JPH0147496B2 - - Google Patents

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JPH0147496B2
JPH0147496B2 JP55129417A JP12941780A JPH0147496B2 JP H0147496 B2 JPH0147496 B2 JP H0147496B2 JP 55129417 A JP55129417 A JP 55129417A JP 12941780 A JP12941780 A JP 12941780A JP H0147496 B2 JPH0147496 B2 JP H0147496B2
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JP
Japan
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carbon atoms
formula
phosphine oxide
alkyl
group
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JP55129417A
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JPS5655452A (en
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Heruman Gurantsuo Aruburehito
Sabidesu Kurisutosu
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Wyeth Holdings LLC
Original Assignee
American Cyanamid Co
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Publication date
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Publication of JPS5655452A publication Critical patent/JPS5655452A/ja
Publication of JPH0147496B2 publication Critical patent/JPH0147496B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/49Phosphorus-containing compounds
    • C08K5/51Phosphorus bound to oxygen
    • C08K5/53Phosphorus bound to oxygen bound to oxygen and to carbon only
    • C08K5/5397Phosphine oxides

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は有効難燃性量の式 ()(R)3P=0 式中Rは炭素原子1〜6を含んでいるアルキ
ル、炭素原子1〜6をを含んでいるハロアルキ
ル、ハロゲン原子1〜3を含んでいるハロフエ
ニル、ベンジル、それぞれ炭素原子1〜4を有
するアルキル置換基1〜3個を含んでいるアル
キルベンジルまたは炭素原子5〜8を含んでい
るシクロアルキルである、 式中R1はアルキル(炭素原子数1〜4)、シ
クロアルキル(炭素原子数5〜8)、フエニレ
ン、ハロフエニル(ハロゲン原子数1〜3)、
アルコキシフエニレン(炭素原子数1〜4のア
ルキル)およびカルボキシアルキル(炭素原子
数1〜4のアルキル)から選ばれ、R2は水素、
アルキル(炭素原子数1〜12)、ω−シアノア
ルキル(炭素原子数1〜4のアルキル)、ベン
ジル、アルキルベンジル(それぞれ炭素原子1
〜4を有するアルキル置換基1〜5個)、およ
びヒドロキシアルキル(炭素原子数1〜4)か
