JPH01318209A - 永久磁石の表面処理方法 - Google Patents
永久磁石の表面処理方法Info
- Publication number
- JPH01318209A JPH01318209A JP15190088A JP15190088A JPH01318209A JP H01318209 A JPH01318209 A JP H01318209A JP 15190088 A JP15190088 A JP 15190088A JP 15190088 A JP15190088 A JP 15190088A JP H01318209 A JPH01318209 A JP H01318209A
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- JP
- Japan
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- oxide film
- magnet
- surface treatment
- rare
- thickness
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は希土類元素と遷移金属、及びボロンを基本成分
とする永久磁石の表面処理に関するものである。
とする永久磁石の表面処理に関するものである。
［従来の技術］
永久磁石は、一般家庭の各種電気製品から大型コンピュ
ーターの周辺末端４！！器まで幅広い分野で使用されて
いる重要な電気、電子材料の一つである。最近の電気製
品の小型化、高効率化の要求にともない、永久磁石も益
々高性能化が求められている。現在使用されている永久
磁石のうち代表的なものはアルニコ、ハードフェライト
及び希土類−遷移金属系磁石である。特に、希土類（以
下、Ｒと略す、）−遭移金Ｂ（以下、ＴＭと略す、）系
磁石であるＲ−Ｇｏ系永久磁石や、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久
磁石は高い磁気性能が得られるので従来から多くの研究
開発が行なわれている。
ーターの周辺末端４！！器まで幅広い分野で使用されて
いる重要な電気、電子材料の一つである。最近の電気製
品の小型化、高効率化の要求にともない、永久磁石も益
々高性能化が求められている。現在使用されている永久
磁石のうち代表的なものはアルニコ、ハードフェライト
及び希土類−遷移金属系磁石である。特に、希土類（以
下、Ｒと略す、）−遭移金Ｂ（以下、ＴＭと略す、）系
磁石であるＲ−Ｇｏ系永久磁石や、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久
磁石は高い磁気性能が得られるので従来から多くの研究
開発が行なわれている。
このＲ−ＴＭ−Ｂ系永久磁石は非常に活性なために、磁
石の酸化、錆等の腐食の問題がある。特にＲ−Ｆ ｅ−
Ｂ系磁石に於いては磁石表面の酸化が著しく、磁石単体
では使用することが困難であり、なんらかの酸化防止を
目的とした表面処理を施さなければならない、この表面
処理方法としては、磁石表面に蒸着やスパッタリングに
よる金属メツキや、エポキシやその他の樹脂によるコー
ティング等を施していた。
石の酸化、錆等の腐食の問題がある。特にＲ−Ｆ ｅ−
Ｂ系磁石に於いては磁石表面の酸化が著しく、磁石単体
では使用することが困難であり、なんらかの酸化防止を
目的とした表面処理を施さなければならない、この表面
処理方法としては、磁石表面に蒸着やスパッタリングに
よる金属メツキや、エポキシやその他の樹脂によるコー
ティング等を施していた。
［発明が解決しようとする課題］
しかしながら、このような表面処理方法は、保護膜が厚
い、磁石との密着性が悪い、吸水性がある、高価な装置
を必要とする等の問題点を有している。
い、磁石との密着性が悪い、吸水性がある、高価な装置
を必要とする等の問題点を有している。
本発明は以上の問題点を解決するもので、その目的とす
るところは、Ｒ−Ｔ Ｍ−Ｂ系永久磁石に強固で且つ緻
密な、耐候性のある保護皮膜を簡便な方法で施すところ
にある。
るところは、Ｒ−Ｔ Ｍ−Ｂ系永久磁石に強固で且つ緻
密な、耐候性のある保護皮膜を簡便な方法で施すところ
にある。
