JPH0149690B2 - - Google Patents
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Description
本発明はプロペニルアミンを含有する医薬組成
物に関する。 本発明は、 式: [式中、 a R1は式: または (式中、R5は水素または原子番号9〜53の
ハロゲンを表わす。)で示される基、R2は水
素、R3はアルキル(C1-6)、 R4は式: (式中、mは1〜3の整数を表わす。)で示
される基、または 式: (式中、R6は低級アルキルまたはアルキニ
ル(C3-12)、R7およびR8はそれぞれ水素また
低級アルキルでqは0または1を表わす。)で
示される基あるいは b R1は前記と同意義の式[a]または[
b]で示される基、R2およびR3は合して−
(CH2)u−,R4は式b(式中、R6はフエニ
ル、R7およびR8は前記と同意義、qは0,u
は3〜5の整数を表わす。)表わす。] で示される化合物と化学療法的に許容される希釈
剤または担体とからなる抗真菌活性を有する医薬
組成物を提供するものである。 低級アルキルは炭素数1〜4、特に炭素数2ま
たは1が好ましい。アルキニル基は炭素数3〜
6、特に炭素数3〜4が好ましい。多重結合は
α,β位以外が好ましく、遠隔末端位がよい。ア
ルキニル基の例としてはプロピニル基が挙げられ
る。式[b]で、R2が結合している炭素原子
への結合はSに対してメタにそれぞれ結合してい
るのがよい。R2は水素が好ましくR3はアルキル
がよい。[a]はシクロヘキサ−1−エン−1
−イル基が好ましい。[b]における二重結合
は何れもトランスがよい。R6はフエニルまたは
アルキルがよい。R6は[a]がよく、uは4
がよい。 R4と窒素原子間の二重結合は、トランス配列
がよい。 ハロゲンはフツ素がよく、あるいは臭素または
塩素が好ましい。 本発明で用いる化合物は、 a 式: [式中、R1〜R3は前記と同意義。] で示される化合物を、 式: A−CH2−CH=CH−R4 [] [式中、Aは脱離基で、R4は前記と同意
義。] で示される化合物と反応させるか、 b 式: で示される化合物を還元して、 式: [式中、R1およびR2は前記と同意義でR3お
よおよびRI 4は前記R4およびR6とそれぞれ同意
義、ただし、これらは各々アルキニル以外であ
る。]で示される化合物を生成せしめるか、ま
たは c 式: で示される化合物を、光化学的に異性化して、 式: [式中、R1〜R6は前記と同意義。] で示される化合物を生成せしめるか、または d 式: で示される化合物にR〓3基を導入して、 式: [式中、R1およびR4は前記と同意義、R〓2は
水素または低級アルキル、R〓3はアルキル
(C1-6)を表わす。] で示される化合物を生成せしめることを特徴とす
る化合物[]の製法によつて得られるものであ
る。 方法a)は類似の出発物質からの縮合による第
三級アミンの製造の常套の方法で行つてよい。こ
の反応は低級アルカノールたとえばエタノール、
必要に応じて水と混合し、芳香族炭化水素たとえ
ばベンゼンまたはトルエン、環状エーテルたとえ
ばジオキサンまたはカルボン酸ジアルキルアミド
溶煤たとえばジメチルホルムアミドのような不活
性溶煤中で行つてよい。反応温度は室温から反応
混合物の沸騰温度がよく、室温が好ましい。反応
は炭酸アルカリ金属たとえば炭酸ナトリウムのよ
うな酸結合剤の存在下に行うのがよい。脱離基A
はヨウ素がよく、あるいは塩素または臭素、また
は好ましくは炭素数1〜10の有機スルフオニルオ
キシ基たとえばアルキルスルフオニルオキシ、メ
シルオキシのような炭素数1〜4を有するものが
好ましく、あるいはトシルオキシのような好まし
くは炭素数7〜10のアルキルフエニルスルフオニ
ルオキシが好ましい。 方法b)は、R〓4に隣接する二重結合がシス配
置である化合物[a]を製造するために、接触
水素添加の常套の方法で行つてよい。あるいは、
この方法は二重結合がトランス配置である化合物
[a]を製造するために錯水素化金属還元の常
套の方法で行つてもよい。 接触水素添加は、たとえばメタノール、エタノ
ール、メチレングロライド、ピリジンまた酢酸エ
チルのような溶煤中で行つてよい。触煤は硫酸バ
リウムまたは炭酸カルシウムのような担体物質上
のパラジウムが好ましい。触煤は部分的に不活性
にすめために鉛塩で前処理してよい(たとえばリ
ンジラー触媒)。水素添加は室温および常圧で行
つてよい。 水素化金属還元は水素化アルミニウムリチウム
または水素化ジイソブチルアルミニウム還元の常
套の方法で行つてよい。還元はトルエンまたはベ
ンゼンのような不活性溶媒中で行うのがよい。反
応は室温で行うのがよい。 方法c)はシスアルケンの光化学異性化の常套
の方法で行つてよい。反応はベンゼン、石油エー
テル、エタノールまたは好ましくはシクロヘキサ
ンのような溶媒中で行つてよい。溶液を水銀高圧
または低圧ランプからの光線で照射するのがよ
い。反応は室温で行うのがよい。所望により、適
当なエオシンのような増感剤またはジフエニルジ
サルフアイドのような触媒を存在させてもよい。 方法d)は、第二級アミンの「アルキル化」
(ここに用いた「アルキル化」なる語は、ヒドロ
