JPH0147899B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0147899B2 JPH0147899B2 JP55084747A JP8474780A JPH0147899B2 JP H0147899 B2 JPH0147899 B2 JP H0147899B2 JP 55084747 A JP55084747 A JP 55084747A JP 8474780 A JP8474780 A JP 8474780A JP H0147899 B2 JPH0147899 B2 JP H0147899B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- potential
- semiconductor substrate
- substrate
- circuit
- type
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D89/00—Aspects of integrated devices not covered by groups H10D84/00 - H10D88/00
- H10D89/211—Design considerations for internal polarisation
- H10D89/311—Design considerations for internal polarisation in bipolar devices
Landscapes
- Element Separation (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は半導体集積回路の半導体基板バイアス
方法に関するものである。
方法に関するものである。
半導体集積回路では、一般に半導体基板上に形
成された一導電型の半導体層に複数の島状領域を
逆バイアスされたPN接合、あるいは誘電体物質
等によつて分離して形成し、この各島状領域中に
トランジスタ、抵抗等の素子を形成している。例
えば、従来P型半導体基板を用いその上にPN接
合によつて個々に分離してN型の島状領域を形成
したPN接合分離型集積回路では、P型半導体基
板(以後単にP型基板という)を回路の最低電位
端子に接続することによつてP型基板と各N型島
状領域(以下N型アイランドという)とのPN接
合を逆方向にバイアスし各N型アイランド間の絶
縁を行なつている。しかしアナログスイツチ、
ACプラズマデスプレイドライバー等においてN
型アイランドの電位がパルス信号あるいは交流信
号で駆動されるとN型アイランドとP型基板との
間のPN接合容量(以後基板容量)に充放電電流
が流れる。特に、駆動周波数が高くなり集積回路
の規模が大きくなると充放電々流を供給するため
の電力消費が増大するとともに、集積回路内部の
発熱も増加する等の欠点があつた。
成された一導電型の半導体層に複数の島状領域を
逆バイアスされたPN接合、あるいは誘電体物質
等によつて分離して形成し、この各島状領域中に
トランジスタ、抵抗等の素子を形成している。例
えば、従来P型半導体基板を用いその上にPN接
合によつて個々に分離してN型の島状領域を形成
したPN接合分離型集積回路では、P型半導体基
板(以後単にP型基板という)を回路の最低電位
端子に接続することによつてP型基板と各N型島
状領域(以下N型アイランドという)とのPN接
合を逆方向にバイアスし各N型アイランド間の絶
縁を行なつている。しかしアナログスイツチ、
ACプラズマデスプレイドライバー等においてN
型アイランドの電位がパルス信号あるいは交流信
号で駆動されるとN型アイランドとP型基板との
間のPN接合容量(以後基板容量)に充放電電流
が流れる。特に、駆動周波数が高くなり集積回路
の規模が大きくなると充放電々流を供給するため
の電力消費が増大するとともに、集積回路内部の
発熱も増加する等の欠点があつた。
また、各N型アイランドの絶縁に誘電体物質を
用いた誘電体分離型の集積回路でもも半導体基板
を一定電位に接続するとN型アイランドとP型基
板との間の誘電体容量に充放電々流が流れるため
同様な欠点がある。
用いた誘電体分離型の集積回路でもも半導体基板
を一定電位に接続するとN型アイランドとP型基
板との間の誘電体容量に充放電々流が流れるため
同様な欠点がある。
本発明の目的はこれらの欠点を取り除いた半導
体集積回路を提供することにある。
体集積回路を提供することにある。
本発明の集積回路では、半導体基板をダイオー
ドを介してのみ回路の一定電圧端子に接続してい
る。これにより半導体基板は電位の最大値あるい
は最小値がダイオードの順方向電圧を介して一定
電圧に固定される。特に、P型基板を順方向ダイ
オードを介し回路の最低電位に接続した場合に
は、P型基板電位の最大値はほぼ回路の最低電位
に固定される。
ドを介してのみ回路の一定電圧端子に接続してい
る。これにより半導体基板は電位の最大値あるい
は最小値がダイオードの順方向電圧を介して一定
電圧に固定される。特に、P型基板を順方向ダイ
オードを介し回路の最低電位に接続した場合に
は、P型基板電位の最大値はほぼ回路の最低電位
に固定される。
このように本発明によれば、島状領域をパルス
信号等で駆動すると、基板容量をパルス信号の波
高値で一旦充電した後、基板電位はパルス信号に
追従して変動する。従つて、以後、基板容量への
充放電々流はほとんどなくなり、基板容量を充放
電するための電力消費を著しく減少させる。更に
