JPH0136557B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は電気メツキ（electro−plating）の技
術に関する。さらに詳しくは、パターンが形成さ
れたマンドレル（patterned mandrel）上での金
属製グリツドパターンの電鋳（electroforming）
の技術に関する。

［従来の技術］ 光学系において用いられるパターンなどの精度
の高いパターンの電鋳はいくつかの方法によつて
成功をおさめている。たとえば、電気メツキのた
めの導電性マスターパターン（conductive
master pattern）を形成するために、ガラス基
材（glass substrate）にラインをエツチングま
たはルーリング（etching or ruling）し、つい
でエツチングまたはルーリングしたラインに導電
性材料を付着させて形成したラインのマスターパ
ターン上に電気メツキすることによつて、精度の
高いメツシユパターン（mesh patterns）がつく
られている。この方法の主な欠点はエツチングガ
ラスの細かさ（fineness）、精密さに限界がある
ことである。

一方、パターンが形成された電鋳マンドレルを
つくるために、写真平版（石版）技術
（photolithographic techniques）が用いられて
いる。たとえば、研磨された金属プレートなどの
導電性基材にフオトレジスト用感光性樹脂
（photoresist）層（以下、単に感光性樹脂層とい
う）をコーテイングする。感光性樹脂層のうえ
に、パターンが形成されたフオトマスク
（patterned photomask）が配置され、ついで該
感光性樹脂層を該マスクを介して感光性樹脂を硬
化させる波長の活性光照射線（actinic
radiation）に露光させ、露光されていない感光
性樹脂部分と露光された感光性樹脂部分とよりな
るパターンが形成され、ついで現像せしめられ
る。ポジテイブパターン（positive pattern）ま
たはネガテイブパターン（negative pattern）の
どちらが望まれるかによつて、感光性樹脂層の露
光された部分または露光されていない部分のどち
らか一方が除去され、基材上に導電性パターンが
形成される。えられた電鋳マンドレルを用いて、
のちに基材から取りはずされうる導電性パターン
のレプリカ（replica）を形成するために、電気
メツキが行なわれる。この方法もまた形成されう
るラインの均一性および精度の点において限界が
あるというだけでなく、限られた使用ののちにマ
スターパターンの再構成が要求される。

ベイクウエル（Bakewell）の米国特許第
3703450号明細書には、絶縁性基材の上に形成し
た導電性パターンと、該導電性パターン以外の部
分に形成した絶縁性パターンとからなる繰り返し
て再利用可能なマスタープレート（マンドレル）
の上に、精度の高い導電性メツシユパターンから
なる製品をつくる方法が開示されている。マスタ
ーパターンの複製物は絶縁性パターンによつて定
められたマトリツクス内のマスターパターン上に
導電性を有するパターンをメツキすることによつ
て形成される。導電性金属マスターパターンは典
型的にはステンシル材料（stencil material）上
に形成されたルーリングされたパターンを通し
て、クロミウムなどの金属のエバポレーシヨン
（evaporation）によつてガラスプレート上に付
着される。絶縁性パターンはガラスプレートの導
電性パターンがコーテイングされた側の感光性樹
脂層を付着させることによつて形成される。導電
性パターンがコーテイングされた基材を介して感
光性樹脂層を活性光照射線に露光させることによ
つて、導電性パターンおよび絶縁性パターンの正
確なレジストレーシヨン（registration）が達成
される。感光性樹脂層が現像され、この露光され
た部分が除去され、感光性樹脂層のパターンが導
電性パターン上に残される。ついで、一酸化ケイ
素層がガラスプレートの全表面にわたつて付着さ
れ、感光性樹脂／導電性パターンがコーテイング
された部分とガラスが露出した部分との両方をお
おう。最後に、導電性パターンの上に横たわる感
光性樹脂層と残つている感光性樹脂の上に横たわ
る一酸化ケイ素が除去され、導電性メタルパター
ンでコーテイングされた部分のガラスプレート
と、導電性パターン以外の部分にそろつて付着し
た一酸化ケイ素とが残される。ついで、導電性パ
ターンのレプリカが電気メツキによつて形成され
る。

