JPH0143873Y2 - - Google Patents

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JPH0143873Y2
JPH0143873Y2 JP1984151068U JP15106884U JPH0143873Y2 JP H0143873 Y2 JPH0143873 Y2 JP H0143873Y2 JP 1984151068 U JP1984151068 U JP 1984151068U JP 15106884 U JP15106884 U JP 15106884U JP H0143873 Y2 JPH0143873 Y2 JP H0143873Y2
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Description

【考案の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本考案は光通信機器・光情報処理機器・光計測
用機器等光応用機器の多くに使用する半導体レー
ザ装置特に戻り反射光が前記半導体レーザに再入
射しても雑音の発生を誘起しない構造の半導体レ
ーザ装置に関する。
[Detailed description of the invention] (Field of industrial application) The present invention is a semiconductor laser device used in many optical application devices such as optical communication equipment, optical information processing equipment, and optical measurement equipment. The present invention relates to a semiconductor laser device having a structure that does not induce the generation of noise even if it is re-injected into the semiconductor laser.

(従来技術) 半導体レーザは近年数多くの機器に利用されて
きており、代表的な装置としては光情報伝送用端
局装置や光デイスク装置における光ピツクアツプ
などを挙げることができる。その利用の形態とし
ては、以下のようなものがある。例えば光情報伝
送用端局装置では、伝送すべき情報信号によつて
半導体レーザの駆動電流を変調し、半導体レーザ
の出力光をレンズ等によつて集束し、光信号伝送
路である光フアイバに結合し出力する。また光デ
イスク装置たとえば光ビデオデイスクのピツクア
ツプでは、半導体レーザ光を複数のレンズによつ
て微小な光輝点を光デイスク面上の信号トラツク
に追随させて照射する。光デイスク面上の記録ピ
ツトからの反射光を前記レンズ群の間またはこれ
よりレーザ側に挿入された半透鏡や偏向プリズム
によつて光路を偏向させて光検出器に入射させ、
信号検出を行つている。
(Prior Art) Semiconductor lasers have been used in many devices in recent years, and representative devices include terminal equipment for optical information transmission and optical pickups in optical disk devices. Examples of its usage include the following. For example, in a terminal equipment for optical information transmission, the driving current of a semiconductor laser is modulated according to the information signal to be transmitted, and the output light of the semiconductor laser is focused by a lens or the like, and then sent to an optical fiber, which is an optical signal transmission path. Combine and output. Furthermore, in the pickup of an optical disk device, such as an optical video disk, semiconductor laser light is irradiated by a plurality of lenses so that a minute bright spot follows a signal track on the surface of the optical disk. The optical path of the reflected light from the recording pit on the optical disk surface is deflected by a semi-transparent mirror or a deflection prism inserted between the lens groups or closer to the laser, and the light is incident on a photodetector.
Performing signal detection.