基板電極の最高値あるいは最低値を一定電位に固
定するため、半導体基板をフローテングにした時
にPN接含分離型や、誘電体分離型の半導体集積
回路でそれぞれ生じ易い寄生サイリスタ効果、寄
生MOS効果を防ぐこつができる。
信号等で駆動すると、基板容量をパルス信号の波
高値で一旦充電した後、基板電位はパルス信号に
追従して変動する。従つて、以後、基板容量への
充放電々流はほとんどなくなり、基板容量を充放
電するための電力消費を著しく減少させる。更に
基板電極の最高値あるいは最低値を一定電位に固
定するため、半導体基板をフローテングにした時
にPN接含分離型や、誘電体分離型の半導体集積
回路でそれぞれ生じ易い寄生サイリスタ効果、寄
生MOS効果を防ぐこつができる。
以下に、図面を参照して設明する。
第1図はACプラズマデスプレイドライバー回
路をP型半導体基板を用いた従来のPN接合分離
型の集積回路で実現した場合の等価回路図の一部
を表わす。入力1及びゲート2端子にそれぞれ第
4図に示す入力信号VINおよびゲート信号VGATEが
印加されると、出力端子3に出力電圧Vputの波形
が現われる。このとき、トランジスタQ1とQ2の
コレクタは半導体基板との間にPN接合による基
板容量C1,C2をもつており、C1,C2への充放電
電流ICHG(b)が流れる。第1図の回におけるゲート
信号VGATEが低レベルにある場合の平均充電々流
ICHGは、 C1=6PF,C2=6PF,PW=2μs,VP=150Vと
して ICHG=C1+C2/PWVPS=0.9mA 例えば第1図の回路を40回路含むACプラズマ
デスプレイドライバー用半導体集積回路の場合 ICHG=0.9×40=36mA これによる消費電力の増加は5.4Wになる。
路をP型半導体基板を用いた従来のPN接合分離
型の集積回路で実現した場合の等価回路図の一部
を表わす。入力1及びゲート2端子にそれぞれ第
4図に示す入力信号VINおよびゲート信号VGATEが
印加されると、出力端子3に出力電圧Vputの波形
が現われる。このとき、トランジスタQ1とQ2の
コレクタは半導体基板との間にPN接合による基
板容量C1,C2をもつており、C1,C2への充放電
電流ICHG(b)が流れる。第1図の回におけるゲート
信号VGATEが低レベルにある場合の平均充電々流
ICHGは、 C1=6PF,C2=6PF,PW=2μs,VP=150Vと
して ICHG=C1+C2/PWVPS=0.9mA 例えば第1図の回路を40回路含むACプラズマ
デスプレイドライバー用半導体集積回路の場合 ICHG=0.9×40=36mA これによる消費電力の増加は5.4Wになる。
第2図及び第3図は、本発明の一実施例による
ACプラズマデスプレイドライバー用半導体集積
回路の等価回路と断面図の一部である。P型半導
体基板10上にN型アイランド11,12を有
し、各N型アイランドにトランジスタQ1,Q2が
形成されている。回路の接地端子5′はP型半導
体基板10とは別に接地電位を与えてP型半導体
基板10はフローテイングとしてある。等価回路
は第1図の従来例とほぼ同じであるが、P型半導
体基板10は端子4からダイオードD1を介して
端子6で接地電位よりも若干低い電位、例えば−
1Vである負電源−Vsに接続されている。半導体
基板10の電位は固定されておらず、N型アイラ
ンド11,12と半導体基板10との間の基板1
0との間の基板容量C1,C2とダイオードD1の容
量C3とで決まりその電位VSUBは入力電圧VINと連
動して変化して、第4図の基板電圧VSUBに示す波
形になる。なお、−Vs+VF(D1の順方向電圧)<0
としておくことによつて、基板電位VSUBは入力信
号Vinに比し常に負であり、トランジスタQ1,Q2
のコレクタのNアイランド11,12は逆バイア
スされたPN接合によつて電気的に絶縁される。
ACプラズマデスプレイドライバー用半導体集積
回路の等価回路と断面図の一部である。P型半導
体基板10上にN型アイランド11,12を有
し、各N型アイランドにトランジスタQ1,Q2が
形成されている。回路の接地端子5′はP型半導
体基板10とは別に接地電位を与えてP型半導体
基板10はフローテイングとしてある。等価回路
は第1図の従来例とほぼ同じであるが、P型半導
体基板10は端子4からダイオードD1を介して
端子6で接地電位よりも若干低い電位、例えば−
1Vである負電源−Vsに接続されている。半導体
基板10の電位は固定されておらず、N型アイラ
ンド11,12と半導体基板10との間の基板1
0との間の基板容量C1,C2とダイオードD1の容
量C3とで決まりその電位VSUBは入力電圧VINと連
動して変化して、第4図の基板電圧VSUBに示す波
形になる。なお、−Vs+VF(D1の順方向電圧)<0
としておくことによつて、基板電位VSUBは入力信
号Vinに比し常に負であり、トランジスタQ1,Q2
のコレクタのNアイランド11,12は逆バイア
スされたPN接合によつて電気的に絶縁される。
本実施例における基板容量C1,C2への充放
電々流ICHG(a)は基板容量C1,C2の並列容量とダイ
オードD1の接合容量C1との直列容量によつて決
まる。
電々流ICHG(a)は基板容量C1,C2の並列容量とダイ
オードD1の接合容量C1との直列容量によつて決
まる。
従つて、ゲート信号VGATEが低くレベルにある
場合の平均充電々流ICHGは C3=0.5PFとして ICHG=C3/PWVCS=C3/PW×C1+C2/C1+C2+C3Vp =0.036mA 本実施例の回路を40回路含むACプラズマデス
