JPH0132176B2 - - Google Patents
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- JPH0132176B2 JPH0132176B2 JP58040934A JP4093483A JPH0132176B2 JP H0132176 B2 JPH0132176 B2 JP H0132176B2 JP 58040934 A JP58040934 A JP 58040934A JP 4093483 A JP4093483 A JP 4093483A JP H0132176 B2 JPH0132176 B2 JP H0132176B2
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- Japan
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- raw material
- chamber
- duct
- furnace
- rotary furnace
- Prior art date
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
- F27B7/00—Rotary-drum furnaces, i.e. horizontal or slightly inclined
- F27B7/20—Details, accessories or equipment specially adapted for rotary-drum furnaces
- F27B7/2016—Arrangements of preheating devices for the charge
- F27B7/2025—Arrangements of preheating devices for the charge consisting of a single string of cyclones
- F27B7/2033—Arrangements of preheating devices for the charge consisting of a single string of cyclones with means for precalcining the raw material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B7/00—Hydraulic cements
- C04B7/36—Manufacture of hydraulic cements in general
- C04B7/43—Heat treatment, e.g. precalcining, burning, melting; Cooling
- C04B7/434—Preheating with addition of fuel, e.g. calcining
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
- F27B15/00—Fluidised-bed furnaces; Other furnaces using or treating finely-divided materials in dispersion
- F27B15/003—Cyclones or chain of cyclones
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Furnace Details (AREA)
- Curing Cements, Concrete, And Artificial Stone (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はセメントクリンカの焼成装置に関し、
さらに詳しくは回転炉あるいは流動焼成反応装置
とサスペンシヨン式原料予熱装置に、独立した熱
源を有する仮焼装置を組合わせたセメントクリン
カの焼成装置に関する。
さらに詳しくは回転炉あるいは流動焼成反応装置
とサスペンシヨン式原料予熱装置に、独立した熱
源を有する仮焼装置を組合わせたセメントクリン
カの焼成装置に関する。
従来から、いわゆるサスペンシヨン式原料予熱
装置を付設したセメントクリンカ焼成装置におい
ても、前記予熱装置内での原料の脱炭酸率が約40
%を越えるようにすることは一般に困難であつ
て、残余の約60%以上の原料の未分解部分の脱炭
酸反応は回転炉あるいは流動焼成反応装置で行な
う必要がある。したがつて、仮焼反応のための熱
量供給を行なう仮焼帯を長くとらざるをえず、必
然的に前記回転炉あるいはそれに代わる流動焼成
反応装置の規模は大きくなり、また回転炉内など
での帯留時間にも関連して、焼成用熱消費量の増
大、溶融した原料のアルカリ分の煙道や機壁への
粘着成長、凝縮による操業支障などを招来しやす
いという問題があつた。
装置を付設したセメントクリンカ焼成装置におい
ても、前記予熱装置内での原料の脱炭酸率が約40
%を越えるようにすることは一般に困難であつ
て、残余の約60%以上の原料の未分解部分の脱炭
酸反応は回転炉あるいは流動焼成反応装置で行な
う必要がある。したがつて、仮焼反応のための熱
量供給を行なう仮焼帯を長くとらざるをえず、必
然的に前記回転炉あるいはそれに代わる流動焼成
反応装置の規模は大きくなり、また回転炉内など
での帯留時間にも関連して、焼成用熱消費量の増
大、溶融した原料のアルカリ分の煙道や機壁への
粘着成長、凝縮による操業支障などを招来しやす
いという問題があつた。
本発明の目的は、上述の技術的課題を解決し、
セメントの生産能力を向上させたセメントクリン
カの焼成装置を提供することである。
セメントの生産能力を向上させたセメントクリン
カの焼成装置を提供することである。
本発明は、スロート部、直進上昇する燃焼ガス
による脱炭酸反応が主として行なわれバーナが装
着された噴流層室、導入されたガスの旋回流によ
り混合、拡散、熱交換が行なわれる上部室を下方
