JPH0148817B2 - - Google Patents
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- JPH0148817B2 JPH0148817B2 JP59152745A JP15274584A JPH0148817B2 JP H0148817 B2 JPH0148817 B2 JP H0148817B2 JP 59152745 A JP59152745 A JP 59152745A JP 15274584 A JP15274584 A JP 15274584A JP H0148817 B2 JPH0148817 B2 JP H0148817B2
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- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/0015—Feeding of the particles in the reactor; Evacuation of the particles out of the reactor
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- B01F25/30—Injector mixers
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-
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-
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- B05B7/222—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas incorporating means for heating or cooling the material to be sprayed electrically, magnetically or electromagnetically, e.g. by arc using an arc
- B05B7/226—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas incorporating means for heating or cooling the material to be sprayed electrically, magnetically or electromagnetically, e.g. by arc using an arc the material being originally a particulate material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/12—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
-
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- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
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- H05H1/26—Plasma torches
- H05H1/32—Plasma torches using an arc
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Description
【発明の詳細な説明】
<技術分野>
本発明はプラズマジエツトの蒸気流中に、微粒
子材料や各種溶液(以下、リージエンツ
(Reagents)という)を注入し、これを均一に溶
解、混合、反応あるいは分布させるための技術に
関するものであつて、主として金属やセラミツク
のような高融点物質の表面処理や接合に用いられ
るものである。
子材料や各種溶液(以下、リージエンツ
(Reagents)という)を注入し、これを均一に溶
解、混合、反応あるいは分布させるための技術に
関するものであつて、主として金属やセラミツク
のような高融点物質の表面処理や接合に用いられ
るものである。
<従来技術及びその問題点>
時としてプラズマ化学と呼ばれる種々の化学的
な反応処理(溶解、再結晶、高融点材料の物体表
面への塗布等)は近年になつて発展させられたも
ので、粉末、溶液等の微粒子材料とプラズマジエ
ツトとが用いられる。この技術では、一般にリー
ジエンツと呼ばれる微粒子材料がプラズマジエツ
