを密閉下60℃で保存したところ、1ケ月後で
も安定であった。このゾルをガラス板上に塗布し乾燥し
たところ、従来のゾルを用いた場合よりも良好な被膜が
形成された。
実施例18
実施例15て用いられたものと同じ市販の酸性水性シリ
カゾルに純水を加えて、SiO□濃度10重量%、pH
3,1の酸性シリカゾル希釈液を調製した。この酸性シ
リカゾル希釈液2000 gを内容量3J2のガラス製
容器に投入し、次いで10重量%の硝酸カルシウム23
4gを撹拌下に添加し、室温下で10分間撹拌し続けた
。更に10重量%の水酸化ナトリウム水溶液262gを
撹拌下に室温で添加し、10分間撹拌を続けた。得られ
た混合液は、SiO29.76重量%、pH9,79を
示し、SiO□/Na2Oモル比100、CaO400
ppmである。次に上記混合液を内容量25f2のステ
ンレス製オートクレーブ容器に仕込み、200℃で6時
間加熱処理を行った。得られたシリカゾルは、電子顕微
鏡観察により、コロイダルシリカ粒子が細長い形状を有
することが判った。太さは約20 mμで、長さは10
0〜400mμであった。又、動的光散乱法によるコロ
イダルシリカの粒子径は、203mILであった。又、
BET法により算出したこのコロイダルシリカの粒子径
は26.4 mμであった。このゾルは5iO79,7
6重量%を含有し、比重1,061、pH10,22、
粘度12cp、 Sin□/ Na2O滴定法モル比1
17、CaO400ppm、 Cl23 ppm、S
O47ppm 、 NO3880ppm含有し、電導度
は2170μS/cmてあり、ゲルの存在は認められな
かった。この濃縮シリカゾルを密閉下60℃て保存した
ところ、1ケ月後でも安定であった。このゾルをガラス
板上に塗布し乾燥したところ、従来のゾルを用いた場合
よりも良好な被膜が形成された。
カゾルに純水を加えて、SiO□濃度10重量%、pH
3,1の酸性シリカゾル希釈液を調製した。この酸性シ
リカゾル希釈液2000 gを内容量3J2のガラス製
容器に投入し、次いで10重量%の硝酸カルシウム23
4gを撹拌下に添加し、室温下で10分間撹拌し続けた
。更に10重量%の水酸化ナトリウム水溶液262gを
撹拌下に室温で添加し、10分間撹拌を続けた。得られ
た混合液は、SiO29.76重量%、pH9,79を
示し、SiO□/Na2Oモル比100、CaO400
ppmである。次に上記混合液を内容量25f2のステ
ンレス製オートクレーブ容器に仕込み、200℃で6時
間加熱処理を行った。得られたシリカゾルは、電子顕微
鏡観察により、コロイダルシリカ粒子が細長い形状を有
することが判った。太さは約20 mμで、長さは10
0〜400mμであった。又、動的光散乱法によるコロ
イダルシリカの粒子径は、203mILであった。又、
BET法により算出したこのコロイダルシリカの粒子径
は26.4 mμであった。このゾルは5iO79,7
6重量%を含有し、比重1,061、pH10,22、
粘度12cp、 Sin□/ Na2O滴定法モル比1
17、CaO400ppm、 Cl23 ppm、S
O47ppm 、 NO3880ppm含有し、電導度
は2170μS/cmてあり、ゲルの存在は認められな
かった。この濃縮シリカゾルを密閉下60℃て保存した
ところ、1ケ月後でも安定であった。このゾルをガラス
板上に塗布し乾燥したところ、従来のゾルを用いた場合
よりも良好な被膜が形成された。
比較例7
球状のコロイダルシリカからなる市販の酸性水性シリカ
ゾル(平均粒子径40ミリミクロン、5iO620重量
%、比重1.120、pH3,0、粘度2 cp)に水
を加えて、SiO2濃度3.2重量%、pH31の酸性
シリカゾル薄液を調製した。この酸性シリカゾル薄液2
000 gを内容量3j2のガラス製容器に投入し、次
いで10重量%の硝酸カルシウム水溶液10.5 gを
撹拌下に添加し、室温下で10分撹拌した。更に10重
量%水酸化ナトリウム水溶液122gを撹拌下に室温で
添加し、10分間撹拌を続けた。得られた混合液は、S
iO23.16重量%、pH9,3を示し、SiO2/
Na2oモル比7o、Ca0180ppmである。次に
上記混合液を内容量25℃のステンレス製オートクレー
ブ容器に仕込み、 130℃で6時間加熱処理を行なっ
た。得られたシリカゾルは電子顕微鏡観察の結果、コロ
イダルシリカ粒子の形状は、球状粒子が連接した形状で
あり、一様な太さの伸長を有していなかった。
ゾル(平均粒子径40ミリミクロン、5iO620重量
%、比重1.120、pH3,0、粘度2 cp)に水
を加えて、SiO2濃度3.2重量%、pH31の酸性
シリカゾル薄液を調製した。この酸性シリカゾル薄液2
000 gを内容量3j2のガラス製容器に投入し、次
いで10重量%の硝酸カルシウム水溶液10.5 gを
撹拌下に添加し、室温下で10分撹拌した。更に10重
量%水酸化ナトリウム水溶液122gを撹拌下に室温で
添加し、10分間撹拌を続けた。得られた混合液は、S
iO23.16重量%、pH9,3を示し、SiO2/
Na2oモル比7o、Ca0180ppmである。次に
上記混合液を内容量25℃のステンレス製オートクレー
ブ容器に仕込み、 130℃で6時間加熱処理を行なっ
た。得られたシリカゾルは電子顕微鏡観察の結果、コロ
イダルシリカ粒子の形状は、球状粒子が連接した形状で
あり、一様な太さの伸長を有していなかった。
比較例8
実施例14て用いられたものと同じ市販の酸性水性シリ
カゾルを限外濾過法により濃縮したシリカゾル(BET
法による粒子径12ミリミクロン、5iO230重量%
、比重1.1208、pH2,9、粘度2、5cp)
2000 gを内容量3f2のガラス製容器に投入し、
次いで10重量%の硝酸カルシウム水溶液879gを撹
拌下に添加し、室温で1o分撹拌した。更に10重量%
