JPH0148760B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、新規の薬物学的に有効なメチレンス
テロイド、その製法及びこの化合物を含有する製
剤に関する。

新規メチレンステロイドは、次の一般式を有
する： 〔式中Ｘは水素原子、弗素原子又はメチル基を
表わし、Ｙはヒドロキシメチレン基、アルカノイ
ルオキシメチレン基又はカルボニル基を表わし、
R₁は水素原子、ヒドロキシ基又はアルカノイル
オキシ基を表わし、R₂は、水素原子又は遊離の
又は生理学的に認容性の酸でエステル化されたヒ
ドロキシ基を表わす〕。

新規メチレンステロイドの作用開始及び作用時
間並びに生理学的認容性、溶剤中のその溶解性
は、公知のコルチコイドにおけると同様に殊に、
11，17及び／又は21−位のヒドロキシ基をエステ
ル化するか否か又はいかなる酸でエステル化する
かに依り決まる。

エステル化された21−ヒドロキシ基R₂として
は、有利にアシル基中の炭素原子１〜16を有する
アシロキシ基、スルフエート基又はホスフエート
基がこれに該当する。好適なアシロキシ基は、例
えば、直鎖又は分枝鎖の飽和又は不飽和の脂肪族
モノ−又はジカルボン酸（これらは常法で例えば
ヒドロキシ基、アミノ基又はハロゲン原子で置換
されていてよい）から誘導されるものである。

更に、アシロキシ基としては、同様に常法で置
換されていてよい脂環式、芳香族、混合芳香−脂
肪族又はヘテロ環式酸の残基も好適である。好適
なアシロキシ基の例としては次のものが挙げられ
る：ホルミルオキシ、アセトキシ、プロピオニル
オキシ、ブチリールオキシ、ペンタノイルオキ
シ、ヘキサノイルオキシ、オクタノイルオキシ、
ウンデカノイルオキシ、ジメチルアセトキシ、ト
リメチルアセトキシ、ジエチルアセトキシ、ｔ・
ブチルアセトキシ、ベンゾイルオキシ、フエナセ
チルオキシ、シクロペンチルプロピオニルオキ
シ、ヒドロキシアセトキシ、モノクロルアセトキ
シ、ジクロルアセトキシ、トリクロルアセトキ
シ、更に、ジメチルアミノアセトキシ、トリメチ
ルアミノアセトキシ、ジエチルアミノアセトキ
シ、ピペリジノアセトキシ、ニコチノイルオキ
シ、ω−カルボキシプロピオニルオキシ及びω−
カルボキシペンタノイルオキシ基。

水溶性作用物質の製造のために、アシル基中に
塩基性窒素を有する21−アシロキシ基を相応する
酸付加塩、例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸
塩、燐酸塩、蓚酸塩、酒石酸塩又はマレイン酸塩
に変えることができる。更に、21−ジカルボン酸
モノエステル並びに硫酸エステル及び燐酸エステ
ルを水溶性を高めるためにアルカリ金属塩例えば
ナトリウム塩又はカリウム塩に変じることができ
る。

エステル化された11−又は17−位ヒドロキシル
基としては、有利にアシル基中の炭素原子数１〜
８を有するアシロキシ基がこれに該当する。特に
好適なアシロキシ基は、アルカノイルオキシ基例
えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチ
リルオキシ基、ペンタノイルオキシ基又はヘキサ
ノイルオキシ基である。

本発明による新規メチレンステロイドの製法
は、次のとおりである。： ａ 一般式： 〔式中Ｘ，R₁及びR₂は式におけると同じも
のを表わす〕の化合物を11−ヒドロキシル化しう
る微生物の培養液を用いて醗酵させ、付加的に
１，２−位で脱水素し、かつ所望の場合に、11−
位に存在するヒドロキシル基を酸化し、存在する
エステル基を鹸化するか又は存在するヒドロキシ
基をエステル化する。

前工程の実施のために、11α−又は11β−ヒド
ロキシル化する微生物を用いる慣用の醗酵法を使
用する。11α−ヒドロキシル化のために、アスペ
ルギルス（Aspergillus）属の菌〔例えばアスペ
ルギルス・オクラセウス（Aspe−rgillus
occhraceus）〕を微生物として使用するのが有利
である。11β−ヒドロキシル化のために、例え
ば、クルブラリア（Curvularia）属〔例えばクル
ブラリア・ルナタ（Curvularia lunata）〕、カニ
ングハメラ（Cunninghamella）属〔例えばカニ
ングハメラ・バイニエリ（Cunni−nghamella
bainieri）、カニングハメラ・エレガンス
（Cunninghamella elegans）、カニングハメラ・
エキノラタ（Cunninghamella echi−nolata）及
びカニングハメラ・ブラツクエスレアナ
（Cunninghamella blackesleana）〕、アブシジア
（Absidia）属〔例えばアブシジア・オルキデイ
ス（Absidia orchidis）及びアブシジア・コエル
ラ（Absidia coerula）〕、ヘルミントスポリウム
（Hermintosprorium）属、リゾクトニア
（Rhizoctonia）属〔例えばリゾクトニア・ソラ
ニ（Rhizoctonia solani）〕、ベルチシリウム
（Verticillium）属〔例えばベルチシリウム・テ
オブロマエ（Verticillium theobromae〕、スタ
キリジウム属〔例えばスタキリジウム・バイコロ
ル（Stachylidium bicolor）〕、ピエリクラリア
（Piellicula−ria）属〔例えばペリクラリア・フ
イラメントザ（Pellicularia filamentosa）〕又は
コレトトリクム（Colletotrichum）属〔例えばコ
レトトリクム・ピシ（Colletotrichum pisi）〕の
菌を使用することができる。これら微生物を用い
る醗酵は慣用条件下に実施される。この反応で、
21−位のアシル基は大抵離脱される。ａ）法は有
利に、21位にヒドロキシ基又はアシロキシ基を有
する一般式の危合物を用いて実施するのが有利
である。