から上方に順次連続して成るほぼ円筒形の仮焼炉
を、回転炉あるいは流動焼成反応装置とサスペン
シヨン式原料予熱装置との間に立設、配置して成
るセメントクリンカの焼成装置において、 前記スロート部には、前記回転炉あるいは流動
焼成反応装置に後続する冷却装置からの予熱され
た燃焼用空気を導入するダクトが接続され、前記
噴流層室の上端付近には接線方向で、かつ仮焼炉
の軸線にほぼ直角に前記回転炉あるいは流動焼成
反応装置からの燃焼排ガスを導入するダクトが接
続され、前記噴流層室の上端付近で、かつ仮焼炉
の軸線上に吹抜け防止部材を設け、前記サスペン
シヨン式原料予熱装置で予熱された原料を供給す
る原料シユートを前記上部室の下部付近に接続
し、前記噴流層室および前記回転炉あるいは流動
焼成反応装置からの燃焼排ガスと脱炭酸反応が終
了した原料とを前記サスペンシヨン式原料予熱装
置の最下段のサイクロンに送給するための導管が
前記上部室頂部近くの側壁に接線方向で、かつ仮
焼炉の軸線にほぼ直角に取付けられたことを特徴
とするセメントクリンカの焼成装置である。
による脱炭酸反応が主として行なわれバーナが装
着された噴流層室、導入されたガスの旋回流によ
り混合、拡散、熱交換が行なわれる上部室を下方
から上方に順次連続して成るほぼ円筒形の仮焼炉
を、回転炉あるいは流動焼成反応装置とサスペン
シヨン式原料予熱装置との間に立設、配置して成
るセメントクリンカの焼成装置において、 前記スロート部には、前記回転炉あるいは流動
焼成反応装置に後続する冷却装置からの予熱され
た燃焼用空気を導入するダクトが接続され、前記
噴流層室の上端付近には接線方向で、かつ仮焼炉
の軸線にほぼ直角に前記回転炉あるいは流動焼成
反応装置からの燃焼排ガスを導入するダクトが接
続され、前記噴流層室の上端付近で、かつ仮焼炉
の軸線上に吹抜け防止部材を設け、前記サスペン
シヨン式原料予熱装置で予熱された原料を供給す
る原料シユートを前記上部室の下部付近に接続
し、前記噴流層室および前記回転炉あるいは流動
焼成反応装置からの燃焼排ガスと脱炭酸反応が終
了した原料とを前記サスペンシヨン式原料予熱装
置の最下段のサイクロンに送給するための導管が
前記上部室頂部近くの側壁に接線方向で、かつ仮
焼炉の軸線にほぼ直角に取付けられたことを特徴
とするセメントクリンカの焼成装置である。
また本発明は、スロート部、直進上昇する燃焼
ガスによる脱炭酸反応が主として行なわれバーナ
が装着された噴流層室、導入されたガスの旋回流
により混合、拡散、熱交換が行なわれる上部室を
下方から上方に順次連続して成るほぼ円筒形の仮
焼炉を、回転炉あるいは流動焼成反応装置とサス
ペンシヨン式原料予熱装置との間に立設、配置し
て成るセメントクリンカの焼成装置において、 前記回転炉あるいは流動焼成反応装置に後続す
る冷却装置からの予熱された燃焼用空気の一部を
噴流層室に接線方向で、かつ仮焼炉の軸線にほぼ
直角に導入するダクトが接続され、前記燃焼用空
気の残部を前記スロート部に導入するダクトが接
続され、前記噴流層室の上端付近には接線方向
で、かつ仮焼炉の軸線にほぼ直角に前記回転炉あ
るいは流動焼成反応装置からの燃焼排ガスを導入
するダクトが接続され、前記噴流層室の上端付近
で、かつ仮焼炉の軸線上に吹抜け防止部材を設
け、前記サスペンシヨン式原料予熱装置で予熱さ
れた原料を供給する原料シユートを前記上部室の
下部付近に接続し、前記噴流層室および前記回転
炉あるいは流動焼成反応装置からの燃焼排ガスと
脱炭酸反応が終了した原料とを前記サスペンシヨ
ン式原料予熱装置の最下段のサイクロンに送給す
るための導管が前記上部室頂部近くの側壁に接線
方向で、かつ仮焼炉の軸線にほぼ直角に取付けら
れたことを特徴とするセメントクリンカの焼成装
置である。
ガスによる脱炭酸反応が主として行なわれバーナ
が装着された噴流層室、導入されたガスの旋回流
により混合、拡散、熱交換が行なわれる上部室を
下方から上方に順次連続して成るほぼ円筒形の仮
焼炉を、回転炉あるいは流動焼成反応装置とサス
ペンシヨン式原料予熱装置との間に立設、配置し
て成るセメントクリンカの焼成装置において、 前記回転炉あるいは流動焼成反応装置に後続す
る冷却装置からの予熱された燃焼用空気の一部を
噴流層室に接線方向で、かつ仮焼炉の軸線にほぼ
直角に導入するダクトが接続され、前記燃焼用空
気の残部を前記スロート部に導入するダクトが接
続され、前記噴流層室の上端付近には接線方向
で、かつ仮焼炉の軸線にほぼ直角に前記回転炉あ
るいは流動焼成反応装置からの燃焼排ガスを導入
するダクトが接続され、前記噴流層室の上端付近
で、かつ仮焼炉の軸線上に吹抜け防止部材を設
け、前記サスペンシヨン式原料予熱装置で予熱さ
れた原料を供給する原料シユートを前記上部室の
下部付近に接続し、前記噴流層室および前記回転
炉あるいは流動焼成反応装置からの燃焼排ガスと
脱炭酸反応が終了した原料とを前記サスペンシヨ
ン式原料予熱装置の最下段のサイクロンに送給す
るための導管が前記上部室頂部近くの側壁に接線
方向で、かつ仮焼炉の軸線にほぼ直角に取付けら
れたことを特徴とするセメントクリンカの焼成装
置である。
さらにまた本発明は、スロート部、直進上昇す
る燃焼ガスによる脱炭酸反応が主として行なわれ
バーナが装着された噴流層室、導入されたガスの
旋回流により混合、拡散、熱交換が行なわれる上
部室を下方から上方に順次連続して成るほぼ円筒
形の仮焼炉を、回転炉あるいは流動焼成反応装置
とサスペンシヨン式原料予熱装置との間に立設、
配置して成るセメントクリンカの焼成装置におい
て、 前記スロート部には、前記回転炉あるいは流動
焼成反応装置に後続する冷却装置からの予熱され
た燃焼用空気を導入するダクトが接続され、前記
噴流層室の上端付近には接線方向で、かつ仮焼炉
の軸線にほぼ直角に前記回転炉あるいは流動焼成
反応装置からの燃焼排ガスを導入するダクトが接
続され、前記噴流層室の上端付近で、かつ仮焼炉
の軸線上に吹抜け防止部材を設け、前記サスペン
シヨン式原料予熱装置で予熱された原料の一部を