(考案が解決しようとする問題点) これらの光応用機器では光の透過経路の各部か
ら反射する光が光源である半導体レーザに再入射
し、これによつて半導体レーザの発振モードの競
合を生じて雑音が発生するという問題がある。た
とえば光情報伝送端局装置では、半導体レーザの
発振光を光フアイバに集光するためレンズの光入
出射面、光フアイバの光入射端面や光フアイバ途
中に設けられているコネクタの端面などから反射
し、これらの光が半導体レーザに再入射する。ま
た光ビデオデイスクのピツクアツプでは光ビーム
の経路の途中に設けた光部品からの反射光に加
え、更にデイスク基板からの反射光が半導体レー
ザに戻り入射し、前述の雑音の発生を誘起する。
雑音の発生は光情報伝送品質の劣化、デイスク再
生信号の劣化、デイスク再生画像品質の劣化等を
引き起す。従来通常の光ビデオデイスクのピツク
アツプでは半導体レーザへの戻り光を押さえるた
めに偏光ビームスプリツタと1/4波長板との組合
せになる簡易形の光アイソレータが用いられる。
この簡易光アイソレータの原理は、1/4波長板を
往復した光は、1/4波長板入射前の偏光と直交す
ることから偏光ビームスプリツタによつて戻り光
を偏向除去するものである。光デイスク面での反
射が偏光状態変化をともなわない場合であつても
上記のアイソレータで得られるアイソレーシヨン
は最大20〜25dB程度であり半導体レーザの光を
コリメートするコリメートレンズの透過率を30%
程度としても半導体レーザへは常に0.3〜0.1%の
戻り光を生じている。よく知られているように光
デイスクの表面は樹脂による保護膜が形成されて
いる。この保護膜の不均質性は反射光の偏光面に
回転を生じさせる。このため偏光ビームスプリツ
タによる戻り光の偏光除去が不十分となり半導体
レーザへの戻り光は更に増大し、雑音の発生量が
増大する。
(Problem that the invention aims to solve) In these optical application devices, the light reflected from various parts of the light transmission path re-enters the semiconductor laser that is the light source, which causes competition in the oscillation modes of the semiconductor laser. There is a problem that noise is generated. For example, in optical information transmission terminal equipment, the oscillated light of a semiconductor laser is focused on an optical fiber, so it is reflected from the light input/output surface of a lens, the light input end face of the optical fiber, and the end face of a connector installed in the middle of the optical fiber. Then, these lights enter the semiconductor laser again. Furthermore, in the pickup of an optical video disk, in addition to the reflected light from the optical parts provided in the path of the light beam, the reflected light from the disk substrate returns to the semiconductor laser and induces the generation of the above-mentioned noise.
The generation of noise causes deterioration of optical information transmission quality, deterioration of disc reproduction signal, deterioration of disc reproduction image quality, etc. In conventional optical video disk pickups, a simple optical isolator consisting of a polarizing beam splitter and a quarter-wave plate is used to suppress the light returning to the semiconductor laser.
The principle of this simple optical isolator is that since the light that has traveled back and forth through the quarter-wave plate is orthogonal to the polarization before entering the quarter-wave plate, the returning light is polarized and removed by a polarizing beam splitter. Even when reflection on the optical disk surface does not involve a change in polarization state, the isolation obtained with the above isolator is approximately 20 to 25 dB at most, and the transmittance of the collimating lens that collimates the semiconductor laser light is reduced by 30%.
Even in terms of degree, 0.3 to 0.1% of return light is always generated to the semiconductor laser. As is well known, a protective film made of resin is formed on the surface of an optical disk. This non-uniformity of the protective film causes a rotation in the plane of polarization of the reflected light. For this reason, the polarization removal of the returned light by the polarizing beam splitter becomes insufficient, and the amount of returned light to the semiconductor laser further increases, resulting in an increase in the amount of noise generated.

半導体レーザへの戻り光が0.1〜1%程度あつ
ても、半導体レーザの軸モードの競合による雑音
の発生を低く抑える方法として、半導体レーザの
駆動電流に直流成分に加えて500MHz〜1GHzの高
周波を重畳し、レーザ光のコヒレンシを落す方法
が知られているが、高周波重畳用の付加回路を必
要とし、高周波であるため電気インピーダンスの
整合を取るための半導体レーザとの高度な実装技
術を必要とし、結果的に価格が高くなるという難
点を有する。
Even if the return light to the semiconductor laser is about 0.1 to 1%, a high frequency of 500 MHz to 1 GHz is added to the semiconductor laser drive current in addition to the DC component as a way to suppress noise caused by competition between the axial modes of the semiconductor laser. A known method is to reduce the coherency of the laser beam by superimposing the laser beam, but it requires an additional circuit for high frequency superimposition, and because the frequency is high, it requires advanced mounting technology with the semiconductor laser to match the electrical impedance. However, it has the disadvantage that the price becomes high as a result.

駆動電流に高周波信号を重畳することなく、直
流電流を印加するだけで発振光に1GHz程度の自
励振動を起すようなレーザ発振特性を有する半導
体レーザを用い低雑音化を策る方法も知られてい
る。この自励発振のメカニズムは未だ充分に解明
されていない。半導体レーザの活性層の組成、厚
さ、活性層に隣接し基板との間に位置するクラツ
ド層の組成、厚さ等を極めて限定された領域に、
極めて制御性よく条件を整えなければ有効な発振
特性を得ることは出来ない。半導体レーザを製造
する工程における現在の結晶成長技術では制御性
は不十分であり、歩留、収率は低く、結果的に価
格が高くなるという欠点を有する。
There is also a known method of reducing noise by using a semiconductor laser that has laser oscillation characteristics that cause self-excited vibration of about 1 GHz in the oscillated light simply by applying a direct current without superimposing a high-frequency signal on the drive current. ing. The mechanism of this self-oscillation has not yet been fully elucidated. The composition and thickness of the active layer of the semiconductor laser and the composition and thickness of the cladding layer adjacent to the active layer and between the substrate are controlled in extremely limited areas.
Effective oscillation characteristics cannot be obtained unless conditions are set with extremely good controllability. Current crystal growth techniques used in the process of manufacturing semiconductor lasers have drawbacks such as insufficient controllability, low yields, and, as a result, high prices.