［発明が解決しようとする課題］ 本発明は、エツチングなどの腐蝕処理を必要と
しない簡易な方法でしかも精度の高いパターンを
有する電鋳マンドレルを作製し、それを用いて正
確な金属性グリツドパターンをうる方法を提供す
ることを目的とする。

［課題を解決するための手段］ 本発明はフオトマスクとしても機能する基材と
してステインされたガラスフオトマスクを用い、
該基材表面上に形成された連続的で透明な導電性
フイルムと、該導電性フイルムの表面上に設けた
フオトレジスト用感光樹脂層に前記基材を介して
活性光照射線を照射したのち現像して形成された
パターンを定める不連続なフオトレジスト用感光
性樹脂層とからなる電鋳マンドレルを製造する工
程と、 カソードコネクタを前記電鋳マンドレルの導電
性フイルムに取りつける工程と、 アノードコネクタを前記マンドレルに付着され
るべき金属からなる電極に取りつける工程と、 前記マンドレルと前記電極を電鋳溶液中に浸漬
する工程と、 前記アノードから前記導電性フイルムのカソー
ド評面上に金属を付着させるために、前記電極お
よび前記溶液を通して電流をかける工程と、 前記マンドレル上に金属部分を電鋳させるため
に、金属が所望の厚さとなるまで電着を実施する
工程 とからなる電鋳マンドレルを用いた金属製グリツ
ドパターンの電鋳方法に関する。

本発明は電鋳マンドレルを用いて、ヒーテイン
ググリツドや光学系システムに用いられるグリツ
ドパターンなどの金属製グリツドパターンを電鋳
する方法を提供するものである。本発明の方法に
おいては、電鋳マンドレルの基材として、ステイ
ンされたガラスフオトマスク（表面内部に不透明
パターンを有するガラス製フオトマスク）が用い
られる。この活性光照射線を透過させる基材には
所定の製品を電鋳させるための所望のパターンが
形成されており、該基材はフオトマスクとしても
機能する。該基材表面には連続的で透明な導電性
フイルムがコーテイングされる。感光性樹脂の連
続層がその導電性フイルム上に付着される。感光
性樹脂層が前記基材を介して活性光照射線に露光
される。前記パターンは感光性樹脂層の一部分を
露光からマスクするように働く。ついで感光性樹
脂層が現像され、基材上のパターンと一致する、
下に導電性フイルムが横たわる導電性パターンを
つくるために、感光されていない部分を除去す
る。かわりに、基材が有するパターンのネガテイ
ブイメージとなる導電性パターンをつくるため
に、感光性樹脂層の露光された部分を除去しても
よい。他の実施例においては、露光された感光性
樹脂部分または露光されていない感光性樹脂部分
のどちらか一方が除去され、該除去された感光性
樹脂部分の下に横たわる領域における導電性フイ
ルムがエツチングされてもよい。残つている感光
性樹脂部分を除去することにより、基材が有する
のパターンのポジテイブイメージまたはネガテイ
ブイメージのどちらか一方になるようなガラス表
面上の導電性フイルムのパターンが露出する。え
られた製品は金属部分の電鋳のためにマンドレル
として用いられる。

マンドレルは電鋳溶液中に浸漬され、電流がか
けられ、マンドレル上の導電性パターンの領域に
金属を効果的に電着させうる。充分厚い付着物が
えられたときは、残つている感光性樹脂層が除去
され、電鋳されたヒーテインググリツドなどの金
属製グリツドパターンがマンドレルから分離され
る。