水酸化ナトリウム水溶液80gを撹拌下に室温で添加し
、10分間撹拌を続けた。得られた混合液は、5x02
27.7重量%、p++9.85を示し、SiO2/
Na2Oモル比100、CaO1500ppmである。
カゾルを限外濾過法により濃縮したシリカゾル(BET
法による粒子径12ミリミクロン、5iO230重量%
、比重1.1208、pH2,9、粘度2、5cp)
2000 gを内容量3f2のガラス製容器に投入し、
次いで10重量%の硝酸カルシウム水溶液879gを撹
拌下に添加し、室温で1o分撹拌した。更に10重量%
水酸化ナトリウム水溶液80gを撹拌下に室温で添加し
、10分間撹拌を続けた。得られた混合液は、5x02
27.7重量%、p++9.85を示し、SiO2/
Na2Oモル比100、CaO1500ppmである。
次に上記混合液を内容量25eのステンレス製オートク
レーブ容器に仕込み、130℃で6時間加熱処理を行な
った。結果は、容器内にゲル状物が生成し、流動性を示
さなかった。
レーブ容器に仕込み、130℃で6時間加熱処理を行な
った。結果は、容器内にゲル状物が生成し、流動性を示
さなかった。
(発明の効果)
本発明のゾルは、従来のシリカゾルに比べ、種々の用途
において改良をもたらす。組成物をつくるために従来の
シリカゾルに加えられた成分は、本発明のシリカゾルに
対しても加えることができ、得られた新規な組成物は、
従来の組成物よりも増粘乃至ゲル化性が高い。混用され
る成分の例としては、前記の如(従来から知られている
球状シリカゾル、解膠法による非球状シリカゾル、アル
カリ金属シリケート、アルキルシリケートの加水分解液
、アルミナゾル、その他の金属酸化物ゾル、水溶性樹脂
、樹脂エマルジョン、増粘剤、消泡剤、界面活性剤、耐
火物粉末、金属粉末、ベントナイト、顔料、カップリン
グ剤等が挙げられる。
において改良をもたらす。組成物をつくるために従来の
シリカゾルに加えられた成分は、本発明のシリカゾルに
対しても加えることができ、得られた新規な組成物は、
従来の組成物よりも増粘乃至ゲル化性が高い。混用され
る成分の例としては、前記の如(従来から知られている
球状シリカゾル、解膠法による非球状シリカゾル、アル
カリ金属シリケート、アルキルシリケートの加水分解液
、アルミナゾル、その他の金属酸化物ゾル、水溶性樹脂
、樹脂エマルジョン、増粘剤、消泡剤、界面活性剤、耐
火物粉末、金属粉末、ベントナイト、顔料、カップリン
グ剤等が挙げられる。
従来から用いられている種々の塗料成分と共に本発明の
シリカゾルを配合することにより、無機塗料、耐熱塗料
、防食塗料、無機−有機複合塗料等を調製することがで
きる。本発明のシリカゾルを含有する塗料から形成され
た乾燥塗膜にはピンホールが少なく、クラックも殆ど見
られない。この塗膜は、又、平滑性を有し、衝撃力を吸
収し易い柔らかさがあり、基材との密着性、保水性、帯
電防止性のいずれも良好である。本発明のシリカゾルを
含有する無機塗料から形成された焼成塗膜は良好な耐熱
性を示す。
シリカゾルを配合することにより、無機塗料、耐熱塗料
、防食塗料、無機−有機複合塗料等を調製することがで
きる。本発明のシリカゾルを含有する塗料から形成され
た乾燥塗膜にはピンホールが少なく、クラックも殆ど見
られない。この塗膜は、又、平滑性を有し、衝撃力を吸
収し易い柔らかさがあり、基材との密着性、保水性、帯
電防止性のいずれも良好である。本発明のシリカゾルを
含有する無機塗料から形成された焼成塗膜は良好な耐熱
性を示す。
本発明のシリカゾルに種々の接着剤成分を配合すること
により、無機接着剤、耐熱接着剤、無機−有機複合接着
剤等を調製することができる。
により、無機接着剤、耐熱接着剤、無機−有機複合接着
剤等を調製することができる。
本発明のシリカゾルを含有するこれら塗料、接着剤等は
、種々の基材、例えば、ガラス、セラミックス、金属、
プラスチックス、木材、繊維、紙等の表面に適用するこ
とができる。
、種々の基材、例えば、ガラス、セラミックス、金属、
プラスチックス、木材、繊維、紙等の表面に適用するこ
とができる。
本発明のシリカゾルは、通常のガラス繊維、セラミック
繊維、その他の無機繊維等のフェルト状物に含浸させる
ことができる。また、これらの短繊維と本発明のシリカ
ゾルとを混合することもできる。そして、この本発明の
シリカゾルが含浸されたフェルト状物を乾燥すると、強
度の高いフェルト状物が得られる。また、上記短繊維と
本発明のシリカゾルの混合物をシート状、マット状、そ
の他の形状に成形した後乾燥すると、やはり強度の高い
シート、マット、成形品等が得られる。これら得られた
フェルト状物、シート、マット、成形品等の表面には、
従来のシリカゾルを同様に用いたときに見られる表面の
粉立ちが現出しない。従って、これら無機繊維等に共通
に結合剤として用いられた本発明のシリカゾルのコロイ
ダルシリカ粒子は、乾燥の際に内部からこれら無機繊維
成形体の表面への移行が殆ど起らないことを示している
。これら乾燥された成形品は、改良品として耐熱性断熱
材、その他の用途に提供される。
繊維、その他の無機繊維等のフェルト状物に含浸させる
ことができる。また、これらの短繊維と本発明のシリカ
ゾルとを混合することもできる。そして、この本発明の
シリカゾルが含浸されたフェルト状物を乾燥すると、強
度の高いフェルト状物が得られる。また、上記短繊維と
本発明のシリカゾルの混合物をシート状、マット状、そ
の他の形状に成形した後乾燥すると、やはり強度の高い
シート、マット、成形品等が得られる。これら得られた
フェルト状物、シート、マット、成形品等の表面には、
従来のシリカゾルを同様に用いたときに見られる表面の
粉立ちが現出しない。従って、これら無機繊維等に共通
に結合剤として用いられた本発明のシリカゾルのコロイ