トよりなる熱気流に注入される。
な反応処理(溶解、再結晶、高融点材料の物体表
面への塗布等)は近年になつて発展させられたも
ので、粉末、溶液等の微粒子材料とプラズマジエ
ツトとが用いられる。この技術では、一般にリー
ジエンツと呼ばれる微粒子材料がプラズマジエツ
トよりなる熱気流に注入される。
その注入の結果得られる物の品質、リージエン
ツの注入にとつては、その熱気流にリージエンツ
が均一に分布し、かつ完全に溶解することが特に
重要なことである。今日では、プラズマジエツト
は高速であり、解決されるべきリージエンツの注
入という問題は微妙な問題であることが知られて
いる。特に、溶液又は粒状の小滴(その寸法は数
ミクロンから1000ミクロンと種々である)を2000
℃ないし6000℃の温度と1ないし20バールの圧力
とを有するプラズマジエツトに注入する場合には
そうである。
ツの注入にとつては、その熱気流にリージエンツ
が均一に分布し、かつ完全に溶解することが特に
重要なことである。今日では、プラズマジエツト
は高速であり、解決されるべきリージエンツの注
入という問題は微妙な問題であることが知られて
いる。特に、溶液又は粒状の小滴(その寸法は数
ミクロンから1000ミクロンと種々である)を2000
℃ないし6000℃の温度と1ないし20バールの圧力
とを有するプラズマジエツトに注入する場合には
そうである。
プラズマジエツトにリージエンツを注入する方
法としては、既にいくつかの別の方法が提案され
ており、これらの方法では、プラズマ化される物
質、例えば高圧ガスへのリージエンツの注入はプ
ラズマ発生装置のプラズマ化する段階、又はその
前後の段階で行なわれている。
法としては、既にいくつかの別の方法が提案され
ており、これらの方法では、プラズマ化される物
質、例えば高圧ガスへのリージエンツの注入はプ
ラズマ発生装置のプラズマ化する段階、又はその
前後の段階で行なわれている。
プラズマ発生装置よりも前の段階でリージエン
ツを注入する第1の場合、いくつかの問題、特
に、プラズマジエツトが高速であるために高温の
それと低温のリージエンツとを混合させるという
問題が避けられる。
ツを注入する第1の場合、いくつかの問題、特
に、プラズマジエツトが高速であるために高温の
それと低温のリージエンツとを混合させるという
問題が避けられる。
他方、この方法では、リージエンツをプラズマ
ジエツト発生装置に通さねばならないので、プラ
ズマ発生装置の壁や電極と反応するおそれがある
リージエンツを用いることはできない。更に、そ
の様な注入に適した構造のプラズマ発生装置にの
み利用できる。プラズマ発生装置の下流で注入す
る場合には、別の操作方法が可能である。流動床
を形成し、その中に付加的な容器中で懸濁化され
たリージエンツの粒子を含ましめ、それらの粒子
をプラズマジエツトに送る。そのために、プラズ
マジエツトの速度に起因する上述の問題に出合う
ことになる。又、粒子はプラズマジエツト中で重
力によつて降下させられることになる。そのう
え、リージエンツの粒子のプラズマジエツトへの
混合は僅かだけであり、大部分のリージエンツの
粒子はそれから反発する傾向がある。
ジエツト発生装置に通さねばならないので、プラ
ズマ発生装置の壁や電極と反応するおそれがある
リージエンツを用いることはできない。更に、そ
の様な注入に適した構造のプラズマ発生装置にの
み利用できる。プラズマ発生装置の下流で注入す
る場合には、別の操作方法が可能である。流動床
を形成し、その中に付加的な容器中で懸濁化され
たリージエンツの粒子を含ましめ、それらの粒子
をプラズマジエツトに送る。そのために、プラズ
マジエツトの速度に起因する上述の問題に出合う
ことになる。又、粒子はプラズマジエツト中で重
力によつて降下させられることになる。そのう
え、リージエンツの粒子のプラズマジエツトへの
混合は僅かだけであり、大部分のリージエンツの
粒子はそれから反発する傾向がある。
<本発明の目的>
本発明の目的は、これらの欠点を克服し、プラ
ズマジエツト中にリージエンツが完全に均一に容
解される様にすることである。
ズマジエツト中にリージエンツが完全に均一に容
解される様にすることである。
<本発明方法の構成>
本発明に係るプラズマジエツトの微粒子材料注
入方法は、上述の目的を達成するために、プラズ
マジエツトの経路中にスクリーンを挿入し、この
スクリーンに該プラズマジエツトの周りに複数個
の分流ジエツト形成用オリフイスを適当な間隔を
置いて配置し、これらのオリフイスを貫通させる
ことにより該プラズマジエツトを少なくともほぼ
同方向に向く複数の各分流ジエツトに分流させ、
少なくとも部分的にいくつかの上記オリフイスで
取り囲まれる少なくとも1個の微粒子材料流出用