［実施例］ 第１図は本発明の電鋳方法の一例を示す説明図
である。

電着溶液９内には電鋳マンドレル１と金属電極
８とが浸漬されている。該電鋳マンドレル１はフ
オトマスクとしても機能する基材４と連続的な透
明導電性フイルム３と不連続なフオトレジスト層
２とからなり、前記金属電極８がプラス側になり
前記透明導電性フイルム３がマイナス側になるよ
うに電源に接続されている。このようにして、金
属電極８の金属が透明導電性フイルム３上に付着
し電着が行なわれるのである。

第２図は本発明に用いる電鋳マンドレルの製造
方法の一例を示す説明図である。

フオトマスクとしても機能する基材４としては
ステインされたガラスフオトマスクが用いられて
おり、その表面内部には不透明なパターン５が形
成されている。この基材４のうえに連続的な透明
電導性フイルム３が設けられ、さらにそのうえ
に、フオトレジスト層２が連続的に設けられる。
ついで、基材４側から、図中の矢印の方向に活性
光が照射され、露光されたフオトレジスト６が形
成される。図示された例においては、この露光さ
れたフオトレジスト６は現像によつて除去され、
第１図に示されるごとき、電鋳マンドレル１が形
成される。

第３図はステインされたガラスフオトマスクが
用いられた基材の一例を示す説明図であり、ガラ
ス基材７の表面の内部に不透明パターン５が形成
されている。

本発明の一実施例においては、ガラスプレート
に電鋳によつて製造されるべき製品の形状をあら
わすパターンが形成されており、ガラスにインフ
ユーズされる（infused）ステインプロデユーシ
ングメタル（stain producing metal）によつて
形成されたパターンを有するガラスフオトマスク
が用いられている。このステインされたガラスフ
オトマスクを製造する好ましい方法は、アーンズ
バーガー（Ernsberger）の米国特許第4144066号
および第4155735号各明細書に詳細に記載されて
いる。参考のため、ここでその開示内容を含めて
説明する。

第４ａ〜４ｅ図はステインされたガラスフオト
マスクの製造工程の一例を示す説明図である。な
お、ステインされたガラスフオトマスクとは、ガ
ラス内部に不透明パターンを有するガラスフオト
マスクである。

第４ａ図にはガラス基材１０が示されており、
ステインを生成するイオンの供給源としてのフイ
ルム１１がそのうえに載せられている。ステイン
を生成するイオンとしては銀、銅、金、チタンな
どがあげられ、銀が好ましい。フイルム１１は、
比較的低い導電性を有する一種以上のステインを
生成するカチオンの化合物として、蒸着、スパツ
タリング、ウエツト・ケミカル・デポジシヨンま
たは他の既知の技術などの通常のコーテイング技
術を用いて形成されてもよいが、とくにスパツタ
リングを採用することにより所望の高い均一性を
有するコーテイングが達成される。

第４ｂ図では、前記フイルム１１のうえに形成
されたフオトレジスト層１２が、マスターマスク
１３のパターン化された孔１４を介して照射線に
露光される。ついでフオトレジスト１２が現像さ
れると、第４ｃ図に示されるごとく、フオトレジ
スト１２にパターン化された孔１５が形成され
る。これらの図面に示されているフオトレジスト
は、「ポジテイブ・ワーキング」フオトレジスト
であり、マスターマスクのパターン化された孔１
４に対応した部分１５が溶解されており、一方、
他の部分のフオトレジストはそのまま残つてい
る。これに代えて、「ネガテイブ・ワーキング」
フオトレジストを使用しうることは明らかであ
り、そのばあい、現像後には露光した領域のフオ
トレジストのみが残る。このように用いることが
できる市場で入手可能なフオトレジストの特定の
例としては、フイリツプ・エー・ハント社
（Philip A.Hunt Co.）の販売する「LSI−195」
フオトレジスト、イーストマン・コダツク社
（Eastman Kodak Co.）の販売する「KPR」フ
オトレジスト、シツプレイ社（Shipley Co.）の
販売する「AZ−111」などがあげられる。