ダルシリカ粒子は、乾燥の際に内部からこれら無機繊維
成形体の表面への移行が殆ど起らないことを示している
。これら乾燥された成形品は、改良品として耐熱性断熱
材、その他の用途に提供される。
本発明のシリカゾルは、多孔質組織を有する基材の表面
処理剤として用いることもできる。
処理剤として用いることもできる。
例えば、コンクリート、モルタル、セメント、石膏、粘
土等の硬化物表面に適用すると、このシリカゾルはその
表面から内部へ含浸し、乾燥の後には改良された表面層
が得られる。天然及び合成の繊維、それらの繊維製品、
紙、木材等へも表面処理剤として用いることができる。
土等の硬化物表面に適用すると、このシリカゾルはその
表面から内部へ含浸し、乾燥の後には改良された表面層
が得られる。天然及び合成の繊維、それらの繊維製品、
紙、木材等へも表面処理剤として用いることができる。
その他鋳物の封孔処理剤としても用いられる。
本発明のシリカゾルと耐火物粉末を含有するスラリーか
ら金属鋳造用の鋳型をつくることができる。このスラリ
ーは、乾燥によるゲル化速度が速いので鋳型の生産能率
を高め、又、焼成の際に鋳型に生じるクラックの発生率
を低下させる。
ら金属鋳造用の鋳型をつくることができる。このスラリ
ーは、乾燥によるゲル化速度が速いので鋳型の生産能率
を高め、又、焼成の際に鋳型に生じるクラックの発生率
を低下させる。
本発明のシリカゾルを有機樹脂エマルジョン、樹脂溶液
等に混合した後、分散媒を除去すると、樹脂中にシリカ
を含有する樹脂組成物が得られる。この樹脂組成物は、
高強度、耐汚染性、高い表面硬度、親水性等の好ましい
性質を有するから、上記混合物又は樹脂組成物から改良
された繊維、フィルム、成形品等が得られる。重合性の
モノマー中に本発明のシリカゾルのコロイダルシリカ粒
子を分散させてからこのモノマーを重合させることによ
っても、好ましい樹脂組成物、繊維、フィルム、成形品
等が得られる。
等に混合した後、分散媒を除去すると、樹脂中にシリカ
を含有する樹脂組成物が得られる。この樹脂組成物は、
高強度、耐汚染性、高い表面硬度、親水性等の好ましい
性質を有するから、上記混合物又は樹脂組成物から改良
された繊維、フィルム、成形品等が得られる。重合性の
モノマー中に本発明のシリカゾルのコロイダルシリカ粒
子を分散させてからこのモノマーを重合させることによ
っても、好ましい樹脂組成物、繊維、フィルム、成形品
等が得られる。
触媒担体成分、吸着剤成分、成形用耐火物成分等に本発
明のシリカゾルを加えてからそれぞれ成形すると、やは
り好ましい触媒担体、吸着剤、耐火物等が得られる。
明のシリカゾルを加えてからそれぞれ成形すると、やは
り好ましい触媒担体、吸着剤、耐火物等が得られる。
本発明のシリカゾルは、更に、増粘剤、ゲル化剤等とし
ても用いられる。例えば、ペースト状或いは可塑状で酸
類が用いられる用途には、りん酸、蓚酸、酪酸、クロム
酸等に本発明のシリカゾルを加えることによってペース
ト状又は可塑状の酸が調製される。電池の電解液の希硫
酸に本発明のシリカゾルを加えると、非流動性のゲルに
変じ、電池が横転しても電解液の流出は防止される。軟
弱地盤を強化させるために、この地盤中に注入されるゲ
ル化性の液状注入剤、即ちグラウト剤組成物も、本発明
のシリカゾルに塩類等ゲル化剤を加えることにより改良
されたグラウト剤が得られ、地盤の強化、耐流水性等の
向上をもたらす。
ても用いられる。例えば、ペースト状或いは可塑状で酸
類が用いられる用途には、りん酸、蓚酸、酪酸、クロム
酸等に本発明のシリカゾルを加えることによってペース
ト状又は可塑状の酸が調製される。電池の電解液の希硫
酸に本発明のシリカゾルを加えると、非流動性のゲルに
変じ、電池が横転しても電解液の流出は防止される。軟
弱地盤を強化させるために、この地盤中に注入されるゲ
ル化性の液状注入剤、即ちグラウト剤組成物も、本発明
のシリカゾルに塩類等ゲル化剤を加えることにより改良
されたグラウト剤が得られ、地盤の強化、耐流水性等の
向上をもたらす。
本発明のシリカゾルは、高い安定性を示し、その媒体の
除去によって終局的に不可逆的にゲルに変る性質を有す
るが、このゾルを構成するコロイダルシリカ粒子は前記
の如き細長い形状を有するので、このゾルがゲル化する
際に、或いは硬化後には、このゾルに由来する独特の性
質を示す。上記用途の他にも種々の用途に有用であるこ
とは容易に理解されよう。
除去によって終局的に不可逆的にゲルに変る性質を有す
るが、このゾルを構成するコロイダルシリカ粒子は前記
の如き細長い形状を有するので、このゾルがゲル化する
際に、或いは硬化後には、このゾルに由来する独特の性
質を示す。上記用途の他にも種々の用途に有用であるこ
とは容易に理解されよう。
第1図は、実施例1て得られた濃縮ゾルのコロイダルシ
リカの粒子構造を示す20万倍の透過型電子顕微鏡写真
である。第2図は、比較例1て得られた濃縮ゾルのコロ
イダルシリカの粒子構造を示す20万倍の透過型電子顕
微鏡写真であり、第3図は、比較例2て得られた濃縮ゾ
ルのコロイダルシリカの粒子構造を示す20万倍の透過
型電子顕微鏡写真である。第4図は、実施例14て得ら
れた濃縮前の本発明のゾルのコロイダルシリカの粒子構
造を示す20万倍の電子顕微鏡写真である。
リカの粒子構造を示す20万倍の透過型電子顕微鏡写真
である。第2図は、比較例1て得られた濃縮ゾルのコロ
イダルシリカの粒子構造を示す20万倍の透過型電子顕
微鏡写真であり、第3図は、比較例2て得られた濃縮ゾ
ルのコロイダルシリカの粒子構造を示す20万倍の透過
型電子顕微鏡写真である。第4図は、実施例14て得ら
れた濃縮前の本発明のゾルのコロイダルシリカの粒子構
造を示す20万倍の電子顕微鏡写真である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)動的光散乱法による測定粒子径(D_1mμ)と