［課題を解決するための手段］
本発明による表面処理方法は、希土類元素（但しイツト
リウムを含む）と遷移金属、及びボロンを基本成分とす
る永久磁石に於て、前記基本成分から成る磁石表面が緻
密な希土類を主成分とする酸化膜で少なくとも０．０１
μｍ〜１０μｍでおおわれることを特徴とする永久磁石
の表面処理法である。
リウムを含む）と遷移金属、及びボロンを基本成分とす
る永久磁石に於て、前記基本成分から成る磁石表面が緻
密な希土類を主成分とする酸化膜で少なくとも０．０１
μｍ〜１０μｍでおおわれることを特徴とする永久磁石
の表面処理法である。
［作用コ
本発明者は、Ｒ−Ｔ Ｍ−Ｂ系磁石合金を酸化性雰囲気
中で熱処理する事により、その表面に希土類を主成分と
する酸化膜が形成する事を知見し、熱処理の雰囲気を制
御することにより、緻密な、且つ磁石との密着性もよい
膜を形成することができることを知見した。
中で熱処理する事により、その表面に希土類を主成分と
する酸化膜が形成する事を知見し、熱処理の雰囲気を制
御することにより、緻密な、且つ磁石との密着性もよい
膜を形成することができることを知見した。
室温、大気圧下では磁石表面層の酸化膜は、粉状であり
、時間とともに腐食が進行していく。しかし、酸素分圧
を低くし、２００℃〜４００℃の間で熱処理する事によ
り、黒色の緻密な希土類を主成分とする酸化膜が形成さ
れ、それ以上腐食は進行しない。この酸化膜は、０．０
１μｍ以下の場合では磁石表面に一様に形成することは
難しく、また、わずかの摩擦により金属表面が露呈して
しまい、その密着性、耐食性が不十分である。反対に１
０μｍ以上の酸化膜を形成した場合では緻密な膜が形成
されず、やはり、耐食性に問題が残る。また、磁石単体
としても磁性相以外の物質はできるだけ少ない方が良い
ことは明白であり、この酸化膜の厚みは０．０１〜１０
μｍの間が適当である。
、時間とともに腐食が進行していく。しかし、酸素分圧
を低くし、２００℃〜４００℃の間で熱処理する事によ
り、黒色の緻密な希土類を主成分とする酸化膜が形成さ
れ、それ以上腐食は進行しない。この酸化膜は、０．０
１μｍ以下の場合では磁石表面に一様に形成することは
難しく、また、わずかの摩擦により金属表面が露呈して
しまい、その密着性、耐食性が不十分である。反対に１
０μｍ以上の酸化膜を形成した場合では緻密な膜が形成
されず、やはり、耐食性に問題が残る。また、磁石単体
としても磁性相以外の物質はできるだけ少ない方が良い
ことは明白であり、この酸化膜の厚みは０．０１〜１０
μｍの間が適当である。
次に、本発明の実施例に次いて述べる。
［実施例１］
表１に本実施例で用いた合金の組成を示す。
表１の組成となるように、希土類元素、遷移金属元素、
およびボロンを秤量し、アルゴンガス雰囲気下で高周波
溶解炉にて溶解・鋳造する。
およびボロンを秤量し、アルゴンガス雰囲気下で高周波
溶解炉にて溶解・鋳造する。
記号ａの合金は例えば特開昭５９−４６００８号公報に
示されるような焼結法にて、その他のものは例えば特開
昭６２−２７６８０３号公開に示されるような鋳造−熱
間加工−熱処理にて磁石を作成した。
示されるような焼結法にて、その他のものは例えば特開
昭６２−２７６８０３号公開に示されるような鋳造−熱
間加工−熱処理にて磁石を作成した。
作成された各磁石を適当な大きさに切り出し、以下の条
件で表面処理を施した。
件で表面処理を施した。
表面処理条件＝ １
アルゴン＋酸素ガス、酸素分圧０．０１ａｔｍ温度
２５０℃ 時間 １０分 表面処理により、各磁石とも膜厚２〜５μｍの、黒色の
酸化膜の形成が認められた１表２に耐候性試験として、
４５°Ｃ湿度９５％恒温槽内２４時間放置したときの、
磁石表面の錆のつき具合いを示す、（Ｏ： 錆観測され
ず、Δ： 一部錆び観測、×：著しく酸化〉なお、比較
例として表面処理を施さない磁石も同様に示した。
２５０℃ 時間 １０分 表面処理により、各磁石とも膜厚２〜５μｍの、黒色の
酸化膜の形成が認められた１表２に耐候性試験として、
４５°Ｃ湿度９５％恒温槽内２４時間放置したときの、
磁石表面の錆のつき具合いを示す、（Ｏ： 錆観測され
ず、Δ： 一部錆び観測、×：著しく酸化〉なお、比較
例として表面処理を施さない磁石も同様に示した。
表２
［実施例２コ