フオトレジストが現像されたのち、そのピース
は第４ｄ図に表わされているようにステインを生
成するイオンのガラス内への電気泳動ができる状
態になつている。ガラスの対向する両側には、導
電層１６および１７が設けられ、それらはリード
線１８および１９によつて電源に接続されて、そ
れぞれアノードおよびカソードとして機能する。
設置および除去が容易である点で、電極層１６お
よび１７の材料としてはコロイド状グラフアイト
が好ましい。コロイド状グラフアイトは、それが
水性もしくはアルコールのビヒクル中に浮遊して
いるスラリーの形態で基材に塗布されるか、あた
は市販されているエアロゾルスプレーによつてコ
ロイド状グラフアイトが層として形成されてもよ
い。電極層１６および１７としていかなる材料が
使用されるばあいにも、その抵抗値がガラスの抵
抗値にくらべて充分小さく（たとえば約10％未
満）なるように充分厚く形成されなくてはならな
い。

電極層１６がアノードとして機能するように電
極層１６および１７に電界を印加すると移動しう
るカチオン、とくにアルカリ金属イオンがフオト
レジストの孔１５の下のガラスのゾーン２０から
外に泳動する。これらの移動しうるカチオンはア
ノードに反発しガラス基材中に深く進む。同時
に、電界によつて層１１からのステインを生成す
るイオンが、ガラスを構成している泳動したイオ
ンが抜けた場合に入り込むべく、ガラスのパター
ン化されたゾーン２０に注入される。フオトレジ
ストの低い導電性のために、フオトレジスト１２
の下にあたるガラス部分では、イオンの泳動は生
じない。

このようにして第４ｅ図に示されるように、不
透明パターン２０をガラス基材１０の表面の内部
に有するガラスフオトマスクがえられる。

本発明の方法においては、たとえばこのように
してえられたステインされたガラスフオトマスク
が電鋳マンドレルの基材として用いられる。

連続的な導電性フイルムが電鋳マンドレルとし
て用いられるべき基材表面に付着される。導電性
フイルムは金属あるいは、酸化スズまたは酸化イ
ンジウムなどの電気導電性のよい
（electroconductive）金属酸化物であつてよい。
導電性フイルムは真空蒸着、カソードスパツタリ
ンダ、化学蒸着または熱分解コーテイング
（pyrolytic coating）などの従来から知られてい
るコーテイング方法によつて付着されてよい。本
発明のもつとも好ましい実施例においては、酸化
インジウムからなる導電性フイルムがマグネトロ
ンスパツタリング（magnetron sputtering）に
よつて付着される。導電性フイルムはガラス基材
に付着される。本発明のもつとも好ましい実施例
においては、導電性フイルムは80〜90％インジウ
ムと10〜20％スズとからなるカソードでスパツタ
リングされる。

連続的で透明な導電性フイルムはステインされ
たガラスフオトマスクのステインされた面に付着
される。導電性フイルムは酸化スズまたは酸化イ
ンジウムなどの電気電導性のよい金属酸化物であ
るのが好ましい。導電性フイルムは真空蒸着、カ
ソードスパツタリング、化学蒸着または熱分解コ
ーテイングなどの従来から知られているコーテイ
ング方法によつて付着されてよい。本発明のもつ
とも好ましい実施例においては、酸化インジウム
からなる導電性フイルムがマグネトロンスパツタ
リングによつて付着される。導電性フイルムはパ
ターンの解像度（resolution）を最適化するた
め、フオトマスクのステインされた面に付着され
る。