窒素ガス吸着法による測定粒子径(D_2mμ)の比D
_1/D_2が5以上であって、このD_1は40〜5
00ミリミクロンであり、そして電子顕微鏡観察による
5〜40ミリミクロンの範囲内の一様な太さで一平面内
のみの伸長を有する細長い形状の非晶質コロイダルシリ
カ粒 子が液状媒体中に分散されてなるSiO_2濃度0.5
〜30重量%の安定なシリカゾル。 (2)下記(a)、(b)及び(c)の工程からなる、
動的光散乱法による測定粒子径(D_1mμ)と窒素ガ
ス吸着法による測定粒子径(D_2mμ)の比D_1/
D_2が5以上であって、このD_1は40〜300ミ
リミクロンであり、そして電子顕微鏡観察による5〜2
0ミリミクロンの範囲内の一様な太さで一平面内のみの
伸長を有する細長い形状の非晶質コロイダルシリカ粒子
からなるSiO_2濃度1〜6重量%の安定なアルカリ
性水性シリカゾルの製造法; (a)SiO_2として1〜6重量%を含有し、かつ、
pHが2〜4である活性珪酸のコロイド水溶液に、水溶
性のカルシウム塩、マグネシウム塩又はこれらの混合物
を含有する水溶液 を、上記活性珪酸のSiO_2に対してCaO、MgO
又はこの両者として重量比1500〜8500ppmと
なる量加えて混合する工程 (b)(a)工程により得られた水溶液に、アルカリ金
属水酸化物、水溶性有機塩基又はそれらの水溶性珪酸塩
をSiO_2/M_2O(但し、SiO_2は上記活性
珪酸に由来するシリカ分と上記珪酸塩のシリカ分の含量
を、そしてMは上記アルカリ金属原子又は有機塩基の分
子を表わす。)モル比として20〜200となるように
加えて混合する工程 (c)(b)工程によって得られた混合物を60〜15
0℃で0.5〜40時間加熱する工程。 (3)(a)工程に用いられる活性珪酸のコロイド水溶
液が、SiO_2/Na_2Oモル比1〜4.5とSi
O_2濃度1〜6重量%を有するナトリウム水ガラスの
水溶液を水素型陽イオン交換樹脂と接触させることによ
り得られたものであること、SiO_2濃度1〜6重量
%とpH2〜4を有すること、そして3ミリミクロン以
上の粒径のコロイダルシリカを含まないものであること
を特徴とする請求項2に記載の安定なアルカリ性水性シ
リカゾルの製造法。 (4)下記(a)、(b)及び(c)の工程からなる、
動的光散乱法による測定粒子径(D_1mμ)と窒素ガ
ス吸着法による測定粒子径(D_2mμ)の比D_1/
D_2が5以上であって、このD_1は40〜300ミ
リミクロンであり、そして電子顕微鏡観察による5〜2
0ミリミクロンの範囲内の一様な太さで一平面内のみの
伸長を有する細長い形状の非晶質コロイダルシリカ粒子
からなるSiO_2濃度1〜6重量%の安定なアルカリ
性水性シリカゾルの製造法; (a)SiO_2として1〜6重量%を含有し、かつ、
4を越え5以下のpHを有する活性珪酸のコロイド水溶
液に、水溶性のカルシウム塩、マグネシウム塩又はこれ
らの混合物を含有する水溶液を、上記活性珪酸のSiO
_2に対してCaO、MgO又はこの両者として重量比
1500〜8500ppmとなる量加えて混合する工程
(b)(a)工程により得られた水溶液に、アルカリ金
属水酸化物、水溶性有機塩基又はそれらの水溶性珪酸塩
をSiO_2/M_2O(但し、SiO_2は上記活性
珪酸に由来するシリカ分と上記珪酸塩のシリカ分の含量
を、そしてMは上記アルカリ金属原子又は有機塩基の分
子を表わす。)モル比として20〜200となるように
加えて混合する工程 (c)(b)工程によって得られた混合物を60〜25
0℃で0.5〜40時間加熱する工程。 (5)(a)工程に用いられる活性珪酸のコロイド水溶
液が、SiO_2/Na_20Oモル比1〜4.5とS
iO_2濃度1〜6重量%を有するナトリウム水ガラス
の水溶液を水素型陽イオン交換樹脂と接触させることに
より得られたものであること、SiO_2濃度1〜6重
量%と4を越え5以下のpHを有すること、そして3ミ
リミクロン以上の粒径のコロイダルシリカを含まないも
のであることを特徴とする請求項4に記載の安定なアル
カリ性水性シリカゾルの製造法。 (6)請求項2〜5のいづれか1項に記載の(c)工程
によって得られたシリカゾルから、このゾルに含まれて
いる陰イオンと水とを、陰 イオン濃度0.1重量%以下及びSiO_2濃度2〜3
0重量%となるまで除去することを特徴とする、動的光
散乱法による測定粒子径(D_1mμ)と窒素ガス吸着
法による測定粒子径 (D_2mμ)の比D_1/D_2が5以上であって、
このD_1は40〜300ミリミクロンであり、そして
電子顕微鏡観察による5〜20ミリミクロンの範囲内の
一様な太さで一平面内のみの伸長を有する細長い形状の
非晶質コロイダルシリカ粒子からなるSiO_2濃度2
〜30重量%の安定なアルカリ性水性シリカゾルの製造
法。 (7)下記(a′)、(b′)及び(c′)の工程から
なる、動的光散乱法による測定粒子径(D_1mμ)と
窒素ガス吸着法による測定粒子径 (D_2mμ)との比D_1/D_2が5以上であって
、このD_1は40〜500ミリミクロンであり、そし
て電子顕微鏡観察による5〜40ミリミクロンの範囲内
の一様な太さで一平面内のみの伸長を有する細長い形状
の非晶質コロイダルシリカ粒子からなるSiO_2濃度
0.5〜25重量%の安定なアルカリ性水性シリカゾル
の製造法; (a′)平均粒子径3〜30ミリミクロンのコロイダル
シリカをSiO_2として0.5〜25重量%を含有し
、かつ、pHが1〜5である酸性水性シリカゾルに、水
溶性のカルシウム塩、マグネシウム塩又はこれらの混合
物を含有する水溶液を、上記酸性ゾルのSiO_2に対
してCaO、MgO又はこの両者として0.15〜1.