ノズルに微粒子材料を導入して、上記分流ジエツ
トとほぼ同方向に向けられ、上記プラズマジエツ
トの分流ジエツトの少なくともいくつかによつて
取り囲まれた少なくとも1つの微粒子材料の流れ
を形成するという手順をふむ。
入方法は、上述の目的を達成するために、プラズ
マジエツトの経路中にスクリーンを挿入し、この
スクリーンに該プラズマジエツトの周りに複数個
の分流ジエツト形成用オリフイスを適当な間隔を
置いて配置し、これらのオリフイスを貫通させる
ことにより該プラズマジエツトを少なくともほぼ
同方向に向く複数の各分流ジエツトに分流させ、
少なくとも部分的にいくつかの上記オリフイスで
取り囲まれる少なくとも1個の微粒子材料流出用
ノズルに微粒子材料を導入して、上記分流ジエツ
トとほぼ同方向に向けられ、上記プラズマジエツ
トの分流ジエツトの少なくともいくつかによつて
取り囲まれた少なくとも1つの微粒子材料の流れ
を形成するという手順をふむ。
即ち、A.プラズマジエツト発生装置からプラ
ズマジエツトを噴出させるプラズマジエツト噴出
工程、B.プラズマジエツト発生装置から噴出し
たプラズマジエツトを、その噴出方向の途中部で
分流させて、複数の細い分流ジエツトを形成する
プラズマジエツト分流工程、C.複数の細い分流ジ
エツトを、その下流部で互いに分流させて、太い
合流ジエツトを形成する分流ジエツト合流工程、
D.プラズマジエツトが、プラズマジエツト発生
装置から噴射されてから、複数の細い分流ジエツ
トに変えられた後、さらに太い合流ジエツトに変
えられるに至るまでの間において、プラズマジエ
ツト及び合流ジエツトのジエツト流断面の外周縁
よりも内側で微粒子材料を流出させるともに、こ
の微粒子材料の流出軸心をプラズマジエツト及び
分流ジエツトのジエツト流軸心とほぼ平行に方向
づける微粒子材料流出工程、E.前記ジエツト流断
面の外周縁よりも内側に流出した微粒子材料を、
プラズマジエツトと合流ジエツトとのいずれか一
方に拡散させながら混合させる微粒子材料拡散混
合工程、以上の各工程A〜Eの組合せから成るも
のである。
ズマジエツトを噴出させるプラズマジエツト噴出
工程、B.プラズマジエツト発生装置から噴出し
たプラズマジエツトを、その噴出方向の途中部で
分流させて、複数の細い分流ジエツトを形成する
プラズマジエツト分流工程、C.複数の細い分流ジ
エツトを、その下流部で互いに分流させて、太い
合流ジエツトを形成する分流ジエツト合流工程、
D.プラズマジエツトが、プラズマジエツト発生
装置から噴射されてから、複数の細い分流ジエツ
トに変えられた後、さらに太い合流ジエツトに変
えられるに至るまでの間において、プラズマジエ
ツト及び合流ジエツトのジエツト流断面の外周縁
よりも内側で微粒子材料を流出させるともに、こ
の微粒子材料の流出軸心をプラズマジエツト及び
分流ジエツトのジエツト流軸心とほぼ平行に方向
づける微粒子材料流出工程、E.前記ジエツト流断
面の外周縁よりも内側に流出した微粒子材料を、
プラズマジエツトと合流ジエツトとのいずれか一
方に拡散させながら混合させる微粒子材料拡散混
合工程、以上の各工程A〜Eの組合せから成るも
のである。
<本発明装置の構成>
本発明の装置は、上述のプラズマジエツトへの
微粒子材料注入方法の実施に使用するために、ス
クリーン6の板状の本体12にプラズマジエツト
4を分流させるための複数個の分流ジエツト形成
用オリフイス13とこれらオリフイス13により
少なくとも部分的に取り囲まれた少なくとも1個
の粒子材料流出用ノズル14とを設け、上記オリ
フイス13及びノズル14の軸心をほぼ同方向に
向け、上記ノズル14に微粒子材料9を供給する
微粒子材料供給路5を上記スクリーン本体12の
内部に形成する。
微粒子材料注入方法の実施に使用するために、ス
クリーン6の板状の本体12にプラズマジエツト
4を分流させるための複数個の分流ジエツト形成
用オリフイス13とこれらオリフイス13により
少なくとも部分的に取り囲まれた少なくとも1個
の粒子材料流出用ノズル14とを設け、上記オリ
フイス13及びノズル14の軸心をほぼ同方向に
向け、上記ノズル14に微粒子材料9を供給する
微粒子材料供給路5を上記スクリーン本体12の
内部に形成する。
即ち、プラズマジエツト発生装置1の前側でプ
ラズマジエツト4の噴出長さの途中部に、スクリ
ーン6を横断状に設け、スクリーン6の板状の本
体12におけるプラズマジエツト4の噴射領域部
内に、複数個の分流ジエツト形成用オリフイス1
3を貫通させ、スクリーン本体12のプラズマジ
エツト噴射領域部内で、その前面と後面とのいず
れか一方に微粒子材料流出用ノズル14を少なく
とも1つにし、このノズル14のノズル軸心20
はプラズマジエツト発生装置1から噴出するプラ
ズマジエツト4のジエツト流軸5とほぼ平行に方