カルビル基R〓3の何れかの導入を意味する。)の常
套の方法、たとえばハロゲン化物または硫酸塩の
ような「アルキル化」剤で直接「アルキル化」に
より、または還元的アルキル化、特に適当なアル
デヒドと反応させ、続いてまたは同時に還元する
ことにより行つてもよい。還元的「アルキル化」
は低級アルカノールたとえばメタノールのような
不活性有機溶煤中で、高温特に反応煤質の沸騰温
度で行うのが適当である。続く還元は、たとえば
水素化ホウ素ナトリウムまたは水素化アルミニウ
ムリチウムのような錯水素化金属還元剤で行つて
よい。還元はまた、たとえば還元剤および反応媒
質としての両方の役割をしてもよいギ酸を用い
て、アルキル化と同時に行つてよい。 上記反応の何れかで、たとえば方法d)または
還元的アルキル化を用いた場合に方法d)でハロ
ゲンの水素への還元、または方法c)を用いた場
合、R4およびR6に存在する何れかの二重結合の
同時シス/トランス異性化のような副反応が起こ
るかもしれないことを認めなければならない。反
応条件をこのような副反応を避けるように選び、
所望の最終生成物を常套の精製技術、たとえば薄
層クロマトグラフイーを用いて単離しなければな
らない。 化合物[]の遊離塩基の形は、塩の形に変換
してよく、その逆もできる。酸付加塩生成に適当
な酸は、塩酸、フマル酸およびナフタレン−1,
5−ジスルフオン酸を包含する。 出発物質は既知か、常套の方法で製造してよ
い。たとえば、非環式アミン[]は、 式: で示される化合物または対応するヨウ素化物また
は塩化物、式:R〓3NH2で示される化合物と縮合
して製造してよい。 環式アミン[]は次のように製造してよい。 [式中、アルクは低級アルキルを表わす。]。 化合物[]は新規であつて、適当なアミン
[]を、式:H−CHOおよびHC≡CR〓4で示さ
れる化合物と、マンニツヒ反応条件で反応させて
製造してよい。 化合物[]はまた新規であつて、次のように
製造してよい: 次の例で、すべての温度は未補正である。以下
の表には次の表示を用いる。 1 すべての二重結合はトランス配置を有し、特
記しなければすべてのアルキル基は分枝してい
ない。 2 融点の記載がなければ、化合物の遊離塩基形
が得られ、これは油である。融点は特記しなけ
れば遊離塩基形に対するものである。 3 一塩酸塩形。 4 二塩酸塩形。 例1 (参考例) 4−[N−メチル−N−(1−ナフチルメチル)]
アミノクロトン酸エチルエステルの製造(方法
a)):− ブロモクロトン酸エチルエステル1.9gを、N
−メチル−N(1−ナフチルメチル)アミン1.7
g、炭酸カリウム1.4gおよびジメチルホルムア
ミド10mlの混合物に滴加する。混合物を室温で18
時間撹拌した後、濾過し、減圧で蒸発させる。残
渣をベンゼン/酢酸エチル(1:1)を溶媒とし
て用い、シルカゲル上でクロマトグラフイーし、
適当な画分を蒸発させた後、標記化合物を油とし
て遊離塩基形で得る。 標記化合物は実施例3,4および5と類似の方
法で製造してよい。 例2 (実施例) N−(3−シクロヘキサ−1−エン−1−イル
−2−シス−プロペニル)−N−メチル−N−
(1−ナフチルメチル)アミンの製造(方法
b)):− N−(3−シクロヘキサ−1−エン−1−イル
−プロピニル)−N−メチル−N−(1−ナフチル
メチル)アミン5gをPd/BaSO4750mgを触媒と
して用いて、室温および常圧で、計算量の水素が
吸収されるまで無水ピリジン中で水素添加する。
反応混合物を濾過し、ピリジンを減圧で除去す
る。残渣をベンゼン/酢酸エチル(9:1)を用
いてシリカゲル上でクロマトグラフイーし、適当
な画分を蒸発させた後、標記化合物を油として遊
離塩基形で得、融点(塩酸塩)184〜188℃。 標記化合物はまた実施例1および5と類似の方
法で製造してよい。 例3 (参考例) N−(3−シクロヘキシル−2−トランス−プ
ロペニル)−N−メチル−N−(1−ナフチルメ
チル)アミンの製造(方法b)):− 水素化ジイソブチルアルミニウムのトルエン中
1.2モル溶液28mlを無水ベンゼン中のN−(3−シ
クロヘキシル−プロピニル)−N−メチル−N−
(1−ナフチルメチル)アミン5gに加える。混
合物を40℃で3時間撹拌後、水を注意して加え
る。有機層を分離し、乾燥し蒸発させて標記化合
物を油として遊離塩基形で得る。 標記化合物はまた実施例1,4および5により
製造してよい。 例 4(実施例) N−(3−シクロヘキサ−1−エン−1−イル
−2−トランス−プロペニル)−N−メチル−
N−(1−ナフチルメチル)アミンの製造(方
法c)):− N−(3−シクロヘキサ−1−エン−1−イル
−2−シス−プロペニル)−N−メチル−N−(1
−ナフチルメチル)アミン1.2gを水銀高圧ラン
プ(γ>300nm)で、不活性ガス雰囲気下、室温
でジフエニルジサルフアイド50mgの存在下シクロ
ヘキサン1中で3時間照射する。溶媒を蒸発さ
せた後、標記化合物を遊離塩基の形で得、塩酸塩
に変換し、融点184〜188℃。 標記化合物はまた実施例1,3および5によつ
て製造してよい。 例 5(実施例) N−メチル−N−[3−(5′−メチル−2′−チエ
ニル)−2−トランス−プロペニル)−N−(1
−ナフチルメチル)アミンの製造(方法d)):