一般式の１，２−位飽和ステロイドの場合に
より引続く脱水素は、微生物学的操作法を用いて
も、純粋に化学的な方法を用いても実施できる。
例えば、△⁴−ステロイドは、慣用の条件下にバ
シルス（Bacillus）属〔例えばバシルス・レンツ
ス（Bacillus lentus）又はバシルス・スフアエ
リクス（Bacillus sphaericus）〕又はアルトロバ
クター（Arthrobacter）属〔例えばアルトロバ
クター・シンプレツクス（Arthrobacter
simplex）〕又はコリネバクテリウム
（Corynebacterium）属〔例えばコリネバクテリ
ウム・シンプレツクス（Corinebacterium
simplex）〕の細菌培養液を用いて、１，２−位
で脱水素することができる。しかしながら、他方
で、△⁴−ステロイドをこの反応に慣用の酸化剤
例えば二酸化セレン又は２，３−ジクロル−５，
６−ジチアノベンゾキノンを用いて、不活性溶剤
中で加熱する方法で実施することもできる。

反応終了後に、場合により存在するエステル
−、エーテル−基を公知方法で離脱させ、例え
ば、場合により存在するトリメチルシリルオキシ
基、ｔ−ブチロキシ基又はエチレンジオキシ基を
酸性触媒（例えば塩酸、硫酸、過塩素酸又はｐ−
トルオールスルホン酸）を用い、水含有低級アル
コール又はケトン中、即ち、水含有極性エーテル
（例えばジオキサン又はテトラヒドロフラン）中
で加水分解する。

所望手段として、引続き一般式の11β−ヒド
ロキシステロイドを酸化して相応する11−ケトン
にすることは、公知の操作法で例えばクロム酸、
Ｎ−ブロムスクシンイミド又はＮ−ブロムアセタ
ミドを用いて行なう。

エステルの所望により引続く鹸化は公知操作法
で行なう。

例として、酸性触媒例えば塩酸、硫酸、ｐ−ト
ルオールスルホン酸は塩基性触媒例えば炭酸水素
カリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム又は
水酸化カリウムの存在で水又は含水アルコール中
でのエステルの鹸化が挙げられる。

場合により引続く遊離ヒドロキシ基のエステル
化は、同様に公知の操作法を用いて行なう。例え
ば、ヒドロキシステロイドをアシルクロリド又は
アシルアンヒドリドを用いて、酸例えば塩化水素
酸、ｐ−トルオールスルホン酸、トリフルオル酢
酸の存在で又は塩基例えば炭酸カリウム、ピリジ
ン、コリジン又はｐ−ジメチルアミノピリジンの
存在でエステル化することができる。

他方ヒドロキシ化合物をカルボン酸の使用によ
り、無水トリフルオル酢酸の存在でエステル化す
ることができる。

一般式の21−ヒドロキシ化合物から、公知方
法で21−モノ硫酸エステルのアルカリ金属スルフ
エートが製造でき、例えば、この際、21−ヒドロ
キシ化合物をピリジン中の三酸化硫黄と反応さ
せ、得られた硫酸エステルをアルカリ塩基で処理
することによりアルカリ塩に変じる。

更に、一般式の21−ヒドロキシ化合物から公
知方法で、21−モノ燐酸エステルが製造でき、こ
の際例えば21−ヒドロキシ化合物をスルホン酸ク
ロリドを用いて、21−位でエステル化し、21−ス
ルホネートをアセトン中で沃化アルカリを用い
て、21−ヨード化合物に変じ、ヨード化合物を有
機塩基の存在で燐酸と反応させ、得られる燐酸モ
ノエステルをアルカリを用いてジアルカリ金属塩
に変じる。

一般式の新規コルチコイドは、殊に局所適用
の際に、優れた抗炎症作用を有する点で顕著な薬
物学的に有効な物質である。

更に、これら化合物は屡々迅速な作用開始、高
い作用強度及び長い作用時間により優れていて、
これは、好適な吸収性及びガレヌス製剤として比
較的良好な安定性を有する。

新規化合物は、ガレヌス製剤に慣用の賦形剤と
組合せて、接触性皮膚炎、種々の湿疹、神経皮膚
炎、紅皮症、火傷、外陰及び肛門掻痒症、酒皺
鼻、皮膚紅斑性狼瘡、乾癬、扁平及び疣状紅色苔
癬及び類似の皮膚病の局所適用のために好適であ
る。

個々の医薬品の製造は慣用方法で行ない、この
際、作用物質は、好適な添加物と共に所望の適用
形式例えば溶液、ローシヨン、軟膏、クリーム又
は硬膏に変じる。このように形成した医薬品中の
作用物質濃度は、適用形式に依り決まる。ローシ
ヨン及び軟膏の場合には、0.001〜２％の作用物
質濃度を使用するのが有利である。

更に、これら新規化合物は慣用の賦形剤及び助
剤と組合せて、吸入剤の製造のためにも良好に適
する。

次に実施例につき本発明を説明する。

例 １ （参考例） ａ 11β−ヒドロキシ−１，４，16−プレグナト
リエン−３，20−ジオン30ｇに無水ピリジン
300ml中でトリメチルクロルシラン30mlを加え、
室温で24時間撹拌する。次いで氷水中に撹拌導
入し、生じる沈殿を吸引し、水で洗浄し、塩化
メチレン中に入れる。蒸発濃縮の後に、粗製
11β−トリメチルシリルオキシ−１，４，16−
プレグナトリエン−３，20−ジオン36.5ｇが得
られる。ジイソプロピルエーテルから再結晶さ
せた試料は、196〜197.5℃で融解する。