向づけ、ノズル14は複数個のオリフイス13に
近い位置に位置させ、ノズル14に微粒子材料を
供給する微粒子材料供給路15をスクリーン本体
12内に形成するものである。
ラズマジエツト4の噴出長さの途中部に、スクリ
ーン6を横断状に設け、スクリーン6の板状の本
体12におけるプラズマジエツト4の噴射領域部
内に、複数個の分流ジエツト形成用オリフイス1
3を貫通させ、スクリーン本体12のプラズマジ
エツト噴射領域部内で、その前面と後面とのいず
れか一方に微粒子材料流出用ノズル14を少なく
とも1つにし、このノズル14のノズル軸心20
はプラズマジエツト発生装置1から噴出するプラ
ズマジエツト4のジエツト流軸5とほぼ平行に方
向づけ、ノズル14は複数個のオリフイス13に
近い位置に位置させ、ノズル14に微粒子材料を
供給する微粒子材料供給路15をスクリーン本体
12内に形成するものである。
<本発明の効果>
この様に構成された本発明の装置によれば、上
記プラズマジエツトがスクリーン本体の分流ジエ
ツト形成用オリフイスによつてほぼ同方向に向つ
て流れる複数の分流ジエツトに分流させられると
ともに、少なくとも1つの微粒子材料の流れが少
なくとも部分的に上記分流ジエツトに取り囲まれ
る状態で上記分流ジエツトと同方向に又逆方向に
流出させられる本発明の方法の手順を実施でき、
このような手順によれば、プラズマジエツト中に
ほぼ同軸心状に微粒子材料の流れを形成でき、プ
ラズマジエツトとリージエンツとの拡散状態が最
適となり、混合流の均一化が促進される一方、プ
ラズマジエツトに全種類のリージエンツの粒子を
乗せて、反応させることができるのである。
記プラズマジエツトがスクリーン本体の分流ジエ
ツト形成用オリフイスによつてほぼ同方向に向つ
て流れる複数の分流ジエツトに分流させられると
ともに、少なくとも1つの微粒子材料の流れが少
なくとも部分的に上記分流ジエツトに取り囲まれ
る状態で上記分流ジエツトと同方向に又逆方向に
流出させられる本発明の方法の手順を実施でき、
このような手順によれば、プラズマジエツト中に
ほぼ同軸心状に微粒子材料の流れを形成でき、プ
ラズマジエツトとリージエンツとの拡散状態が最
適となり、混合流の均一化が促進される一方、プ
ラズマジエツトに全種類のリージエンツの粒子を
乗せて、反応させることができるのである。
混合流の拡散及び均一化を一層改善するため
に、微粒子材料の流れも複数に分流して少なくと
も部分的にプラズマジエツトの分流ジエツトを形
成するためのいくつかのオリフイスで取り囲まれ
る複数個の微粒子材料流出用ノズルに送ることが
有利である。
に、微粒子材料の流れも複数に分流して少なくと
も部分的にプラズマジエツトの分流ジエツトを形
成するためのいくつかのオリフイスで取り囲まれ
る複数個の微粒子材料流出用ノズルに送ることが
有利である。
この様な微粒子材料の分流はそのスクリーンを
プラズマジエツトが通過する段階又はそれよりも
上流で行なわれる。
プラズマジエツトが通過する段階又はそれよりも
上流で行なわれる。
更に、1つのプラズマジエツトに複数のリージ
エンツを注入できる様にするためには、各種の微
粒子材料を受け入れる複数のノズルを設け、各ノ
ズルを少なくとも部分的にプラズマジエツトの分
流ジエツトを形成するためのいくつかのオリフイ
スで取り囲ませる。
エンツを注入できる様にするためには、各種の微
粒子材料を受け入れる複数のノズルを設け、各ノ
ズルを少なくとも部分的にプラズマジエツトの分
流ジエツトを形成するためのいくつかのオリフイ
スで取り囲ませる。
微粒子材料の流れがプラズマジエツトの分流ジ
エツトと同方向に注入されるか、それに逆流する
方向に注入されるかは行なわれる反応処理によ
る。
エツトと同方向に注入されるか、それに逆流する
方向に注入されるかは行なわれる反応処理によ
る。
上記各微粒子材料供給路は、微粒子材料供給装
置と接続するために、好ましくは本体又はスクリ
ーンの周面に個別的に又は共通に開口させられ
る。
置と接続するために、好ましくは本体又はスクリ
ーンの周面に個別的に又は共通に開口させられ
る。
上記本体又はスクリーンは複数の板を組み立て
ることにより形成できる。接合面間での熱伝達が
低くなることを避けるためには上記本体又はスク
リーンを1枚の厚板で構成することが好ましい。
ることにより形成できる。接合面間での熱伝達が
低くなることを避けるためには上記本体又はスク
リーンを1枚の厚板で構成することが好ましい。
本発明の装置のスクリーンは、例えばセラミツ
クスなどの耐火材で形成すればよい。プラズマジ
エツトの温度が約2000℃をこえない場合には特に
そうである。この場合、冷却装置を設ける必要は
なく、本体又はスクリーンの全体にわたつてオリ