半導体レーザへの戻り光を阻止する方策とし
て、光路中に光透過特性の非可逆な特性を有する
素子光アイソレータを挿入することが考えられ
る。光ビデオデイスク等に用いられる半導体レー
ザの発振波長は0.78〜0.85μm範囲の波長である。
この波長域で利用することが提案されているアイ
ソレータとしては強磁場中に挿入された高濃度鉛
ガラス中を光ビームを多重回折返し透過させる構
成となつている。しかしながらこの形のアイソレ
ータはマツチ箱大と容積が大きく、重量は重く、
高価である。また、強磁場を必要とすることか
ら、強力な永久磁石を使用しているため、外部へ
の漏れ磁界も強く、光デイスク装置用光ピツクア
ツプ内や光通信用機器に用いるには不適当であ
る。
As a measure to prevent light from returning to the semiconductor laser, it is conceivable to insert an element optical isolator having irreversible light transmission characteristics into the optical path. The oscillation wavelength of semiconductor lasers used in optical video disks and the like is in the range of 0.78 to 0.85 μm.
An isolator proposed for use in this wavelength range has a structure in which a light beam is multiple-diffracted and transmitted through high-concentration lead glass inserted into a strong magnetic field. However, this type of isolator has a large volume, about the size of a pine box, and is heavy.
It's expensive. In addition, since it requires a strong magnetic field and uses a strong permanent magnet, the leakage magnetic field to the outside is also strong, making it unsuitable for use in optical pickups for optical disk devices or in optical communication equipment. .

以上のように従来の技術ではいずれも難点があ
る。
As described above, all of the conventional techniques have drawbacks.

本考案は、上記のような従来の難点を除去し、
低価格で高いS/N特性を有する半導体レーザ装
置を提供することにある。
This invention eliminates the above-mentioned conventional difficulties,
It is an object of the present invention to provide a semiconductor laser device having high S/N characteristics at low cost.

(問題点を解決するための手段) 本考案は、半導体レーザを内蔵し、該半導体レ
ーザの発振光の出射端面に、成膜法によつて形成
したガーネツト膜を設け、該ガーネツト膜に対し
て前記半導体レーザの発振光が透過する方向に磁
場を印加する手段を配したことを特徴とするアイ
ソレータ付半導体レーザである。
(Means for solving the problem) The present invention includes a built-in semiconductor laser, and a garnet film formed by a film forming method is provided on the emission end face of the oscillation light of the semiconductor laser. The semiconductor laser with an isolator is characterized in that it is provided with means for applying a magnetic field in a direction in which the oscillation light of the semiconductor laser is transmitted.

(作用) 本考案は上述の構成をとることにより従来技術
の問題点を解決した。非可逆素子として動作する
ガーネツト膜が半導体レーザの出射端面に設置さ
れているため、出射レーザ光が進行する過程でそ
の光路中に設置された各光部品の境界面から反射
して戻る光のすべてが非可逆な透過特性を受け
る。このため半導体レーザへの戻り光による雑音
が誘起されることがない、またガーネツト膜をス
パッタ法や共蒸着法をはじめとするPVD法
(Phyical Vapour Deposition法)によつて形成
するため、従来の液相結晶成長法等の化学的な結
晶成長技術によつて形成されるガーネツト膜に比
べて遥かに高濃度のビスマスを膜に含有させるこ
とができる。このため、非可逆透過特性を与える
に必要な、一方透過で45゜の偏光回転を薄い膜厚
で生じさせることができる。以上の構成をとるこ
とにより、簡単な構造で極めて優れた半導体レー
ザの低雑音特性が得られる。
(Operation) The present invention solves the problems of the prior art by adopting the above-mentioned configuration. Since a garnet film that operates as a non-reciprocal element is installed on the emission end face of the semiconductor laser, all of the light reflected from the interface of each optical component installed in the optical path as the emitted laser light travels is reflected back. undergoes irreversible transmission characteristics. Therefore, noise is not induced by light returning to the semiconductor laser, and since the garnet film is formed by PVD (Physical Vapor Deposition), including sputtering and co-evaporation, conventional liquid The film can contain a much higher concentration of bismuth than garnet films formed by chemical crystal growth techniques such as phase crystal growth. Therefore, the polarization rotation of 45° in one-way transmission, which is necessary to provide irreversible transmission characteristics, can be generated with a thin film thickness. By adopting the above configuration, extremely excellent low noise characteristics of a semiconductor laser can be obtained with a simple structure.

