JPH01500744A - 熱可塑性フィルムのバンドを連続的に清浄化および／または脱汚染するための装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 熱可塑性フィルムのバンドを連続的に清浄化および／または脱汚染するための装 置 本発明は熱可塑性材料の薄いフィルムのストリップを連続的に態様で清浄化およ び／または脱汚染する装置に関する。さらに詳しくはそれだけではないが、それ は熱可塑性材料のフィルムの連続ストリップ、例えばポリエチレンまたはポリプ ロピレンのようなポリオレフィンの少なくとも一層によって形成されたストリッ プの対向する二面を、清浄化されたそのようなストリップを用いて患者へ静脈内 投与される潅流液を収容する可撓性バッグの製造の目的で清浄化する装置に関す る０例えばポリエチレン製の熱可塑製材料のフィルムの製造は、後者をあらかじ め定めた幅のロールの形で放出する。

例えば押出しによるこのようなフィルムの製造の間、および所望の幅への切断お よびマンドレルへの巻取りのようなそれらの処理の間、そしてそれらの輸送、取 り扱いおよび処理の間、そのようなフィルムは外来性の粒子により、またはフィ ルム自身から来る破片または粒子によって一般に汚染される。

これらのフィルムが潅流液を収容するバッグまたはポケットの製造を企図すると き、それらはそれらへ付着し、そしてそれらが潅流液と共に患者の循環系へ取入 れられると事故を発生し得る汚染粒子をなくすことが重要である。

また、潅流液が接触するフィルムの表面は、細菌または多分病原性微生物が潅流 液と共に患者の循環系中へ運ばれるのを阻止するため無菌であることが重要であ る。

その中でストリップが例えば過酸化水素のような滅菌剤である液体の静止浴を通 って駆動される、熱可塑性材料製のフィルムのストリップを連続的態様で清浄化 し、滅菌するシステムが知られている。

そのような既知のシステムはしばしばフィルムへ付着し得る粒子を満足に除去せ ず、そしてそれは次第に粒子および微生物で負荷されそれ故更新しな、ければな らない浴の定期的取替えを必要とする追加の欠点を提供する。

今やしばしば静電気で帯電しているためそのような粒子を吸引しそして保持する ような性格の熱可塑性材料のフィルムからの粒子および他の汚染物質の除去は、 該フィルム上へそれが与えられた方向へ動いている間フィルムが動いている方向 に対し反対に向けたジェットの形の液体をスプレーする時に非常に能率的に実施 されることが発見され、本発明はそのような知見に基づく、そのような態様で粒 子および他の汚染物質の除去を改良するダイナミックな効果が得られる。

粒子および他の汚染物質がフィルム上に再沈着することな（フィルムから容易に 除去されるためには、液体はフィルムがもし大体垂直でなければ強く傾斜した軌 道を追跡する時にフィルムの上にスプレーされるべきことも発見された。

それ数本発明は、その内部に無菌空気圧力が維持されそしてその内部で連続スト リップが囲いの入口および出口間のもどりローラーのまわりの曲がり（ねった軌 道に沿って動かされる囲いと、前記囲いの内部に設けられたノズルを備えた少な くとも一つの水平に近い誘導路とを備え、そのため該ストリップの少なくとも片 面上へ清浄化および／または脱汚染液体のジェットをスプレーすることができ、 該ストリップから除去される汚染粒子で負荷された該液体は囲いの底へ落下する 、熱可塑性材料のフィルムの連続ストリップを清浄化しおよび／または脱汚染す る装置をその目的として有する。

本発明の第１の具体例においては、前記誘導路は上昇する軌道を追従しそしてス トリップのもどりのための下方もどりローラーと上方ローラーとの間を延びる傾 斜したセクションの第１の表面上へ前記液体のスプレーを許容するように配置さ れ、前記第１の表面は下方もどりローラーと接触する第２の表面の反対側であり 、そして下方ローラーの回軸方向へ垂直方向に関し傾斜している。