ｂ ｔ−酪酸カリウム6.72ｇをジメチルホルムア
ミド79ml及びｔ−ブタノール13.2ml中に溶か
す。−25℃に冷却した溶液に亜燐酸トリメチル
5.3mlを加え、乾燥酸素を導入する。次いで無
水テトラヒドロフラン62mlに溶かした11β−ト
リメチルシリロキシ−１，４，16−プレグナト
リエン−３，20−ジオン8.8ｇを滴加し、引続
き、更に15分間酸素を導入し、−25℃で更に30
分間撹拌する。弱い酢酸酸性氷水中に撹拌導入
の後に、生じる沈殿を濾取し、水で洗浄し、塩
化メチレン中に入れ、乾燥させる。残分をシリ
カゲルでのクロマトグラフイにかけ、ジイソプ
ロピルエーテル／塩化メチレンから再結晶させ
ると、融点193〜195.5℃の17−ヒドロキシ−
11β−トリメチルシリロキシ−１，４，15−プ
レグナトリエン−３，20−ジオン1.95ｇが得ら
れる。

ｃ 17−ヒドロキシ−11β−トリメチルシリロキ
シ−１，４，15−プレグナトリエン−３，20−
ジオン1.5ｇに、無水テトラヒドロフラン35ml
中でリチウム−トリ−ｔ−ブトキシアラネート
1.35ｇを加え、室温で30分撹拌する。次いで、
氷水中に撹拌導入し、稀硫酸で酸性にし、塩化
メチレンで抽出する。有機相を水で中性になる
まで洗浄し、乾燥させ、かつ蒸発濃縮する。残
分をシリカゲルのクロマトグラフイにかける
と、17，20ξ−ジヒドロキシ−11β−トリメチ
ルシリロキシ−１，４，15−プレグナトリエン
−３−オン1.17ｇが油状物として得られた。

ｄ 17，20ξ−ジヒドロキシ−11β−トリメチル
シリロキシ−１，４，15−プレグナトリエン−
３−オン3.8ｇを無水エーテル25ml及び無水１，
２−ジメトキシエタン25ml中に溶かし、亜鉛−
銅−対7.6ｇ及び沃化メチレン6.13mlを加え、
還流下に7.5時間加熱する。次いでもう一度前
記と同じ量のZn−Cu−対及び沃化メチレンを
加え、還流下に更に18時間加熱する。反応溶液
を塩化メチレンで稀釈し、飽和塩化アンモニウ
ム溶液及び水で洗浄する。蒸発濃縮の後にシリ
カゲルのクロマトグラフイにかけると、17，
20ξ−ジヒドロキシ−11β−トリメチルシリロ
キシ−15α，16α−メチレン−１，４−プレグ
ナジエン−３−オン2.5ｇが油状物として得ら
れる。

ｅ 17，20ξ−ジヒドロキシ−11β−トリメチル
シリロキシ−15α，16α−メチレン−プレグナ
ジエン−３−オン2.5ｇをジメチルスルホキシ
ド73.5ml中に溶かし、10〜15℃に冷却し、トリ
メチルアミン6.74mlを加え、25分かかつて、ジ
メチルスルホキシド19.5ml中のピリジン−SO₃
−錯体4.9ｇの溶液を滴加する。次いで、室温
で１時間撹拌し、氷水中に撹拌導入し、生じる
沈澱を濾取し、塩化メチレン中に入れる。乾燥
及び蒸発濃縮の後に、残分をシリカゲルのクロ
マトグラフイにかけ、17−ヒドロキシ−11β−
トリメチルシリロキシ−15α，16α−メチレン
−１，４−プレグナジエン−３，20−ジオン
2.0ｇが得られる。ジイソプロピルエーテル／
塩化メチレンから再結晶させた生成物は216〜
218.5℃で融解する。

ｆ 17−ヒドロキシ−11β−トリメチルシリロキ
シ−15α，16α−メチレン−１，４−プレグナ
ジエン−３，20−ジオン2.0ｇをメタノール40
ml中で稀塩酸（１＋１）２mlと共に室温で1.5
時間撹拌する。次いで、氷水中に撹拌導入し、
得られる沈殿を吸引し、水で洗浄し、塩化メチ
レン中に入れる。

乾燥及び蒸発濃縮の後に残分を酢酸エステル
から再結晶させると、融点233〜248℃（分解）
の11β−，17−ジヒドロキシ−15，16α−メチ
レン−１，４−プレグナジエン−３，20−ジオ
ン1.03ｇが得られる。

例 ２ （参考例） ａ 3β−アセトキシ−15α，16α−メチレン−５
−プレグネン−17，20ξ−ジオール11.0ｇをジ
メチルスルホキシド230ml中に溶かし、15℃に
冷却し、トリエチルアミン30.8mlを加え、30分
かかつてジメチルスルホキシド100ml中のピリ
ジン−酸化イオウ（）−錯体22ｇの溶液を適
加する。室温で１時間撹拌し、次いで弱い酢酸
酸性氷水中に撹拌導入し、生じる沈殿を濾取
し、充分に洗浄しかつ塩化メチレン中に入れ
る。乾燥及び蒸発濃縮の後に、残分を酢酸エス
テルから再結晶させると、融点245〜247℃（分
解）の17−ヒドロキシ−3β−アセトキシ−
15α，16α−メチレン−５−プレグネン−20−
オン7.5ｇが得られる。