ら選ばれ、R1がカルボキシアルキルであると
き、R2は水素でもベンジルでもない、 式中基Yは (1) アルキレン、−(CH2−)、式中nは1〜4の
整数である、 (2) 置換キシリレン、 式中Xはそれぞれハロゲン原子もしくは炭
素原子1〜4を有するアルキル基であり、m
は1〜4の整数であり、どのXもハロゲンで
はないとき、メチレン基は互いにメタンであ
る、 (3) 基 式中pは少なくとも1の整数であり、R3
は炭素原子数1〜4のアルキルであり、qは
0もしくは4−pである、 (4) 基、 (5) 基、 から選ばれる、 式中R4は炭素原子数5〜8のシクロアルキ
ル、フエニル、カルバモイルエチル、および、
アルコキシ基が炭素原子1〜4を含んでいるカ
ルボアルコキシエチルから選ばれ、Qは炭素原
子1〜6を含んでいるアルキレン、基 式中R5は炭素原子数1〜4のアルキルであ
り、nは1〜4の整数である、 または基、 から選ばれ、R4がカルボアルコキシエチルで
あり、Qが であるとき、nは4である、 ()(i) R1およびR2がそれぞれアルキル(炭素原
子数4〜12)、シクロアルキル(炭素原子数
5‐8)、フエニル、ハロフエニル(ハロゲン
原子数1〜3、とくに塩素もしくは臭素)、ω
−シアノアルキル(炭素原子数1〜4)、およ
びベンジルから選ばれた式の、あるいはR4
がシクロアルキル(炭素原子数5‐8)および
ω−シアノアルキル(炭素原子数1〜4)から
選ばれ、Qが上に定義したものである式のい
ずれかのホスフインオキシド、 ならびに(ii) 式中R6はフエニル、ベンジルまたはアルキ
ルベンジル(それぞれ炭素原子数1〜4を含ん
でいるアルキル基1〜3個)である、 および 式中Zはキシリレンまたはアルキル置換キシ
リレン(それぞれ炭素原子1〜4を含んでいる
アルキル基1〜4) から選ばれたホスホネート、 の組合せ、 から選ばれた化合物を含んでいる難燃化したポリ
フエニレンエーテル樹脂組成物に関する。 ホスフインオキシドが式のものであるとき、
好ましい化合物はトリス(n−ブチル)ホスフイ
ンオキシドとトリス(2,4,6−トリメチルベ
ンジル)ホスフインオキシドである。 トリス(n−ブチル)ホスフインオキシドはデ
イビーズら(Davies etal.)、ジヤーナル・オ
ブ・ケミカル・ソサエテイ(J.Chem.Soc.)、
1929年、33頁の操作に従つて、トリ−n−ブチル
ホスフインと硝酸の反応によつて製造される公知
の化合物である。式のほかのアルキルホスフイ
ンオキシドも同様に製造される。 トリス(2,4,6−トリメチルベンジル)ホ
スフインオキシドはウエストンとヒラード
(Weston and Hillard)、米国特許第4053518号
に記載された操作によつて製造される。 式の化合物の製造のための操作はベルリンら
(Berlin、etal.)、ジヤーナル・オブ・オーガニツ
ク・ケミストリー(J.Org.Chem.)、32巻、129頁
(1967年)、カーソンら(Carson etal.)、ジヤー
ナル・オブ・オーガニツク・ケミストリー、26
巻、1467頁(1961年)、ブツクラー(Buckler)、
ジヤーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサ
エテイ(J.Am.Chem.Soc.)、84巻、3093頁
(1962年)に記載されている。 ホスフインオキシドが式のものであるとき、
好ましい化合物には(1)メチル・ビス(2−カルボ
キシエチル)ホスフインオキシド、(2)ヒドロキシ
メチル・ビス(シクロヘキシル)ホスフインオキ
シド、または(3)ベンジル・ビス(シクロヘキシ
ル)ホスフインオキシドが含まれる。 式のホスフインオキシド化合物はドイツ特許
出願公開第2540283号、米国特許第4061681号、米
国特許第3341625号およびジヤーナル・オブ・オ
ーガニツク・ケミストリー、24巻、2013〜2015頁
(1959年)のうちの1つまたはそれ以上に明らか
にされている。化合物α−ヒドロキシメチル・ビ
ス(シクロヘキシル)ホスフインオキシド(実施