− a ベンゼン350ml中の3−(5′−メチル−2′−チ
エニル)プロパン−2−エナール15.2gおよび
1−アミノメチルナフタレン15.7gを、計算量
の水が沸騰し去るまで還流下煮沸する。メタノ
ール100ml中の得られたシツフ塩基3.6gを水素
化ホウ素ナトリウム5gと、30分間還流下煮沸
し、N−[3−(5′−メチル−2′−チエニル)−
2−トランス−プロペニル)]−N−(1−ナフ
チルメチル)アミンを得、これを次の段階に直
接用いる。[この中間体を単離するために、反
応混合物を減圧で蒸発させ、残渣を炭酸ナトリ
ウム水溶液とジエチルエーテル間に分配し、有
機相を蒸発させる。]。 b a段階で得られた粗反応混合物を37%ホルム
アルデヒド水溶液20mlで処理する。混合物を60
分間還流下に煮沸し、氷冷却に付し、水素化ホ
ウ素ナトリウム9gで処理し、室温で更に60分
間撹拌する。混合物を減圧で蒸発させて残渣を
得、これを炭酸水素ナトリウム水溶液とジエチ
ルエーテル間に分配する。有機相を乾燥し、蒸
発させて標記化合物を油として遊離塩基の形で
得、融点(塩酸塩)140〜156℃。 標記化合物はまた例1,3および4と類似の方
法で製造してよい。 例1,2,4および5に記載したのと類似の方
法で、次のトランス化合物[e]を製造してよ
い。 R1−CH2−N(CH3)−CH2−CH=CHR4
[e] 式中、R1およびR4は次のとおりである。なお、
化合物12,17,19,20,28,32,33,34は実施例
であり、その他は参考例である。
物に関する。 本発明は、 式: [式中、 a R1は式: または (式中、R5は水素または原子番号9〜53の
ハロゲンを表わす。)で示される基、R2は水
素、R3はアルキル(C1-6)、 R4は式: (式中、mは1〜3の整数を表わす。)で示
される基、または 式: (式中、R6は低級アルキルまたはアルキニ
ル(C3-12)、R7およびR8はそれぞれ水素また
低級アルキルでqは0または1を表わす。)で
示される基あるいは b R1は前記と同意義の式[a]または[
b]で示される基、R2およびR3は合して−
(CH2)u−,R4は式b(式中、R6はフエニ
ル、R7およびR8は前記と同意義、qは0,u
は3〜5の整数を表わす。)表わす。] で示される化合物と化学療法的に許容される希釈
剤または担体とからなる抗真菌活性を有する医薬
組成物を提供するものである。 低級アルキルは炭素数1〜4、特に炭素数2ま
たは1が好ましい。アルキニル基は炭素数3〜
6、特に炭素数3〜4が好ましい。多重結合は
α,β位以外が好ましく、遠隔末端位がよい。ア
ルキニル基の例としてはプロピニル基が挙げられ
る。式[b]で、R2が結合している炭素原子
への結合はSに対してメタにそれぞれ結合してい
るのがよい。R2は水素が好ましくR3はアルキル
がよい。[a]はシクロヘキサ−1−エン−1
−イル基が好ましい。[b]における二重結合
は何れもトランスがよい。R6はフエニルまたは
アルキルがよい。R6は[a]がよく、uは4
がよい。 R4と窒素原子間の二重結合は、トランス配列
がよい。 ハロゲンはフツ素がよく、あるいは臭素または
塩素が好ましい。 本発明で用いる化合物は、 a 式: [式中、R1〜R3は前記と同意義。] で示される化合物を、 式: A−CH2−CH=CH−R4 [] [式中、Aは脱離基で、R4は前記と同意
義。] で示される化合物と反応させるか、 b 式: で示される化合物を還元して、 式: [式中、R1およびR2は前記と同意義でR3お
よおよびRI 4は前記R4およびR6とそれぞれ同意
義、ただし、これらは各々アルキニル以外であ
る。]で示される化合物を生成せしめるか、ま
たは c 式: で示される化合物を、光化学的に異性化して、 式: [式中、R1〜R6は前記と同意義。] で示される化合物を生成せしめるか、または d 式: で示される化合物にR〓3基を導入して、 式: [式中、R1およびR4は前記と同意義、R〓2は
水素または低級アルキル、R〓3はアルキル
(C1-6)を表わす。] で示される化合物を生成せしめることを特徴とす
る化合物[]の製法によつて得られるものであ
る。 方法a)は類似の出発物質からの縮合による第
三級アミンの製造の常套の方法で行つてよい。こ
の反応は低級アルカノールたとえばエタノール、
必要に応じて水と混合し、芳香族炭化水素たとえ
ばベンゼンまたはトルエン、環状エーテルたとえ
ばジオキサンまたはカルボン酸ジアルキルアミド
溶煤たとえばジメチルホルムアミドのような不活
性溶煤中で行つてよい。反応温度は室温から反応
混合物の沸騰温度がよく、室温が好ましい。反応
は炭酸アルカリ金属たとえば炭酸ナトリウムのよ
うな酸結合剤の存在下に行うのがよい。脱離基A
はヨウ素がよく、あるいは塩素または臭素、また
は好ましくは炭素数1〜10の有機スルフオニルオ
キシ基たとえばアルキルスルフオニルオキシ、メ
シルオキシのような炭素数1〜4を有するものが
好ましく、あるいはトシルオキシのような好まし
くは炭素数7〜10のアルキルフエニルスルフオニ
ルオキシが好ましい。 方法b)は、R〓4に隣接する二重結合がシス配
置である化合物[a]を製造するために、接触