ｂ 17−ヒドロキシ−3β−アセトキシ−15α，
16α−メチレン−５−プレグネン−20−オン
10.0ｇを酢酸350ml及びクロロホルム100ml中に
部分的に溶かし、酢酸中の臭化水素（37％）
0.1mlを加え、1.5時間かかつて酢酸100ml中の
臭素2.85mlの溶液を滴加する。次いで１時間撹
拌し、反応溶液を塩化メチレンで稀釈し、水、
炭酸水素ナトリウム溶液及び水で洗浄し、乾燥
させる。蒸発濃縮の後に、粗製５，6β，21−
トリブロム−17−ヒドロキシ−3β−アセトキ
シ−15α，16α−メチレン−5α−プレグナン−
20−オン17.9ｇが得られる。

ｃ 粗製５，6β，21−トリブロム−17−ヒドロ
キシ−3β−アセトキシ−15α，16α−メチレン
−5α−プレグナン−20−オン17.9ｇをアセトン
400ml中、沃化ナトリウム9.1ｇ及び酢酸カリウ
ム40ｇと共に撹拌下、還流下に４時間加熱す
る。氷水沈殿の後に濾取した沈殿を塩化メチレ
ン中に入れ、乾燥させ、蒸発濃縮させる。残分
をシリカゲルのクロマトグラフイにかけ、ジイ
ソプロピルエーテル／アセトンから再結晶させ
ると、融点197.5〜199℃の17−ヒドロキシ−
3β，21−ジアセトキシ−15α，16α−メチレン
−５−プレグネン−20−オン4.75ｇが得られ
る。

ｄ 内容20のガラス製醗酵槽に酵母エキス0.3
％、コーンステイープリカー0.5％及びデンプ
ン糖0.2％を含む栄養液15を加え、120℃に半
時間加熱することにより減菌し、冷却後に、フ
ラボバクテリウム・デヒドロゲナンス
（Flavobacterium dehydrogenans）
ATCC13930の２日振動フラスコ培養液250mlを
接種する（振動フラスコ培養液は、同じ培地
250mlを７日傾斜培養物の洗浄液の接種により
製造する）。30℃で、撹拌（220回／min）及び
通気（15／min）下に24時間培養の後に、得
られる培養液の900mlを減菌条件下に取り出し、
同じ培地14を有する同じ大きさの醗酵槽中に
移す。６時間後に、培養液は13lまで減少する
から、ジメチルホルムアミド100ml中の17−ヒ
ドロキシ−3β，21−ジアセトキシ−15α，16α
−メチレン−５−プレグネン−20−オン6.5ｇ
の無菌濾過溶液を加え、同じ条件下に更に13時
間醗酵させる。

醗酵終了後に、培養液をメチルイソブチルケ
トン各６で３回抽出する。集めた抽出物を真
空中で蒸発乾涸させる。残分から勢いヘキサン
100mlで使用消泡剤シリコンSHを洗浄除去する
と、粗生成物4.7ｇが得られるから、これを少
量の活性炭を添加した酢酸エステルから再結晶
させる。融点225〜226℃の17，21−ジヒドロキ
シ−15α，16α−メチレン−４−プレグネン−
３，20−ジオン3.13ｇ（収率：理論量の68％）
が得られる。

例 ３ 20−ガラス製醗酵槽にグルコース３％コーン
ステイープリカー１％、NaNO₃0.2％、
KH₂PO₄0.1％、K₂HPO₄0.2％、MgSO₄0.05％、
FeSO₄0.002％及びKC0.05％を含む栄養液14
を入れ、120℃に半時間加熱することにより滅菌
し、冷却後にペリクラリア・フイラメントサ・
・sp・ササキ（Pellicularia filamentosa・
sp・sasakii）IFO6675の３日振動フラスコ培養
液900mlを接種する（振動フラスコ培養液は、７
日傾斜培養物の洗液を同じ培地900mlに接種する
ことにより製造される）。

29℃で、前記条件下で12時間醗酵の後に、ジメ
チルホルムアミド100ml中の17，21−ジヒドロキ
シ−15α，16α−メチレン−４−プレグネン−３，
20−ジオンの滅菌濾過溶液を加える。更に36時間
醗酵の後に、培養液をガーゼで濾過する。残留ミ
セルを水で数回洗浄する。濾液及び洗浄水をメチ
ルイソブチルケトンで抽出し、例2dの記載と同
様に後処理する。粗生成物をヘキサン−アセトン
勾配系を用いてシリカゲルのクロマトグラフイに
かける。

酢酸エステルからの再結晶の後に、融点209〜
210℃の11β，17，21−トリヒドロキシ−15α，
16α−メチレン−４−プレグネン−３，20−ジオ
ン1.2ｇが得られる。

極性フラクシヨンから、ジイソプロピルエーテ
ル／アセトンから再結晶の後に、融点214〜215℃
の11α，17，21−トリヒドロキシ−15α，16α−メ
チレン−４−プレグネン−３，20−ジオン22mlが
得られる。

例 ４ ２−エーレンマイヤ−フラスコにペプトン
1.5％、コーンステイープリコー1.2％及び
MgSO₄0.2％を含む栄養液500mlを装入し、滅菌
し、かつバシルス・レンツス（Bacillus lentus）
ATCC13805の３日傾斜培養物の洗液を接種する。
30℃で回転振動機（165回／min）上で48時間振
動の後に、培養液50mlを無菌条件下に取り出し、
２−エーレンマイヤーフラスコ中で、酵母エキ
ス0.1％、コーンステイープリカー0.5％及びデン
プン糖0.05％を含む無菌栄養液500mlと共に移し、
24時間振る。同じ培地各500mlを有する２−エ
ーレンマイヤ−フラスコ10個に各々、得られた初
期培養液50mlを接種し、６時間後に、各々ジメチ
ルホルムアミド４ml中の11β，17，21−トリヒド
ロキシ−15α，16α−メチレン−４−プレグネン
−３，20−ジオン100mgの溶液を装入し、30℃及
び165回転／minで24時間振動する。培養液を集
め、メチルイソブチルケトンで抽出する。抽出物
から、蒸発後に、粗生成物1.2ｇを生じるから、
これをジイソプロピルエーテル／アセトンから再
結晶させると、融点205〜207℃の11β，17，21−
トリヒドロキシ−15α，16α−メチレン−１，４
−プレグナジエン．３，20−ジオンが得られる。