そのようなスプレーの間、清浄化および脱汚染液は傾斜したセクションの前記第 １の表面を下方へ走り、そして汚染粒子を下方もどりローラーへ向かって運び去 る。下方もどりローラーに接近して、粒子で負荷された清浄化および／または脱 汚染液が重力によりストリップから分離され、そしてこれら粒子がストリップへ 再沈着することなく囲いの底へ落下する。

本発明のこの具体例によれば、誘導路のノズルはストリップの運動方向にほぼ反 対の方向に向けられ、ノズルは好ましくはそれが液体をスプレーするストリップ に対し３０ないし９０°、好ましくは４０ないし６０”を形成する。

本発明装置の第１の具体例においては、各自ストリップの両側に大体同じレベル に設置されたノズルを備えた少な（とも１対の誘導路が設けられる。しかしなが ら装置は、それらのノズルが前記囲いの内部で前方へ動いている可動ストリップ の相互に関してシフトされた続いているセクションの上に清浄化および／または 脱汚染液をスプレーするように配置されたいくつかの誘導路または対向する誘導 路のいくつかの対を含むことができる。

本発明によれば、フィルムのストリップに対し横に延びる誘導路または誘導路の 対は二つの異なるレベルに取付けられ、そして異なる液体を供給されることがで きる。これら液体は多分脱ミネラル水または蒸留水である。

本発明による装置は、囲いの下端近くにフィルムのストリップのための入口と、 大体入口レベルに配置された第１のもどりローラーと、囲いの上端近くに配置さ れた第２のもどりローラーと、囲いの下端近くに配置されそして第１のローラー に関してシフトされている第３のもどりローラーを提供することができ、そのた め囲いの内部を動いているストリップは第１および第２のローラー間を大体垂直 な軌道を追従して上方へ、次に第２および第３のローラー間を下方へ動き、スト リップの各側に一つづつ配置された二つの対向する誘導路の第１のグループは第 １および第２のローラー間のストリップ軌道上に配置され、他方ストリップの各 側に一つづつ配置された対向する誘導路の第２のグループは誘導路の第１のグル ープより高いレベルにおいて第１および第２のローラー間のストリップ軌道上に 配置され、誘導路の第１のグループのノズルはストリップ上に脱ミネラル水をス プレーし、誘導路の第２のグループのノズルはストリップ上に蒸留水をスプレー する。

本発明の装置の一特定具体例において、該装置は囲いの下部において囲い中へ連 続ストリップが入る大体のレベルに配置された第１のもどりローラーと、囲いの 上端近くに配置された第２のもどりローラーと、そして囲いの下端近くに配置さ れそして第１のローラーに関してシフトされた第３のもどりローラーを含み、そ のため囲いの内部を動いているストリップは第１および第２のローラー間を傾斜 した軌道を追従して上方へ、次に第２および第３のローラー間を下方へ動き、ス トリップの各側に一つづつ配置された二つの対向する誘導路の第１のグループは 第１および第２のローラー間のストリップ軌道上に配置され、他方ストリップの 各側に一つづつ配置された対向する誘導路の第２のグループは誘導路の第１のグ ループより高いレベルにおいて第１および第２のローラー間のストリップ軌道上 に配置され、誘導路の第１のグループのノズルはストリップ上に脱ミネラル水を スプレーし、誘導路の第２のグループのノズルはストリップ上に蒸留水をスプレ ーする。

この具体例の詳細によれば、前記清浄化および脱汚染液によって運び去られる粒 子の一部がストリップ上に再沈着することを防ぐため、第１と第２のローラー間 の囲いの内部に仕切りが配置される。