水素添加の常套の方法で行つてよい。あるいは、
この方法は二重結合がトランス配置である化合物
[a]を製造するために錯水素化金属還元の常
套の方法で行つてもよい。 接触水素添加は、たとえばメタノール、エタノ
ール、メチレングロライド、ピリジンまた酢酸エ
チルのような溶煤中で行つてよい。触煤は硫酸バ
リウムまたは炭酸カルシウムのような担体物質上
のパラジウムが好ましい。触煤は部分的に不活性
にすめために鉛塩で前処理してよい(たとえばリ
ンジラー触媒)。水素添加は室温および常圧で行
つてよい。 水素化金属還元は水素化アルミニウムリチウム
または水素化ジイソブチルアルミニウム還元の常
套の方法で行つてよい。還元はトルエンまたはベ
ンゼンのような不活性溶媒中で行うのがよい。反
応は室温で行うのがよい。 方法c)はシスアルケンの光化学異性化の常套
の方法で行つてよい。反応はベンゼン、石油エー
テル、エタノールまたは好ましくはシクロヘキサ
ンのような溶媒中で行つてよい。溶液を水銀高圧
または低圧ランプからの光線で照射するのがよ
い。反応は室温で行うのがよい。所望により、適
当なエオシンのような増感剤またはジフエニルジ
サルフアイドのような触媒を存在させてもよい。 方法d)は、第二級アミンの「アルキル化」
(ここに用いた「アルキル化」なる語は、ヒドロ
カルビル基R〓3の何れかの導入を意味する。)の常
套の方法、たとえばハロゲン化物または硫酸塩の
ような「アルキル化」剤で直接「アルキル化」に
より、または還元的アルキル化、特に適当なアル
デヒドと反応させ、続いてまたは同時に還元する
ことにより行つてもよい。還元的「アルキル化」
は低級アルカノールたとえばメタノールのような
不活性有機溶煤中で、高温特に反応煤質の沸騰温
度で行うのが適当である。続く還元は、たとえば
水素化ホウ素ナトリウムまたは水素化アルミニウ
ムリチウムのような錯水素化金属還元剤で行つて
よい。還元はまた、たとえば還元剤および反応媒
質としての両方の役割をしてもよいギ酸を用い
て、アルキル化と同時に行つてよい。 上記反応の何れかで、たとえば方法d)または
還元的アルキル化を用いた場合に方法d)でハロ
ゲンの水素への還元、または方法c)を用いた場
合、R4およびR6に存在する何れかの二重結合の
同時シス/トランス異性化のような副反応が起こ
るかもしれないことを認めなければならない。反
応条件をこのような副反応を避けるように選び、
所望の最終生成物を常套の精製技術、たとえば薄
層クロマトグラフイーを用いて単離しなければな
らない。 化合物[]の遊離塩基の形は、塩の形に変換
してよく、その逆もできる。酸付加塩生成に適当
な酸は、塩酸、フマル酸およびナフタレン−1,
5−ジスルフオン酸を包含する。 出発物質は既知か、常套の方法で製造してよ
い。たとえば、非環式アミン[]は、 式: で示される化合物または対応するヨウ素化物また
は塩化物、式:R〓3NH2で示される化合物と縮合
して製造してよい。 環式アミン[]は次のように製造してよい。 [式中、アルクは低級アルキルを表わす。]。 化合物[]は新規であつて、適当なアミン
[]を、式:H−CHOおよびHC≡CR〓4で示さ
れる化合物と、マンニツヒ反応条件で反応させて
製造してよい。 化合物[]はまた新規であつて、次のように
製造してよい: 次の例で、すべての温度は未補正である。以下
の表には次の表示を用いる。 1 すべての二重結合はトランス配置を有し、特
記しなければすべてのアルキル基は分枝してい
ない。 2 融点の記載がなければ、化合物の遊離塩基形
が得られ、これは油である。融点は特記しなけ
れば遊離塩基形に対するものである。 3 一塩酸塩形。 4 二塩酸塩形。 例1 (参考例) 4−[N−メチル−N−(1−ナフチルメチル)]
アミノクロトン酸エチルエステルの製造(方法
a)):− ブロモクロトン酸エチルエステル1.9gを、N
−メチル−N(1−ナフチルメチル)アミン1.7
g、炭酸カリウム1.4gおよびジメチルホルムア
ミド10mlの混合物に滴加する。混合物を室温で18
時間撹拌した後、濾過し、減圧で蒸発させる。残
渣をベンゼン/酢酸エチル(1:1)を溶媒とし
て用い、シルカゲル上でクロマトグラフイーし、
適当な画分を蒸発させた後、標記化合物を油とし
て遊離塩基形で得る。 標記化合物は実施例3,4および5と類似の方
法で製造してよい。 例2 (実施例) N−(3−シクロヘキサ−1−エン−1−イル
−2−シス−プロペニル)−N−メチル−N−
(1−ナフチルメチル)アミンの製造(方法
b)):− N−(3−シクロヘキサ−1−エン−1−イル
−プロピニル)−N−メチル−N−(1−ナフチル
メチル)アミン5gをPd/BaSO4750mgを触媒と
して用いて、室温および常圧で、計算量の水素が
吸収されるまで無水ピリジン中で水素添加する。
反応混合物を濾過し、ピリジンを減圧で除去す
る。残渣をベンゼン/酢酸エチル(9:1)を用
いてシリカゲル上でクロマトグラフイーし、適当
な画分を蒸発させた後、標記化合物を油として遊
離塩基形で得、融点(塩酸塩)184〜188℃。 標記化合物はまた実施例1および5と類似の方
法で製造してよい。 例3 (参考例) N−(3−シクロヘキシル−2−トランス−プ
ロペニル)−N−メチル−N−(1−ナフチルメ