例 ５ コーンステイープリカー１％、大豆粉1.25％及
び大豆油0.005％よりなる無菌栄養液500mlを有す
る２−エーレンマイヤーフラスコに、アスペル
ギルス・オクラセウス（As−pergillus
ochraceus）ATCC1008の10日傾斜培養物の洗液
を接種し、30℃及び165回転／minで72時間振動
する。この培養液各50mlを、同じ培地各500mlを
有する２−エーレンマイヤーフラスコ７個に接
種し、16時間後に、各々ジメチルスルホキシド４
ml中の17，21−ジヒドロキシ−15α，16α−メチ
レン−４−プレグネン−３，20−ジオン100mgを
加える。21時間の接触時間の後に、集められた培
養液をミセル分離せずにメチルイソブチルケトン
で抽出する。抽出液は蒸発の後に粗生成物992mg
を生じ、これは再結晶の後に、融点213〜215℃の
11α，17，21−トリヒドロキシ−15α，16α−メチ
レン−４−プレグネン−３，20−ジオン331mgを
生じる。

例 ６ 例４の条件下で、２−エーレンマイヤーフラ
スコ６個中で11α，17，21−トリヒドロキシ−
15α，16α−メチレン−４−プレグネン−３，20
−ジオン600mgからバシルス・レンツス
ATCC13805を用いる醗酵により粗製脱水素化生
成物680mgが得られ、これは、クロロホルム／メ
タノール系（95＋５）を用いるシリカゲルでの薄
層クロマトグラフイにかける精製の後に、融点
225〜227℃の純粋11α，17，21−トリヒドロキシ
−15α，16−メチレン−１，４−プレグナジエン
−３，20−ジオンが得られる。

例 ７ 例４に記載と同じ条形下に、コリネバクテリウ
ム・シンプレツクス（Corynebacterium
simplex）ATCC6946を用いて、11α，17，21−
トリヒドロキシ−15α，16α−メチレン−４−プ
レグネン−３，20−ジオンを１，２−脱水素す
る。

例 ８ 11α，17，21−トリヒドロキシ−15α，16α−メ
チレン−１，４−プレグナジエン−３，20−ジオ
ン100mgをジメチルホルムアミド４ml中に溶かし、
撹拌下に酢酸鉛（）６mg及び無水酢酸0.08mlを
加える。引続き室温で２時間撹拌の後に、反応溶
液を水中に注ぐ。生じた沈殿を吸引し、乾燥さ
せ、酢酸エステル−イソプロピルエーテルから再
結晶させると、11α，17−ジヒドロキシ−21−ア
セトキシ−15α，16α−メチレン−１，４−プレ
グナジエン−３，20−ジオンが得られる。

例 ９ （参考例） 11α，17−ジヒドロキシ−21−アセトキシ−
15α，16α−メチレン−１，４−プレグナジエン
−３，20−ジオン500mgをアセトン15ml中、10℃
で、クロム硫酸（クロム酸267ｇ、水400ml、濃硫
酸230mlを入れ１として製造）0.4mlを加え、10
℃で15分撹拌し、氷水中に沈殿させる。沈殿を濾
過し、塩化メチレン中に取り、水で洗浄し、乾燥
させる。蒸発濃縮の後に、シリカゲルでのクロマ
トグラフイにかけると、17−ヒドロキシ−21−ア
セトキシ−15α，16α−メチレン−１，４−プレ
グナジエン−３，11，20−トリオンが得られる。

例 10 （参考例） ａ 17−ヒドロキシ−3β，21−ジアセトキシ−
15α，16α−メチレン−５−プレグネン−20−
オン11.35ｇにメタノール170ml及び塩化メチレ
ン170ml中で氷冷下に、メタノール10ml中の水
酸化カリウム568mgの溶液を加え、氷温度で1.5
時間撹拌する。引続き酢酸で中和し、溶液を真
空中で充分に濃縮し、氷水中で沈殿させる。生
じた沈殿を吸引し、洗浄しかつ乾燥させる。シ
リカゲルでのクロマトグラフイの後に、ジイソ
プロピルエーテルと擦した後に、17，21−ジヒ
ドロキシ−3β−アセトキシ−15α，16α−メチ
レン−５−プレグネン−20−オン7.3ｇが得ら
れる。酢酸エステルから再結晶した試料は、
228〜233.5℃（分解）で融解する。

ｂ 17，21−ジヒドロキシ−3β−アセトキシ−
15α，16α−メチレン−５−プレグネン−20−
オン7.0ｇを酢酸280ml中で、結晶水含有酢酸亜
鉛700mgと共に、120℃で２時間撹拌する。次い
で真空中で充分に濃縮し、残分を塩化メチレン
中に入れ、水で中性になるまで洗浄する。蒸発
濃縮の後に、粗製20−ヒドロキシ−3β−アセ
トキシ−15α，16α−メチレン−５，17（20）−
プレグナジエン−21−アール7.0ｇが得られる。

ｃ 20−ヒドロキシ−3β−アセトキシ−15α，
16α−メチレン−５，17（20）−プレグナジエン
−21−アール7.0ｇをピリジン28ml中で無水酢
酸14mlと共に、室温で１時間放置する。次い
で、氷水中に導入し、生じる沈殿を濾過し、エ
ーテル中に入れる。エーテル相を稀塩酸、水、
炭酸水素ナトリウム溶液及び水で洗浄する。蒸
発濃縮液に、残分をシリカゲルのクロマトグラ
フイにかけると、3β，20−ジアセトキシ−
15α，16α−メチレン−５，17（20）−プレグナ
ジエン−21−アール6.5ｇが得られる。