フイスやノズルを自由に配置できることになる。
他方、プラズマジエツトの温度が3000℃台又はそ
れを上回る場合には、銅などで造られた冷却スク
リーンを用いなければならない。その場合、冷却
液を循環させるために本体又はスクリーン内部に
冷却液用通路を設ける必要がある。これによりそ
のオリフイスやノズルの配置に関して制限が与え
られることになる。しかし、この制限は微粒子材
料供給用の微粒子材料供給路と冷却液用通路とを
異なる平面の上に配置されることにより緩和され
る。
クスなどの耐火材で形成すればよい。プラズマジ
エツトの温度が約2000℃をこえない場合には特に
そうである。この場合、冷却装置を設ける必要は
なく、本体又はスクリーンの全体にわたつてオリ
フイスやノズルを自由に配置できることになる。
他方、プラズマジエツトの温度が3000℃台又はそ
れを上回る場合には、銅などで造られた冷却スク
リーンを用いなければならない。その場合、冷却
液を循環させるために本体又はスクリーン内部に
冷却液用通路を設ける必要がある。これによりそ
のオリフイスやノズルの配置に関して制限が与え
られることになる。しかし、この制限は微粒子材
料供給用の微粒子材料供給路と冷却液用通路とを
異なる平面の上に配置されることにより緩和され
る。
プラズマジエツト分流ジエツトを形成するため
のオリフイスの径は同じでも異なつていてもよ
い。上記スクリーンを挿入することによりプラズ
マジエツトの温度又は圧力がその上流側と下流側
とで同じになつても、異なつてもよく、後者の場
合にはスクリーンの下流側のプラズマジエツトが
上流側に比べれば異ならせられる様に構成しても
よい。
のオリフイスの径は同じでも異なつていてもよ
い。上記スクリーンを挿入することによりプラズ
マジエツトの温度又は圧力がその上流側と下流側
とで同じになつても、異なつてもよく、後者の場
合にはスクリーンの下流側のプラズマジエツトが
上流側に比べれば異ならせられる様に構成しても
よい。
プラズマジエツトの分流ジエツトを形成するた
めのオリフイスは、例えば、円筒形、円錐形、コ
ンバージエント・ダイバージエント結合形など、
どの様な形にしてもよい。プラズマジエツトの分
流を促進するものであればその他の形であつても
よい。それらのオリフイスの軸心はプラズマジエ
ツトの中心軸に平行であつても、例えば分流ジエ
ツトがその中心軸に向かつて収束させられたり、
それを中心に旋回流を形成するように傾斜させら
れていたりしてもよい。
めのオリフイスは、例えば、円筒形、円錐形、コ
ンバージエント・ダイバージエント結合形など、
どの様な形にしてもよい。プラズマジエツトの分
流を促進するものであればその他の形であつても
よい。それらのオリフイスの軸心はプラズマジエ
ツトの中心軸に平行であつても、例えば分流ジエ
ツトがその中心軸に向かつて収束させられたり、
それを中心に旋回流を形成するように傾斜させら
れていたりしてもよい。
同様に、リージエンツを注入するためのノズル
はプラズマジエツトの中へのリージエンツの混入
を促進する様な形でありさえすれば、円筒形で
も、円錐形でもよい。リージエンツの拡散度を改
善するために霧化具を設けることもできる。
はプラズマジエツトの中へのリージエンツの混入
を促進する様な形でありさえすれば、円筒形で
も、円錐形でもよい。リージエンツの拡散度を改
善するために霧化具を設けることもできる。
<実施例>
以下、本発明の実施例を図面に基づき説明す
る。
る。
第1図及び第2図はそれぞれ概略的に示された
本発明に係るプラズマジエツトへの微粒子材料注
入装置は、プラズマジエツト4を軸心5に沿つて
出力するプラズマジエツト発生装置1と微粒子材
料共給装置10とを備える。プラズマジエツト4
の進路上に、該プラズマジエツト4を少なくとも
実質上平行な分流ジエツト7に分流し、かつ、微
粒子材料供給装置10により送り出された微粒子
材料9をこれらの分流ジエツト7に少なくとも実
質上平行な1つ又は複数の流れ8にして流出させ
るために注入装置(スクリーン)6が装入され
る。これにより、該注入装置6の下流側では、プ
ラズマジエツト4と微粒子材料9との相互作用及
び/又は反応が結合して行なわれる結果、均一な
合流ジエツト11を得ることができる。
本発明に係るプラズマジエツトへの微粒子材料注
入装置は、プラズマジエツト4を軸心5に沿つて
出力するプラズマジエツト発生装置1と微粒子材
料共給装置10とを備える。プラズマジエツト4
の進路上に、該プラズマジエツト4を少なくとも
実質上平行な分流ジエツト7に分流し、かつ、微
粒子材料供給装置10により送り出された微粒子
材料9をこれらの分流ジエツト7に少なくとも実
質上平行な1つ又は複数の流れ8にして流出させ
るために注入装置(スクリーン)6が装入され