チル)アミンの製造(方法b)):− 水素化ジイソブチルアルミニウムのトルエン中
1.2モル溶液28mlを無水ベンゼン中のN−(3−シ
クロヘキシル−プロピニル)−N−メチル−N−
(1−ナフチルメチル)アミン5gに加える。混
合物を40℃で3時間撹拌後、水を注意して加え
る。有機層を分離し、乾燥し蒸発させて標記化合
物を油として遊離塩基形で得る。 標記化合物はまた実施例1,4および5により
製造してよい。 例 4(実施例) N−(3−シクロヘキサ−1−エン−1−イル
−2−トランス−プロペニル)−N−メチル−
N−(1−ナフチルメチル)アミンの製造(方
法c)):− N−(3−シクロヘキサ−1−エン−1−イル
−2−シス−プロペニル)−N−メチル−N−(1
−ナフチルメチル)アミン1.2gを水銀高圧ラン
プ(γ>300nm)で、不活性ガス雰囲気下、室温
でジフエニルジサルフアイド50mgの存在下シクロ
ヘキサン1中で3時間照射する。溶媒を蒸発さ
せた後、標記化合物を遊離塩基の形で得、塩酸塩
に変換し、融点184〜188℃。 標記化合物はまた実施例1,3および5によつ
て製造してよい。 例 5(実施例) N−メチル−N−[3−(5′−メチル−2′−チエ
ニル)−2−トランス−プロペニル)−N−(1
−ナフチルメチル)アミンの製造(方法d)):
− a ベンゼン350ml中の3−(5′−メチル−2′−チ
エニル)プロパン−2−エナール15.2gおよび
1−アミノメチルナフタレン15.7gを、計算量
の水が沸騰し去るまで還流下煮沸する。メタノ
ール100ml中の得られたシツフ塩基3.6gを水素
化ホウ素ナトリウム5gと、30分間還流下煮沸
し、N−[3−(5′−メチル−2′−チエニル)−
2−トランス−プロペニル)]−N−(1−ナフ
チルメチル)アミンを得、これを次の段階に直
接用いる。[この中間体を単離するために、反
応混合物を減圧で蒸発させ、残渣を炭酸ナトリ
ウム水溶液とジエチルエーテル間に分配し、有
機相を蒸発させる。]。 b a段階で得られた粗反応混合物を37%ホルム
アルデヒド水溶液20mlで処理する。混合物を60
分間還流下に煮沸し、氷冷却に付し、水素化ホ
ウ素ナトリウム9gで処理し、室温で更に60分
間撹拌する。混合物を減圧で蒸発させて残渣を
得、これを炭酸水素ナトリウム水溶液とジエチ
ルエーテル間に分配する。有機相を乾燥し、蒸
発させて標記化合物を油として遊離塩基の形で
得、融点(塩酸塩)140〜156℃。 標記化合物はまた例1,3および4と類似の方
法で製造してよい。 例1,2,4および5に記載したのと類似の方
法で、次のトランス化合物[e]を製造してよ
い。 R1−CH2−N(CH3)−CH2−CH=CHR4
[e] 式中、R1およびR4は次のとおりである。なお、
化合物12,17,19,20,28,32,33,34は実施例
であり、その他は参考例である。
【表】
【表】
上記の実施例1,3および4と類似の方法で、
次のトランス化合物[f]を製造することがで
きる。 式中、R1,R6およびuは次のとおりである。
次のトランス化合物[f]を製造することがで
きる。 式中、R1,R6およびuは次のとおりである。
【表】
ニル
例42 (実施例) 例1および2に記載したのと類似の方法で、次
のシス化合物を製造してよい。 aa N−(3−シクロヘキサ−1−エン−1−イ
ル−2−シス−プロペニル)−2−(1′−ナフチ
ル)ピペリジン、遊離塩基−油。 例 43〜47 例1,3,4および5に記載したのと類似の方
法で次の化合物を製造してよい。 43 N−シンナミル−N−メチル−N−[2−
(1′−ナフチル)−2−プロピル]アミン、遊離
塩基−油。 44 N−(1−アセナフテニル)−N−メチル−N
−(3−フエニル−2−トランス−プロペニル)
アミン、融点(塩酸塩)210〜216℃。 45 N−(1−アセナフテニル)−N−メチル−N
−[3−(5′−メチル−2′−チエニル)−2−ト
ランス−プロペニル)アミン、遊離塩基−油。 46 N−(6,7,8,8a−テトラヒドロ−1−
アセナフテニル)−N−メチル−N−(3−フエ
ニル−2−トランス−プロペニル)アミン、融
点(塩酸塩)185〜192℃。 47 N−メチル−N−(2,3−ジヒドロ−1−
フエナレニル)−N−(3−フエニル−2−トラ
ンス−プロペニル)アミン、遊離塩基−油。 油として得られた上記化合物[]のNMRの
データを次表に示す。データはCDC3中で標準
としてTMSに関してのppmでのピークの位置;
ピークのタイプ(D=ダブレツト;DD=ダブ
ル・ダブレツド;DT=ダブル・トリプレツト;
M=マルテイプレツト;Q=クオーテツト;S=
シングレツト;T=トリプレツト)および( )
内の水素原子の対応する番号からなつている。
例42 (実施例) 例1および2に記載したのと類似の方法で、次
のシス化合物を製造してよい。 aa N−(3−シクロヘキサ−1−エン−1−イ
ル−2−シス−プロペニル)−2−(1′−ナフチ
ル)ピペリジン、遊離塩基−油。 例 43〜47 例1,3,4および5に記載したのと類似の方
法で次の化合物を製造してよい。 43 N−シンナミル−N−メチル−N−[2−
(1′−ナフチル)−2−プロピル]アミン、遊離