導電性フイルム上に、感光性樹脂の連続層が設
けられる。充分な解像度を有する感光性樹脂であ
れば従来から知られているいずれのものでも適用
可能である。本発明の好ましい実施例において
は、シート状の感光性樹脂層が導電性フイルムに
ラミネートされる。感光性樹脂層は該感光性樹脂
層の露光される部分を硬化させるよう、充分な照
射線を透すガラスプレートと導電性フイルムとを
介して活性光照射線に露光される。フオトマスク
パターンは感光性樹脂層の一部分が露光されるの
をマスクし、その部分は硬化しないままである。
感光性樹脂層の露光、必要ならポストキユアリン
グサイクル（postcuring cycle）に引き続いて、
感光性樹脂層が現像される。好ましくは、感光性
樹脂層の露光されず硬化していない部分を溶解さ
せて除去するNaOHなどの化学溶液（通常、フ
オトレジストストリツパー（photoresist
stripper）という）に感光性樹脂層を接触させ
る。それによつて、ガラスフオトマスクにおける
パターンのポジテイブイメージである、下に導電
性フイルムが横たわるパターンがえられる。導電
性パターンを囲む感光性樹脂層の残つている露光
され硬化された部分は、電鋳される部分を形成す
る壁（walls）を形成する。本発明の他の実施例
においては、ポジテイブワーキングな感光性樹脂
層がフオトマスクパターンのネガテイブイメージ
である導電性フイルムパターンを形成するために
用いられてよい。

えられた製品は導電性フイルム上にパターンを
形成する金属部分の電鋳のためのマンドレルとし
て用いられる。本発明によれば、感光性樹脂層に
よつて定められたパターンを有し、導電性フイル
ムを備えたガラス製のフオトマスクとしても機能
する基材を用いたマンドレル（以下、フオトマス
クマンドレルともいう）は、従来から知られてい
る金属含有電着溶液（metalcontaining
electrodeposition solution）に浸漬される。カ
ソードとして導電性フイルムを用い、アノードと
して付着させる金属の電極を用いて電気回路が形
成される。電圧がかけられ、金属が感光性樹脂層
によつて定められたパターンの中で導電性フイル
ム上に付着される。電着は電鋳される部分の厚さ
が所望の厚さとなるまで続けられる。所望の厚さ
となると、導電性フイルム、感光性樹脂層および
電鋳された金属部分を有する基材が電着溶液から
取り出される。フオトマスクマンドレルからの電
鋳された金属部分の分離は加熱または冷却などの
種々の手段で効果的に行なわれてよい。電鋳され
た金属部分が充分に厚いものであるときは、感光
性樹脂層をそのまま有するマンドレルからはがさ
れてもよい。本実施例においては、マンドレルは
すぐに再利用されうる。しかしながら、電鋳され
る部分が非常に薄くおよび（または）非常に細か
なラインからなるようなばあいには、まず残つて
いる感光性樹脂層を溶解することなどにより除去
する。ついで、電鋳された金属部分がフオトマス
クマンドレルから取りはずされる。電鋳された部
分が充分強いときは、導電性フイルムから容易に
はがされうる。しかしながら、電鋳された金属部
分が非常に細かなラインからなる本発明のもつと
も好ましい実施例においては、フオトマスクマン
ドレルからの電鋳された金属部分の分離のための
好ましい方法は、電鋳された部分を粘着テープ
（tacky tape）に接着させてフオトマスクマンド
レルから取りはずし、ついで該粘着テープからそ
の部分を取りはずすことである。電鋳された金属
部分はその接着剤を溶解させることによつてテー
プから取りはずされるのが好ましい。

電鋳される部分が非常に細かなラインからなる
ヒーテインググリツドである本発明のもつとも好
ましい実施例において、マンドレルからの電鋳さ
れたヒーテイングエレメントの分離のための好ま
しい方法は、感光性樹脂層を除去し、電鋳された
金属部分を該部分がくつつく重合体材料
（polymeric material）に接着させ、ついで該重
合体材料とヒーテインググリツドエレメントとを
一体的に取りはずすことである。好ましくは、重
合体材料は硬いシートと重ね合わされて航空機の
透明部分、たとえばコツクピツトの天蓋
（canopy）またはキヤビンの窓を形成する中間膜
（interlayer）である。もつとも好ましい実施例
においては、重合体材料はポリビニルブチラール
シートであり、その表面は軟化のために化学処理
がなされている。粘着面はヒーテインググリツド
をマンドレルから取りはずすために用いられる。
ついで、該ポリビニールブチラールシートはヒー
テインググリツドをあいだにはさんで第２ポリマ
ーシートにラミネートされる。種々の溶剤がポリ
ビニルブチラールを軟化させるために用いられて
よいが、ジエチレングリコールモノブチルエーテ
ルが好ましい。