熱可塑性フィルムのストリップが粒子で高度に負荷され、または強く汚染されて いる時、または高程度の清浄化および／または脱汚染が必要な時、本発明に従い 前述の囲いの中に囲いの下方部に相互に離れて三つのもどりローラーと、そして 囲いの上方部にやはり相互に離れて二つのもどりローラーを設け、そのためこれ らの異なるもどりローラー上を通過する時、フィルムのストリップが囲いの入口 および出口の間で交互に垂直および強く傾斜している四つの連続するセクション を形成させることが可能である。この具体例においては、ストリップの各垂直セ クションは一つづつストリップの各側に配置された対向する２対の誘導路によっ て支持されたノズルの作用を受ける。ストリップの第１の垂直セクションに関連 する２対の誘導路ノズルと、そしてストリップの第２の垂直セクションに関連す る誘導路の下方の対のノズルはフィルムのストップの両面の上に脱ミネラル水を スプレーし、他方ストリップの第２の垂直セクションに関連する誘導路の上方の 対のノズルは該ストリップの両面の上に蒸留水をスプレーする。このため装置の この具体例においては、対向する誘導路の二つの対はそれへ前進運動が与えられ るフィルムのストリップの二つの垂直セクションの軌道に沿って設けられ、誘導 路のそれらの対の一方は他方の対よりも低いレベルにある。

本発明の具体例によれば、誘導路ノズルの向きを調節する手段が設けられ、他方 誘導路のレベルおよびそれらのストリップからの距離を調節する手段も設けられ る。加えて、誘導路は縦方向に調節自在（すなわち、それらの軸方向に）とする ことができる。

本発明の他の具体例によれば、ストリップが囲いを離れる前に乾燥する手段が設 けられる。このためその出口に隣接して、その中でストリップ表面の一方および ／または他方が少なくとも一つの誘導路によって支持されたノズルから来る空気 ジェットの作用にかけられるチャンバーが設けられる。サーモスタットが乾燥誘 導路へ供給される乾燥空気の温度の制御を許容する。

その上方部分において、囲いは多数の孔を有する天井を有し、囲い内部に調節さ れた空気雰囲気を形成する無菌空気の囲い中への通過を許容する。

その下方部分において、囲いはストリップの上にスプレーされた液体のためのコ レクターを含む。調節自在な幅を持ったスリットが囲いの下縁とホッパー〇上縁 の間に設けられ、該スリットばあらがしめ定めた流量で囲いの中に含まれる空気 の逃げを許容し、そのため囲いの内部に空気循環が確立され、該空気の圧力は囲 い中へのその入口（天井）のレベルにおいて水柱数口１例えば２ないし４Ｃ１１ である。

フィルムのストリップが囲いを通ってその上を通過するもどりローラーは自由回 転し、そしてりすのかご型である。

熱可塑性フィルムの運動方向の囲いの下流にお七）で、該フィルムによって引張 られる。これらローラーの一方はゴムまたはプラスチック材料で被覆される。

本発明の他の特徴および詳細は、概略的にそして例示としてのみ本発明による装 置の具体例を図示する添付図面の以下の詳細な説明から明らかであろう。

これら図面において、第１図は本発明による装置の第１の具体例の概略側面図で ある。

第２図は本発明による装置の第２の具体例の概略側面図である。

第３図は第２図に図示した本発明による装置の第２の具体例の詳細な側面図であ る。

第４図は本発明による装置の第３の具体例の概略側面図である。

第５図は本発明の装置の第４の具体例の第１図に類似の図である。

第６図は第３図に示した装置の一部の拡大詳細図である。

第７図はもどりローラーおよび清浄化液のスプレーのための誘導路を図示する斜 視図である。

これらの異なる図において、同じ参照番号は同じエレメントを指す。

以下に記載する清浄化および／または脱汚染装置は、有利には液体のゆるい流れ のための可撓性バッグまたはポケットの、特に患者へ静脈投与すべき生理的に許 容し得る液体を収容するバッグの製造のための設備の一部である。そのような設 備は本質的に、供給ロールから熱可塑性材料のフィルムのストリップを巻き戻す ためのステーションと、チューブを受入れるように設計された孔をストリップに 孔あけするためのステーションと、そして例えばＦＲ−Ａ−２５８８０１に記載 されている態様でシーリングによってバッグまたはポケットの製造のためのステ ーションよりなる。そのような設備において、本発明による清浄化および／また は脱汚染のための装置はバッグの製造のためのステーションのすぐ上流に設置さ れる。