塩基−油。 44 N−(1−アセナフテニル)−N−メチル−N
−(3−フエニル−2−トランス−プロペニル)
アミン、融点(塩酸塩)210〜216℃。 45 N−(1−アセナフテニル)−N−メチル−N
−[3−(5′−メチル−2′−チエニル)−2−ト
ランス−プロペニル)アミン、遊離塩基−油。 46 N−(6,7,8,8a−テトラヒドロ−1−
アセナフテニル)−N−メチル−N−(3−フエ
ニル−2−トランス−プロペニル)アミン、融
点(塩酸塩)185〜192℃。 47 N−メチル−N−(2,3−ジヒドロ−1−
フエナレニル)−N−(3−フエニル−2−トラ
ンス−プロペニル)アミン、遊離塩基−油。 油として得られた上記化合物[]のNMRの
データを次表に示す。データはCDC3中で標準
としてTMSに関してのppmでのピークの位置;
ピークのタイプ(D=ダブレツト;DD=ダブ
ル・ダブレツド;DT=ダブル・トリプレツト;
M=マルテイプレツト;Q=クオーテツト;S=
シングレツト;T=トリプレツト)および( )
内の水素原子の対応する番号からなつている。
【表】
【表】
【表】
化合物[]は化学療法剤としての活性を示
す。これを詳述すると、これらの化合物はたとえ
ば0.1〜100μg/mlの濃度でトリコフイトン・キ
ンケアヌム(Tricophyton quinkeanum)、アス
ベルギルス・フミガツス(Aspergillus
fumigatus)、ミクロスポルヌ・カニス
(Microsporum canis)、スポロトリキウム・シ
エンキイ(Sporotrychium schenkii)およびキ
ヤンデイダ・アルビカンス(Candida albicans)
を包含する種々の真菌の科および型に対して試験
管内で抗菌活性を示す。 若干の本発明化合物について試験管内抗真菌活
性を最小発育阻止濃度(MIC,μg/ml)で示
すと次の通りである。
す。これを詳述すると、これらの化合物はたとえ
ば0.1〜100μg/mlの濃度でトリコフイトン・キ
ンケアヌム(Tricophyton quinkeanum)、アス
ベルギルス・フミガツス(Aspergillus
fumigatus)、ミクロスポルヌ・カニス
(Microsporum canis)、スポロトリキウム・シ
エンキイ(Sporotrychium schenkii)およびキ
ヤンデイダ・アルビカンス(Candida albicans)
を包含する種々の真菌の科および型に対して試験
管内で抗菌活性を示す。 若干の本発明化合物について試験管内抗真菌活
性を最小発育阻止濃度(MIC,μg/ml)で示
すと次の通りである。
【表】
試験方法は次の通りである。
(インビトロ試験法)
試験方法−マイクロタイター系における最小阻
止濃度(MIC)の決定 希釈倍数2の連続希釈技術を使用し、それらの
最小発育阻止濃度を側定することによつて、化合
物の活性を決定した。これは、カナルコ−オート
タイター装置[微量希釈最大値50μlの自動
希釈装置]中、オートトレイ(商標)−マイクロ
タイター・プレート[8例(AからHまで記号を
つける)に各々15凹部(1から15まで符号をつけ
る)を配列した、120の丸底凹部を有する方形プ
ラスチツク製プレート]上で行なつた。既知濃度
の100μlの物質溶液を、最初の連続する8列の凹
部(AからH)にピペツトで手動で移した。残り
の凹部に50μlの滅菌栄養培地を手で導入した。カ
ナルコ−オートタイター装置を使用して、
自動的に8つの幾何級数的に増加する希釈系を14
個目までの各凹部に製造した。第15個目凹部を株
成長対照とした。 50μlの接種材料−標準化全培養の希釈物−のプ
レートを、120凹部に手動でピペツトで移し、パ
ラフイルムで覆い、7日間、30℃および60%相対
湿度でインキユベートした。 最小発育阻止濃度(MIC)は肉眼でその中で
の株成長を完全に抑制する栄養培地(μg/ml)
中での試験物質の最も低い濃度とした。 1.3 材料 栄養培地:サブロウグルコース2%ブロス
(メルク) 肉汁由来のペプトン 5g カゼイン由来のペプトン 5g D(+)グルコース 20g PH=6.5 試験物質溶媒:5%のジメチルスルホキシド [接種] キミング(メルク)による多数の細菌用アガー
プレートを接種し、7日間30℃でインキユベート
した後、滅菌条件下で注意深く、プラチナ製スパ
チユラを用いて掻き、ガラス製ホモジナイザーを
用いて、サブロウグルコース2%ブロス中で微細
に破砕した。得られる全培地をプラスチツク製ア
ンプルに1.5mlづつ充填し、5%(v/v)ジメ
チルスルホキシド(メルク)を抗凍結剤として使
用し液体窒素下で保存した。液体窒素下で保存し
た全培地中で生じるかも知れない不純化の対照と
して、キミングによる3つの細菌用アガープレー
トの各々を接種し、1ml当たりのそれらの微生物
数を測定した(107〜108/ml)。接種に際しては、
使用する前に全培養を37℃で2から5分間水浴に
浸漬し、サブロウグルコース2%ブロスを用い
て、所望の微生物数(103/ml)に調整した。キ
ミングによる細菌用アガー(メルク): 標準−栄養ブロス 15g 肉汁由来のペプトン 5g D−(+)グルコース 20g 塩化ナトリウム 5g 寒天 15g PH=6.5±0.2 また、これらの化合物は、モルモツトにおける