(実施例) 以下本考案の実施例について図面を参照して詳
細に説明する。第1図は本考案の一実施例を示す
半導体レーザーの構成図である。1は半導体レー
ザチツプ、2は半導体レーザのレーザ発振に寄与
するレーザ活性領域である。レーザ共振を生ずる
一方の端面に非磁気光学物質の誘電体膜3が設け
られ、該誘電体膜3の上に、磁気光学特性と有す
るガーネツト膜4が形成されている。該ガーネツ
ト膜4には前記半導体レーザチツプ1の発振光が
透過する方向に磁場5が印加されている。前記誘
電体膜3は、この上にガーネツト膜4が付加され
たことよつて、半導体レーザの端面の反射率が、
レーザ発振が阻害されるほど低下することのない
ように設けた光学的バツフア層であつて、例えば
酸化珪素(SiO2)などを1/2波長程度スパッタ法
などによつて形成してある。半導体レーザチツプ
1を発振した水平直線偏光光は、ガーネツト膜4
を透過すると45゜のフアラデー回転を受ける。こ
のレーザ発振光の光路中に存在する反射面から反
射し、半導体レーザチツプ1に戻つた光は、該ガ
ーネツト膜4を逆方向に再び透過すると、更に
45゜の回転を受ける。反射光の偏光は発振光とは
直光するため、半導体レーザに再入射しても戻り
光によつて誘起される雑音を発生することがな
い。
(Example) Examples of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram of a semiconductor laser showing an embodiment of the present invention. 1 is a semiconductor laser chip, and 2 is a laser active region that contributes to laser oscillation of the semiconductor laser. A dielectric film 3 made of a non-magneto-optical material is provided on one end face where laser resonance occurs, and a garnet film 4 having magneto-optic properties is formed on the dielectric film 3. A magnetic field 5 is applied to the garnet film 4 in a direction through which the oscillation light of the semiconductor laser chip 1 is transmitted. Since the dielectric film 3 has the garnet film 4 added thereon, the reflectance of the end face of the semiconductor laser is as follows.
This is an optical buffer layer provided to prevent laser oscillation from being degraded to the extent that it is inhibited, and is formed of silicon oxide (SiO 2 ), for example, by sputtering to a thickness of about 1/2 wavelength. The horizontally linearly polarized light oscillated by the semiconductor laser chip 1 passes through the garnet film 4.
When transmitted through , it undergoes a Faraday rotation of 45°. The light reflected from the reflective surface existing in the optical path of this laser oscillation light and returned to the semiconductor laser chip 1 is further transmitted through the garnet film 4 in the opposite direction.
Subject to 45° rotation. Since the polarization of the reflected light is direct from the oscillation light, noise induced by the returned light does not occur even if the reflected light enters the semiconductor laser again.

第2図は第1図のアイソレータ付半導体レーザ
12を光ピツクアツプに応用した図である。11
は前記半導体レーザ12を、ガーネツト膜を設け
た出射面が窓(ウインドウ)14を介して発振光
が取出せるようにこれに対向するようにマウント
したステムであり、13は半導体レーザ12を封
入するためのキヤツプである。ガーネツト膜に光
の透過方向に磁場を印加する円環状の磁石15が
キヤツプ13にはめ込まれている。16は半導体
レーザ12の出射光を平行光束化するコリメート
レンズ。17はハーフミラー。18はハーフミラ
ーを透過したコリメートビームを集束し、光デイ
スクに照射集光する対物レンズである。
FIG. 2 is a diagram in which the isolator-equipped semiconductor laser 12 of FIG. 1 is applied to an optical pickup. 11
13 is a stem in which the semiconductor laser 12 is mounted such that the emission surface provided with a garnet film faces the same so that the oscillation light can be extracted through a window 14; 13 encapsulates the semiconductor laser 12; It is a cap for An annular magnet 15 is fitted into the cap 13 for applying a magnetic field to the garnet film in the direction of light transmission. 16 is a collimating lens that converts the emitted light from the semiconductor laser 12 into a parallel beam. 17 is a half mirror. Reference numeral 18 denotes an objective lens that focuses the collimated beam that has passed through the half mirror and irradiates and focuses the beam onto the optical disk.

