JPH0144718B2 - - Google Patents
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- JPH0144718B2 JPH0144718B2 JP13400487A JP13400487A JPH0144718B2 JP H0144718 B2 JPH0144718 B2 JP H0144718B2 JP 13400487 A JP13400487 A JP 13400487A JP 13400487 A JP13400487 A JP 13400487A JP H0144718 B2 JPH0144718 B2 JP H0144718B2
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Description
本発明はキノリン―3―カルボン酸誘導体に関
する。更に詳しくは、本発明は式 (式中、R1は低級アルキル基を、X1及びX2は
同じ又は異なるハロゲン原子を意味する。)で表
わされる化合物に関する。 この化合物は、医療上有用な抗菌物質として知
られているノルフロキサシン(特開昭53―141286
号及び特開昭54―138582号公報参照)等の製造中
間体して有用である。ノルフロキサシンの製造法
としては前記公報及び特開昭57―62259号公報に
記載されている製造法がある。 しかし、これらの製造法を用いた場合、ピペラ
ジン類がキノリン誘導体の6位に置換した式 (式中、R1及びX2は前記に同じであり、R2及
びR3は水素原子又は低級アルキル基を意味す
る。)で表わされる化合物が少なからず副生する
という欠点がある。 前記特開昭57―62259号公報には化合物()
のような副生物は全く見られないとの記載がある
が、本発明者らがこの製造法を追試したところ、
得られた生成物中には約25%の副生物()が存
在することが判明した。 本発明者らは鋭意検討した結果、式()で表
わされる化合物を出発原料とすることにより、上
記の欠点を克服できることを見出し本発明を完成
した。 化合物()は次の方法により製造される。 (式中、X1,X2及びR1は前記に同じであり、
R4は水素原子又は低級アルキル基を意味する。) 即ち、化合物()に三フツ化ホウ素、三フツ
化ホウ素錯体又はホウフツ化水素酸を反応させる
ことにより化合物()を得ることができる。 三フツ化ホウ素錯体としては各種のものが使用
可能であるが、三フツ化ホウ素のテトラヒドロフ
ラン錯体及びジエチルエーテル錯体等が具体例と
してあげられる。又、ホウフツ化水素酸は通常水
溶液として使用される。 三フツ化ホウ素、三フツ化ホウ素錯体又はホウ
フツ化水素酸の使用量は化合物()1モルに対
し1モル以上存在すればよいが通常1〜50モルの
範囲が使用される。 溶媒としてはアセトン等のケトン系のもの、ジ
エチルエーテル等のエーテル系のもの、ベンゼン
又はトルエン等各種のものが使用でき、又、三フ
ツ化ホウ素錯体もしくはホウフツ化水素酸を溶媒
と兼ねさせてもよい。溶媒の使用量は通常化合物
()1部に対し2〜50部の範囲が好適である。 反応温度は室温でもよいが、反応時間の短縮と
いうことから更に高温でもよく、通常室温〜150
℃の温度範囲が好適である。 生成した化合物()は反応液を冷却すれば結
晶とて析出するので、これを濾取することにより
容易に得ることができる。 化合物()に一乃至数倍モルのピペラジンを
無溶媒で又は溶媒中、脱酸剤の存在下反応させれ
ばノルフロキサシンが生成する。 脱酸剤は、副生するハロゲン化水素及びBF2―
キレート分解物の除去に使用され、その具体例と
してはトリエチルアミン、トリブチルアミンもし
くはピリジンの如き有機三級アミン又は炭酸カリ
ウムの如き無機塩基があげられるが、過剰のピペ
ラジンが脱酸剤として働くこともある。脱酸剤の
使用量は化合物()1モルに対し通常1〜3モ
ルが好ましい。 この反応ではBF2―キレート部分がカルボキシ
ル基となるためにプロトンが必要とされるが、、
これは過剰の原料又は混在する微量の水分等によ
り供給されることが考えられる。 溶媒としては、ジメチルスルホキシド、ジメチ
ルホルムアミドもしくはジメチルアセトアミド等
の非プロトン性極性溶媒、アセトンもしくはメチ
ルエチルケトン等のケトン系溶媒、ジエチルエー
テルもしくはジオキサン等のエーテル系溶媒、酢
酸エチル等のエステル系溶媒又はメタノールもし
くはエタノール等のアルコール系溶媒等が使用で
きる。溶媒の使用量は化合物()1部に対し2
〜30部(重量比)の範囲で使用される。反応は室
温〜200℃の範囲で2〜10時間行えばよい。 尚、該反応においては溶媒の種類を選択し、脱
酸剤の使用量、反応温度及び反応時間等を調節す
ることにより、ピペラジン類の置換反応の段階で
反応を止め、式 (式中、R1,R2及びX1は前記に同じである。)
で表わされる中間体を得ることも可能である。例
えば、ジメチルスルホキシド中室温で反応を行つ
た場合、中間体()が収率よく得られる。 中間体()は、反応液を冷却するか、反応液
に水等の難溶性の溶媒を加えることにより析出す
るので、これを濾取することにより容易に単離で
きる。 中間体()は単離してもよいが、単離せずに
次のキレート分解反応を行つてもつい。 中間体()よりノルフロキサシン類を得るに
は、中間体()を脱酸剤の存在下無溶媒もしく