る。これにより、該注入装置6の下流側では、プ
ラズマジエツト4と微粒子材料9との相互作用及
び/又は反応が結合して行なわれる結果、均一な
合流ジエツト11を得ることができる。
第1図の装置では、微粒子材料9流れ8はプラ
ズマジエツトの分流ジエツト7と同じ方向で、結
果的に生じる均一な分流ジエツト11に向けられ
ている。他方、第2図の装置では、微粒子材料9
の流れ8はプラズマジエツトの分流ジエツト7と
は逆にプラズマジエツト4に向けられている。こ
の場合、流れ8から出て来た微粒子材料9は注入
装置6を通つててプラズマジエツトの分流ジエツ
ト7によつて下流に運ばれる。
ズマジエツトの分流ジエツト7と同じ方向で、結
果的に生じる均一な分流ジエツト11に向けられ
ている。他方、第2図の装置では、微粒子材料9
の流れ8はプラズマジエツトの分流ジエツト7と
は逆にプラズマジエツト4に向けられている。こ
の場合、流れ8から出て来た微粒子材料9は注入
装置6を通つててプラズマジエツトの分流ジエツ
ト7によつて下流に運ばれる。
第3図ないし第6図に示された上記注入装置6
の一実施例は、板状の本体12を備える。この本
体12の中心の周りには貫通孔よりなる複数個の
分流ジエツト形成用オリフイス13が設けられ
る。ここでは各オリフイス13はコンバージエツ
ト・ダイバージエツト結合形であり、互いに直交
する直線を有する十文字形に配列されている。こ
れらのオリフイス13によつてプラズマジエツト
から複数の分流ジエツト7が作られるのである。
の一実施例は、板状の本体12を備える。この本
体12の中心の周りには貫通孔よりなる複数個の
分流ジエツト形成用オリフイス13が設けられ
る。ここでは各オリフイス13はコンバージエツ
ト・ダイバージエツト結合形であり、互いに直交
する直線を有する十文字形に配列されている。こ
れらのオリフイス13によつてプラズマジエツト
から複数の分流ジエツト7が作られるのである。
更に、この注入装置6は、オリフイス13の間
に盲穴よりなる微粒子材料流出用ノズル14を備
え、該ノズル14を本体12内に形成した微粒子
材料供給路15を介して1個又はそれより多数個
の微粒子材料供給装置10に接続される。16は
接続具である。上記ノズル14の内部には霧化器
17が配置され、この霧化器17から微粒子材料
9が噴霧されるようになつている。その結果、微
粒子材料9は中立又は反応に加わる噴霧ガスによ
つて運ばれる。
に盲穴よりなる微粒子材料流出用ノズル14を備
え、該ノズル14を本体12内に形成した微粒子
材料供給路15を介して1個又はそれより多数個
の微粒子材料供給装置10に接続される。16は
接続具である。上記ノズル14の内部には霧化器
17が配置され、この霧化器17から微粒子材料
9が噴霧されるようになつている。その結果、微
粒子材料9は中立又は反応に加わる噴霧ガスによ
つて運ばれる。
最後に、冷却液を循環させるために本体12内
に冷却液用通路18が設けられ、その冷却液の供
給と排出のためにマニフオルド19及び20が設
けられる。
に冷却液用通路18が設けられ、その冷却液の供
給と排出のためにマニフオルド19及び20が設
けられる。
図示の例では、4個の霧化器17がオリフイス
13が並らぶ十文字形の二等分線上にその中心か
ら等しい距離の箇所に配置されている。
13が並らぶ十文字形の二等分線上にその中心か
ら等しい距離の箇所に配置されている。
第3図ないし第6図に示した実施例は、もちろ
ん限定なものではなく、プラズマジエツト4の温
度が3500℃台でその圧力が5バール、粒径が数ミ
クロンから500ミクロンの範囲の混合粉流体専用
のものである。この場合、本体12は銅製であ
り、冷却液には高速で冷却液用通路18を循環す
る水が用いられる。
ん限定なものではなく、プラズマジエツト4の温
度が3500℃台でその圧力が5バール、粒径が数ミ
クロンから500ミクロンの範囲の混合粉流体専用
のものである。この場合、本体12は銅製であ
り、冷却液には高速で冷却液用通路18を循環す
る水が用いられる。
微粒子材料9を供給するための微粒子材料供給
路15は本体12の周囲に個別的に(接続具16
を介して)開口させられているので、接続具16
を異なる微粒子材料の供給源に接続することがで
き、その結果、ノズル14がプラズマジエツトの
中に異なる微粒子材料9を噴出することになり、
数種の微粒子材料9を注入することが容易となる
ことは特記すべきである。
路15は本体12の周囲に個別的に(接続具16
を介して)開口させられているので、接続具16
を異なる微粒子材料の供給源に接続することがで
き、その結果、ノズル14がプラズマジエツトの
中に異なる微粒子材料9を噴出することになり、
数種の微粒子材料9を注入することが容易となる