つぎに本発明のいくつかの特定の実施例を説明
する。

実施例 １ ハロゲン化銀からなるフオトグラフイツクエマ
ルジヨン（photographic emulsion）をガラスプ
レートにコーテイングすることによつて、電鋳さ
れるべき金属部分の形状を定めるマスターパター
ンを通して活性光照射線に露光されるガラスフオ
トマスクを基材として用いた電鋳マンドレル（以
下、ガラスフオトマスク電鋳マンドレルという）
を製造した。ハロゲン化銀をコロイド銀に変化さ
せる現像溶液の中に浸漬することによつて現像さ
れるラテントイメージ（latent image）がフオ
トグラフイツクエマルジヨンの露光された領域に
よつて形成された。コーテイングされたガラスプ
レート中で銀イオンを泳動させるために該プレー
トに電界をかけた。銀イオンを、電鋳されるべき
製品のマスターパターンと一致するガラス内のス
テインされたパターンを形成するコロイド状の微
晶質のカラーセンター（color centers）に集塊
する（agglomerate）銀元素に還元した。つい
で、90％インジウムと10％スズとからなるカソー
ドのマグネトロンスパツタリングによつてステイ
ンされたガラス表面に連続的な導電性フイルムを
コーテイングした。好ましい酸化インジウムフイ
ルムは単位面積あたり約20オーム未満の表面抵抗
（surface resistivity）を有している。約113℃
（235〓）で感光性樹脂シートを酸化インジウムに
ラミネートすることによつて、感光性樹脂の連続
層を導電性フイルム上に形成した。約0.025mm
（0.001インチ）の厚さを有する感光性樹脂シート
はカリフオルニア州、タステインに住所を有する
チオコール／ダイナケム・コーポレーシヨン
（Thiokol／Dynachem Corp.）製のダイナケム
（Dynachem）AXであつた。感光性樹脂層を基
材のマスキングパターンを通して20秒間、365n
ｍにピークを有する波長の活性光照射線コライト
（Colight）社製のモデルＭ−28の水銀灯）に露光
させ、硬化させた。感光性樹脂層の露光していな
い部分を除去する溶剤（フオトレジストストリツ
パー、ダイナケム・アルカストリツプ
（Dynachem Alkastrip）99A）で感光性樹脂層
を現像した。それによつて電鋳されるべき製品の
形状を有するパターンをえた。そのばあいパター
ンの底面は酸化インジウムである。えられた製品
を以下に説明する方法において電鋳マンドレルと
して用いた。

実施例 ２ 実施例１のガラスフオトマスク電鋳マンドレル
を電鋳のために塩酸と硝酸との稀薄溶液の中に浸
漬して、ついでイソプロパノールに浸漬すること
によつて前処理を行なつた。該稀薄溶液およびイ
ソプロパノールに浸漬した後はそれぞれ電鋳表面
をきれいに、湿らせるために水で洗浄した。電鋳
を開始する前に、表面を完全に湿らせ、気泡を取
り除くために、ガラスフオトマスク電鋳マンドレ
ルを数回電鋳溶液に浸漬した。電鋳溶液はニツケ
ルサルフアメート（nickel sulfamate）であつ
て、約43℃（110〓）に保つた。ガラスフオトマ
スク電鋳マンドレルの酸化インジウムフイルムに
カソードを接触させた。減極された
（depolarized）ニツケルプレートにアノードを接
触させた。マンドレルとプレートとの両方をニツ
ケルサルフアメート溶液に浸漬した。電鋳を
0.093m²（1ft²）あたり10アンペアの電流密度
（current density）で、100分あたり0.025mm
（0.001in）の速度で電鋳を進行させた。電鋳され
た部分が所望の厚さに達したときに、マンドレル
を溶液から取り出し、残つている感光性樹脂を苛
性ソーダで溶解し除去し、ついで電鋳された部分
を粘着テープでマンドレルから取りはずした。