前記スロート部に供給するシユートが接続され、
前記予熱された原料の残部を供給する原料シユー
トを前記上部室の下部付近に接続し、前記噴流層
室および前記回転炉あるいは流動焼成反応装置か
らの燃焼排ガスと脱炭酸反応が終了した原料とを
前記サスペンシヨン式原料予熱装置の最下段のサ
イクロンに送給するための導管が前記上部室頂部
近くの側壁に接線方向で、かつ仮焼炉の軸線にほ
ぼ直角に取付けられたことを特徴とするセメント
クリンカの焼成装置である。
る燃焼ガスによる脱炭酸反応が主として行なわれ
バーナが装着された噴流層室、導入されたガスの
旋回流により混合、拡散、熱交換が行なわれる上
部室を下方から上方に順次連続して成るほぼ円筒
形の仮焼炉を、回転炉あるいは流動焼成反応装置
とサスペンシヨン式原料予熱装置との間に立設、
配置して成るセメントクリンカの焼成装置におい
て、 前記スロート部には、前記回転炉あるいは流動
焼成反応装置に後続する冷却装置からの予熱され
た燃焼用空気を導入するダクトが接続され、前記
噴流層室の上端付近には接線方向で、かつ仮焼炉
の軸線にほぼ直角に前記回転炉あるいは流動焼成
反応装置からの燃焼排ガスを導入するダクトが接
続され、前記噴流層室の上端付近で、かつ仮焼炉
の軸線上に吹抜け防止部材を設け、前記サスペン
シヨン式原料予熱装置で予熱された原料の一部を
前記スロート部に供給するシユートが接続され、
前記予熱された原料の残部を供給する原料シユー
トを前記上部室の下部付近に接続し、前記噴流層
室および前記回転炉あるいは流動焼成反応装置か
らの燃焼排ガスと脱炭酸反応が終了した原料とを
前記サスペンシヨン式原料予熱装置の最下段のサ
イクロンに送給するための導管が前記上部室頂部
近くの側壁に接線方向で、かつ仮焼炉の軸線にほ
ぼ直角に取付けられたことを特徴とするセメント
クリンカの焼成装置である。
また本発明は、スロート部、直進上昇する燃焼
ガスによる脱炭酸反応が主として行なわれバーナ
が装着された噴流層室、導入されたガスの旋回流
により混合、拡散、熱交換が行なわれる上部室を
下方から上方に順次連続して成るほぼ円筒形の仮
焼炉を、回転炉あるいは流動焼成反応装置とサス
ペンシヨン式原料予熱装置との間に立設、配置し
て成るセメントクリンカの焼成装置において、 前記スロート部には、前記回転炉あるいは流動
焼成反応装置に後続する冷却装置からの予熱され
た燃焼用空気を導入するダクトが接続され、前記
噴流層室の上端付近には接線方向で、かつ仮焼炉
の軸線にほぼ直角に前記回転炉あるいは流動焼成
反応装置からの燃焼排ガスを導入するダクトが接
続され、前記噴流層室の上端付近で、かつ仮焼炉
の軸線上に吹抜け防止部材を設け、前記サスペン
シヨン式原料予熱装置で予熱された原料の一部を
供給するシユートを、前記回転炉あるいは流動焼
成反応装置からの燃焼排ガスを噴流層室に導入す
るダクトに接続し、前記予熱された原料の残部を
供給する原料シユートを前記上部室の下部付近に
接続し、前記噴流層室および前記回転炉あるいは
流動焼成反応装置からの燃焼排ガスと脱炭酸反応
が終了した原料とを前記サスペンシヨン式原料予
熱装置の最下段のサイクロンに送給するための導
管が前記上部室頂部近くの側壁に接線方向で、か
つ仮焼炉の軸線にほぼ直角に取付けられたことを
特徴とするセメントクリンカの焼成装置である。
ガスによる脱炭酸反応が主として行なわれバーナ
が装着された噴流層室、導入されたガスの旋回流
により混合、拡散、熱交換が行なわれる上部室を
下方から上方に順次連続して成るほぼ円筒形の仮
焼炉を、回転炉あるいは流動焼成反応装置とサス
ペンシヨン式原料予熱装置との間に立設、配置し
て成るセメントクリンカの焼成装置において、 前記スロート部には、前記回転炉あるいは流動
焼成反応装置に後続する冷却装置からの予熱され
た燃焼用空気を導入するダクトが接続され、前記
噴流層室の上端付近には接線方向で、かつ仮焼炉
の軸線にほぼ直角に前記回転炉あるいは流動焼成
反応装置からの燃焼排ガスを導入するダクトが接
続され、前記噴流層室の上端付近で、かつ仮焼炉
の軸線上に吹抜け防止部材を設け、前記サスペン
シヨン式原料予熱装置で予熱された原料の一部を
供給するシユートを、前記回転炉あるいは流動焼
成反応装置からの燃焼排ガスを噴流層室に導入す
るダクトに接続し、前記予熱された原料の残部を
供給する原料シユートを前記上部室の下部付近に
接続し、前記噴流層室および前記回転炉あるいは
流動焼成反応装置からの燃焼排ガスと脱炭酸反応
が終了した原料とを前記サスペンシヨン式原料予
熱装置の最下段のサイクロンに送給するための導
管が前記上部室頂部近くの側壁に接線方向で、か
つ仮焼炉の軸線にほぼ直角に取付けられたことを
特徴とするセメントクリンカの焼成装置である。
以下、図面によつて本発明の実施例について説
明する。第1図は本発明の基礎となる構成を示す
簡略化した系統図である。第1図において実線矢
符は原料の流れを示し、破線矢符はガスの流れを
示す。原料ホツパ1からダクト2に投入された原
料は、下方からの高温排ガスに吹上げられて熱交
換し、サイクロン3で捕集されて下段に落下す
る。次いで原料は、ダクト4→サイクロン5→ダ
クト6→サイクロン7→原料シユート8の経路で
仮焼炉9に供給される。一方、サスペンシヨン式
原料予熱装置10での仮焼炉9からの高温排ガス
は、導管11→サイクロン12→ダクト6→サイ
クロン7→ダクト4→サイクロン5→ダクト2→
サイクロン3のように上昇し、最終的には、排出
ダクト13、誘引送風機14などを経て大気中へ
放散される。原料ホツパ1から投入された原料
は、この高温排ガスとの熱交換によつて脱炭酸さ
れる。仮焼炉9で仮焼された原料は、導管11を
経てサイクロン12で捕集されて回転炉としての
ロータリキルン15に投入される。ロータリキル
ン15では、バーナ16によつて原料が焼成され
てクリンカとなり、このクリンカは冷却装置17
によつて冷却された後、製品として取出される。
明する。第1図は本発明の基礎となる構成を示す
簡略化した系統図である。第1図において実線矢
符は原料の流れを示し、破線矢符はガスの流れを