ことは特記すべきである。
第1図、第2図はそれぞれ本発明に係るプラズ
マジエツトへの微粒子材料注入方法及びこれに使
用する装置の各実施例の概略構成図、第3図は本
発明に係る注入装置の一実施例の正面図、第4
図、第5図及び第6図はそれぞれ第3図の―
線、―線及び―線に沿う断面図である。 4……プラズマジエツト、6……スクリーン、
10……微粒子材料供給装置、12……本体、1
3……分流ジエツト形成用オリフイス、14……
微粒子材料流出用ノズル、15……微粒子材料供
給路、18……冷却液用通路。
マジエツトへの微粒子材料注入方法及びこれに使
用する装置の各実施例の概略構成図、第3図は本
発明に係る注入装置の一実施例の正面図、第4
図、第5図及び第6図はそれぞれ第3図の―
線、―線及び―線に沿う断面図である。 4……プラズマジエツト、6……スクリーン、
10……微粒子材料供給装置、12……本体、1
3……分流ジエツト形成用オリフイス、14……
微粒子材料流出用ノズル、15……微粒子材料供
給路、18……冷却液用通路。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 A プラズマジエツト発生装置からプラズマ
ジエツトを噴出させるプラズマジエツト噴出工
程、 B プラズマジエツト発生装置から噴出したプラ
ズマジエツトを、その噴出方向の途中部で分流
させて、複数の細い分流ジエツトを形成するプ
ラズマジエツト分流工程、 C 複数の細い分流ジエツトを、その下流部で互
いに分流させて、太い合流ジエツトを形成する
分流ジエツト合流工程、 D プラズマジエツトが、プラズマジエツト発生
装置から噴射されてから、複数の細い分流ジエ
ツトに変えられた後、さらに太い合流ジエツト
に変えられるに至るまでの間において、プラズ
マジエツト及び合流ジエツトのジエツト流断面
の外周縁よりも内側で微粒子材料を流出させる
とともに、この微粒子材料の流出軸心をプラズ
マジエツト及び合流ジエツトのジエツト流軸心
とほぼ平行に方向づける微粒子材料流出工程、 E 前記ジエツト流断面の外周縁よりも内側に流
出した微粒子材料を、プラズマジエツトと合流
ジエツトとのいずれか一方に拡散させながら混
合させる微粒子材料拡散混合工程、 以上の各工程A〜Eの組合せから成るプラズマ
ジエツトへの微粒子材料注入方法。 2 上記微粒子材料をも複数に分流させる特許請
求の範囲第1項のプラズマジエツトへの微粒子材
料注入方法。 3 複数に分流された微粒子材料がそれぞれ異な
る微粒子材料からなる特許請求の範囲第1項のプ
ラズマジエツトへの微粒子材料注入方法。 4 微粒子材料をプラズマジエツトに拡散させな
がら混合させる特許請求の範囲第1項のプラズマ
ジエツトへの微粒子材料注入方法。 5 微粒子材料を合流ジエツトに拡散させながら
混合させる特許請求の範囲第1項のプラズマジエ
ツトへの微粒子材料注入方法。 6 プラズマジエツト発生装置1の前側で、プラ
ズマジエツト4の噴出長さの途中部に、スクリー
ン6を横断状に設け、 スクリーン6の板状の本体12におけるプラズ
マジエツト4の噴射領域部内に、複数個の分流ジ
エツト形成用オリフイス13を貫通させ、 スクリーン本体12のプラズマジエツト噴射領
域部内で、その前面と後面とのいずれか一方に微
粒子材料流出用ノズル14を少なくとも1つ開口
し、このノズル14のノズル軸心はプラズマジエ
ツト発生装置1から噴出するプラズマジエツト4
のジエツト流軸5とほぼ平行に方向づけ、 ノズル14は複数個のオリフイス13に近い位
置に位置させ、 ノズル14に微粒子材料を供給する微粒子材料
供給路15をスクリーン本体12内に形成した事
を特徴とする、 特許請求の範囲第1項のプラズマジエツトへの
微粒子材料注入方法の実施に使用するプラズマジ
エツトへの微粒子材料注入装置。 7 上記スクリーン本体12の周面に各微粒子材
料供給路15を個別的に又は共通に開口させた特
許請求の範囲第6項のプラズマジエツトへの微粒
子材料注入装置。 8 上記微粒子材料流出用ノズル14をスクリー
ン本体12の前面に開口した特許請求の範囲第6
項のプラズマジエツトへの微粒子材料注入装置。 9 上記微粒子材料流出用ノズル14をスクリー
ン本体12の後面に開口した特許請求の範囲第6
項のプラズマジエツトへの微粒子材料注入装置。 10 上記スクリーン本体12の内部に冷却液用
通路18を設けた特許請求の範囲第6項のプラズ
マジエツトへの微粒子材料注入装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8313039A FR2550467B1 (fr) | 1983-08-08 | 1983-08-08 | Procede et dispositif pour l'injection d'une matiere finement divisee dans un ecoulement chaud gazeux et appareil mettant en oeuvre ce procede |