例6)は新規の化合物であると考えられる。 式のホスフインオキシド化合物は米国特許第
3284543号および第3835119号に明らかにされてい
る。 Yが炭素原子数1〜4のアルキレンである式
の化合物は対応するビスホスフイン化合物(チヤ
ツトら(Chatt etal.)、ジヤーナル・オブ・ケミ
カル・ソサエテイ、1960年、1378頁およびヘワー
トソンら(Hewertson etal.)、ジヤーナル・オ
ブ・ケミカル・ソサエテイ、1960年、1490頁参
照)の過酸化水素または酸素による酸化によつて
製造することができる。米国特許第3032589号ま
たはベリヒテ(Berichte)、92巻、3175頁(1954
年)参照。ほかの化合物は一般的な反応 式中ARは芳香環系を表わす、 に従つて対応するハロメチル中間体をビス(2−
シアノエチル)ホスフインオキシドと反応させる
ことによつて容易に製造することができる。 式の化合物は米国特許第3284543号、第
3976685号、第4009207号および第4017455号に明
らかにされている。 Qがアルキレンである式の化合物は対応する
ビスホスフイン化合物(チヤツトら、ジヤーナ
ル・オブ・ケミカル・ソサエテイ、1960年、1378
頁およびヘワートソンら、ジヤーナル・オブ・ケ
ミカル・ソサエテイ、1960年、1490頁)の過酸化
水素または酸素による酸化によつて製造すること
ができる。米国特許第3032589号およびベリヒテ、
92巻、3175頁(1954年)参照。あるいは、R4
カルバモイルエチルである場合、対応するビス
(2−シアノエチル)ホスフインオキシドを引続
いて、カルボン酸に加水分解し、低級脂肪族アル
コールでエステル化し、次に水酸化アンモニウム
によつてアミド化する。 組合せに対して好ましい化合物には (i)トリス(2−シアノエチル)ホスフインオキシ
ド トリス(ベンジル)ホスフインオキシド トリフエニルホスフインオキシド トリス(p−クロロフエニル)ホスフインオキ
シド トリス(n−オクチル)ホスフインオキシド ベンジル・ビス(2−シアノエチル)ホスフイ
ンオキシド ベンジル・ビス(シクロヘキシル)ホスフイン
オキシド ビス〔(ジシクロヘキシルホスフイニル)メチ
ル〕テレフタレート エチレン・ビス〔ビス(2−シアノエチル)ホ
スフインオキシド〕 2,3,5,6−テトラメチル−1,4−キシ
リレンビス〔ビス−(2−シアノエチル)ホス
フインオキシド〕 から選ばれたホスフインオキシド、 (ii)ベンジル・ネオペンチレンホスホネート フエニル・ネオペンチレンホスホネート 2,4,6−トリメチルベンジル・ネオペンチ
レンホスホネート (p−フエニレンジメチレン)ビス〔2,2−
ジメチルトリメチレンホスホネート〕 (2,5−ジメチル−1,4−フエニレンジメ
チレン) ビス−〔2,2−ジメチルトリメチレンホスホ
ネート〕 から選ばれたホスホネートが含まれる。 難燃剤、ゴム改質ポリフエニレンエーテル樹脂
組成物はその中に有効な難燃化量の上式の化合物
を混入することによつて製造される。 本発明における使用に適するポリフエニレンエ
ーテル樹脂組成物はここで参照して入れてある米
国特許第4024093号に記載されている。基本的に
はこれらの樹脂はポリフエニレンエーテル10〜90
重量部とスチレンポリマー90〜10重量部からな
る。好ましくは、本ポリマーはポリフエニレンエ
ーテル50〜80重量部とスチレンポリマー50〜20重
量部を含んでいる。スチレンポリマーはゴム改質
高耐衝撃性ポリスチレンである。本樹脂は2種の
ポリマーのブレンドであり、それらは相互に可溶
であり、均一なポリマー組成物を形成する。 難燃剤化合物は下記のように自己消火性組成物
を与えるに充分な量を用いる。しかしながら一般
に、用いる量は樹脂の重量に対して少なくとも4
重量%、好ましくは少なくとも6%である。に
対して、ホスフインオキシド対ホスホネートの重
量比は3/1〜1/3、好ましくは1/1でなければなら
ない。 難燃剤化合物はそれを行うために本技術におい
て公知のいかなる方法によつてポリマー中に混入
してもよい。しかしながら、通常の2本ロールミ