00重量%となる量加えて混合する工程、 (b′)(a′)工程により得られた液に、アルカリ金
属水酸化物、水溶性有機塩基又はそれらの水溶性珪酸塩
をSiO_2/M_2O(但し、SiO_2は上記酸性
ゾルに由来するシリカ分と上記珪酸塩のシリカ分の含量
を、そしてMは上記アルカリ金属原子又は有機塩基の分
子を表わす。)モル比として20〜300となるように
加えて混合する工程、(c′)(b′)工程によって得
られた混合物を60〜300℃で0.5〜40時間加熱
することにより、この混合物中に、上記(a′)工程に
用いられたコロイダルシリカの粒径以上の太さを有する
上記細長い形状のコロイダルシリカ粒子を生成させる工
程。 (8)請求項7に記載の(c′)工程によって得られた
シリカゾルから、このシリカゾルに含まれている陰イオ
ンと水とを、陰イオン濃度 0.1重量%以下及びSiO_2濃度1〜40重量%と
なるまで除去することを特徴とする、動的光散乱法によ
る測定粒子径(D_1mμ)と窒素ガス吸着法による測
定粒子径(D_2mμ)の比D_1/D_2が5以上で
あって、このD_1は40〜500ミリミクロンであり
、そして電子顕微鏡観察による5〜40ミリミクロンの
範囲内の一様な太さで一平面内のみの伸長を有する細長
い形状の非晶質コロイダルシリカ粒子からなる SiO_2濃度1〜40重量%の安定なアルカリ性水性
シリカゾルの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5227089A JP2803134B2 (ja) | 1988-03-16 | 1989-03-04 | 細長い形状のシリカゾル及びその製造法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6284988 | 1988-03-16 | ||
| JP63-62849 | 1988-03-16 | ||
| JP5227089A JP2803134B2 (ja) | 1988-03-16 | 1989-03-04 | 細長い形状のシリカゾル及びその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01317115A true JPH01317115A (ja) | 1989-12-21 |
| JP2803134B2 JP2803134B2 (ja) | 1998-09-24 |
Family
ID=26392876
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5227089A Expired - Lifetime JP2803134B2 (ja) | 1988-03-16 | 1989-03-04 | 細長い形状のシリカゾル及びその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2803134B2 (ja) |
Cited By (58)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5597512A (en) * | 1993-10-15 | 1997-01-28 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Method for preparing elongated-shaped silica sol |
| WO1999029635A1 (en) * | 1997-12-09 | 1999-06-17 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Antireflection glass plate, process for producing the same, and antireflection coating composition |
| WO2000006654A1 (en) * | 1998-07-31 | 2000-02-10 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Coating material and molded resin with coating layer |
| US6398827B1 (en) | 1999-07-02 | 2002-06-04 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Polishing composition |
| GB2382813A (en) * | 2000-06-26 | 2003-06-11 | Asahi Chemical Ind | Porous, fine inorganic particles |
| US6632489B1 (en) | 1998-09-10 | 2003-10-14 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Moniliform silica sol, process for producing the same, and ink-jet recording medium |
| JP2005145812A (ja) * | 2003-10-06 | 2005-06-09 | Tosoh Corp | 高濃度シリカスラリ−及びその製造方法 |
| JP2006501128A (ja) * | 2002-10-02 | 2006-01-12 | ダウ・コーニング・コーポレイション | 充填シリコーン組成物および硬化シリコーン生成物 |
| WO2007018069A1 (ja) * | 2005-08-10 | 2007-02-15 | Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. | 異形シリカゾルおよびその製造方法 |
| JP2007145633A (ja) * | 2005-11-25 | 2007-06-14 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | 異方形状シリカゾルの製造方法 |
| JP2007153671A (ja) * | 2005-12-05 | 2007-06-21 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | 異方形状シリカゾルの製造方法 |
| JP2007532470A (ja) * | 2004-04-19 | 2007-11-15 | ナルコ カンパニー | コロイド状組成物およびその調製方法 |
| JP2008024542A (ja) * | 2006-07-20 | 2008-02-07 | Fuji Kagaku Kk | シリカゾル及びその製造方法 |
| WO2008041681A1 (fr) | 2006-10-02 | 2008-04-10 | Asahi Glass Company, Limited | Composition de revêtement destinée à la formation d'un film antireflet, et article sur lequel est formé un film antireflet |
| JP2008137876A (ja) * | 2006-12-05 | 2008-06-19 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | シリカゾルおよびこれを含む塗料組成物 |
| WO2008093422A1 (ja) * | 2007-02-01 | 2008-08-07 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | 細長い形状を有するシリカゾルの製造方法 |
| WO2008093775A1 (ja) * | 2007-02-02 | 2008-08-07 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | 反応性モノマー分散シリカゾル、その製造方法、硬化用組成物及びその硬化体 |
| WO2008143225A1 (ja) * | 2007-05-18 | 2008-11-27 | Hitachi Metals, Ltd. | セラミックハニカム構造体の製造方法及びセラミックハニカム構造体 |
| WO2009069429A1 (ja) | 2007-11-29 | 2009-06-04 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | シリカ含有エポキシ硬化剤及びエポキシ樹脂硬化体 |
| US7553358B2 (en) | 2007-05-01 | 2009-06-30 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink jet ink, ink jet recording method, ink cartridge, recording unit and ink jet recording apparatus |
| JP2009529089A (ja) * | 2006-03-08 | 2009-08-13 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | シリカナノ粒子を含有する感圧性接着剤 |
| JP2009184855A (ja) * | 2008-02-04 | 2009-08-20 | Nippon Chem Ind Co Ltd | ε−カプロラクタムが固定化されたシリカ粒子よりなるコロイダルシリカ |
| JP2010519347A (ja) * | 2007-02-16 | 2010-06-03 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 多官能性アジリジンで架橋された針状シリカ粒子を含有する感圧性接着剤 |
| WO2010071010A1 (ja) * | 2008-12-18 | 2010-06-24 | 日揮触媒化成株式会社 | 鎖状シリカ系中空微粒子とその製造方法、該微粒子を含む透明被膜形成用塗布液および透明被膜付基材 |
| JP2010265139A (ja) * | 2009-05-14 | 2010-11-25 | Nippon Chem Ind Co Ltd | コロイダルシリカおよびその製造方法 |
| JP2011042522A (ja) * | 2009-08-20 | 2011-03-03 | Nippon Chem Ind Co Ltd | コロイダルシリカおよびその製造方法 |
| JP2011201719A (ja) * | 2010-03-25 | 2011-10-13 | Fuso Chemical Co Ltd | コロイダルシリカの二次粒子径調整方法 |
| US8114178B2 (en) | 2007-04-23 | 2012-02-14 | Nippon Chemical Industrial Co., Ltd. | Polishing composition for semiconductor wafer and polishing method |
| US8118898B2 (en) | 2006-10-12 | 2012-02-21 | Jgc Catalysts And Chemicals Ltd. | Spinous silica-based sol and method of producing the same |
| US8153212B2 (en) | 2008-06-23 | 2012-04-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink jet recording medium |
| US8187351B2 (en) | 2006-11-30 | 2012-05-29 | Jgc Catalysts And Chemicals Ltd. | Sol of spinous inorganic oxide particles, method of producing the sol, and polishing agent containing the sol |
| KR20130009584A (ko) | 2011-07-06 | 2013-01-23 | 후지제롯쿠스 가부시끼가이샤 | 실리카 입자, 그 제조 방법 및 수지 입자 |
| JP2013091589A (ja) * | 2011-10-27 | 2013-05-16 | Nissan Chem Ind Ltd | 多孔質2次凝集シリカゾル及びその製造方法 |