| FR8313039 | 1983-08-08 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6044038A JPS6044038A (ja) | 1985-03-08 |
| JPH0148817B2 true JPH0148817B2 (ja) | 1989-10-20 |
Family
ID=9291482
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59152745A Granted JPS6044038A (ja) | 1983-08-08 | 1984-07-23 | プラズマジェットへの微粒子材料注入方法及びこれに使用する装置 |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4616779A (ja) |
| EP (1) | EP0134168B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6044038A (ja) |
| AT (1) | ATE37466T1 (ja) |
| AU (1) | AU566554B2 (ja) |
| BR (1) | BR8403962A (ja) |
| CA (1) | CA1237873A (ja) |
| DE (1) | DE3474246D1 (ja) |
| FR (1) | FR2550467B1 (ja) |
| ZA (1) | ZA845505B (ja) |
Families Citing this family (34)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| FR2614751B1 (fr) * | 1987-04-29 | 1991-10-04 | Aerospatiale | Procede et dispositif pour l'injection d'une matiere sous forme fluide dans un ecoulement gazeux chaud et appareil mettant en oeuvre ce procede |
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| DE3915071A1 (de) * | 1989-05-09 | 1990-11-15 | Basf Ag | Verfahren zur verbesserung der fliesswiderstandsvermindernden eigenschaften hochmolekularer polymerloesungen in rohoel oder raffinerieprodukten |
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| US5520334A (en) * | 1993-01-21 | 1996-05-28 | White; Randall R. | Air and fuel mixing chamber for a tuneable high velocity thermal spray gun |
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| US5919509A (en) * | 1997-05-01 | 1999-07-06 | General Mills, Inc. | Method and apparatus for producing multiple food extrudates |
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| BR112014003781A2 (pt) | 2011-08-19 | 2017-03-21 | Sdcmaterials Inc | substratos revestidos para uso em catalisadores e conversores catalíticos e métodos para revestir substratos com composições de revestimento por imersão |
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