ルでポリマー中にねり込むか、ポリマーと乾式ブ
レンドし、続いて押し出すことによつて化合物を
混入するのが好ましい。 可塑剤、染料、顔料、熱および光安定剤、抗酸
化剤、静電防止剤、光互変物質(Photochromic
materials)などのような付加的な添加物を混入
するのもまた本発明の範囲内である。 次の実施例において、すべての部および%はと
くにことわらない限り重量に対するものである。 実施例 1 下に示すの化合物6重量%を含んでいるポリ
フエニレンエーテル50部/ゴム改質耐衝撃性ポリ
スチレン50部のブレンド合計10gをメルトインデ
ツクス装置(ASTM D−1238に記載)によつて
290〜300℃で押し出した。長さ3〜5インチ
(7.6〜12.7cm)、直径0.25インチ(0.64cm)の円筒
形の押出物をアンダーライターズ・ラボラトリー
ズ(Underwriters Laboratories)試験UL−94、
垂直試験、方法3.10〜3.15(1973年9月)に記載
された次の燃焼性試験にかけた。垂直の位置にク
ランプしたポリマー試験片は3/4″(1.91cm)の青
色の焔(メタンまたは天然ガス)で10秒間点火
し、焔を取り去る。もしも焔が25秒以内に消火す
るならば、試料は10秒間再点火し、焔をふたたび
取り去る。焔の消火時間をふたたび記録する。も
しも焔の消火時間がどちらの焔の適用に対しても
5秒を越えないならば、試料は−0と評価す
る。もしも第1回または第2回のいずれかの焔の
適用に対する焔の消火時間が5〜25秒の間なら
ば、試料を−1と評価する。もしも試料がいず
れの焔の適用に対しても25秒を越えると消火時間
を示すならば、自由燃焼(FB)と評価し、試験
に不合格と考える。 次の化合物は、6重量%樹脂に混入したとき上
の試験によつて−0または−1と評価され
る。 トリフエニルホスフインオキシド トリス(p−クロロベンジル)ホスフインオキシ
ド トリス(n−ブチル)ホスフインオキシド トリス(n−プロピル)ホスフインオキシド トリス(2,4,6−トリメチルベンジル)ホス
フインオキシド トリス(シクロヘキシル)ホスフインオキシド トリス(クロロメチル)ホスフインオキシド 実施例 2 ブレンドがポリフエニレンエーテル樹脂70部と
ポリスチレン30部を含んでいることを除いて実施
例1の操作をくり返す。濃度4重量%で試験する
とき、化合物は試験によつて−0か−1に評
価される。 実施例 3 実施例1の操作に従つて、実施例1に記載され
ている化合物20重量%を含んでいる高耐衝撃性ポ
リスチレンの燃焼性の等級を決めた。UL−94の
操作によつて決めたとき、試験片は自由燃焼
(FB)であつた。 実施例1〜3は(1)ポリフエニレンエーテル樹脂
の50/50ブレンドに対して、式の化合物は有効
な難燃剤であるためには少なくとも6重量%の濃
度で用いねばならない、(2)70/30ブレンドに対し
ては、少なくとも4重量%の化合物が必要であ
る、そして(3)化合物は20重量%の濃度においてさ
えポリスチレンに対する有効な難燃剤ではないこ
とを示している。 実施例 4 メチル・ビス(2−カルボキシエチル)ホスフ
インオキシド メチル・ビス(2−シアノエチル)ホスフイン
オキシドを濃塩酸中で加水分解し、白色の固体生
成物、m.p.174〜176℃を与えた。中和当量(理論
値104)は106.6、105.4、平均106であつた。 実施例 5 2,4,6−トリメチルベンジル・ビス(シク
ロヘキシル)ホスフインオキシド ヒラードらの米国特許第4061681号の操作に従
つて製造した。 イソプロパノール50ml中のジシクロヘキシルホ
スフイン(40.99g)を38%ホルムアルデヒド溶
液15.8gと40℃で反応させた。反応が完結したと
き(IRスペクトルのP−Hバンドの消失)、2,
4,6−トリメチルベンジルクロリド16.9gを加
え、反応混合物を55℃で22時間加熱した。粘稠な
オイルを反応混合物から単離し、それは放置によ
つて結晶化し、白色の固体、m.p.139〜143℃を与
えた。ヘキサンからの再結晶はm.p.142〜145℃を