第１図に示した本発明の装置の第１の具体例において、装置はそれを通ってその 源（図示せず）から来る無菌空気が囲い１の全断面中へ吹き込まれる多数の孔を 有する天井２を持っている囲い１を含んでいる。囲い１中のそのような空気の圧 力は水柱数口２例えば２ないし４ωである。囲い１内部のこの僅かに高い空気圧 力は非無菌外部空気が囲いへ侵入することを防止する。

囲いｌの下方部分４は開いており、そして後で示すように液体コレクターとして 役立つ形状が対称的なホッパー５の上に配置される。

このホンパー５はダクト６と、該ダクト６中に設けられたサイフオン（図示せず ）を通って排出ダクトへ接続される。

熱可塑性材料の薄い連続したストリップ７、例えばポリエチレンの一層または重 ねた数層からなるストリップは、囲い１を通って二つの下方ローラー８．９と、 そして天井２近く下方ローラー８の直上に配置された上方ローラーｌＯの間を曲 がりくねった軌道を追従する。

水平な軸を持つローラー８，９．１０はりすのかご型（第７図を見よ）である。

これらは円形断面を有し、そしてそれらの端のめいめいにおいて円板１２へ接続 されたバー１１を含む。

バー１１の中間点において、それはローラー８．９．１０を剛直に保持する役目 をする中間円板１３へ接続される０円板１２および１３の中心はローラー８．９ ．１０の幾何学的軸上に配置される。

これらローラー８，９．１０は円板１２．１３へ取付けた縦方向シャフト１４を 含み、ローラー８，９．１０の外側へ延びる該シャフト１４の端部はこれらロー ラーの自由回転を許容する態様で支持される。

幅４０ないし６０■またはそれ以上であることができる熱可塑性材料のストリッ プ７は囲いを通って矢印Ｙの方向に走行する。外部の案内ローラー１５から来る ストリップ７は、ゴムまたは他の変形し得る材料でつくられ、与圧空気が囲いか ら出るのを制限する閉鎖装置として役立つシャッター１７を備えた入口１６を通 って囲いｌへ入る。ストリップ７は次に時計方向に回転する下方もどりローラー ８の上を通過する。下方もどりローラーから、ストリップは上方ローラー１０へ 向かって垂直軌道を追従し、該上方ローラーは反時計方向の回転によってそれを 傾斜軌道に沿って下方ローラー９へ向かって送りもどす、もどりローラー８およ び１０の間にある垂直セクション１８において、ストリップ７は清浄化および／ または脱汚染手段の作用を受ける。

これら清浄化および／または脱汚染手段はノズル２０を備えた誘導路の第１の対 １９を備える。これら誘導路１９は脱ミネラル水源へ接続され、ストリップ７の 両面にそれが大体垂直な軌道に沿って囲い１の内部を上方へ動いている間に脱ミ ネラル水のジェットをスプレーする。第１図に示すように、ストリップ７の垂直 セクション１８の両側に設置された誘導路１８のノズル２０は３０ないし９０° 。

好ましくは４５ないし６０°の間を変化し得る角度をストリップに対して形成す るように向けられ、これらノズルによって排出される脱ミネラル水のジェットは ストリップ７のもどりローラー８および１０間の前進運動方向（垂直矢印Ｙ）に 対し一般に反対方向（矢印２）に向けられる。

誘導路の第１の対の上方にノズル２２を備えた誘導路の第２の対２１が配置され 、ストリップ７の両面上に蒸留水をスプレーする。

ノズル２２の向きは誘導路の第１の対１９のノズルの向きと同じでよい。

調節自在な流量および圧力をもって脱ミネラル水および蒸留水をスプレーするこ とにより、ストリップ７からそれへ付着した粒子および微生物の大部分を除去す るようなダイナミックな清浄化および／または脱汚染効果がストリップ７の両面 に発揮される。

ストリップ７上ヘスブレーされた液体はいうまでもな°くストリップ７の垂直セ クション１８の上を下方へ走り、底４へ向かって滴下し、それと−緒にストリッ プ７から除去した粒子を運ぶ。

