JPH01319244A

JPH01319244A - 電球の製造方法

Info

Publication number: JPH01319244A
Application number: JP15124288A
Authority: JP
Inventors: Osamu Mizuno; 修水野; Yoshio Sakurai; 美穂櫻井
Original assignee: Ushio Denki KK; Ushio Inc
Current assignee: Ushio Denki KK; Ushio Inc
Priority date: 1988-06-21
Filing date: 1988-06-21
Publication date: 1989-12-25
Anticipated expiration: 2014-06-07
Also published as: JP2902404B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、電球の製造方法に関し、特に放射光に特徴の
ある電球の製造方法に関する。

〔技術の背景〕

電球は、一般に種々の分野で用いられているが、例えば
複写機の露光用光源、その他の光学装置等に用いられる
電球においては、■放射効率の高い良好な分光特性が得
られること、■リップルが小さ（て照度の均一性が高い
こと、が要求されている。

従来、放射効率の高い良好な分光特性を得るための手段
としては、ガラス製発光管の外表面に多層構成の光干渉
膜を設ける手段が知られている。

また、リップルが小さくて照度の均一性が高い放射光を
得る手段としては、ガラス製発光管の外表面を例えばサ
ンドブラスト等によりフロスト加工して散光面とする手
段が知られている。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかし、ガラス製封体管の外表面に光干渉膜を設けたう
え、さらにサンドブラスト等によりフロスト加工して散
光面とする場合には、当該光干渉膜が損傷し、光干渉膜
の所期の性能が発揮されない問題がある。

本発明は以上の如き事情に基づいてなされたものであっ
て、その目的は、光干渉膜の所期の性能が安定に発揮さ
れ、しかもリップルが小さくて照度の均一性が高い放射
光が得られる電球の製造方法を提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的を達成するため、本発明は、ガラス製封体管の
外表面に多層構成の光干渉膜を設け、当該光干渉膜の表
面にさらに散光性薄膜を設けてなる電球の製造方法であ
って、前記散光性薄膜を、シリコン化合物の溶液にセラ
ミック材料の微粉末を分散してなる被覆液を用いてディ
ッピング法により形成することを特徴とする。

また、散光性薄膜の表面にさらに補強用薄膜を形成する
ことを特徴とする。

〔作用〕

ガラス製封体管の外表面に多層構成の光干渉膜を設け、
この光干渉膜の外面に、特定の被覆液を用いてディッピ
ング法により散光性薄膜を形成すると、光干渉膜をなん
ら損傷することなく十分な散光性を有する散光性薄膜が
形成される。

また、散光性薄膜の表面にさらに補強用薄膜を形成する
と、散光性薄膜の付着強度が高まる。

〔発明の具体的構成〕

以下、本発明の構成を具体的に説明する。

第１図は、本発明に係る電球の製造方法によって製造さ
れた電球の一例を示す説明図である。同図において、１
０はガラス製発光管、１１はフィラメント、２０！−！
多層構成の光干渉膜、３０は散光性薄膜、４０は口金で
ある。ガラス製発光管１０は例ズば石英ガラス製であり
、その内部には例えばハロゲンが封入されている。

本発明においては、以下のようにして電球を製造する。

（１）ガラス製封体管１０の外表面に多層構成の光干渉
膜２０を設ける。この光干渉膜２０は、特定波長域の光
の透過率または反射率を制御１７、て所望の分光特性を
得るためのものである。具体的には、高屈折率層と、低
屈折率層どを交互に積層して構成することができる。

例えば赤外域の光を主として反射する赤外線反射膜とし
、ての機能を有する光干渉膜２０は、酸化チタン（Ｔ１
０２）、二酸化ケイ素（Ｓｉｎ２）等よりなる２種以上
の層を交互に積層して形成することができる。

光干渉＠２Ｑは、例えば蒸着法、ディッピング法等の薄
膜形成手段により形成することができ、その形成手段は
特に限定されない。

（２）以上のようにしてガラス製封体管１０の外表面に
光干渉膜２０を形成した後、シリコン化合物の溶液にセ
ラミック材料の微粉末を分散してなる被覆液を用いてデ
ィッピング法により、上記光干渉膜２０の表面にさらに
散光性薄１１９！３０を形成する。

シリコン化合物の溶液としては、例えばシリコンアルコ
レートに、エタノーノベ酢酸、塩酸等を加え、これらを
反応させて得られる溶液を好ましく用いることができる
。

特に、シリコンアルコレートを用いて調製すると、散光
性薄膜３０の光干渉膜２０に対する付着性が向上する。

また、シリコン化合物の溶液には、さらに必要に応じて
五酸化リン等の特性改良剤を添加してもよい。この五酸
化リンは、散光性薄膜３０の膜強度を高めるうえで好ま
しいものである、。

セラミック材料の微粉末としては、例えば二酸化ケイ素
（Ｓ　ｉ　０２）の微粉末を主成分とし、これに必要に
応じて例えば酸化アルミニウム（Δ１２０．）、酸化チ
タン（Ｔｉ０２）Ｓ酸化ジルコニウム（Ｚｒ０２）等の
＠粉末を加えたものを好ま１７＜用いることができる。

斯かる微粉末の粒子径はＯ，］、ｕｍ〜数ＪＪ肩程度が
よい。

散光性薄膜３０は、上記被覆液を用いてディッピング法
で形成する。すなわち、第２図〜第４図（こ示すように
、被覆液５０中に、外表面に光干渉膜２０が形成された
ガラス製封体管１０をほぼ垂直に下降させて浸漬した後
、当該ガラス製封体管ｌＯを上方にほぼ垂直に引上げる
。次いで、このガラス製封体管１０を加熱して表面のデ
ィッピング膜を乾燥（，５、さらに乾燥した膜を例えば
電気炉等により加熱１−で焼成し、もって第５図に示す
ように、セラミック材料の微粉末が分散含有されてなる
散光性薄膜３０を得る。この散光性薄膜３０の厚さは例
えば０．５〜Ｉｏｎ程度である。