有する生成物を与えた。 実施例 6 α−ヒドロキシメチル・ビス(シクロヘキシ
ル)ホスフインオキシド ジシクロヘキシル・ヒドロキシメチルホスフイ
ンを酢酸中で30%過酸化水素によつて酸化し、生
成物を放置によつて結晶化するオイルとして単離
した。ベンゼンから再結晶したとき、白色の固体
を得た。m.p.154〜157℃。 実施例 7 ベンジル・ビス(シクロヘキシル)ホスフイン
オキシド ジシクロヘキシル・メチルホスフイナイト6.85
gとベンジルクロリド4.0gの混合物を窒素下160
℃で2時間加熱した。結晶性生成物はヘプタンか
ら再結晶し、白色固体5.4gを与えた。 m.p.147〜149℃。 実施例 8 2−シアノエチル・ビス(n−プロピル)ホス
フインオキシド 氷酢酸25ml中のジプロピルシアノエチルホスフ
イン(6.88g、0.04モル)に30%過酸化水素5.67
g(0.05モル)を60℃で加えた。反応混合物は75
℃で30分間加熱し、生成物7.5gを与えた。 実施例 9 ジフエニルホスフインオキシド ジヤーナル・オブ・オーガニツク・ケミストリ
ー、24巻、2013頁(1959年)の操作によつてジフ
エニル塩化リンを加水分解し、目的の化合物を与
えた。 実施例 10 実施例1の操作に従つて、6重量%を樹脂中に
混入したとき、式の次の化合物は試験によつて
−0か−1に評価される。
【表】 実施例 11 ブレンドがポリフエニレンエーテル樹脂70部と
ポリスチレン30部を含むことを除いて、実施例10
の操作をくり返す。濃度4重量%で試験すると
き、化合物は試験によつて−0か−1に評価
される。 実施例 12 実施例10の操作に従つて、実施例10に記載され
ている化合物20重量%を含んでいる高耐衝撃性ポ
リスチレンの燃焼性の等級を決めた。UL−94の
操作によつて決めたとき、試験片は自由燃焼
(FB)であつた。 実施例10〜12は(1)ポリフエニレンエーテル樹脂
の50/50ブレンドに対して、式の化合物は有効
な難燃剤であるためには少なくとも6重量%の濃
度で用いねばならない、(2)70/30ブレンドに対し
ては、少なくとも4重量%の化合物が必要であ
る。そして(3)化合物は20重量%の濃度においてさ
えポリスチレンに対する有効な難燃剤でないこと
を示している。 実施例 13 1,3−ビス〔ビス(2−シアノエチル)ホス
ホニルメチレン〕−2,4,5,6−テトラク
ロロベンゼン 1,3−ビス(クロロメチル)−2,4,5,
6−テトラクロロベンゼン(15.4g、0.049モル)
をメタノール270ml中でビス(2−シアノエチル)
ホスフインオキシド15.7g(0.1モル)と50℃で
50分間反応させた。反応の間、メタノール80ml中
に水酸化カリウム6.4gの溶液を加えた。反応混
合物は45分間還流し、冷却した。生成物は固体と
して単離した。m.p.320〜323℃。 実施例 14 実施例1の操作に従つて、6重量%樹脂中に混
入したとき、式の次の化合物は試験によつて
−0または−1に評価された。 実施例 15 ブレンドがポリフエニレンエーテル樹脂70部と
ポリスチレン30部を含むことを除いて、実施例14
の操作をくり返す。濃度4%で試験すると、き、
化合物は試験によつて−0または−1に評価
される。 実施例 16 実施例14の操作に従つて、実施例14に記載され
ている化合物20重量%を含んでいる高耐衝撃性ポ
リスチレンの燃焼性の等級を決めた。UL−94の
操作によつて決めたとき、試験片は自由燃焼
(FB)であつた。 実施例14〜16は(1)ポリフエニレンエーテル樹脂
の50/50ブレンドに対して、式の化合物は有効
な難燃剤であるためには少なくとも6重量%の濃
度で用いねばならない、(2)70/30ブレンドに対し
ては、少なくとも4重量%の化合物が必要であ
る、そして(3)化合物は20重量%の濃度においてさ
えポリスチレンに対する有効な難燃剤ではないこ
とを示している。 実施例 17 エチレン・ビス(ジシクロヘキシルホスフイン
オキシド) ジシクロヘキシルホスフイン(40g、0.2モル)
をエチレンジブロミド(18g、0.1モル)と90〜