もどりローラー１０ともどりローラー９の間において、ストリップ７は残った液 体の下方走行を可能にする傾斜軌道（セクション２３）を追従する。

それがもどりローラー９の上を通過した後、ストリップ７はやはりりすのかご型 のもどりローラー２４の上を走行し、次にそれは囲いの出口２９のすぐ上流に囲 い１の内部に設置された、壁２６，２７．２８によって形成された乾燥室２５へ 入る。

乾燥室２５内にはストリップの両側においてストリップ７の垂直セクション３２ の反対方向（矢印２）にストリップ７へ向けられた開口３１を備えた、誘導路３ ０が設けられる。開口３１を通って空気または他の無菌もしくは滅菌気体が吹付 けられる。

空気の温度およびその開口３１を通る流量は誘導路３０から下流においてストリ ップが完全に乾燥するように勿論調節自在である。

りすのかご型のローラー８．９，１０．２４の使用は乞れらローラー上にストリ ップから除去した粒子または微生物の蓄積を防止することを可能にする。これら ローラー自体はストリップ７上ヘスプレーされる液体によってダイナミックに洗 浄される。

開口３１によって放出された空気もしくは気体のジェットによって乾燥されたス トリップ７は出口２９を通って囲い１を離れる前にもどりローラー３３　（これ は中実円筒表面を備えたローラーでよい）の上を通過する。

囲い１の外部でその出口２９の近くに設置された二つのローラー３４．３５はス トリップ７を駆動する役目をする。その円筒形表面がゴムもしくは類似の材料製 であるローラー３４はモータ（図示せず）によって駆動され、そしてストリップ ７の駆動はこの駆動ローラー３４とローラー３５との間に挟むことによって得ら れる。

ローラー３４および３５の下流において、ストリップ７はシャフト３日のまわり を回動し得るレバーの平行アーム３７によって支承されたローラー３６の上を通 過する。このレバーは、特にバッグをシーリングによって製造しそれらを潅流液 で充堪するシーリングステーション（図示せず）におけるこのストリップ７の前 進運動の周期的停止によって生ずる張力のロスを取り戻し、または補償すること によって、ストリップを張力下に維持する役目をする。

囲い１から上流で、前述のバッグ形成ステーションへ向かって動いているストリ ップ７はその再汚染を防止するように無菌雰囲気に保たれることが明らかである 。

スリット３９は囲い１の中へその天井２に形成された孔３を通って導入された圧 力下の無菌空気の逃げを許容する。囲いの下端４とホンバー５の自由縁間にギャ ップを設ける代わりに、ホンパー５を下端へ密閉シールに接続し、そして囲いの 下部またはホッパー５の上部に空気逃げスリットを設けることも勿論可能である 。

第２図に図示した本発明の装置の第２の具体例は、ストリップ７が囲いｌ内部に おいてりすのかご型の多数のもどりローラー上を通過させられ、そのためそれが もっと曲がりくねった軌道を追従し、そして付加的な清浄化および脱汚染手段が 設けられることを除き、第１図に関して上に記載したものと類似である。

このため、それがローラー８および１０上を通過した後、ストリップ７は斜めの 軌道に沿って下方ローラー４０へ送られ、そこから垂直軌道に沿って追加の上方 ローラー４１へ送られる。ストリップは最後に上方ローラー４１から再び斜めの 軌道に沿って下方ローラー９へ送られる。

第２図による装置は、各自ノズル２０および４３を備えた誘導路の二つの対１９ および４２を備え、誘導路１９．４２のこれら二対の各自の誘導路はストリップ ７の垂直セクション１８に沿ってストリップの両側に配置される。これら誘導路 １９および４２の各自はそのノズル（２０，４３）を通ってストリップ７上に脱 ミネラル水をスプレーする。