実施例 ３ ハロゲン化銀からなるフオトグラフイツクエマ
ルジヨンをガラスプレートにコーテイングし、電
鋳されるべき金属部分の形状を定めるマスターパ
ターンを通して活性光照射線に露光させて、ガラ
スフオトマスクを製造した。ハロゲン化銀をコロ
イド銀に変化させる現像溶液の中に浸漬すること
によつて現像されるラテントイメージがフオトグ
ラフイツクエマルジヨンの露光された領域で形成
された。コーテイングされたガラスプレート中で
銀イオンを泳動させるために該プレートに電界を
かけた。銀イオンを電鋳されるべき製品のマスタ
ーパターンと一致するガラス内のステインされた
パターンを形成するコロイド状の微晶質のカラー
センターに集塊する銀元素に還元した。電鋳マン
ドレルが90％インジウムと10％スズとからなるカ
ソードのマグネトロンスパツタリングによつてガ
ラス基材の表面の連続的な導電性フイルムでコー
テイングすることによつて製造された。好ましい
酸化インジウムフイルムは単位面積あたり約20オ
ーム未満の表面抵抗を有している。約113℃（235
〓）で感光性樹脂シートを酸化インジウムにラミ
ネートすることによつて、感光性樹脂の連続層を
導電性フイルム上に形成した。約0.025mm（0.001
インチ）の厚さを有する感光性樹脂シートはカリ
フオルニア州、タステインに住所を有するチオコ
ール／ダイナケム・コーポレーシヨン製のもので
あつた。感光性樹脂をガラスフオトマスクを通し
て20秒間、365nｍにピークを有する活性光照射
線に露光させ、硬化させた。感光性樹脂層の露光
していない部分を除去する溶剤（フオトレジスト
ストリツパー、ダイナケム・アルカストリツプ
99A）で感光性樹脂層を現像した。それによつ
て、電鋳されるべき製品の形状を有するパターン
をえた。そのばあい、パターンの底面は酸化イン
ジウムである。えられた品を以下に説明する方法
において電鋳マンドレルとして用いた。

実施例 ４ 幅約0.03mm（0.0012インチ）、間隔約0.56mm
（0.022インチ）のラインからなるスクリーンパタ
ーン（screen pattern）を有する縦約7.6cm（３
インチ）、横約17.8cm（７インチ）のガラスマン
ドレルを実施例３と同様にして製造した。該マン
ドレルを電鋳のために塩酸と硝酸との稀薄溶液の
中に浸漬し、ついでイソプロパノールに浸漬する
ことによつて準備した。該稀薄溶液およびイソプ
ロパノールに浸漬した後はそれぞれ電鋳表面をき
れいにし、湿らせるために水で洗浄した。電鋳を
開始する前に、表面を完全に湿らせ、気泡を取り
除くために、ガラスマンドレルを数回電鋳溶液に
浸漬した。電鋳溶液はニツケルサルフアメートで
あつて、約43℃（110〓）に保つた。ガラス電鋳
マンドレルの酸化インジウムフイルムにカソード
を接触させた。減極されたニツケルプレートにア
ノードを接触させた。マンドレルとプレートとの
両方をニツケルサルフアメート溶液に浸漬した。
0.093m²（1ft²）あたり10アンペアの電流密度で、
100分あたり0.025mm（0.001インチ）の速度で電
鋳を進行させた。電鋳された部分が所望の厚さ、
すなわち約0.013mm（0.0005インチ）に達したと
きに、マンドレルを溶液から取り出し、残つてい
る感光性樹脂層を約66℃（150〓）で苛性ソーダ
で溶解し除去した。電鋳されたヒーテインググリ
ツドをポリビニルブチラールを有する表面に接着
させて、マンドレルから取りはずした。その接触
面は粘着面をつくるためにジエチレングリコール
モノブチルエーテルで処理したものである。ポリ
ビニルブチラールシートがマンドレルからはがさ
れるときは、グリツドはポリビニルブチラールシ
ートの粘着面にひつついたままであつた。加熱し
うる中間膜を形成するために、ヒーテインググリ
ツドを備えたポリビニルブチラールシートを該グ
リツドを間にはさんでもう１つの重合体シートに
ラミネートした。