ジイソプロピルエーテルから再結晶させた試
料は、147.5〜151℃で融解する。

ｄ 3β，20−ジアセトキシ−15α，16α−メチレ
ン−15，17（20）−プレグナジエン−21−アール
6.5ｇにテトラヒドロフラン中で、リチウム−
トリ−ｔ−ブトキシアラート6.5ｇを加え、室
温で30分撹拌する。次いで、氷水中に撹拌導入
し、稀硫酸で酸性にし、塩化メチレンで抽出す
る。乾燥及び蒸発濃縮の後に、粗製21−ヒドロ
キシ−3β，20−ジアセトキシ−15α，16α−メ
チレン−５，17（20）−プレグナジエン6.5ｇが
得られる。

ｅ 21−ヒドロキシ−3β，20−ジアセトキシ−
15α，16α−メチレン−５，17（20）−プレグナ
ジエン6.5ｇをメタノール260ml中、2N塩酸65
mlと共に還流下に3.5時間加熱する。引続き、
氷水中で沈殿させ、水で洗浄し、乾燥させる。
蒸発濃縮の後に得られた残分をシリカゲルのク
ロマトグラフイにかけ、酢酸エステルから再結
晶させると、融点174.5〜179.5℃の3β，21−ジ
ヒドロキシ−15α，16α−メチレン−５−プレ
グネン−20−オン2.6ｇが得られる。

ｆ 3β，21−ジヒドロキシ−15α，16α−メチレ
ン−５−プレグネン−20−オン2.0ｇをジメチ
ルホルムアミド20ml及び無水酢酸２ml中に溶か
し、酢酸鉛1.28ｇを加え、室温で1.5時間撹拌
する。次いで氷水中に撹拌導入し、生じる沈殿
を吸引し、洗浄し、かつ乾燥させる。

酢酸エステルから再結晶すると、融点168.5
〜169.5℃の3β−ヒドロキシ−21−アセトキシ
−15α，16α−メチレン−５−プレグネン−20
−オン1.8ｇが得られる。

ｇ 3β−ヒドロキシ−21−アセトキシ−15α，
16α−メチレン−５−プレグネン−20−オン
500mgにトルオール25ml及びシクロヘキサノン
１ml中で、トルオール２ml中のアルミニウムイ
ソプロピレート100mgの溶液を加え、45分間
徐々に溜去しながら加熱する。次いでエーテル
で稀釈し、稀硫酸及び水で洗浄する。乾燥及び
蒸発濃縮の後にシリカゲルのクロマトグラフイ
にかけ、ジイソプロピルエーテルから再結晶さ
せると、融点124〜125℃の21−アセトキシ−
15α，16α−メチレン−４−プレグネン−３，
20−ジオン275mgが得られた。

例 11 （参考例） 内容20を有するガラス製醗酵槽に、グルコー
ス（デンプン糖）4.4％、麦芽エキス１％、
NaNO₃0.3％、KH₂PO₄0.1％、KCl0.05％、
MgSO₄0.05％、FeSO₄0.002％及びコーンステイ
ープリカー0.5％を含む栄養液15を装入し、120
℃に半時間加熱することにより滅菌し、冷却後
に、クルブラリア．ルナタ（Curvularia lunata）
NRRL2380の３日振動フラスコ培養液を接種す
る（振動フラスコ培養液は同じ培地250mlに７日
傾斜培養物の洗液を接種して製造）。30℃で撹拌
（220回／min）及び通気（15／min）下に48時
間醗酵の後に、得られた培養液900mlを無菌条件
下に取り出し、同じ培地14を有する同じ醗酵槽
中に移す。12時間後に、21−アセトキシ−15α，
16α−メチレン−４−プレグネン−３，20−ジオ
ン３ｇ（ジメチルホルムアミド100ml中に溶解）
を加え、28時間醗酵させる。例３の記載と同様に
操作すると粗生成物2.7ｇが得られるから、これ
をシリカゲルのカラムクロマトグラフイにより分
離し、11β，21−ジヒドロキシ−15α，16α−メチ
レン−４−プレグネン−３，20−ジオンが得られ
る。

例 12 例４の条件下で、２−エーレンマイヤーフラ
スコ２個中で、11β，21−ジヒドロキシ−15α，
16α−メチレン−４−プレグネン−３，20−ジオ
ン200mgをバシルス・レンツス（Bacillus
lentus）ATCC13805を用いて脱水素して、11β，
21−ジヒドロキシ−15α，16α−メチレン−１，
４−プレグナジエン−３，20−ジオンにする。

例 13 （参考例） ａ −40℃に冷却したジメチルホルムアミド2.5
mlに、液体弗化水素2.5mlを加え、その後、Ｎ
−ブロムスクシンイミド250mlを加え、次いで、
塩化メチレン５ml中に溶かした3β−ヒドロキ
シ−21−アセトキシ−15α，16α−メチレン−
５−プレグネン−20−オン500mgを導入する。
次いで、−15℃で５分間撹拌し、飽和炭酸水素
ナトリウム溶液中に注ぎ、塩化メチレンで抽出
する。乾燥及び蒸発濃縮の後に粗製6β−フル
オル−５−ブロム−3β−ヒドロキシ−21−ア
セトキシ−15α，16α−メチレン−5α−プレグ
ナン−20−オン700mgが得られる。

ｂ 6β−フルオル−５−ブロム−3β−ヒドロキ
シ−21−アセトキシ−15α，16α−メチレン−
5α−プレグナン−20−オン700mgにアセトン15
ml中で、クロム硫酸（クロム酸267ｇ、水400
ml、濃硫酸230mlを充填して１として製造）
0.55mlを加え、室温で10分撹拌する。次いで、
氷水中に撹拌導入し、沈殿を濾別し、塩化メチ
レン中に入れ、乾燥させる。蒸発濃縮の後に、
粗製6β−フルオル−５−ブロム−21−アセト
キシ−15α，16α−メチレン−5α−プレグネン
−３，20−ジオン700mgが得られる。