| US8529787B2 (en) | 2008-09-26 | 2013-09-10 | Fuso Chemical Co., Ltd. | Colloidal silica containing silica secondary particles having bent structure and/or branched structure, and method for producing same |
| KR20140120340A (ko) | 2012-02-02 | 2014-10-13 | 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 | 저굴절율 막형성용 조성물 |
| US8871344B2 (en) | 2010-06-25 | 2014-10-28 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Hydrophobization treatment of silica particles |
| US8962139B2 (en) | 2011-01-20 | 2015-02-24 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Resin particle and method for producing the same |
| US9187502B2 (en) | 2010-06-24 | 2015-11-17 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Silica particles and method for producing the same |
| US9243145B2 (en) | 2013-01-28 | 2016-01-26 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Silica composite particles and method of preparing the same |
| US9272916B2 (en) | 2007-11-30 | 2016-03-01 | Jgc Catalysts And Chemicals Ltd. | Non-spherical silica sol, process for producing the same, and composition for polishing |
| US9394413B2 (en) | 2011-01-19 | 2016-07-19 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Resin particle and method for producing the same |
| US9416015B2 (en) | 2010-06-23 | 2016-08-16 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Method of producing silica particles |
| JP2016179930A (ja) * | 2015-03-25 | 2016-10-13 | 日本碍子株式会社 | 外周コート材、接合材、ハニカム構造体、及びハニカム構造体の製造方法 |
| US9708191B2 (en) | 2011-12-01 | 2017-07-18 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Silica composite particles and method of preparing the same |
| JP2018070781A (ja) * | 2016-10-31 | 2018-05-10 | 国立大学法人徳島大学 | 植物成長調整用コーティング組成物 |
| WO2019182100A1 (ja) | 2018-03-22 | 2019-09-26 | 日東電工株式会社 | 光学部材及びその製造方法 |
| WO2020067344A1 (ja) | 2018-09-28 | 2020-04-02 | 日東電工株式会社 | 両面粘着剤層付光学積層体 |
| WO2020067345A1 (ja) | 2018-09-28 | 2020-04-02 | 日東電工株式会社 | 両面粘着剤層付光学積層体 |
| WO2020116045A1 (ja) | 2018-12-06 | 2020-06-11 | 日東電工株式会社 | 光学積層体 |
| JP2020518680A (ja) * | 2017-03-08 | 2020-06-25 | シラナ ゲーエムベーハー | 断熱材料 |
| CN111788154A (zh) * | 2018-02-26 | 2020-10-16 | 日产化学株式会社 | 具有细长的粒子形状的硅溶胶的制造方法 |
| KR20200124249A (ko) | 2018-02-26 | 2020-11-02 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | 가늘고 긴 입자형상을 갖는 실리카졸의 제조방법 |
| US10859871B2 (en) | 2015-09-28 | 2020-12-08 | Nitto Denko Corporation | Optical member, and polarizing plate set and liquid crystal display device that use said optical member |
| JP2021065825A (ja) * | 2019-10-21 | 2021-04-30 | 日揮触媒化成株式会社 | 有機反応触媒用担体粒子分散液および有機反応触媒 |
| JP2021185233A (ja) * | 2016-08-23 | 2021-12-09 | 日産化学株式会社 | ハイバーブランチ高分子又はデンドリマー高分子付加異形シリカナノ粒子並びに複合体 |
| CN115028435A (zh) * | 2021-07-12 | 2022-09-09 | 张家港市恒乐阳方高温材料有限公司 | 一种高致密度中间包干式料及其制备方法 |
| WO2023058745A1 (ja) | 2021-10-08 | 2023-04-13 | 三菱マテリアル電子化成株式会社 | 鎖状のコロイダルシリカ粒子分散ゾル及びその製造方法 |
| WO2023068152A1 (ja) | 2021-10-18 | 2023-04-27 | 三菱マテリアル電子化成株式会社 | 表面処理シリカ粒子分散ゾル及びその製造方法 |
Families Citing this family (30)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6460988B1 (en) | 2000-06-12 | 2002-10-08 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink set, recording method, recording unit, ink cartridge and recording apparatus |
| US6702882B2 (en) | 2000-06-23 | 2004-03-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink set, ink jet recording method, recording unit, ink cartridge and ink jet recording apparatus |
| CA2356809C (en) | 2000-09-04 | 2005-11-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink set for ink jet recording |
| US6811839B2 (en) | 2000-11-09 | 2004-11-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Recording medium and image forming process using the same |
| US7008671B2 (en) | 2000-12-28 | 2006-03-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Recorded matter, method of producing recorded matter, method for improving image fastness, image fastness-improving agent, image fastness improving kit, dispenser, and applicator |
| US6833158B2 (en) | 2001-08-09 | 2004-12-21 | Canon Kabushiki Kaisha | Coating apparatus and coating method of liquid for protection of recorded product, and protection process of recorded product |
| US6851880B2 (en) | 2001-09-04 | 2005-02-08 | Canon Kabushiki Kaisha | Coating tool and coating set |
| JP3793222B2 (ja) | 2004-07-02 | 2006-07-05 | キヤノン株式会社 | インクジェット用インク、インクセット、インクジェット記録方法、インクカートリッジ、記録ユニット、及びインクジェット記録装置 |
| JP3977385B2 (ja) | 2004-07-02 | 2007-09-19 | キヤノン株式会社 | インクジェット用インク、インクジェット記録方法、インクカートリッジ、記録ユニット及びインクジェット記録装置 |
| JP3885086B2 (ja) | 2004-07-02 | 2007-02-21 | キヤノン株式会社 | インクジェット用ブラックインク、インクセット、インクジェット記録方法、インクカートリッジ、記録ユニット及びインクジェット記録装置 |
| JP3833235B2 (ja) | 2004-07-02 | 2006-10-11 | キヤノン株式会社 | インク、インクジェット記録方法、記録ユニット、インクカートリッジ及びインクジェット記録装置 |
| JP3793223B2 (ja) | 2004-07-02 | 2006-07-05 | キヤノン株式会社 | インクジェット用インク、インクジェット記録方法、インクカートリッジ、記録ユニット、及びインクジェット記録装置 |
| JP2006063330A (ja) | 2004-07-29 | 2006-03-09 | Canon Inc | インクジェット用インク、インクジェット記録方法、インクカートリッジ、記録ユニット及びインクジェット記録装置 |
| JP4794936B2 (ja) | 2004-07-29 | 2011-10-19 | キヤノン株式会社 | インクセット、インクジェット記録方法、インクカートリッジのセット及び記録ユニット |
| JP4794940B2 (ja) | 2004-08-04 | 2011-10-19 | キヤノン株式会社 | インクタンク、インクジェット記録方法及びインクタンクの再生方法 |
| JP4324138B2 (ja) | 2004-08-04 | 2009-09-02 | キヤノン株式会社 | インクセット、インクジェット記録方法、記録ユニット及びインクジェット記録装置 |
| JP2006070258A (ja) | 2004-08-04 | 2006-03-16 | Canon Inc | インクジェット用イエローインク、インクジェット用淡インク、インクセット、インクジェット記録方法、インクカートリッジ、記録ユニット及びインクジェット記録装置 |
| WO2006129823A1 (ja) | 2005-05-31 | 2006-12-07 | Canon Kabushiki Kaisha | 画像退色防止剤、画像形成要素、被記録媒体、画像形成方法、及び画像 |
| JP4795221B2 (ja) | 2005-12-21 | 2011-10-19 | キヤノン株式会社 | インク、インクジェット記録方法、記録ユニット、インクカートリッジ、及びインクジェット記録装置 |
| JP2007247166A (ja) * | 2006-03-14 | 2007-09-27 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 道路鏡 |