示す。原料ホツパ1からダクト2に投入された原
料は、下方からの高温排ガスに吹上げられて熱交
換し、サイクロン3で捕集されて下段に落下す
る。次いで原料は、ダクト4→サイクロン5→ダ
クト6→サイクロン7→原料シユート8の経路で
仮焼炉9に供給される。一方、サスペンシヨン式
原料予熱装置10での仮焼炉9からの高温排ガス
は、導管11→サイクロン12→ダクト6→サイ
クロン7→ダクト4→サイクロン5→ダクト2→
サイクロン3のように上昇し、最終的には、排出
ダクト13、誘引送風機14などを経て大気中へ
放散される。原料ホツパ1から投入された原料
は、この高温排ガスとの熱交換によつて脱炭酸さ
れる。仮焼炉9で仮焼された原料は、導管11を
経てサイクロン12で捕集されて回転炉としての
ロータリキルン15に投入される。ロータリキル
ン15では、バーナ16によつて原料が焼成され
てクリンカとなり、このクリンカは冷却装置17
によつて冷却された後、製品として取出される。
仮焼炉9の下方からは、ダクト18を介して冷
却装置17から700〜800℃に予熱された燃焼用空
気が導かれる。仮焼炉9の軸線方向の中央付近に
は、ダクト19を介してロータリキルン15の燃
焼排ガスが導入される。
却装置17から700〜800℃に予熱された燃焼用空
気が導かれる。仮焼炉9の軸線方向の中央付近に
は、ダクト19を介してロータリキルン15の燃
焼排ガスが導入される。
上下に延びる軸線を有する筒状の仮焼炉9は、
基本的には、ダクト18に連なる小径であるスロ
ート部20と、スロート部20に連続して大径で
ある噴流層室21と、旋回流が生じる上部室22
とを含む。噴流層室21には、バーナ23,24
を介して重油、ガスその他の燃料が噴射され、冷
却装置17からの燃焼用空気によつて燃焼され
る。冷却装置17からの燃焼用空気は、スロート
部20を高速で通過し、拡大部すなわち噴流層室
21の中心部を吹きぬけて直上する。噴流層室2
1では、急激に仮焼炉断面が拡大するので、原料
は、内壁面付近に多量に存在し、バーナ23およ
びバーナ24からの燃料の燃焼によつて原料と熱
交換され脱炭酸が急激に行なわれる。
基本的には、ダクト18に連なる小径であるスロ
ート部20と、スロート部20に連続して大径で
ある噴流層室21と、旋回流が生じる上部室22
とを含む。噴流層室21には、バーナ23,24
を介して重油、ガスその他の燃料が噴射され、冷
却装置17からの燃焼用空気によつて燃焼され
る。冷却装置17からの燃焼用空気は、スロート
部20を高速で通過し、拡大部すなわち噴流層室
21の中心部を吹きぬけて直上する。噴流層室2
1では、急激に仮焼炉断面が拡大するので、原料
は、内壁面付近に多量に存在し、バーナ23およ
びバーナ24からの燃料の燃焼によつて原料と熱
交換され脱炭酸が急激に行なわれる。
噴流層室21の上端付近には、ダクト19を介
してロータリキルン15の燃焼排ガスが第3図に
示された実施例と同様に接線方向に導入されてお
り、上部室22では、旋回流となる。この旋回流
によつて仮焼が不完全な比較的重い原料は、内壁
面に沿つて噴流層室21に落下し再び熱交換を行
なう。このようにして完全に仮焼された原料だけ
が、上部室22の頂部近くの側壁に接線方向で、
かつ仮焼炉9の軸線に直角に取付けられた導管1
1からサイクロン12に送られる。
してロータリキルン15の燃焼排ガスが第3図に
示された実施例と同様に接線方向に導入されてお
り、上部室22では、旋回流となる。この旋回流
によつて仮焼が不完全な比較的重い原料は、内壁
面に沿つて噴流層室21に落下し再び熱交換を行
なう。このようにして完全に仮焼された原料だけ
が、上部室22の頂部近くの側壁に接線方向で、
かつ仮焼炉9の軸線に直角に取付けられた導管1
1からサイクロン12に送られる。
第2図は本発明の基礎となる構成を示す簡略化
した系統図であり、第3図は第2図の切断面線
−から見た断面図である。この構成は、前述の
実施例に類似し、対応する部分には同一の参照符
を付す。注目すべきは、噴流層室21と上部室2
0の境界付近に耐火物から成る絞り部25が設け
られる。この絞り部25は、仮焼炉9の半径方向
内方へ突出して仮焼炉9と同心に形成され、これ
によつてスロート部20から高速度で上昇するガ
ス流とともに仮焼が不完全な原料が上部室22の
中央部を通つて仮焼炉9から排出されるいわゆる
吹抜け現象を防止することが可能となる。さらに
噴流層室21の上端付近に絞り部25を設けるこ
とによつて噴流層室21での原料の滞留量が増加
して噴流層室21での熱交換が効果的に行なわれ
る。また、上部室22で分離された仮焼が不完全
な原料は仮焼炉9の内壁面に沿つて落下し、絞り
部25の上方に滞留し、ダクト19から導入され
たロータリキルン15からの高温排ガスと熱交換
することになり、仮焼反応が促進される。その他
の構成は、前述の構成と同様である。
した系統図であり、第3図は第2図の切断面線
−から見た断面図である。この構成は、前述の
実施例に類似し、対応する部分には同一の参照符
を付す。注目すべきは、噴流層室21と上部室2
0の境界付近に耐火物から成る絞り部25が設け
られる。この絞り部25は、仮焼炉9の半径方向
内方へ突出して仮焼炉9と同心に形成され、これ
によつてスロート部20から高速度で上昇するガ
ス流とともに仮焼が不完全な原料が上部室22の
中央部を通つて仮焼炉9から排出されるいわゆる
吹抜け現象を防止することが可能となる。さらに
噴流層室21の上端付近に絞り部25を設けるこ
とによつて噴流層室21での原料の滞留量が増加
して噴流層室21での熱交換が効果的に行なわれ
る。また、上部室22で分離された仮焼が不完全
な原料は仮焼炉9の内壁面に沿つて落下し、絞り
部25の上方に滞留し、ダクト19から導入され
たロータリキルン15からの高温排ガスと熱交換
することになり、仮焼反応が促進される。その他
の構成は、前述の構成と同様である。
第4図は本発明の一実施例の簡略化した系統図
であり、第5図は第4図の切断面線V−Vから見