プレイードライバー用半導体集積回路の場合の全
電流と消費電力の増加分は ICHG=1.44mA Ploss=0.216W と従来の回路に対して著しく減少する。
場合の平均充電々流ICHGは C3=0.5PFとして ICHG=C3/PWVCS=C3/PW×C1+C2/C1+C2+C3Vp =0.036mA 本実施例の回路を40回路含むACプラズマデス
プレイードライバー用半導体集積回路の場合の全
電流と消費電力の増加分は ICHG=1.44mA Ploss=0.216W と従来の回路に対して著しく減少する。
このように、回路の接地電位端子5には半導体
基板10とは別に固定電位を与え、半導体基板1
0は電位的に浮遊状態とし、さらに素子間の絶縁
分離を確保するために半導体基板10に順方向ダ
イオードD1を介して前述の固定電位より若干低
い電位(1V以上)を与えることにより、絶縁分
離のための寄性容量への充放電電流を極めて少く
することができる。
基板10とは別に固定電位を与え、半導体基板1
0は電位的に浮遊状態とし、さらに素子間の絶縁
分離を確保するために半導体基板10に順方向ダ
イオードD1を介して前述の固定電位より若干低
い電位(1V以上)を与えることにより、絶縁分
離のための寄性容量への充放電電流を極めて少く
することができる。
なお実施例ではP型基板を用いたPN接合分離
型のACプラズマデスプレイドライバー回路につ
いて述べたが、アナログスイツチ等の回路にも同
様に適用される。更にN型基板を用いる場合は
D1を最高電位に接続することにより同様な効果
が得られる。
型のACプラズマデスプレイドライバー回路につ
いて述べたが、アナログスイツチ等の回路にも同
様に適用される。更にN型基板を用いる場合は
D1を最高電位に接続することにより同様な効果
が得られる。
第1図は従来のACプラズマデスプレイドライ
バー用半導体集積回路の等価回路の一部、第2図
は本発明の一実施例によるACプラズマデスプレ
イドライバー用半導体集積回路の等価回路の一
部、第3図は上記一実施例の集積回路の断面図の
一部、第4図は各部の波形図で、VINはACプラ
ズマデスプレイドライバーの入力パルス電圧、
VGATEはゲート電圧、VOUTは出力電圧、VSUBは、
基板電位、ICHG(a)は第2図の実施例での基板容量
充放電々流、ICHG(b)は従来の回路における基板充
放電々流をそれぞれ示す。 1……駆動パルスの入力端子、2……ゲート端
子、3……出力端子、4……基板端子、5,5′
……接地端子、6……−VS電圧を供給する端子、
10……P型半導体基板、11,12……アイラ
ンド。
バー用半導体集積回路の等価回路の一部、第2図
は本発明の一実施例によるACプラズマデスプレ
イドライバー用半導体集積回路の等価回路の一
部、第3図は上記一実施例の集積回路の断面図の
一部、第4図は各部の波形図で、VINはACプラ
ズマデスプレイドライバーの入力パルス電圧、
VGATEはゲート電圧、VOUTは出力電圧、VSUBは、
基板電位、ICHG(a)は第2図の実施例での基板容量
充放電々流、ICHG(b)は従来の回路における基板充
放電々流をそれぞれ示す。 1……駆動パルスの入力端子、2……ゲート端
子、3……出力端子、4……基板端子、5,5′
……接地端子、6……−VS電圧を供給する端子、
10……P型半導体基板、11,12……アイラ
ンド。
Claims (1)
- 1 半導体基板上にPN接合で分離された複数の
島領域を有し、各島領域に形成した回路素子を配
線して所定の回路を形成し、前記回路素子の中に
島領域をコレクタ領域とするトランジスタを有す
る半導体集積回路において、電圧レベルが基準電
位と第1の電位との間で変化する信号電圧が前記
トランジスタの前記コレクタ領域に供給され、前
記回路の基準電位点に前記半導体基板を介するこ
となく前記基準電位が与えられ、かつ前記半導体
基板にダイオードを介して一定電位が供給されて
おり、前記ダイオードは前記信号電圧の変化に応
じて導通状態となつたり遮断状態となつたりして
前記半導体基板の電位を前記PN接合を順方向に
バイアスすることのない電圧範囲で変動させるこ
とを特徴とする半導体集積回路。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8474780A JPS5710261A (en) | 1980-06-23 | 1980-06-23 | Semiconductor integrated circuit |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8474780A JPS5710261A (en) | 1980-06-23 | 1980-06-23 | Semiconductor integrated circuit |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5710261A JPS5710261A (en) | 1982-01-19 |
| JPH0147899B2 true JPH0147899B2 (ja) | 1989-10-17 |
Family
ID=13839278