| JP2008038090A (ja) | 2006-08-09 | 2008-02-21 | Kao Corp | インクジェット記録用水系インク |
| US7611571B2 (en) | 2007-05-01 | 2009-11-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink, ink jet recording method, ink cartridge, recording unit, and ink jet recording apparatus |
| US7618484B2 (en) | 2007-05-01 | 2009-11-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink jet ink, ink jet recording method, ink cartridge, recording unit and ink jet recording apparatus |
| US7550037B2 (en) | 2007-07-05 | 2009-06-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink, ink jet recording method, ink cartridge, recording unit and ink jet recording apparatus |
| US7566362B2 (en) | 2007-08-10 | 2009-07-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink, ink jet recording method, ink cartridge, recording unit and ink jet recording apparatus |
| WO2009113702A1 (en) | 2008-03-14 | 2009-09-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink jet recording medium and production process thereof, and fine particle dispersion |
| JP5835965B2 (ja) | 2011-02-28 | 2015-12-24 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録用インク及びインクジェット記録方法 |
| JP2012233051A (ja) * | 2011-04-28 | 2012-11-29 | Asahi Kasei Chemicals Corp | 塗料組成物 |
| JP2013043927A (ja) | 2011-08-23 | 2013-03-04 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | ゴム組成物及び空気入りタイヤ |
| JP5816608B2 (ja) | 2012-05-11 | 2015-11-18 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録用インク及びインクジェット記録方法 |
-
1989
- 1989-03-04 JP JP5227089A patent/JP2803134B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (80)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5597512A (en) * | 1993-10-15 | 1997-01-28 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Method for preparing elongated-shaped silica sol |
| WO1999029635A1 (en) * | 1997-12-09 | 1999-06-17 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Antireflection glass plate, process for producing the same, and antireflection coating composition |
| WO2000006654A1 (en) * | 1998-07-31 | 2000-02-10 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Coating material and molded resin with coating layer |
| US6348537B2 (en) | 1998-07-31 | 2002-02-19 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Coating agent, and resin molded article having coated layer |
| US6632489B1 (en) | 1998-09-10 | 2003-10-14 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Moniliform silica sol, process for producing the same, and ink-jet recording medium |
| US6398827B1 (en) | 1999-07-02 | 2002-06-04 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Polishing composition |
| GB2382813A (en) * | 2000-06-26 | 2003-06-11 | Asahi Chemical Ind | Porous, fine inorganic particles |
| GB2382813B (en) * | 2000-06-26 | 2004-07-14 | Asahi Chemical Ind | Porous inorganic fine particles |
| JP2006501128A (ja) * | 2002-10-02 | 2006-01-12 | ダウ・コーニング・コーポレイション | 充填シリコーン組成物および硬化シリコーン生成物 |
| JP2005145812A (ja) * | 2003-10-06 | 2005-06-09 | Tosoh Corp | 高濃度シリカスラリ−及びその製造方法 |
| JP2007532470A (ja) * | 2004-04-19 | 2007-11-15 | ナルコ カンパニー | コロイド状組成物およびその調製方法 |
| WO2007018069A1 (ja) * | 2005-08-10 | 2007-02-15 | Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. | 異形シリカゾルおよびその製造方法 |
| JP2013032276A (ja) * | 2005-08-10 | 2013-02-14 | Jgc Catalysts & Chemicals Ltd | 異形シリカゾル |
| JP5127452B2 (ja) * | 2005-08-10 | 2013-01-23 | 日揮触媒化成株式会社 | 異形シリカゾルの製造方法 |
| JP2007145633A (ja) * | 2005-11-25 | 2007-06-14 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | 異方形状シリカゾルの製造方法 |
| JP2007153671A (ja) * | 2005-12-05 | 2007-06-21 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | 異方形状シリカゾルの製造方法 |
| JP2009529089A (ja) * | 2006-03-08 | 2009-08-13 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | シリカナノ粒子を含有する感圧性接着剤 |
| JP2008024542A (ja) * | 2006-07-20 | 2008-02-07 | Fuji Kagaku Kk | シリカゾル及びその製造方法 |
| WO2008041681A1 (fr) | 2006-10-02 | 2008-04-10 | Asahi Glass Company, Limited | Composition de revêtement destinée à la formation d'un film antireflet, et article sur lequel est formé un film antireflet |
| US8118898B2 (en) | 2006-10-12 | 2012-02-21 | Jgc Catalysts And Chemicals Ltd. | Spinous silica-based sol and method of producing the same |
| US8187351B2 (en) | 2006-11-30 | 2012-05-29 | Jgc Catalysts And Chemicals Ltd. | Sol of spinous inorganic oxide particles, method of producing the sol, and polishing agent containing the sol |
| JP2008137876A (ja) * | 2006-12-05 | 2008-06-19 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | シリカゾルおよびこれを含む塗料組成物 |
| JP5019076B2 (ja) * | 2007-02-01 | 2012-09-05 | 日産化学工業株式会社 | 細長い形状を有するシリカゾルの製造方法 |
| DE112007003301T5 (de) | 2007-02-01 | 2009-12-17 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Verfahren zur Herstellung eines verlängerten Silicasols |
| WO2008093422A1 (ja) * | 2007-02-01 | 2008-08-07 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | 細長い形状を有するシリカゾルの製造方法 |
| JP5376124B2 (ja) * | 2007-02-02 | 2013-12-25 | 日産化学工業株式会社 | 反応性モノマー分散シリカゾル、その製造方法、硬化用組成物及びその硬化体 |
| US7999026B2 (en) | 2007-02-02 | 2011-08-16 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Reactive monomer-dispersed silica sol and production method thereof, and curable composition and cured article thereof |
| WO2008093775A1 (ja) * | 2007-02-02 | 2008-08-07 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | 反応性モノマー分散シリカゾル、その製造方法、硬化用組成物及びその硬化体 |
| JP2010519347A (ja) * | 2007-02-16 | 2010-06-03 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 多官能性アジリジンで架橋された針状シリカ粒子を含有する感圧性接着剤 |
| US8114178B2 (en) | 2007-04-23 | 2012-02-14 | Nippon Chemical Industrial Co., Ltd. | Polishing composition for semiconductor wafer and polishing method |