100℃で2時間反応させ、エチレン・ビス(ジシ
クロヘキシルホスフイン)を生成させた。次にホ
スフイン化合物を30%過酸化水素25gで酸化し、
ホスフインオキシドを与えた。粗生成物はイソプ
ロパノール/水から再結晶し、目的の化合物20g
を与えた。m.p.199〜201℃。 実施例 18 ビス〔(ジシクロヘキシルホスフイニル)メチ
ル〕テレフタレート ベンゼン30ml中のテレフタロイルクロリド
(6.1g、0.03モル)をジシクロヘキシル・ヒドロ
キシメチルホスフインオキシドとトリエチルアミ
ンの混合物に最高50℃で滴下した。反応混合物は
30分間加熱還流し、生成物を過し、水で洗い、
乾燥した。m.p.226〜228.5℃。 実施例 19 実施例1の操作に従つて、6重量%樹脂中に混
入するとき、式の次の化合物は試験によつて
−0または−1に評価される。
【表】
【表】 実施例 20 ブレンドがポリフエニレンエーテル樹脂70部と
ポリスチレン30部を含んでいることを除いては実
施例19の操作をくり返す。濃度4重量%で試験す
るとき、化合物は試験によつて−0または−
1に評価される。 実施例 21 実施例19の操作に従つ、実施例19に記載されて
いる化合物20重量部を含んでいる高耐衝撃性ポリ
スチレンの燃焼性の等級を決めた。UL−94の操
作によつて決めたとき、試験片は自由燃焼(FB)
であつた。 実施例19〜21は(1)ポリフエニレンエーテル樹脂
の50/50ブレンドに対しては、有効な難燃剤とな
るためには式の化合物を少なくとも6重量部の
濃度で用いねばならない、(2)70/30ブレンドに対
しては、少なくとも4重量%の化合物が必要であ
る、そして(3)化合物は20重量%の濃度においてさ
えポリスチレンに対する有効な難燃剤でないこと
を示している。 実施例 22〜25 難燃剤を含んでいるポリフエニレンエーテル/
ゴム改質耐衝撃性ポリスチレンの50/50ブレンド
の合計10gを乾式ブレンドし、メルトインデツク
ス装置(ASTMD−1238に記載)で290〜300℃
において押出した。長さ3〜5インチ(7.6〜
12.7cm)、直径0.25インチ(0.64cm)の円筒形の押
出物をアンダーライターズ、ラボラトリーズ試験
UL−94、垂直試験法3.10〜〜3.15(1973年、9
月)に記載された次の燃焼性試験操作にかける。
垂直の位置にクランプした上記のポリマー試料に
3/4インチ(1・91cm)の青色の焔(メタンまた
は天然ガス)によつて10秒間点火し、焔を取り去
る。もしも焔が25秒以内に消火するならば、ふた
たび10秒間点火し、焔を取り去る。焔の消火時間
をふたたび記録する。もしも焔の消火時間がいず
れの焔の適用に対しても5秒を越えないならば、
試料を−0と評価する。もしも第1回または第
2回のいずれか焔の適用に対する焔の消火時間が
5〜25秒の間であるならば、−1と評価する。
もしも試料がいずれの焔の適用に対しても25秒よ
りも大きい消火時間を示すならば、自由燃焼
(FB)と評価し、この試験で不合格と考える。 第表はトリス(2−シアノエチル)ホスフイ
ンオキシド(A)とベンジル・ネオペンチレンホスホ
ネート(B)を用いて得られたデータを示す。
【表】 どちらかの化合物の4重量%だけでは自由燃焼
性(不活性)であるが、1:3.2:2および3:
1の比で全濃度が4%の2種類の化合物の組合せ
は難燃剤である。 実施例 27〜54 実施例22〜26の操作に従つて、ホスフインオキ
シドとホスホネートの組合せを難燃剤として評価
した。次の化合物を試験した。 A トリス(2−シアノエチル)ホスフインオキ
シド B ベンジル・ネオペンチレンホスホネート C フエニル・ネオペンチレンホスホネート D (p−フエニレンジメチレン)ビス〔2,2
−ジメチルトリメチレンホスホネート〕 E (2,5−ジメチル−1,4−フエニレンジ
メチレン)ビス〔2,2−ジメチルトリメチレ
ンホスホネート〕 F 2,4,6−トリメチルベンジル・ネオペン
チレンホスホネート G トリス(ベンジル)ホスフインオキシド H トリフエニルホスフインオキシド I トリス(p−クロロフエニル)ホスフインオ