散光性薄膜３０は、上記の薄膜形成工程を１回だけ遂行
して単層構成としてもよいし、さらには必要に応じて上
記の薄膜形成工程を複数回繰返して遂行して２層以上の
積層構成としてもよい。２層以上の積層構成とする場合
には、散光性薄膜３０の厚さを相当大きな自由度で調整
することができる。

また、箪６図に示すように、上記の散光性薄膜３００表
面にさらに例えば二酸化ケイ素等よりなる補強用薄膜６
０を設けることにより、散光性薄膜３０の付着強度を高
めることができる。この補強用薄膜６０は、例えば散光
性薄膜の形成に用いる上記シリコン化合物の溶液と同様
の溶液を被覆液として用いて、ディッピング法により形
成することができる。

〔実施例〕

以下、本発明の実施例を具体的に説明するが、本発明が
これらの実施例に限定されるものではない。

（光干渉膜の形成）長さ３Ｑｃｍ、外径Ｑ、　５ｃｍの石英ガラス製封体管
の外表面に、蒸着法により、酸化チタン層と二酸化ケイ
素層とを交互に積層してなる多層構成の赤外線反射特性
を有する光干渉膜を形成した。

（散光性薄膜の形成）シリコンアルコレート（Ｓｉ（ＯＣ２８ｓ）４）と、エ
タノール（Ｃ２ＨａＯＨ）と、酢酸（ＣＨ，Ｃ００Ｈ）
と、塩酸（ＭＣＩ）　　とを、１　：１３　：　３　：
０．００７　（モル比）となる割合で混合し、これを還
流下で２４時間反応させた後、さらに五酸化リン（Ｐ、
Ｏ，）を３ｉ０２換算濃度で１５重量％となる割合で添
加し、もって被覆液用の溶液を得た。

この被覆液用の溶液５００ｍ１に、それぞれ後記第１表
に示すセラミック材料の微粉末を添加し、これを分散し
て各被覆液を得た。

これらの被覆液を用いてディッピング法による薄膜形成
工程を後記第１表に示す回数遂行して、上記光干渉膜の
表面に単層構成または積層構成の散光性薄膜を形成した
。

なあ、ディッピング条件および焼成条件は次の通りであ
る。

〈１）ディッピング条件引上げ雰囲気を温度１０℃、相対湿度３０％とし、引上
げ速度を１１ｍｍ／ｓｅｃとした。

（２）焼成条件ドライオーブンにより１２０℃で５分間乾燥した後、電
気炉により６００℃で１０分間焼成した。

また、一部の実施例においては、さらに、上記散光性薄
膜の形成に用いた被覆液用の溶液と同様の組成の溶液を
被覆液として用い、引上げ速度を８．９　ｍｍ／ｓｅｃ
としたほかは上記散光性薄膜の形成と同様の条件で薄膜
形成工程を後記第１表に示す回数遂行し、もって上記散
光性薄膜の表面に二酸化ケイ素よりなる補強用薄膜を形
成した。

以上のようにして製造された各電球について、散光性薄
膜の性能右よび付着強度を評価した。結果を後記第１表
に併せて示す。

なお、散光性薄膜の付着強度は、次のようにして評価し
た。すなわち、粘着テープを散光性薄膜または補強用薄
膜の上から貼付した後、当該粘着テープをゆっくりと引
き剥がす試験を行い、散光性薄膜の剥離が生ずるか否か
を目視により副べた。

評価は、散光性薄膜の剥離が生ぜず十分な付着強度を有
していた場合を「○」、「Ｏ」より若干劣るが実用上問
題のない場合を「Δ」、「△」より若干劣るが実用上問
題のない場合を「△△」、実用的には問題のある場合を
ｒｘ、とした。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明によれば、ガラス製封体管
の外表面に多層構成の光干渉膜を設け、この光干渉膜の
外面に、特定の被覆液を用いてディッピング法により吸
光性薄膜を形成するので、光干渉膜の所期の性能を確実
に発揮させることができるうえ散光性薄膜により優れた
散光特性が発揮される電球を製造することができる。

そして、被覆液がシリコン化合物の溶液にセラミック材
料の微粉末を分散してなるので、散光性薄膜の光干渉膜
に対する付着性を高めることができる。

また、散光性薄膜の表面にさらに補強用薄膜を形成する
ことにより、散光性薄膜の付着強度を高めることができ
て耐久性の優れた電球を製造することができる。

なお、本発明の方法により製造された電球は、光源とし
て各種の分野に利用することができ、その用途は特に限
定されない。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の方法により製造された電球の一例の概
略を示す説明用断面図、第２図〜第４図はディッピング
法の説明図、第５図は散光性薄膜の説明用断面図、第６
図は補強用薄膜の説明用断面図である。１０・・・ガラス製発光管　　１１・・・フィラメント
２０・・・光干渉膜　　　　　３０・・・散光性薄膜４
０・・・口金　　　　　　　５０・・・被覆液６０・・
・補強用薄膜

Claims

【特許請求の範囲】

（１）ガラス製封体管の外表面に多層構成の光干渉膜を
設け、当該光干渉膜の表面にさらに散光性薄膜を設けて
なる電球の製造方法であって、前記散光性薄膜を、シリ
コン化合物の溶液にセラミック材料の微粉末を分散して
なる被覆液を用いてディッピング法により形成すること
を特徴とする電球の製造方法。
（２）散光性薄膜の表面にさらに補強用薄膜を形成する
ことを特徴とする請求項１に記載の電球の製造方法。