は溶媒中プロトン性の化合物と処理すればよい。
プロトン性化合物としては水、アルコール類、チ
オール類、一級アミン類、二級アミン類又は無機
水酸化物等が使用される。 脱酸剤としては水酸化ナトリウム、炭酸ナトリ
ウムもしくは炭酸水素ナトリウム等の無機塩基又
は一級アミン、二級アミンもしきは三級アミン等
の有機塩基があげられ、中間体()に対し等モ
ル以上使用される。 溶媒としては非プロトン性極性溶媒、ケトン系
溶媒、アルコール系溶媒、エステル系溶媒又はエ
ーテル系溶媒等が、特にアルコール系溶媒、エス
テル系溶媒又はエーテル系溶媒が好ましい。反応
は室温〜150℃の範囲で行えばよい。 生成したノルフロキサシン類は、反応液を中和
するか又は冷却すれば結晶として析出するので、
これを濾取することにより容易に得ることができ
る。 実施例 1 7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―4―
オキソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボ
ン酸エチルエステル2.93g及びホウフツ化水素酸
42%水溶液15mlの混液を80〜90℃で3時間加熱す
る。冷後析出晶を濾取し、水及びメタノールで洗
浄し、7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―
4―オキソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カ
ルボン酸―BF2―キレート3.10g(収率99%)を
得た。融点300℃以上。 元素分析値 C12H8NO3BClF3として 計算値 C45.40,H2.54,N4.41 実測値 C45.21,H2.61,N4.421 H―NMR(DMSO―d6,IS:TMS)δ
(ppm):1.49(3H,t,―CH3)4.95(2H,
q,―CH2)8.53(1H,d,J=10Hz,5
位=CH―)8.88(1H,d,J=6Hz),8
位=CH―)9.64(1H,s,2位=CH―)
Nass:317(M+) 実施例 2 7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―4―
オキソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボ
ン酸エチルエステル5.35g、三フツ化ホウ素テト
ラヒドロフラン錯体12.7g及びダウサム21mlの混
液を120〜130℃で2時間加熱する。冷後析出晶を
濾取し、クロロホルム及びメタノールで洗浄し、
7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―4―オ
キソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボン
酸―BF2―キレート4.67g(収率82%)を得た。
融点300℃以上。 実施例 3 7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―4―
オキソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボ
ン酸4.30g及びホウフツ化水素酸42%水溶液21ml
の混液を80〜90℃で2時間加熱する。冷後析出晶
を濾取し、水及びメタノールで洗浄し、7―クロ
ロ―1―エチル―6―フルオロ―4―オキソ―
1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボン酸―
BF2―キレート5.10g(収率100%)を得た。融
点300℃以上。 実施例 4 7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―4―
オキソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボ
ン酸1.66g及び三フツ化ホウ素テトラヒドロフラ
ン錯体17mlの混液を80〜90℃で8時間加熱する。
冷後析出晶を濾取し、クロロホルムで洗浄し、7
―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―4―オキ
ソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボン酸
―BF2―キレート1.68g(収率86%)を得た。融
点300℃以上。 参考例 1 7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―4―
オキソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボ
ン酸―BF2―キレート1.000g、無水ピペラジン
0.814g及びジメチルスルホキシド5mlの混液を
室温下6時間撹拌する。反応液はいつたん溶液と
なるが、1時間経過すると結晶が析出する。反応
後、冷水5mlを加え結晶を濾取し、水洗し、90℃
で5時間減圧乾燥し、1―エチル―6―フルオロ
―4―オキソ―7―(1―ピペラジニル)―1,
4―ジヒドロキノリン―3―カルボン酸―BF2―
キレート1.113g(収率96%)を得た。融点253〜