キシド J トリス(n−オクチル)ホスフインオキシド K ベンジル・ビス(シクロヘキシル)ホスフイ
ンオキシド L ビス〔(ジシクロヘキシルホスフイニル)メ
チル〕テレフタノート M エチレン・ビス〔ビス(2−シアノエチル)
ホスフインオキシド〕 N (2,3,5,6−テトラメチル−1,4−
フエニレンジメチレン)ビス〔ビス(2−シア
ノエチル)ホスフインオキシド〕 O ベンジル・ビス(2−シアノエチル)ホスフ
インオキシド
【表】 ** 平均消火時間−−3秒
データは本発明の個々のホスフインオキシドま
たはホスホネートは約4%のレベルでポリフエニ
レンエーテル樹脂に対する活性な難燃剤ではない
が、同じ濃度で組合せは有効な難燃剤であるこ
とを示している。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 ポリフエニレンエーテル樹脂10〜90重量部、
    ポリスチレン90〜10重量部を含んでいるポリマー
    の均一なブレンドと難燃性に有効な量の () (R)3P=O 式中Rはアルキル(炭素原子数1〜6)、ハ
    ロアルキル(炭素原子数1〜6)、ハロフエニ
    ル(ハロゲン原子数1〜3)、ベンジル、アル
    キルベンジル(それぞれ炭素原子数1〜4のア
    ルキル置換基1〜3個)またはシクロアルキル
    (炭素原子数5〜8)である、 式中R1はアルキル(炭素原子数1〜4)、シ
    クロアルキル(炭素原子数5〜8)、カルボキ
    シアルキル(炭素原子数1〜4)、フエニル、
    ハロフエニル(ハロゲン原子数1〜3)、アル
    コキシフエニル(炭素原子数1〜4のアルコキ
    シ)から選ばれ、R2は水素、アルキル(炭素
    原子数1〜12)、ω−シアノアルキル(炭素原
    子数1〜4のアルキル)、ベンジル、アルキル
    ベンジル(それぞれ炭素原子1〜4を含んでい
    るアルキル置換基1〜4個)、およびヒドロキ
    シアルキル(炭素原子数1〜4のアルキル)か
    ら選ばれ、R1がカルボキシアルキルであると
    き、R2は水素でもベンジルでもない、 式中Yは (1) アルキレン、−(CH2−)n、式中nは1〜4
    の整数である、 (2) 置換キシリレン、
    【式】 式中Xはそれぞれハロゲン原子もしくは炭
    素原子1〜4を含んでいるアルキル基であ
    り、mは1〜4の整数であり、どのXもハロ
    ゲンではないとき、メチレン基は互いにメタ
    である、 (3) 基 式中R3は炭素原子数1〜4のアルキルで
    あり、pは少なくとも1の整数であり、qは
    0もしくは4−pである、 (4) 基、 (5) 基、 から選ばれる、 式中R4はシクロアルキル(炭素原子数5〜
    8)、フエニル、カルバモイルエチルおよび、
    アルコキシ基が炭素原子1〜4を含んでいるカ
    ルボアルコキシエチルから選ばれ、Qは炭素原
    子数1〜6のアルキレン、基 式中R5は炭素原子数1〜4のアルキルであ
    り、nは1〜4の整数である、 または基 から選ばれ、R4がカルボアルコキシエチルで
    あり、Qが であるとき、nは4である、 () (i)R1およびR2がそれぞれ炭素原子数4
    〜12のアルキル、炭素原子数5〜8のシクロア
    ルキル、フエニル、ハロゲン原子1〜3を含ん
    でいるハロフエニル、炭素原子1〜4を含んで
    いるω−シアノアルキルおよびベンジルから選
    ばれた式のホスフインオキシドあるいはR4
    が炭素原子数5〜8のシクロアルキルまたは炭
    素原子数1〜4のω−シアノアルキルでありQ
    が−(CH2−)n 式中nは1〜6の整数である、 式中R5は炭素原子数1〜4のアルキルであ
    り、 yは0〜4の整数である、 または基、 から選ばれた式のホスフインオキシドとなら
    びに(ii) 式中R6はフエニル、ベンジル、または炭素
    原子数1〜4のアルキル基1〜3個を含んでい