実施例 ５ オプチカルグリツド（optical grid）を実施例
４と同様にして電鋳によつて製造した。ただし、
マンドレル上の導電性パターンがより間隔の狭い
より細いラインからなるところが実施例４と異な
つていた。間隔約0.076mm（0.003インチ）、幅約
0.025mm（0.001インチ）のラインからなるオプチ
カルグリツドを製造した。

叙上の実施例は本発明を詳細に説明するために
与えられたものであるが、本発明はかかる実施例
のみに限定されるものではなく、本発明の範囲内
で種々の変更をすることができる。たとえば、
銅、鉄、鉛、スズ、亜鉛などの金属を電鋳によつ
て付着させてもよい。本発明の電鋳されたエレメ
ントは、アートワーク（artwork）によつて制限
をうけるほかはどのような形状、輪郭にも形成さ
れうる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の電鋳方法の一例を示す説明
図、第２図は本発明に用いる電鋳マンドレルの製
造法の一例を示す説明図、第３図はステインされ
たガラスフオトマスクを示す説明図、第４ａ〜４
ｅ図はそれぞれステインされたガラスフオトマス
クの製造工程の一例を示す説明図である。 （図面の主要符号）、１：電鋳マンドレル、
２：フオトレジスト層、３：透明導電性フイル
ム、４：基材、５：不透明パターン、８：金属電
極、９：電鋳溶液。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ フオトマスクとしても機能する基材としてス
   テインされたガラスフオトマスクを用い、該基材
   表面上に形成された連続的で透明な導電性フイル
   ムと、該導電性フイルムの表面上に設けたフオト
   レジスト用感光樹脂層に前記基材を介して活性光
   照射線を照射したのち現像して形成されたパター
   ンを定める不連続なフオトレジスト用感光性樹脂
   層とからなる電鋳マンドレルを製造する工程と、 カソードコネクタを前記電鋳マンドレルの導電
   性フイルムに取りつける工程と、 アノードコネクタを前記マンドレルに付着され
   るべき金属からなる電極に取りつける工程と、 前記マンドレルと前記電極を電鋳溶液中に浸漬
   する工程と、 前記アノードから前記導電性フイルムのカソー
   ド表面上に金属を付着させるために、前記電極お
   よび前記溶液を通して電流をかける工程と、 前記マンドレル上に金属部分を電鋳させるため
   に、金属が所望の厚さとなるまで電着を実施する
   工程 とからなる電鋳マンドレルを用いた金属製グリツ
   ドパターンの電鋳方法。 ２ 前記基材が銀でステインされたガラスフオト
   マスクである特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３ 前記導電性フイルムが酸化インジウム、酸化
   スズおよびそれらの混合物よりなる群から選ばれ
   た特許請求の範囲第２項記載の方法。 ４ 前記導電性フイルムがマグネトロンスパツタ
   リング法によつて形成される特許請求の範囲第３
   項記載の方法。 ５ 前記フオトレジスト用感光性樹脂層が、フオ
   トマスクパターンのポジテイブイメージであつ
   て、下に導電性フイルムが横たわるパターンをつ
   くるために現像される特許請求の範囲第４項記載
   の方法。 ６ 前記金属製グリツドパターンを前記マンドレ
   ルから容易に分離させるために、該部分を電鋳さ
   せたあと、前記フオトレジスト用感光性樹脂層を
   除去する工程をさらに含む特許請求の範囲第１項
   記載の方法。