ｃ 6β−フルオル−５−ブロム−21−アセトキ
シ−15α，16α−メチレン−5α−プレグナン−
３，20−ジオン700mgを酢酸15ml中、30℃で３
時間撹拌し、次いで、結晶酢酸ナトリウム300
mgを加え、更に30℃で10分間撹拌する。引続き
氷水中に撹拌導入し、生じる沈殿を濾取し、水
で洗浄しかつ塩化メチレン中に入れる。乾燥及
び蒸発濃縮の後に、残分をシリカゲルのクロマ
トグラフイにかけ、ジイソプロピルエーテルか
ら再結晶させると、融点155.5〜157.5℃の6α−
フルオル−21−アセトキシ−15α，16α−メチ
レン−４−プレグネン−３，20−ジオン150mg
が得られる。

例 14 例11記載の条件下で6α−フルオル−21−アセ
トキシ−15α，16α−メチレン−４−プレグネン
−３，20−ジオン３ｇをクルブラリア・ルナタ
NRRL2380を用いて醗酵させ、後処理する。粗
生成物2.4ｇをカラムクロマトグラフイにより分
離すると、6α−フルオル−11β，21−ジヒドロキ
シ−15α，16α−メチレン−４−プレグネン−３，
20−ジオンが得られる。

例 15 例４記載と同じ条件下で、２−エーレンマイ
ヤーフラスコ２個中で、6α−フルオル−11β，21
−ジヒドロキシ−15α，16α−メチレン−４−プ
レグネン−３，20−ジオン200mgをバシルス・レ
ンツスATCC13805を用いて脱水素して、6α−フ
ルオル−11β，21−ジヒドロキシ−15α，16α−メ
チレン−１，４−プレグナジエン−３，20−ジオ
ンとする。

例 16 （参考例） ａ 17−ヒドロキシ−11β−トリメチルシリロキ
シ−15α，16α−メチレン−１，４−プレグナ
ジエン−３，20−ジオン500mgを無水酢酸50ml
で炭酸カルシウム600mgと共に140℃で40時間撹
拌する。炭酸カルシウムを濾去し、濾液を氷水
中に撹拌導入し、生じる沈殿を吸引し、水で洗
浄し、乾燥させる。粗製17−アセトキシ−11β
−トリメチルシリロキシ−15α，16α−メチレ
ン−１，４−プレグナジエン−３，20−ジオン
600mgが得られる。

ｂ 粗製17−アセトキシ−11β−トリメチルシリ
ロキシ−15α，16α−メチレン−１，４−プレ
グナジエン−３，20−ジオン600mgをメタノー
ル150ml中で、稀塩酸（１＋１）0.6mlと共に室
温で1.5時間撹拌する。次いで例1eの記載と同
様に後処理し、残分をシリカゲルのクロマトグ
ラフイにかける。11β−ヒドロキシ−17−アセ
トキシ−15α，16α−メチレン−１，４−プレ
グナジエン−３，20−ジオン240mgが得られる。

例 17 （参考例） 11β，17，21−トリヒドロキシ−15α，16α−メ
チレン−４−プレグネン−３，20−ジオン200mg
をピリジン１ml中無水酢酸0.5と共に室温で18
時間放置する。次いで氷水中に撹拌導入し、生じ
る沈殿を濾取し、洗浄しかつ乾燥させる。11β，
17−ジヒドロキシ−21−アセトキシ−15α，16α
−メチレン−４−プレグネン−３，20−ジオン
210mgが得られる。

例 18 （参考例） 11β，17，21−トリヒドロキシ−15α，16α−メ
チレン−４−プレグネン−３，20−ジオン100mg
をピリジン１ml中、無水酪酸0.5mlと共に室温で
18時間放置する。次いで、氷水中に撹拌導入し、
析出油分をデカンテーシヨン分離し、次いで、こ
れを塩化メチレン中に入れる。調製用クロマトグ
ラフイの後に、11β，17−ジヒドロキシ−21−ブ
チリルオキシ−15α，16α−メチレン−４−プレ
グネン−３，20−ジオン115mgが得られる。

例 19 11β，17，21−トリヒドロキシ−15α，16α−メ
チレン−１，４−プレグナジエン−３，20−ジオ
ン250mgをピリジン1.5ml中、無水カプロン酸0.75
mlと共に放置する。次いで例18の記載と同様に後
処理し、精製する。11β，17−ジヒドロキシ−21
−ヘキサノイルオキシ−15α，16α−メチレン−
１，４−プレグナジエン−３，20−ジオン210mg
が得られる。

例 20 （参考例） 11β，21−ジヒドロキシ−15α，16α−メチレン
−４−プレグネン−３，20−ジオン250mgにピリ
ジン1.5ml中に、無水エナント酸0.75mlを加え、
室温で18時間放置する。次いで、例18の記載と同
様に反応させ、後処理する。11β−ヒドロキシ−
21−ヘプタノイルオキシ−15α，16α−メチレン
−４−プレグネン−３，20−ジオン170mgが得ら
れる。

例 21 11β，21−ジヒドロキシ−15α，16α−メチレン
−１，４−プレグナジエン−３，20−ジオン180
mgを例17の記載と同様にピリジン中で無水酢酸と
反応させ、後処理する。11β−ヒドロキシ−21−
アセトキシ−15α，16α−メチレン−１，４−プ
レグナジエン−３，20−ジオン145mgが得られる。