た断面図であり、第6図は第4図のセクシヨン
の拡大斜視図である。この実施例は前述の構成に
類似し対応する部分には同一の参照符を付す。こ
の実施例では、前述の構成の絞り部25に代えて
耐火物から成る吹抜け防止手段26が噴流層室2
1と上部室22の境界付近に設けられる。吹抜け
防止手段26は、上下方向に先すぼまりの吹抜け
防止部材27と、この吹抜け防止部材27を仮焼
炉9の軸線上で支持するための板状の支持部材2
8とを含む。吹抜け防止手段26によつて仮焼中
心部の吹抜けを防止することが可能となる。さら
に、仮焼炉中心部の高速度のガス流がこの吹抜け
防止手段26によつて半径方向外方へ向かい仮焼
の不完全な原料が仮焼炉9の内壁に到達し落下す
ることになり、これによつて分離作用が効果的に
行なわれる。その他の構成は第2図の構成と同様
である。
であり、第5図は第4図の切断面線V−Vから見
た断面図であり、第6図は第4図のセクシヨン
の拡大斜視図である。この実施例は前述の構成に
類似し対応する部分には同一の参照符を付す。こ
の実施例では、前述の構成の絞り部25に代えて
耐火物から成る吹抜け防止手段26が噴流層室2
1と上部室22の境界付近に設けられる。吹抜け
防止手段26は、上下方向に先すぼまりの吹抜け
防止部材27と、この吹抜け防止部材27を仮焼
炉9の軸線上で支持するための板状の支持部材2
8とを含む。吹抜け防止手段26によつて仮焼中
心部の吹抜けを防止することが可能となる。さら
に、仮焼炉中心部の高速度のガス流がこの吹抜け
防止手段26によつて半径方向外方へ向かい仮焼
の不完全な原料が仮焼炉9の内壁に到達し落下す
ることになり、これによつて分離作用が効果的に
行なわれる。その他の構成は第2図の構成と同様
である。
第7図は本発明の他の実施例の簡略化した系統
図であり、第8図は第7図の切断面線−から
見た断面図である。この実施例は第1図に示され
た構成に類似し対応する部分には同一の参照符を
付す。この実施例では、バーナ23およびバーナ
24の燃焼用空気として冷却装置17からの予熱
された空気の一部をダクト18から分岐してダク
ト29を介して噴流層室21に第8図に示される
ように接線方向に導入する。これによつて噴流層
室21の内壁付近に燃焼用空気の豊富な領域が形
成され、バーナ23およびバーナ24の燃焼が完
全に行なわれる。さらに仮焼炉内での旋回力が増
大するので、仮焼が不完全である原料の分離が促
進され、噴流層室21での熱交換、原料の仮焼反
応がより効果的に行なわれる。その他の構成は、
第1図に示された構成と同様である。本実施例
は、第2図、第4図に示された構成と組合せて実
施されてもよい。
図であり、第8図は第7図の切断面線−から
見た断面図である。この実施例は第1図に示され
た構成に類似し対応する部分には同一の参照符を
付す。この実施例では、バーナ23およびバーナ
24の燃焼用空気として冷却装置17からの予熱
された空気の一部をダクト18から分岐してダク
ト29を介して噴流層室21に第8図に示される
ように接線方向に導入する。これによつて噴流層
室21の内壁付近に燃焼用空気の豊富な領域が形
成され、バーナ23およびバーナ24の燃焼が完
全に行なわれる。さらに仮焼炉内での旋回力が増
大するので、仮焼が不完全である原料の分離が促
進され、噴流層室21での熱交換、原料の仮焼反
応がより効果的に行なわれる。その他の構成は、
第1図に示された構成と同様である。本実施例
は、第2図、第4図に示された構成と組合せて実
施されてもよい。
第9図は本発明のさらに他の実施例の簡略化し
た系統図である。この実施例は、第1図に示され
た構成に類似し、対応する部分には同一の参照符
を付す。注目すべきは、原料シユート8には、分
岐ダンパ30が設けられ、原料の一部あるいは全
部をシユート31を介してスロート部20へ供給
する。これによつて予め原料と燃焼用空気との混
合が充分行なわれることになり、仮焼炉9での熱
交換が向上する。さらにスロート部20からの高
速度のガスは、原料を上昇させるためにエネルギ
が使われて、いわゆる吹抜け現象が防止される。
また、前述の実施例のように原料の全てを噴流層
室21の上端付近に投入する構成では、原料の一
部がスロート部20まで落下せず、仮焼が不完全
な状態で仮焼炉9から排出されることがあるが、
この実施例ではそのようなことがない。その他の
構成は、第1図に示された構成と同様である。本
実施例も前述の実施例の構成と組合せて実施され
てもよい。
た系統図である。この実施例は、第1図に示され
た構成に類似し、対応する部分には同一の参照符
を付す。注目すべきは、原料シユート8には、分
岐ダンパ30が設けられ、原料の一部あるいは全
部をシユート31を介してスロート部20へ供給
する。これによつて予め原料と燃焼用空気との混
合が充分行なわれることになり、仮焼炉9での熱
交換が向上する。さらにスロート部20からの高
速度のガスは、原料を上昇させるためにエネルギ
が使われて、いわゆる吹抜け現象が防止される。
また、前述の実施例のように原料の全てを噴流層
室21の上端付近に投入する構成では、原料の一
部がスロート部20まで落下せず、仮焼が不完全
な状態で仮焼炉9から排出されることがあるが、
この実施例ではそのようなことがない。その他の
構成は、第1図に示された構成と同様である。本
実施例も前述の実施例の構成と組合せて実施され
てもよい。
第10図は本発明の他の実施例の簡略化した系
統図であり、第9図に示された実施例に類似し対
応する部分には同一の参照符を付す。この実施例
では、分岐ダンパ30によつて予熱された原料の
一部または全部がシユート32を介してロータリ
キルン15からの高温排ガスを導くダクト19の
鉛直な部分に投入される。ダクト19に投入され
た原料は、高温のキルン排ガスと熱交換しながら
上方に輸送されて仮焼炉9に接線方向に導入され
る。仮焼炉9内に導入された原料は、旋回流によ
つて分離されて壁面に沿つた噴流室21の下端ま
で落下する。このように原料をダクト19に投入
することによつて、ダクト19も熱交換の場とし