皮膚真菌症モデル試験で生体内抗真菌活性を示
す。このモデルでは、モルモツトにトリコフイト
ン・キンケアヌムを皮下適用によつて感染させ
る。試験物質は感染後24時間から始めて毎日7日
間、試験物質(ポリエチレングリコールに取り)
を皮膚表面にこすりつけるか経口または皮下に試
験物質を懸濁液として投与する。活性は、たとえ
ば0.1〜5%、特に0.1〜0.6%の濃度での局所適用
で示される。経口活性は、たとえば50〜100mg/
Kgの服用量で示される。 上記の試験法において得られた本発明化合物の
活性の一例を示すと下表の通りである。
止濃度(MIC)の決定 希釈倍数2の連続希釈技術を使用し、それらの
最小発育阻止濃度を側定することによつて、化合
物の活性を決定した。これは、カナルコ−オート
タイター装置[微量希釈最大値50μlの自動
希釈装置]中、オートトレイ(商標)−マイクロ
タイター・プレート[8例(AからHまで記号を
つける)に各々15凹部(1から15まで符号をつけ
る)を配列した、120の丸底凹部を有する方形プ
ラスチツク製プレート]上で行なつた。既知濃度
の100μlの物質溶液を、最初の連続する8列の凹
部(AからH)にピペツトで手動で移した。残り
の凹部に50μlの滅菌栄養培地を手で導入した。カ
ナルコ−オートタイター装置を使用して、
自動的に8つの幾何級数的に増加する希釈系を14
個目までの各凹部に製造した。第15個目凹部を株
成長対照とした。 50μlの接種材料−標準化全培養の希釈物−のプ
レートを、120凹部に手動でピペツトで移し、パ
ラフイルムで覆い、7日間、30℃および60%相対
湿度でインキユベートした。 最小発育阻止濃度(MIC)は肉眼でその中で
の株成長を完全に抑制する栄養培地(μg/ml)
中での試験物質の最も低い濃度とした。 1.3 材料 栄養培地:サブロウグルコース2%ブロス
(メルク) 肉汁由来のペプトン 5g カゼイン由来のペプトン 5g D(+)グルコース 20g PH=6.5 試験物質溶媒:5%のジメチルスルホキシド [接種] キミング(メルク)による多数の細菌用アガー
プレートを接種し、7日間30℃でインキユベート
した後、滅菌条件下で注意深く、プラチナ製スパ
チユラを用いて掻き、ガラス製ホモジナイザーを
用いて、サブロウグルコース2%ブロス中で微細
に破砕した。得られる全培地をプラスチツク製ア
ンプルに1.5mlづつ充填し、5%(v/v)ジメ
チルスルホキシド(メルク)を抗凍結剤として使
用し液体窒素下で保存した。液体窒素下で保存し
た全培地中で生じるかも知れない不純化の対照と
して、キミングによる3つの細菌用アガープレー
トの各々を接種し、1ml当たりのそれらの微生物
数を測定した(107〜108/ml)。接種に際しては、
使用する前に全培養を37℃で2から5分間水浴に
浸漬し、サブロウグルコース2%ブロスを用い
て、所望の微生物数(103/ml)に調整した。キ
ミングによる細菌用アガー(メルク): 標準−栄養ブロス 15g 肉汁由来のペプトン 5g D−(+)グルコース 20g 塩化ナトリウム 5g 寒天 15g PH=6.5±0.2 また、これらの化合物は、モルモツトにおける
皮膚真菌症モデル試験で生体内抗真菌活性を示
す。このモデルでは、モルモツトにトリコフイト
ン・キンケアヌムを皮下適用によつて感染させ
る。試験物質は感染後24時間から始めて毎日7日
間、試験物質(ポリエチレングリコールに取り)
を皮膚表面にこすりつけるか経口または皮下に試
験物質を懸濁液として投与する。活性は、たとえ
ば0.1〜5%、特に0.1〜0.6%の濃度での局所適用
で示される。経口活性は、たとえば50〜100mg/
Kgの服用量で示される。 上記の試験法において得られた本発明化合物の
活性の一例を示すと下表の通りである。
【表】
本発明化合物の毒性は一般的に低い。例えば、
例4の化合物(塩酸塩)のLD50値は経口投与で
790mg/Kg、腹腔内投与で260mg/Kgである。また
皮下投与では、マウス、ラツト、ネコにおいて50
mg/Kgを投与しても急性毒性の徴候を示さなかつ
た。さらに、イヌの場合、同化合物(遊離塩基)
の非毒性用量(皮下)は30mg/Kgより大きい。 本発明化合物は、それ故抗真菌剤としての使用
が指示される。指示される毎日の服用量は500〜
2000mgである。所望ならば、これは約125mg〜
1000mgを含有する単位服用量で1日2〜4回の分
服または持続除放形で投与してもよい。 本発明化合物は、遊離塩基形または化学療法的
に許容される酸付加塩の形で用いてよい。このよ
うな塩の形は遊離塩基形と同程度の活性を示す。 本発明化合物は、常套の化学療法的に許容され
る希釈剤および担体ならびに必要に応じ他の賦形
剤と混合し、錠剤またはカプセル剤のような形で
投与してよい。本発明化合物は、あるいは軟膏ま
たはクリームのような常套の形で局所に投与して
もよい。このような局所適用形における活性物質
の濃度は、勿論用いる化合物、所望の治療および
剤形の性質などによる。しかしながら、一般に
0.05〜5、特に0.1〜1重量%の濃度で満足な結
果が得られる。 特に興味ある活性を有する化合物は、実施例4