例 22 （参考例） 6α−フルオル−11β，21−ジヒドロキシ−15α，
17α−メチレン−４−プレグネン−３，20−ジオ
ン200mgにピリジン２ml中でピバリン酸クロリド
0.25を加え、５℃で18時間放置する。例18の記
載と同様に反応させ、後処理する。6α−フルオ
ル−11β−ヒドロキシ−21−トリメチルアセトキ
シ−15α，16α−メチレン−４−プレグネン−３，
20−ジオン130mgが得られる。

例 23 6α−フルオル−11β，21−ジヒドロキシ−15α，
16α−メチレン−１，４−プレグナジエン−３，
20−ジオン200mgを例18の記載と同様にピリジン
中の無水酪酸と反応させ、後処理する。6α−フ
ルオル−11β−ヒドロキシ−21−ブチリールオキ
シ−15α，16α−メチレン−１，４−プレグナジ
エン−３，20−ジオン150mgが得られる。

例 24 無水ピリジン40mlを−15℃に冷却し、撹拌下
に、新しく蒸溜した三酸化硫黄2.59mlを滴加し
て、内温を−５℃より高くさせない。この溶液に
6α−フルオル−11β，21−ジヒドロキシ−15α，
16α−メチレン−１，４−プレグナジエン−３，
20−ジオン20ｇを入れ、これをピリジン10mlで後
洗する。反応混合物を室温で30分撹拌し、1N苛
性ソーダ70.5mlでPH8.5に調節する。ピリジン除
去のために、塩化メチレンで抽出する。水相のPH
値を1N苛性ソーダで８に調節し、この溶液を真
空中、浴温40℃で蒸発濃縮する。残分をメタノー
ル500ml中で溶かし、硫酸ナトリウムを濾去し、
濾液を真空中で蒸発濃縮しかつ乾燥させる。ナト
リウム−（6α−フルオル−11β−ジヒドロキシ−
３，20−ジオキソ−15α，16α−メチレン−１，
４−プレグナジエン−21−イル）−スルフエート
が得られる。

例 25 ピリジン200ml中の6α−フルオル−11β，21−
ジヒドロキシ−15α，16α−メチレン−１，４−
プレグナジエン−３，20−ジオン20ｇの溶液に冷
却及び撹拌下にメタンスルホン酸クロリド20mlを
滴加する。30分の反応時間の後に、反応溶液を氷
水中に注ぎ入れ、生じる21−メシレートを濾取す
る。こうして得た6α−フルオル−11β−ヒドロキ
シ−21−メシルオキシ−15α，16α−メチレン−
１，４−プレグナジエン−３，20−ジオン15.4ｇ
をアセトン500ml中に溶かし、アセトン400ml中の
沃化ナトリウム15.4ｇの添加の後に加熱沸騰させ
る、残分を稀チオ硫酸ナトリウム溶液と共に撹拌
し、吸引し、水で洗浄し、アセトン300ml中に溶
かし、温時、水120mlを用いて沈殿させる。冷却
後に、分解点157〜160℃の6α−フルオル−21−
ヨード−11β−ヒドロキシ−15α，16α−メチレン
−１，４−プレグナジエン−３，20−ジオン14.1
ｇを単離させる。21−ヨード化合物14.1ｇをアセ
トニトリル700ml中に溶かし、オルト燐酸14.1ml
及びトリエチルアミン42mlと共に還流下に３時間
加熱する。引続き、反応溶液を減圧下に濃縮し、
残分をメタノール中に入れ、この溶液を1N苛性
ソーダメタノール液でPH11に調節する。残分を濾
去し、濾液を真空中で蒸発濃縮し、残分をメタノ
ール70ml中に入れ、エーテルの添加によりジナト
リウム塩を沈殿させる。ジナトリウム塩をエーテ
ル含有メタノールから再沈殿させることにより精
製する。ジナトリウム−（6α−フルオル−11β−
ヒドロキシ−３，20−ジオキソ−15α，16α−メ
チレン−１，４−プレグナジエン−21−イル）ホ
スフエート11.9ｇが得られる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式Ｉ： 〔式中Ｘは水素原子、弗素原子又はメチル基を
   表わし、Ｙはヒドロキシメチレン基、アルカノイ
   ルオキシメチレン基又はカルボニル基を表わし、
   R₁は、水素原子、ヒドロキシ基又はアルカノイ
   ルオキシ基を表わし、R₂は水素原子、又は遊離
   の又は生理学的に認容性の酸でエステル化された
   ヒドロキシ基を表わす〕のメチレンステロイドを
   製造するため、 一般式： 〔式中Ｘ，R₁及びR₂は前記と同じものを表わ
   す〕の化合物を11−ヒドロキシル化しうるアスペ
   ルギルス、ペリクラリア又はクルブラリア属の微
   生物の培養液を用いて醗酵させ、付加的にバシル
   ス又はコリネバクテリウム属の微生物を用いて
   １，２−位で脱水素化することを特徴とする、新
   規メチレンステロイドの製法。 ２ 一般式： 〔式中Ｘは水素原子、弗素原子又はメチル基を
   表わし、Ｙはヒドロキシメチレン基を表わし、
   R₁は、水素原子、ヒドロキシ基又はアルカノイ
   ルオキシ基を表わし、R₂は生理学的に認容性の
   酸でエステル化されたヒドロキシ基を表わす〕の
   メチレンステロイドを製造するため、一般式： 〔式中Ｘ，R₁は前記と同じものを表わす〕の
   化合物を11−ヒドロキシル化しうるアスペルギル
   ス、ペリクラリア又はクルブラクア属の微生物の
   培養液を用いて醗酵させ、付加的にバシルス又は
   コリネバクテリウム属の微生物を用いて１，２−
   位で脱水素化し、更に付加的に21−ヒドロキ基を
   エステル化することを特徴とする、新規メチレン
   ステロイドの製法。