て利用するので、仮焼炉9を小型化できる。さら
にダクト19内のキルン排ガス温度が、原料との
熱交換によつて急激に低下するので、ダクト19
の内壁にキルン排ガス中のアルカリ化合物による
コーチングの発生を防止することが可能となり、
安定した操業を維持することができる。その他の
構成は、第9図に示された実施例と同様である。
本発明の他の実施例として第2図、第4図、第7
図および第9図に示された構成と本実施例の構成
を組合せて実施してもよい。
統図であり、第9図に示された実施例に類似し対
応する部分には同一の参照符を付す。この実施例
では、分岐ダンパ30によつて予熱された原料の
一部または全部がシユート32を介してロータリ
キルン15からの高温排ガスを導くダクト19の
鉛直な部分に投入される。ダクト19に投入され
た原料は、高温のキルン排ガスと熱交換しながら
上方に輸送されて仮焼炉9に接線方向に導入され
る。仮焼炉9内に導入された原料は、旋回流によ
つて分離されて壁面に沿つた噴流室21の下端ま
で落下する。このように原料をダクト19に投入
することによつて、ダクト19も熱交換の場とし
て利用するので、仮焼炉9を小型化できる。さら
にダクト19内のキルン排ガス温度が、原料との
熱交換によつて急激に低下するので、ダクト19
の内壁にキルン排ガス中のアルカリ化合物による
コーチングの発生を防止することが可能となり、
安定した操業を維持することができる。その他の
構成は、第9図に示された実施例と同様である。
本発明の他の実施例として第2図、第4図、第7
図および第9図に示された構成と本実施例の構成
を組合せて実施してもよい。
上述の第4図と同様に、第7図、第9図および
第10図の各実施例において、吹抜け防止手段2
6が設けられる。
第10図の各実施例において、吹抜け防止手段2
6が設けられる。
以上のように本発明によれば、仮焼反応を効率
よく行ないほぼ100%脱炭酸された石灰石を含む
高温度の原料を回転炉あるいは流動焼成反応装置
に供給できるので、回転炉などが小型化され、原
料滞留時間の短縮、回転炉あるいは流動焼成反応
装置内におけるアルカリ分の揮発量減少、所要熱
消費量の節減が達成され、セメント生産能力が大
幅に向上する。
よく行ないほぼ100%脱炭酸された石灰石を含む
高温度の原料を回転炉あるいは流動焼成反応装置
に供給できるので、回転炉などが小型化され、原
料滞留時間の短縮、回転炉あるいは流動焼成反応
装置内におけるアルカリ分の揮発量減少、所要熱
消費量の節減が達成され、セメント生産能力が大
幅に向上する。
特に本発明によれば、吹抜け防止部材を設ける
ことによつて、次の優れた効果が奏される。
ことによつて、次の優れた効果が奏される。
(a) 噴流層中心部で、未仮焼原料が吹抜けるのを
確実に防止できる。
確実に防止できる。
(b) 未仮焼原料は、比重が大きいので、吹抜け防
止部材に衝突して方向転換し、噴流層室側壁に
到達し、スロート付近まで落下する。したがつ
て噴流層室の滞留量が増加し、熱交換量、原料
の仮焼率が向上する。
止部材に衝突して方向転換し、噴流層室側壁に
到達し、スロート付近まで落下する。したがつ
て噴流層室の滞留量が増加し、熱交換量、原料
の仮焼率が向上する。
(c) 噴流層中心部からの燃焼用空気の吹抜けが防
止でき、噴流層室間の燃焼効率が向上する。
止でき、噴流層室間の燃焼効率が向上する。
(d) 上記(b)、(c)項の各効果で、仮焼炉を小型化で
き、かつ熱消費量も低減できる。
き、かつ熱消費量も低減できる。
(e) 上部室中心部での原料および燃焼用空気の吹
抜けがなくなり、上部室での熱交換が向上す
る。
抜けがなくなり、上部室での熱交換が向上す
る。
第1図は本発明の基礎となる構成を示す簡略化
した系統図、第2図は本発明の基礎となる他の構
成を示す簡略化した系統図、第3図は第2図の切
断面線−から見た断面図、第4図は本発明の
一実施例の簡略化した系統図、第5図は第4図の
切断面線−から見た断面図、第6図は第4図
のセクシヨンの拡大斜視図、第7図は本発明の
他の実施例の簡略化した系統図、第8図は第7図
の切断面線−から見た断面図、第9図は本発
明の他の実施例の簡略化した系統図、第10図は
本発明の他の実施例の簡略化した系統図である。 8…原料シユート、9…仮焼炉、10,37…
サスペンシヨン式原料予熱装置、15…ロータリ
キルン、17…冷却装置、20…スロート部、2
1…噴流層室、22…上部室、23,24…バー
ナ、25…絞り部、26…吹抜け防止手段、30
…分岐ダンパ。
した系統図、第2図は本発明の基礎となる他の構
成を示す簡略化した系統図、第3図は第2図の切
断面線−から見た断面図、第4図は本発明の
一実施例の簡略化した系統図、第5図は第4図の
切断面線−から見た断面図、第6図は第4図
のセクシヨンの拡大斜視図、第7図は本発明の
他の実施例の簡略化した系統図、第8図は第7図
の切断面線−から見た断面図、第9図は本発
明の他の実施例の簡略化した系統図、第10図は
本発明の他の実施例の簡略化した系統図である。 8…原料シユート、9…仮焼炉、10,37…
サスペンシヨン式原料予熱装置、15…ロータリ
キルン、17…冷却装置、20…スロート部、2
1…噴流層室、22…上部室、23,24…バー
ナ、25…絞り部、26…吹抜け防止手段、30
…分岐ダンパ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 スロート部、直進上昇する燃焼ガスによる脱
炭酸反応が主として行なわれバーナが装着された
噴流層室、導入されたガスの旋回流により混合、
拡散、熱交換が行なわれる上部室を下方から上方
に順次連続して成るほぼ円筒形の仮焼炉を、回転
炉あるいは流動焼成反応装置とサスペンシヨン式
原料予熱装置との間に立設、配置して成るセメン
トクリンカの焼成装置において、 前記スロート部には、前記回転炉あるいは流動
焼成反応装置に後続する冷却装置からの予熱され
た燃焼用空気を導入するダクトが接続され、前記
噴流層室の上端付近には接線方向で、かつ仮焼炉
の軸線にほぼ直角に前記回転炉あるいは流動焼成