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8474780A Granted JPS5710261A (en) | 1980-06-23 | 1980-06-23 | Semiconductor integrated circuit |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5710261A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58168752A (ja) * | 1982-03-29 | 1983-10-05 | 清水建設株式会社 | れんが造建築物 |
| JPS6065854A (ja) * | 1983-09-21 | 1985-04-15 | スパンクリ−ト製造株式会社 | コンクリ−トスラブの構築方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS532014B2 (ja) * | 1972-08-02 | 1978-01-24 | ||
| JPS5056183A (ja) * | 1973-09-14 | 1975-05-16 |
-
1980
- 1980-06-23 JP JP8474780A patent/JPS5710261A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5710261A (en) | 1982-01-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0314221B1 (en) | Semiconductor switch with parallel LDMOS and LIGT | |
| US6897492B2 (en) | Power device with bi-directional level shift circuit | |
| US7436015B2 (en) | Driver for driving a load using a charge pump circuit | |
| US4926074A (en) | Semiconductor switch with parallel lateral double diffused MOS transistor and lateral insulated gate transistor | |
| KR20010015835A (ko) | 반도체 장치 | |
| US6759692B1 (en) | Gate driver with level shift circuit | |
| US6638808B1 (en) | Method of manufacturing gate driver with level shift circuit | |
| JPH0744846B2 (ja) | Dc/ac変換器 | |
| JPH06132538A (ja) | ダイナミック絶縁回路を設けた半導体電子デバイス | |
| US4413237A (en) | Sawtooth wave oscillator | |
| US6914297B2 (en) | Configuration for generating a voltage sense signal in a power semiconductor component | |
| JP4256476B2 (ja) | 短絡検出器を有するパワーデバイス | |
| JPH0645530A (ja) | 双方向導通絶縁ゲート電界効果トランジスタ | |
| US5767555A (en) | Compound semiconductor device controlled by MIS gate, driving method therefor and electric power conversion device using the compound semiconductor device and the driving method | |
| EP0544047B1 (en) | High current MOS transistor integrated bridge structure optimising conduction power losses | |
| US5047675A (en) | Circuit device, made up of a reduced number of components, for simultaneously turning on a plurality of power transistors | |
| US6861880B2 (en) | Driving circuit for push-pull operated transistors | |
| JPH0147899B2 (ja) | ||
| US4761679A (en) | Complementary silicon-on-insulator lateral insulated gate rectifiers | |
| JPH10173068A (ja) | 半導体装置 | |
| JP3050167B2 (ja) | 半導体装置の駆動方法及び駆動回路 | |
| EP0272753B1 (en) | Complementary silicon-on-insulator lateral insulated gate rectifiers | |
| JP2545979B2 (ja) | 半導体集積回路装置 | |
| JP2001015691A (ja) | 半導体集積回路 | |
| JP4830195B2 (ja) | 半導体装置とそれを用いた適用回路およびその適用回路が形成された半導体集積回路装置 |