| US7553358B2 (en) | 2007-05-01 | 2009-06-30 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink jet ink, ink jet recording method, ink cartridge, recording unit and ink jet recording apparatus |
| JP5525258B2 (ja) * | 2007-05-18 | 2014-06-18 | 日立金属株式会社 | セラミックハニカム構造体の製造方法及びセラミックハニカム構造体 |
| US8642137B2 (en) | 2007-05-18 | 2014-02-04 | Hitachi Metals, Ltd. | Ceramic honeycomb structure and its production method |
| WO2008143225A1 (ja) * | 2007-05-18 | 2008-11-27 | Hitachi Metals, Ltd. | セラミックハニカム構造体の製造方法及びセラミックハニカム構造体 |
| WO2009069429A1 (ja) | 2007-11-29 | 2009-06-04 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | シリカ含有エポキシ硬化剤及びエポキシ樹脂硬化体 |
| US9272916B2 (en) | 2007-11-30 | 2016-03-01 | Jgc Catalysts And Chemicals Ltd. | Non-spherical silica sol, process for producing the same, and composition for polishing |
| US10160894B2 (en) | 2007-11-30 | 2018-12-25 | Jgc Catalysts And Chemicals Ltd. | Non-spherical silica sol, process for producing the same, and composition for polishing |
| JP2009184855A (ja) * | 2008-02-04 | 2009-08-20 | Nippon Chem Ind Co Ltd | ε−カプロラクタムが固定化されたシリカ粒子よりなるコロイダルシリカ |
| US8153212B2 (en) | 2008-06-23 | 2012-04-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink jet recording medium |
| US8529787B2 (en) | 2008-09-26 | 2013-09-10 | Fuso Chemical Co., Ltd. | Colloidal silica containing silica secondary particles having bent structure and/or branched structure, and method for producing same |
| JPWO2010071010A1 (ja) * | 2008-12-18 | 2012-05-24 | 日揮触媒化成株式会社 | 鎖状シリカ系中空微粒子とその製造方法、該微粒子を含む透明被膜形成用塗布液および透明被膜付基材 |
| KR20110103934A (ko) * | 2008-12-18 | 2011-09-21 | 닛키 쇼쿠바이카세이 가부시키가이샤 | 쇄상 실리카계 중공 미립자와 그 제조방법, 그 미립자를 포함한 투명 피막 형성용 도포액 및 투명 피막 부착 기재 |
| WO2010071010A1 (ja) * | 2008-12-18 | 2010-06-24 | 日揮触媒化成株式会社 | 鎖状シリカ系中空微粒子とその製造方法、該微粒子を含む透明被膜形成用塗布液および透明被膜付基材 |
| JP2010265139A (ja) * | 2009-05-14 | 2010-11-25 | Nippon Chem Ind Co Ltd | コロイダルシリカおよびその製造方法 |
| JP2011042522A (ja) * | 2009-08-20 | 2011-03-03 | Nippon Chem Ind Co Ltd | コロイダルシリカおよびその製造方法 |
| JP2011201719A (ja) * | 2010-03-25 | 2011-10-13 | Fuso Chemical Co Ltd | コロイダルシリカの二次粒子径調整方法 |
| US9416015B2 (en) | 2010-06-23 | 2016-08-16 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Method of producing silica particles |
| US9187502B2 (en) | 2010-06-24 | 2015-11-17 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Silica particles and method for producing the same |
| US8871344B2 (en) | 2010-06-25 | 2014-10-28 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Hydrophobization treatment of silica particles |
| US9394413B2 (en) | 2011-01-19 | 2016-07-19 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Resin particle and method for producing the same |
| US8962139B2 (en) | 2011-01-20 | 2015-02-24 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Resin particle and method for producing the same |
| KR20130009584A (ko) | 2011-07-06 | 2013-01-23 | 후지제롯쿠스 가부시끼가이샤 | 실리카 입자, 그 제조 방법 및 수지 입자 |
| US8431633B2 (en) | 2011-07-06 | 2013-04-30 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Silica particles, manufacturing method thereof and resin particles |
| JP2013091589A (ja) * | 2011-10-27 | 2013-05-16 | Nissan Chem Ind Ltd | 多孔質2次凝集シリカゾル及びその製造方法 |
| US9708191B2 (en) | 2011-12-01 | 2017-07-18 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Silica composite particles and method of preparing the same |
| KR20140120340A (ko) | 2012-02-02 | 2014-10-13 | 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 | 저굴절율 막형성용 조성물 |
| KR20200051853A (ko) | 2012-02-02 | 2020-05-13 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | 저굴절율 막형성용 조성물 |
| US9243145B2 (en) | 2013-01-28 | 2016-01-26 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Silica composite particles and method of preparing the same |
| US10472527B2 (en) | 2015-03-25 | 2019-11-12 | Ngk Insulators, Ltd. | Circumference coating material, bonding material, honeycomb structure, and method of producing honeycomb structure |
| JP2016179930A (ja) * | 2015-03-25 | 2016-10-13 | 日本碍子株式会社 | 外周コート材、接合材、ハニカム構造体、及びハニカム構造体の製造方法 |
| US10859871B2 (en) | 2015-09-28 | 2020-12-08 | Nitto Denko Corporation | Optical member, and polarizing plate set and liquid crystal display device that use said optical member |
| JP2021185233A (ja) * | 2016-08-23 | 2021-12-09 | 日産化学株式会社 | ハイバーブランチ高分子又はデンドリマー高分子付加異形シリカナノ粒子並びに複合体 |
| JP2018070781A (ja) * | 2016-10-31 | 2018-05-10 | 国立大学法人徳島大学 | 植物成長調整用コーティング組成物 |
| JP2020518680A (ja) * | 2017-03-08 | 2020-06-25 | シラナ ゲーエムベーハー | 断熱材料 |
| CN111788154B (zh) * | 2018-02-26 | 2024-03-29 | 日产化学株式会社 | 具有细长的粒子形状的硅溶胶的制造方法 |
| US11897774B2 (en) | 2018-02-26 | 2024-02-13 | Nissan Chemical Corporation | Method for producing silica sol having elongated particle shape |
| US11814295B2 (en) | 2018-02-26 | 2023-11-14 | Nissan Chemical Corporation | Method for producing silica sol having elongated particle shape |
| CN111788154A (zh) * | 2018-02-26 | 2020-10-16 | 日产化学株式会社 | 具有细长的粒子形状的硅溶胶的制造方法 |
| KR20200124249A (ko) | 2018-02-26 | 2020-11-02 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | 가늘고 긴 입자형상을 갖는 실리카졸의 제조방법 |
| KR20200125603A (ko) | 2018-02-26 | 2020-11-04 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | 가늘고 긴 입자형상을 갖는 실리카졸의 제조방법 |
| WO2019182100A1 (ja) | 2018-03-22 | 2019-09-26 | 日東電工株式会社 | 光学部材及びその製造方法 |
| WO2020067345A1 (ja) | 2018-09-28 | 2020-04-02 | 日東電工株式会社 | 両面粘着剤層付光学積層体 |
| WO2020067344A1 (ja) | 2018-09-28 | 2020-04-02 | 日東電工株式会社 | 両面粘着剤層付光学積層体 |
| WO2020116045A1 (ja) | 2018-12-06 | 2020-06-11 | 日東電工株式会社 | 光学積層体 |
| JP2021065825A (ja) * | 2019-10-21 | 2021-04-30 | 日揮触媒化成株式会社 | 有機反応触媒用担体粒子分散液および有機反応触媒 |
| CN115028435A (zh) * | 2021-07-12 | 2022-09-09 | 张家港市恒乐阳方高温材料有限公司 | 一种高致密度中间包干式料及其制备方法 |
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