反応装置からの燃焼排ガスを導入するダクトが接
続され、前記噴流層室の上端付近で、かつ仮焼炉
の軸線上に吹抜け防止部材を設け、前記サスペン
シヨン式原料予熱装置で予熱された原料を供給す
る原料シユートを前記上部室の下部付近に接続
し、前記噴流層室および前記回転炉あるいは流動
焼成反応装置からの燃焼排ガスと脱炭酸反応が終
了した原料とを前記サスペンシヨン式原料予熱装
置の最下段のサイクロンに送給するための導管が
前記上部室頂部近くの側壁に接線方向で、かつ仮
焼炉の軸線にほぼ直角に取付けられたことを特徴
とするセメントクリンカの焼成装置。 2 スロート部、直進上昇する燃焼ガスによる脱
炭酸反応が主として行なわれバーナが装着された
噴流層室、導入されたガスの旋回流により混合、
拡散、熱交換が行なわれる上部室を下方から上方
に順次連続して成るほぼ円筒形の仮焼炉を、回転
炉あるいは流動焼成反応装置とサスペンシヨン式
原料予熱装置との間に立設、配置して成るセメン
トクリンカの焼成装置において、 前記回転炉あるいは流動焼成反応装置に後続す
る冷却装置からの予熱された燃焼用空気の一部を
噴流層室に接線方向で、かつ仮焼炉の軸線にほぼ
直角に導入するダクトが接続され、前記燃焼用空
気の残部を前記スロート部に導入するダクトが接
続され、前記噴流層室の上端付近には接線方向
で、かつ仮焼炉の軸線にほぼ直角に前記回転炉あ
るいは流動焼成反応装置からの燃焼排ガスを導入
するダクトが接続され、前記噴流層室の上端付近
で、かつ仮焼炉の軸線上に吹抜け防止部材を設
け、前記サスペンシヨン式原料予熱装置で予熱さ
れた原料を供給する原料シユートを前記上部室の
下部付近に接続し、前記噴流層室および前記回転
炉あるいは流動焼成反応装置からの燃焼排ガスと
脱炭酸反応が終了した原料とを前記サスペンシヨ
ン式原料予熱装置の最下段のサイクロンに送給す
るための導管が前記上部室頂部近くの側壁に接線
方向で、かつ仮焼炉の軸線にほぼ直角に取付けら
れたことを特徴とするセメントクリンカの焼成装
置。 3 スロート部、直進上昇する燃焼ガスによる脱
炭酸反応が主として行なわれバーナが装着された
噴流層室、導入されたガスの旋回流により混合、
拡散、熱交換が行なわれる上部室を下方から上方
に順次連続して成るほぼ円筒形の仮焼炉を、回転
炉あるいは流動焼成反応装置とサスペンシヨン式
原料予熱装置との間に立設、配置して成るセメン
トクリンカの焼成装置において、 前記スロート部には、前記回転炉あるいは流動
焼成反応装置に後続する冷却装置からの予熱され
た燃焼用空気を導入するダクトが接続され、前記
噴流層室の上端付近には接線方向で、かつ仮焼炉
の軸線にほぼ直角に前記回転炉あるいは流動焼成
反応装置からの燃焼排ガスを導入するダクトが接
続され、前記噴流層室の上端付近で、かつ仮焼炉
の軸線上に吹抜け防止部材を設け、前記サスペン
シヨン式原料予熱装置で予熱された原料の一部を
前記スロート部に供給するシユートが接続され、
前記予熱された原料の残部を供給する原料シユー
トを前記上部室の下部付近に接続し、前記噴流層
室および前記回転炉あるいは流動焼成反応装置か
らの燃焼排ガスと脱炭酸反応が終了した原料とを
前記サスペンシヨン式原料予熱装置の最下段のサ
イクロンに送給するための導管が前記上部室頂部
近くの側壁に接線方向で、かつ仮焼炉の軸線にほ
ぼ直角に取付けられたことを特徴とするセメント
クリンカの焼成装置。 4 スロート部、直進上昇する燃焼ガスによる脱
炭酸反応が主として行なわれバーナが装着された
噴流層室、導入されたガスの旋回流により混合、
拡散、熱交換が行なわれる上部室を下方から上方
に順次連続して成るほぼ円筒形の仮焼炉を、回転
炉あるいは流動焼成反応装置とサスペンシヨン式
原料予熱装置との間に立設、配置して成るセメン
トクリンカの焼成装置において、 前記スロート部には、前記回転炉あるいは流動
焼成反応装置に後続する冷却装置からの予熱され
た燃焼用空気を導入するダクトが接続され、前記
噴流層室の上端付近には接線方向で、かつ仮焼炉
の軸線にほぼ直角に前記回転炉あるいは流動焼成
反応装置からの燃焼排ガスを導入するダクトが接
続され、前記噴流層室の上端付近で、かつ仮焼炉
の軸線上に吹抜け防止部材を設け、前記サスペン
シヨン式原料予熱装置で予熱された原料の一部を
供給するシユートを、前記回転炉あるいは流動焼
成反応装置からの燃焼排ガスを噴流層室に導入す
るダクトに接続し、前記予熱された原料の残部を
供給する原料シユートを前記上部室の下部付近に
接続し、前記噴流層室および前記回転炉あるいは
流動焼成反応装置からの燃焼排ガスと脱炭酸反応
が終了した原料とを前記サスペンシヨン式原料予
熱装置の最下段のサイクロンに送給するための導
管が前記上部室頂部近くの側壁に接線方向で、か
つ仮焼炉の軸線にほぼ直角に取付けられたことを
特徴とするセメントクリンカの焼成装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4093483A JPS59164655A (ja) | 1983-03-11 | 1983-03-11 | セメントクリンカの焼成装置 |
| FR8403646A FR2542434B1 (fr) | 1983-03-11 | 1984-03-09 | Installation de calcination de clinker de ciment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4093483A JPS59164655A (ja) | 1983-03-11 | 1983-03-11 | セメントクリンカの焼成装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59164655A JPS59164655A (ja) | 1984-09-17 |
| JPH0132176B2 true JPH0132176B2 (ja) | 1989-06-29 |
Family
ID=12594328