255℃。 元素分析値 C16H17N3O3BF3として 計算値 C52.34,H4.67,N11.45 実測値 C52.46,H4.56,N11.321 H―NMR(DMSO―d6,IS:TMS)δ
(ppm):1.49(3H,t,―CH3)3.3〜3.4
(8H,m,
する。更に詳しくは、本発明は式 (式中、R1は低級アルキル基を、X1及びX2は
同じ又は異なるハロゲン原子を意味する。)で表
わされる化合物に関する。 この化合物は、医療上有用な抗菌物質として知
られているノルフロキサシン(特開昭53―141286
号及び特開昭54―138582号公報参照)等の製造中
間体して有用である。ノルフロキサシンの製造法
としては前記公報及び特開昭57―62259号公報に
記載されている製造法がある。 しかし、これらの製造法を用いた場合、ピペラ
ジン類がキノリン誘導体の6位に置換した式 (式中、R1及びX2は前記に同じであり、R2及
びR3は水素原子又は低級アルキル基を意味す
る。)で表わされる化合物が少なからず副生する
という欠点がある。 前記特開昭57―62259号公報には化合物()
のような副生物は全く見られないとの記載がある
が、本発明者らがこの製造法を追試したところ、
得られた生成物中には約25%の副生物()が存
在することが判明した。 本発明者らは鋭意検討した結果、式()で表
わされる化合物を出発原料とすることにより、上
記の欠点を克服できることを見出し本発明を完成
した。 化合物()は次の方法により製造される。 (式中、X1,X2及びR1は前記に同じであり、
R4は水素原子又は低級アルキル基を意味する。) 即ち、化合物()に三フツ化ホウ素、三フツ
化ホウ素錯体又はホウフツ化水素酸を反応させる
ことにより化合物()を得ることができる。 三フツ化ホウ素錯体としては各種のものが使用
可能であるが、三フツ化ホウ素のテトラヒドロフ
ラン錯体及びジエチルエーテル錯体等が具体例と
してあげられる。又、ホウフツ化水素酸は通常水
溶液として使用される。 三フツ化ホウ素、三フツ化ホウ素錯体又はホウ
フツ化水素酸の使用量は化合物()1モルに対
し1モル以上存在すればよいが通常1〜50モルの
範囲が使用される。 溶媒としてはアセトン等のケトン系のもの、ジ
エチルエーテル等のエーテル系のもの、ベンゼン
又はトルエン等各種のものが使用でき、又、三フ
ツ化ホウ素錯体もしくはホウフツ化水素酸を溶媒
と兼ねさせてもよい。溶媒の使用量は通常化合物
()1部に対し2〜50部の範囲が好適である。 反応温度は室温でもよいが、反応時間の短縮と
いうことから更に高温でもよく、通常室温〜150
℃の温度範囲が好適である。 生成した化合物()は反応液を冷却すれば結
晶とて析出するので、これを濾取することにより
容易に得ることができる。 化合物()に一乃至数倍モルのピペラジンを
無溶媒で又は溶媒中、脱酸剤の存在下反応させれ
ばノルフロキサシンが生成する。 脱酸剤は、副生するハロゲン化水素及びBF2―
キレート分解物の除去に使用され、その具体例と
してはトリエチルアミン、トリブチルアミンもし
くはピリジンの如き有機三級アミン又は炭酸カリ
ウムの如き無機塩基があげられるが、過剰のピペ
ラジンが脱酸剤として働くこともある。脱酸剤の
使用量は化合物()1モルに対し通常1〜3モ
ルが好ましい。 この反応ではBF2―キレート部分がカルボキシ
ル基となるためにプロトンが必要とされるが、、
これは過剰の原料又は混在する微量の水分等によ
り供給されることが考えられる。 溶媒としては、ジメチルスルホキシド、ジメチ
ルホルムアミドもしくはジメチルアセトアミド等
の非プロトン性極性溶媒、アセトンもしくはメチ
ルエチルケトン等のケトン系溶媒、ジエチルエー
テルもしくはジオキサン等のエーテル系溶媒、酢
酸エチル等のエステル系溶媒又はメタノールもし
くはエタノール等のアルコール系溶媒等が使用で
きる。溶媒の使用量は化合物()1部に対し2
〜30部(重量比)の範囲で使用される。反応は室
温〜200℃の範囲で2〜10時間行えばよい。 尚、該反応においては溶媒の種類を選択し、脱
酸剤の使用量、反応温度及び反応時間等を調節す
ることにより、ピペラジン類の置換反応の段階で
反応を止め、式 (式中、R1,R2及びX1は前記に同じである。)
で表わされる中間体を得ることも可能である。例
えば、ジメチルスルホキシド中室温で反応を行つ
た場合、中間体()が収率よく得られる。 中間体()は、反応液を冷却するか、反応液
に水等の難溶性の溶媒を加えることにより析出す
るので、これを濾取することにより容易に単離で
きる。 中間体()は単離してもよいが、単離せずに
次のキレート分解反応を行つてもつい。 中間体()よりノルフロキサシン類を得るに
は、中間体()を脱酸剤の存在下無溶媒もしく
は溶媒中プロトン性の化合物と処理すればよい。
プロトン性化合物としては水、アルコール類、チ
オール類、一級アミン類、二級アミン類又は無機
水酸化物等が使用される。 脱酸剤としては水酸化ナトリウム、炭酸ナトリ
ウムもしくは炭酸水素ナトリウム等の無機塩基又
は一級アミン、二級アミンもしきは三級アミン等
の有機塩基があげられ、中間体()に対し等モ
ル以上使用される。 溶媒としては非プロトン性極性溶媒、ケトン系
溶媒、アルコール系溶媒、エステル系溶媒又はエ
ーテル系溶媒等が、特にアルコール系溶媒、エス
テル系溶媒又はエーテル系溶媒が好ましい。反応
は室温〜150℃の範囲で行えばよい。 生成したノルフロキサシン類は、反応液を中和