半導体レーザ12は接合面に平行な電界成分を
有する直線偏光で発振する。光透過方向に磁場1
5が印加された半導体レーザの端面のガーネツト
膜を透過した光はレンズ16によつて平行光束さ
れ、その強度の1/2がハーフミラー17を直進透
過し、レンズ18によつて集束され、デイスク面
19で反射されて再びハーフミラー17に逆入射
する。ハーフミラー17を逆入射した光の1/2は
直進し、レンズ16を介して半導体レーザ12に
向う。この光は半導体レーザ12に設けたガーネ
ツト膜を再び透過すると、さらにフアラデー回転
を45゜受ける。すなわち半導体レーザ12に逆入
射する光はその偏光が半導体レーザ12を出射す
る光とは直交している。発振偏光と直交する偏光
が半導体レーザ12に入射しても戻り光雑音は誘
起されないことはよく知られている。
The semiconductor laser 12 oscillates with linearly polarized light having an electric field component parallel to the junction surface. Magnetic field 1 in the direction of light transmission
The light transmitted through the garnet film on the end face of the semiconductor laser to which 5 is applied is collimated by the lens 16, and 1/2 of its intensity passes straight through the half mirror 17, is focused by the lens 18, and is focused on the disk. The light is reflected by the surface 19 and enters the half mirror 17 again. 1/2 of the light that has entered the half mirror 17 in the opposite direction travels straight through the lens 16 toward the semiconductor laser 12 . When this light passes through the garnet film provided on the semiconductor laser 12 again, it is further subjected to Faraday rotation by 45 degrees. That is, the polarization of the light that enters the semiconductor laser 12 in the opposite direction is orthogonal to the light that exits the semiconductor laser 12. It is well known that even if polarized light perpendicular to the oscillation polarized light is incident on the semiconductor laser 12, no return optical noise is induced.

第3図は本考案のさらに他の実施例の構成を示
す図で光通信装置の光源部に応用した例である。
20はロツドレンズ、21は光フアイバである。
ガーネツト膜を通して半導体レーザ12を出射し
た光はレンズ20を経て光フアイバ21に結合さ
れる。該レンズ20の入出射面、光フアイバ21
の入射面および光フアイバ20の他端のそれぞれ
から生ずる反射光はガーネツト膜を再度透過する
ことになるため、出射光とは直交した偏光となる
ため半導体レーザにこの光が再入射しても前述の
如く雑音の発生が誘起されることはない。
FIG. 3 is a diagram showing the configuration of still another embodiment of the present invention, which is an example applied to a light source section of an optical communication device.
20 is a rod lens, and 21 is an optical fiber.
The light emitted from the semiconductor laser 12 passes through the garnet film and is coupled to an optical fiber 21 via a lens 20. Input/output surface of the lens 20, optical fiber 21
The reflected light generated from the incident surface of the optical fiber 20 and the other end of the optical fiber 20 will pass through the garnet film again, resulting in polarized light perpendicular to the emitted light. The generation of noise is not induced.

本考案に使用するガーネツト膜は一例として以
下のように製作することができる。通常のRFス
パツタ装置やプレーナ・マグネトロン・スパツタ
装置を用い、ターゲツトに酸化ビスマス、酸化イ
ツトリウム、酸化鉄等の粉体を焼結して作つた焼
結体を用いて、アルゴン又は酸化雰囲気中でスパ
ツタして、誘電体膜の上から半導体レーザ端面上
にアモルフアス膜を生成させる。これを大気また
は酸素雰囲気中で熱処理を行つて結晶化する。成
膜法としてはスパツタ法の他にMBE法(分子線
エピタキシヤル法)や、イオン化ビーム蒸着法な
ど一般にPVD法と呼ばれている多くの成膜法を
用いることができる。
As an example, the garnet film used in the present invention can be manufactured as follows. Using an ordinary RF sputtering device or planar magnetron sputtering device, sputtering is performed in an argon or oxidizing atmosphere using a sintered body made by sintering powders such as bismuth oxide, yttrium oxide, or iron oxide as a target. Then, an amorphous film is formed on the semiconductor laser end face from above the dielectric film. This is crystallized by heat treatment in air or oxygen atmosphere. As a film forming method, in addition to the sputtering method, many film forming methods generally called PVD methods such as MBE method (molecular beam epitaxial method) and ionization beam evaporation method can be used.