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4093483A Granted JPS59164655A (ja) | 1983-03-11 | 1983-03-11 | セメントクリンカの焼成装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59164655A (ja) |
| FR (1) | FR2542434B1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003528793A (ja) * | 2000-03-30 | 2003-09-30 | エフ・エル・スミス・アンド・カンパニー・エー・エス | 粒状セメント原料からセメントクリンカを製造するための方法及び装置 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6086374A (ja) * | 1983-10-17 | 1985-05-15 | 株式会社神戸製鋼所 | セメント原料焼成用ロ−タリキルン |
| DE3522272A1 (de) * | 1985-03-22 | 1986-09-25 | Krupp Polysius Ag, 4720 Beckum | Verfahren und anlage zur waermebehandlung von feinkoernigem gut |
| DE4219697A1 (de) * | 1992-06-16 | 1993-12-23 | Krupp Polysius Ag | Verfahren zur Herstellung von Zementklinker |
| MXPA04008616A (es) * | 2002-03-07 | 2005-05-27 | Fl Smidth As | Metodo y planta para fabricar clinker de cemento. |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5527022B2 (ja) * | 1972-09-04 | 1980-07-17 | ||
| JPS5344663U (ja) * | 1976-09-20 | 1978-04-17 | ||
| DE2712238C2 (de) * | 1977-03-21 | 1988-05-05 | Klöckner-Humboldt-Deutz AG, 5000 Köln | Verfahren und Vorrichtung zum mehrstufigen Erbrennen von Zementklinker |
| DE2736607C2 (de) * | 1977-08-13 | 1984-11-22 | Klöckner-Humboldt-Deutz AG, 5000 Köln | Verfahren und Vorrichtung zur thermischen Behandlung von feinkörnigem Gut mit heißen Gasen |
| DE2801161B2 (de) * | 1978-01-12 | 1981-06-25 | Babcock Krauss-Maffei Industrieanlagen GmbH, 8000 München | Verfahren und Brennen von Sintergut aus karbonatischen Rohstoffen wie z.B. Zementklinker |
| JPS5527022A (en) * | 1978-08-15 | 1980-02-26 | Kanetsuu Kogyo Kk | Apparatus for separating non-magnetic conductive material |
| JPS6326824Y2 (ja) * | 1979-09-11 | 1988-07-20 | ||
| FR2474334A1 (fr) * | 1980-01-28 | 1981-07-31 | Lafarge Sa | Dispositif de melange avec turbulence de fluides gazeux |
| JPS5924105B2 (ja) * | 1980-06-03 | 1984-06-07 | 宇部興産株式会社 | セメント原料粉末等の仮焼装置 |
| AT377249B (de) * | 1980-07-30 | 1985-02-25 | Thaelmann Schwermaschbau Veb | Verfahren zur waermebehandlung von feinkoernigem material sowie vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens |
-
1983
- 1983-03-11 JP JP4093483A patent/JPS59164655A/ja active Granted
-
1984
- 1984-03-09 FR FR8403646A patent/FR2542434B1/fr not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003528793A (ja) * | 2000-03-30 | 2003-09-30 | エフ・エル・スミス・アンド・カンパニー・エー・エス | 粒状セメント原料からセメントクリンカを製造するための方法及び装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2542434A1 (fr) | 1984-09-14 |
| FR2542434B1 (fr) | 1989-05-19 |
| JPS59164655A (ja) | 1984-09-17 |
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