するか又は冷却すれば結晶として析出するので、
これを濾取することにより容易に得ることができ
る。 実施例 1 7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―4―
オキソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボ
ン酸エチルエステル2.93g及びホウフツ化水素酸
42%水溶液15mlの混液を80〜90℃で3時間加熱す
る。冷後析出晶を濾取し、水及びメタノールで洗
浄し、7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―
4―オキソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カ
ルボン酸―BF2―キレート3.10g(収率99%)を
得た。融点300℃以上。 元素分析値 C12H8NO3BClF3として 計算値 C45.40,H2.54,N4.41 実測値 C45.21,H2.61,N4.421 H―NMR(DMSO―d6,IS:TMS)δ
(ppm):1.49(3H,t,―CH3)4.95(2H,
q,―CH2)8.53(1H,d,J=10Hz,5
位=CH―)8.88(1H,d,J=6Hz),8
位=CH―)9.64(1H,s,2位=CH―)
Nass:317(M+) 実施例 2 7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―4―
オキソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボ
ン酸エチルエステル5.35g、三フツ化ホウ素テト
ラヒドロフラン錯体12.7g及びダウサム21mlの混
液を120〜130℃で2時間加熱する。冷後析出晶を
濾取し、クロロホルム及びメタノールで洗浄し、
7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―4―オ
キソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボン
酸―BF2―キレート4.67g(収率82%)を得た。
融点300℃以上。 実施例 3 7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―4―
オキソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボ
ン酸4.30g及びホウフツ化水素酸42%水溶液21ml
の混液を80〜90℃で2時間加熱する。冷後析出晶
を濾取し、水及びメタノールで洗浄し、7―クロ
ロ―1―エチル―6―フルオロ―4―オキソ―
1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボン酸―
BF2―キレート5.10g(収率100%)を得た。融
点300℃以上。 実施例 4 7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―4―
オキソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボ
ン酸1.66g及び三フツ化ホウ素テトラヒドロフラ
ン錯体17mlの混液を80〜90℃で8時間加熱する。
冷後析出晶を濾取し、クロロホルムで洗浄し、7
―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―4―オキ
ソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボン酸
―BF2―キレート1.68g(収率86%)を得た。融
点300℃以上。 参考例 1 7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―4―
オキソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボ
ン酸―BF2―キレート1.000g、無水ピペラジン
0.814g及びジメチルスルホキシド5mlの混液を
室温下6時間撹拌する。反応液はいつたん溶液と
なるが、1時間経過すると結晶が析出する。反応
後、冷水5mlを加え結晶を濾取し、水洗し、90℃
で5時間減圧乾燥し、1―エチル―6―フルオロ
―4―オキソ―7―(1―ピペラジニル)―1,
4―ジヒドロキノリン―3―カルボン酸―BF2―
キレート1.113g(収率96%)を得た。融点253〜
255℃。 元素分析値 C16H17N3O3BF3として 計算値 C52.34,H4.67,N11.45 実測値 C52.46,H4.56,N11.321 H―NMR(DMSO―d6,IS:TMS)δ
(ppm):1.49(3H,t,―CH3)3.3〜3.4
(8H,m,
【式】)4.87(2H,
q,―CH2 ―CH3)7.35(1H,d,J=8
Hz,8位=CH―)8.09(1H,d,J=14
Hz,5位=CH―)9.04(1H,s,2位=
CH―)Mass:367(M+) 上記化合物1.113g及び6%水酸化ナトリウム
水溶液8.9mlの混液を1時間還流した。反応液を
酢酸で中和して、PH7〜7.5に調整する。冷後、