このような成膜法で作つた、イツトリウムをビ
スマスで置換したガーネツト膜BixY3-xFe5O12で
は通常の液相成長法で作製した場合に比べビスマ
ス置換量をはるかに大きくすることができる。通
常のビスマスの置換量が増大すると、これに比例
してフアラデー回転能が増大する。例えば液相成
長法で作製した場合に、ビスマスの置換量はせい
ぜいx〜1程度であるがスパツタ法ではx〜3程
度が実現できる。このためフアラデー回転能も3
倍近く増大する。x〜1の組成の材料で、波長〜
0.8μmの光波の偏光を45゜回転させるのに要する
材料の厚さは45μmであるが、x〜3の材料では
15μm程度で済み、これは成膜技術によつて充分
に実現できる厚さである。更に膜組成原子として
コバルトを導入するとフアラデー回転能が増大す
ることが判明している。また、R3Fe5O12(Rは希
土類原子)の組成中の酸素を硫黄原子で置き換え
た、たとえばR3Fe5S7.5O4.5の組成では更にフア
ラデー回転能が増大することが明らかになつてい
る。これらのうち適切な組成を選ぶことにより、
45゜偏光回転に要する膜の厚さを更に減少させる
ことができる。
In the garnet film Bi x Y 3-x Fe 5 O 12 produced by this film-forming method, in which yttrium is replaced with bismuth, the amount of bismuth substitution can be made much larger than when produced by the normal liquid phase growth method. I can do it. As the amount of normal bismuth substitution increases, the Faraday rotation ability increases proportionally. For example, when fabricating by liquid phase growth method, the amount of bismuth substitution is at most about x~1, but with sputtering method, about x~3 can be achieved. Therefore, Faraday rotation ability is also 3
It will increase nearly twice as much. A material with a composition of x~1 and a wavelength of ~
The thickness of the material required to rotate the polarization of a 0.8 μm light wave by 45 degrees is 45 μm, but for a material with x ~ 3,
It only needs to be about 15 μm, which is a thickness that can be fully realized using film-forming technology. Furthermore, it has been found that the Faraday rotation ability increases when cobalt is introduced as a film composition atom. Furthermore, in the composition of R 3 Fe 5 O 12 (R is a rare earth atom) in which oxygen is replaced with a sulfur atom, for example, the composition R 3 Fe 5 S 7.5 O 4.5 , the Faraday rotation ability is further increased . is becoming clear. By choosing an appropriate composition among these,
The film thickness required for 45° polarization rotation can be further reduced.

(考案の効果) 以上のように本考案によれば、簡単な構造によ
り、半導体レーザへの戻り光誘起雑音を抑制し、
極めて低雑音の特性を与えるアイソレータ付半導
体レーザを得ることができる効果を有するもので
ある。
(Effects of the invention) As described above, according to the invention, the noise induced by the return light to the semiconductor laser can be suppressed with a simple structure.
This has the effect of making it possible to obtain a semiconductor laser with an isolator that provides extremely low noise characteristics.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本考案半導体レーザ装置の実施例の構
成を示す図、第2図、第3図は応用例を示す構成
図である。 1……半導体レーザチツプ、2……レーザ活性
領域、3……誘電体膜、4……ガーネツト膜、5
……バイアス磁気、12……半導体レーザ、15
……磁石。
FIG. 1 is a diagram showing the configuration of an embodiment of the semiconductor laser device of the present invention, and FIGS. 2 and 3 are configuration diagrams showing applied examples. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Semiconductor laser chip, 2... Laser active region, 3... Dielectric film, 4... Garnet film, 5
...Bias magnetism, 12...Semiconductor laser, 15
……magnet.

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 半導体レーザを内蔵し、該半導体レーザの発振
光の出射端面に成膜法によつて形成されたガーネ
ツト膜を有し、該ガーネツト膜に対して、前記半
導体レーザの発振光が透過する方向に磁場を印加
する手段を配したことを特徴とする光アイソレー
タ付半導体レーザ装置。
It has a built-in semiconductor laser, and has a garnet film formed by a film formation method on the emission end face of the oscillation light of the semiconductor laser, and a magnetic field is applied to the garnet film in the direction in which the oscillation light of the semiconductor laser is transmitted. 1. A semiconductor laser device with an optical isolator, characterized in that it is provided with means for applying .
JP1984151068U 1984-03-27 1984-10-05 Expired JPH0143873Y2 (en)

Priority Applications (4)

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