    るアルキルベンジルから選ばれる、 および 式中Zは であり、R7は炭素原子数1〜4のアルキルで
    あり、xは0〜4の整数である、 から選ばれたホスホネート化合物、 からの混合物が上記成分(i)および(ii)を1:3〜
    3:1の重量比で含んでいる組合せ、 から選ばれた化合物を含有する難燃性組成物。 2 ブレンドがポリフエニレンエーテル樹脂50〜
    80重量部およびポリスチレン20〜50重量部を含ん
    でいる、特許請求の範囲第1項記載の組成物。 3 Rが本質的にn−プロピル、n−ブチル、シ
    クロヘキシル、クロロメチル、フエニル、p−ク
    ロロベンジルおよび2,4,6−トリメチルベン
    ジルからなる群から選ばれた、特許請求の範囲第
    1項記載の組成物。 4 R1がシクロヘキシルであり、R2がベンジル
    またはヒドロキシメチルである、特許請求の範囲
    第1項記載の組成物。 5 R1がカルボキシエチルであり、R2がメチル
    である、特許請求の範囲第1項記載の組成物。 6 Yが本質的に −(CH2−)2、【式】 【式】 【式】及び 【式】 からなる群から選ばれる、特許請求の範囲第1項
    記載の組成物。 7 Qが−CH2CH2−であり、R4がフエニル、
    カルバモイルエチルおよびシクロヘキシルから選
    ばれる、特許請求の範囲第1項記載の組成物。 8 組合せが本質的にトリス(2−シアノエチ
    ル)ホスフインオキシド、トリス(ベンジル)ホ
    スフインオキシド、トリフエニルホスフインオキ
    シド、トリス(p−クロロフエニル)ホスフイン
    オキシド、トリス(n−オクチル)ホスフインオ
    キシド、ベンジル・ビス(シクロヘキシル)ホス
    フインオキシド、ビス[(ジシクロヘキシルホス
    フイニル)メチル]テレフタレート、エチレン・
    ビス[ビス(2−シアノエチル)ホスフインオキ
    シド]、2,3,5,6−テトラメチル−1,4
    −フエニレンジメチレン)ビス[ビス(2−シア
    ノエチル)ホスフインオキシド]、およびベンジ
    ル・ビス(2−シアノエチル)ホスフインオキシ
    ド]からなる群から選ばれたホスフインオキシド
    と本質的にベンジル・ネオペンチレンホスホネー
    ト、フエニル・ネオペンチレンホスホネート、
    (p−フエニレンジメチレン)ビス[2,2−ジ
    メチルトリメチレンホスホネート]、2,5−ジ
    メチル−1,4−フエニレンジメチレン)ビス
    [2,2−ジメチルトリメチレンホスホネート]
    および2,4,6−トリメチルベンジルネオペン
    チレンホスホネートからなる群から選ばれたホス
    ホネートの混合物である、特許請求の範囲第1項
    記載の組成物。
JP12941780A 1979-09-24 1980-09-19 Flameeretarded rubberrreformed polyphenylene ether resin composition Granted JPS5655452A (en)

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US06/078,531 US4293464A (en) 1979-09-24 1979-09-24 Phosphine oxide flame retarded, rubber-modified, polyphenylene ether resin compositions

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Publication Number Publication Date
JPS5655452A JPS5655452A (en) 1981-05-16
JPH0147496B2 true JPH0147496B2 (ja) 1989-10-13

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