析出する結晶を濾取し、水及びメタノールで洗浄
する。これをクロロホルムとエタノールの混合溶
液から再結晶し、90℃で5時間減圧乾燥し、1―
エチル―6―フルオロ―4―オキソ―7―(1―
(ピペラジニル)―1,4―ジヒドロキノリン―
3―カルボン酸0.904g(収率93%)を得た。融
点221〜222℃。 元素分析値 C16H18N3O3Fとして 計算値 C60.18,H5.68,N13.16 実測値 C60.15,H5.74,N13.27 本品は特開昭53―141286号公報の方法に従つて
合成した標品と混融しても融点降下を示さず、赤
外線吸収スペクトルも完全に一致した。 参考例 2 7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―4―
オキソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボ
ン酸―BF2―キレート1.000g、無水ピペラジン
0.814g及びジメチルスルホキシド5mlの混液を
100℃で3時間加熱する。次いで6%水酸化ナト
リウム水溶液8mlを加え、120℃で2時間加熱し
た。反応液に酢酸を加え、PH7〜7.5に調整し、
析出する結晶を濾取し、水及びメタノールで洗浄
する。クロロホルムとエタノールの混合溶液で再
結晶し、90℃で5時間減圧乾燥し、1―エチル―
6―フルオロ―4―オキソ―7―(1―ピペラジ
ニル)―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボ
ン酸0.861g(収率86%)を得た。融点220〜221
℃。 参考例 3 7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―4―
オキソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボ
ン酸―BF2―キレート567mg、無水ピペラジン630
mg及びジメチルスルホキシド2.8mlの混液を110℃
で3時間加熱した。反応液に水10mlを加え、更に
酢酸を加え、PH7.5に調整する。冷後、析出晶を
濾取し水洗する。これをクロロホルムとエタノー
ルの混合溶液で再結晶し、90℃で5時間減圧乾燥
し、1―エチル―6―フルオロ―4―オキソ―7
―(1―ピペラジニル)―1,4―ジヒドロキノ
リン―3―カルボン酸419mg(収率73%)を得た。
融点220〜221℃。 参考例 4 7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―4―
オキソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボ
ン酸―BF2―キレート726mg、4―メチルピペラ
ジン687mg及びジメチルスルホキシド3.6mlの混液
を110℃で3時間加熱した。反応液に6%水酸化
ナトリウム水溶液5.8mlを加え、110℃で2時間加
熱した。反応終了後、酢酸を反応液に加え、PH7
〜7.5に調整する。冷後、析出する結晶を濾取す
る。メタノールで洗浄し、90℃で5時間減圧乾燥
し、1―エチル―6―フルオロ―7―(4―メチ
ル―1―ピペラジニル)―4―オキソ―1,4―
ジヒドロキノリン―3―カルボン酸653mg(収率
86%)を得た。融点268〜270℃。 元素分析値 C17H20N3O3Fとして 計算値 C61.25,H6.05,N12.60 実測値 C61.10,H5.91,N12.27
Hz,8位=CH―)8.09(1H,d,J=14
Hz,5位=CH―)9.04(1H,s,2位=
CH―)Mass:367(M+) 上記化合物1.113g及び6%水酸化ナトリウム
水溶液8.9mlの混液を1時間還流した。反応液を
酢酸で中和して、PH7〜7.5に調整する。冷後、
析出する結晶を濾取し、水及びメタノールで洗浄
する。これをクロロホルムとエタノールの混合溶
液から再結晶し、90℃で5時間減圧乾燥し、1―
エチル―6―フルオロ―4―オキソ―7―(1―
(ピペラジニル)―1,4―ジヒドロキノリン―
3―カルボン酸0.904g(収率93%)を得た。融
点221〜222℃。 元素分析値 C16H18N3O3Fとして 計算値 C60.18,H5.68,N13.16 実測値 C60.15,H5.74,N13.27 本品は特開昭53―141286号公報の方法に従つて
合成した標品と混融しても融点降下を示さず、赤
外線吸収スペクトルも完全に一致した。 参考例 2 7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―4―
オキソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボ
ン酸―BF2―キレート1.000g、無水ピペラジン
0.814g及びジメチルスルホキシド5mlの混液を
100℃で3時間加熱する。次いで6%水酸化ナト
リウム水溶液8mlを加え、120℃で2時間加熱し
た。反応液に酢酸を加え、PH7〜7.5に調整し、
析出する結晶を濾取し、水及びメタノールで洗浄
する。クロロホルムとエタノールの混合溶液で再
結晶し、90℃で5時間減圧乾燥し、1―エチル―
6―フルオロ―4―オキソ―7―(1―ピペラジ
ニル)―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボ
ン酸0.861g(収率86%)を得た。融点220〜221
℃。 参考例 3 7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―4―
オキソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボ
ン酸―BF2―キレート567mg、無水ピペラジン630
mg及びジメチルスルホキシド2.8mlの混液を110℃
で3時間加熱した。反応液に水10mlを加え、更に
酢酸を加え、PH7.5に調整する。冷後、析出晶を
濾取し水洗する。これをクロロホルムとエタノー
ルの混合溶液で再結晶し、90℃で5時間減圧乾燥
し、1―エチル―6―フルオロ―4―オキソ―7
―(1―ピペラジニル)―1,4―ジヒドロキノ
リン―3―カルボン酸419mg(収率73%)を得た。
融点220〜221℃。 参考例 4 7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―4―
オキソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボ
ン酸―BF2―キレート726mg、4―メチルピペラ
ジン687mg及びジメチルスルホキシド3.6mlの混液
を110℃で3時間加熱した。反応液に6%水酸化
ナトリウム水溶液5.8mlを加え、110℃で2時間加
熱した。反応終了後、酢酸を反応液に加え、PH7
〜7.5に調整する。冷後、析出する結晶を濾取す
る。メタノールで洗浄し、90℃で5時間減圧乾燥
し、1―エチル―6―フルオロ―7―(4―メチ
ル―1―ピペラジニル)―4―オキソ―1,4―
ジヒドロキノリン―3―カルボン酸653mg(収率
86%)を得た。融点268〜270℃。 元素分析値 C17H20N3O3Fとして 計算値 C61.25,H6.05,N12.60 実測値 C61.10,H5.91,N12.27
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 式 (式中、X1及びX2は同じ又は異なるハロゲン
原子を、R1は低級アルキル基を意味する。)で表
わされる化合物。 2 特許請求の範囲第1項においてR1がエチル
基、X1がフツ素原子X2が塩素原子である化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13400487A JPS62294689A (ja) | 1987-05-29 | 1987-05-29 | キノリン−3−カルボン酸誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13400487A JPS62294689A (ja) | 1987-05-29 | 1987-05-29 | キノリン−3−カルボン酸誘導体 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23368482A Division JPS59122470A (ja) | 1982-12-27 | 1982-12-27 | キノリン−3−カルボン酸誘導体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62294689A JPS62294689A (ja) | 1987-12-22 |
| JPH0144718B2 true JPH0144718B2 (ja) | 1989-09-29 |
Family
ID=15118127
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13400487A Granted JPS62294689A (ja) | 1987-05-29 | 1987-05-29 | キノリン−3−カルボン酸誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62294689A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SI8810667A8 (en) * | 1987-04-08 | 1996-04-30 | Chinoin Gyogyszer Es Vegyeszet | Anhydride of quinoline carboxylic acid of boron acid and process for their production. |
| US5380845A (en) * | 1987-06-24 | 1995-01-10 | Chinoin Gyogyszer- Es Vegyeszeti Termekek Gyara Rt. | Process for the preparation of quinoline carboxylic acid derivatives |
-
1987
- 1987-05-29 JP JP13400487A patent/JPS62294689A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62294689A (ja) | 1987-12-22 |
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