の化合物である。 化合物の一つのグループは、 式: [式中、R〓1は1−ナフチルR〓4はフエニルまた
はシクロヘキセニルを表わす。]を有するもので
ある。 化合物のもう一つのグループは、 式: [式中、R〓1は[a],[b]、 R〓6は[a],[b]で示される基、 更に化合物[]のグループは、 式: [式中、R〓1は[a],[b]で示される基、
R2,R3,R4は前記と同意義、ただしR2およびR3
はは−(CH2)u−以外であり、R4は式[]〓に
関して前記R4と同意義であるが、 R1が[a]で示される基である場合は、 R〓4はフエニル以外である。]を有するものであ
る。
例4の化合物(塩酸塩)のLD50値は経口投与で
790mg/Kg、腹腔内投与で260mg/Kgである。また
皮下投与では、マウス、ラツト、ネコにおいて50
mg/Kgを投与しても急性毒性の徴候を示さなかつ
た。さらに、イヌの場合、同化合物(遊離塩基)
の非毒性用量(皮下)は30mg/Kgより大きい。 本発明化合物は、それ故抗真菌剤としての使用
が指示される。指示される毎日の服用量は500〜
2000mgである。所望ならば、これは約125mg〜
1000mgを含有する単位服用量で1日2〜4回の分
服または持続除放形で投与してもよい。 本発明化合物は、遊離塩基形または化学療法的
に許容される酸付加塩の形で用いてよい。このよ
うな塩の形は遊離塩基形と同程度の活性を示す。 本発明化合物は、常套の化学療法的に許容され
る希釈剤および担体ならびに必要に応じ他の賦形
剤と混合し、錠剤またはカプセル剤のような形で
投与してよい。本発明化合物は、あるいは軟膏ま
たはクリームのような常套の形で局所に投与して
もよい。このような局所適用形における活性物質
の濃度は、勿論用いる化合物、所望の治療および
剤形の性質などによる。しかしながら、一般に
0.05〜5、特に0.1〜1重量%の濃度で満足な結
果が得られる。 特に興味ある活性を有する化合物は、実施例4
の化合物である。 化合物の一つのグループは、 式: [式中、R〓1は1−ナフチルR〓4はフエニルまた
はシクロヘキセニルを表わす。]を有するもので
ある。 化合物のもう一つのグループは、 式: [式中、R〓1は[a],[b]、 R〓6は[a],[b]で示される基、 更に化合物[]のグループは、 式: [式中、R〓1は[a],[b]で示される基、
R2,R3,R4は前記と同意義、ただしR2およびR3
はは−(CH2)u−以外であり、R4は式[]〓に
関して前記R4と同意義であるが、 R1が[a]で示される基である場合は、 R〓4はフエニル以外である。]を有するものであ
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 遊離塩基の形または化学療法的に許容される
塩の形の式: [式中、 a R1は式: または (式中、R5は水素または原子番号9〜53の
ハロゲンを表わす。)で示される基、R2は水
素、R3はアルキル(C1-6)、 R4は式: (式中、mは1〜3の整数を表わす。)で示
される基、または式: (式中、R6は低級アルキルまたはアルキニ
ル(C3-12)、R7およびR8はそれぞれ水素また
低級アルキルでqは0または1を表わす。)で
示される基あるいは b R1は前記と同意義の式[a]または[
b]で示される基、R2およびR3は合して−
(CH2)u−,R4は式b(式中、R6はフエニ
ル、R7およびR8は前記と同意義、qは0,u
は3〜5の整数を表わす。)を表わす。] で示される化合物を有効成分とする抗真菌剤。
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH10202/77 | 1977-08-19 | ||
| CH1020277 | 1977-08-19 | ||
| CH10203/77 | 1977-08-19 | ||
| CH12910/77 | 1977-10-24 | ||
| CH12909/77 | 1977-10-24 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62240615A JPS62240615A (ja) | 1987-10-21 |
| JPH0149690B2 true JPH0149690B2 (ja) | 1989-10-25 |
Family
ID=4360535
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1960987A Granted JPS62240615A (ja) | 1977-08-19 | 1987-01-29 | プロペニルアミンを含有する医薬組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62240615A (ja) |
-
1987
- 1987-01-29 JP JP1960987A patent/JPS62240615A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62240615A (ja) | 1987-10-21 |
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