下記の条件２で［実施例１コと同様に表面処理を施した
。耐候性試験の結果を表３にボす。
。耐候性試験の結果を表３にボす。
表面処理条件＝ ２
アルゴン＋酸素ガス、酸素分圧０．０１ａｔｍ温度
３５０°Ｃ 時間 １．５．２０分 各処理時間の膜厚は各磁石とも以下の通りであった。
３５０°Ｃ 時間 １．５．２０分 各処理時間の膜厚は各磁石とも以下の通りであった。
１分 〜０．１μｍ
５分 ２〜５μｍ
２０分 １０〜２０μｍ
表３
以上の結果から明らかなように、本発明による表面処理
によれば、Ｒ−Ｔ Ｍ−Ｂ系磁石表面に耐候性のある酸
化皮膜を簡便な方法で作成することができることが分か
る。
によれば、Ｒ−Ｔ Ｍ−Ｂ系磁石表面に耐候性のある酸
化皮膜を簡便な方法で作成することができることが分か
る。
［発明の効果］
以上述べたように、本発明によればＲ−ＴＭ″″Ｂ系磁
石表面磁石表面のある酸化皮膜を簡便な方法で作成する
ことができるので、Ｒ−ＴＭ−Ｂ系磁石の大きな欠点で
ある耐候性の問題をコストアップする事なく解決するこ
とが可能であり、さらに、Ｒ−Ｔ Ｍ−Ｂ系磁有の用途
を大きく拡大することができるという効果を有する。
石表面磁石表面のある酸化皮膜を簡便な方法で作成する
ことができるので、Ｒ−ＴＭ−Ｂ系磁石の大きな欠点で
ある耐候性の問題をコストアップする事なく解決するこ
とが可能であり、さらに、Ｒ−Ｔ Ｍ−Ｂ系磁有の用途
を大きく拡大することができるという効果を有する。
以 上
出願人 セイコーエプソン株式会社
Claims (1)
- 希土類元素（但しイットリウムを含む）と遷移金属、及
びボロンを基本成分とする永久磁石に於て、前記基本成
分から成る磁石表面が緻密な希土類を主成分とする酸化
膜を少なくとも０．０１μｍ〜１０μｍ形成せしめるこ
とを特徴とする永久磁石の表面処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15190088A JPH01318209A (ja) | 1988-06-20 | 1988-06-20 | 永久磁石の表面処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15190088A JPH01318209A (ja) | 1988-06-20 | 1988-06-20 | 永久磁石の表面処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01318209A true JPH01318209A (ja) | 1989-12-22 |
Family
ID=15528645
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15190088A Pending JPH01318209A (ja) | 1988-06-20 | 1988-06-20 | 永久磁石の表面処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01318209A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006156853A (ja) * | 2004-11-30 | 2006-06-15 | Tdk Corp | 希土類磁石 |
| JP2023129176A (ja) * | 2022-03-02 | 2023-09-14 | 浙江大学 | 高温酸化処理により高濃縮の希土類永久磁石の耐腐食性を増加させる方法 |
-
1988
- 1988-06-20 JP JP15190088A patent/JPH01318209A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006156853A (ja) * | 2004-11-30 | 2006-06-15 | Tdk Corp | 希土類磁石 |
| JP2023129176A (ja) * | 2022-03-02 | 2023-09-14 | 浙江大学 | 高温酸化処理により高濃縮の希土類永久磁石の耐腐食性を増加させる方法 |
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