加えて、もどりローラー４０および４１間でストリップ７が追従する垂直軌道（ セクション４４）上で、このストリップは最初誘導路４６０対のノズルによって 放出される脱ミネラル水のジェットのこのためその垂直軌道もしくはセクション １８において、ストリップは誘導路１９および４２から脱ミネラル水のジェット を受け、他方その第２の垂直軌道もしくはセクション４４において、脱ミネラル 水が最初誘導路４６を通ってスプレーされ、次に蒸留水が誘導路２１を通ってス プレーされる。この方法で熱可塑性材料のストリップ７の清浄化および／または 脱汚染処理の効果を改善することができる。

本発明による装置の第４ＦｙＪに図示した第３の具体例は、下方ローラー８と上 方ローラー１０間にあるストリップ７のセクション１８が垂直方向に関して下方 ローラー８の回転方向Ｗに傾斜している点において第１図に示した具体例と相違 している。

下方もどりローラー８から、ストリップは上方ローラーへ向かって傾斜軌道を追 従し、該上方ローラーは反時計方向に回転することによってそれを傾斜軌道に沿 って下方ローラー９を向かって送り返す、もどりローラー８および１０間に位置 する傾斜したセクション１８において、ストリップ７は清浄化および／または脱 汚染手段の作用を受ける。

これら清浄化および／または脱汚染手段は第１の対の誘導路１９゜７８よりなる 。脱ミネラル水源へ接続されたこれら誘導路１９．７８はストリップ７の両面７ ９．８０上それが囲い１内を上方へ動いている間に脱ミネラル水をスプレーする 。

誘導路１９．７８の第１の対の上部に、ストリップ７の両面７９゜８０上に蒸留 水をスプレーする誘導路２１．８１の第２の対が組立てられる。

調節自在な流量および圧力で脱ミネラル水および蒸留水をスプレーすることによ り、ストリップ７からそれへ付着した粒子および微生物の大部分を除去するよう に、ダイナミックな清浄化および／または脱汚染効果がストリップ７の両面に発 揮される。

誘導路７８．８１は、下方もどりローラー８と接触するストリップの面８０と反 対側の、傾斜セクション１８の面７９の上に前述の液体のスプレーを許容するよ うに配置される。垂直方向に関する前記セクション１８の傾斜は有利には５ない し３０°の範囲である。

この傾斜は、傾斜セクション１８の面７９上にスプレーされた液体がその表面上 を下方へ走り、汚染粒子を下方ローラー８へ向かって運び去ることを許容する。

下方ローラー近くにおいて、汚染粒子で負荷された液体はストリップ７から分離 し、重力によってホンバー５中へ落下する。前記傾斜のため、面７９上にスプレ ーされた液体は該表面と接触し続ける。囲い内部の無菌空気の過剰の圧力は該表 面への液体の余分な接触力の通用を許容する。それ故該表面上に存在する液体は 無菌空気流の結果液体の可能性ある発射または運び去られることが、または該表 面に大きな液滴が形成されることが少ない。これは汚染粒子で負荷された液体の 一部がストリップの既に清浄化された面７９上に再沈着するのを防止することを 許容する。

それがもどりローラー９上を通過した後、ストリップ７はやはりりすのかご型で あるもどりローラー２４上を通過し、そして次にそれは壁２６，２７．２８によ って形成され、囲い１内部にその出口２９のすぐ上流に設置された乾燥室２５中 へ入る。

ローラー９および２４間において、ストリップは二つのスクレーパー８４．８５ とそして８６．８７を備えた二つのシステム８２゜８３により予備乾燥を受ける 。システム８２のスクレーパー８４は他方のシステム８３のスクレーパー８６． ８７間に配置されたストリップのセクションを掻き落とす。

これらシステム８２．８３は、ストリップが乾燥室２５へ入る前にその上に存在 する液体を殆ど完全に除去することを可能にし、それ故それらは乾燥室の作動を 容易化する。

第５図に示した本発明による装置の第４の具体例は、この装置は囲い１の下方部 において相互に離れた二つのもどりローラー８．９と、そして囲い１の上方部に おいてやはり相互に離れた二つのもどりローラー１０．４１を含み、そのためス トリップがこれら異なるもどりローラー上の通過する時、フィルムのストリップ が三つの連続したセクション、すなわち１種または数種の清浄化および／または 脱汚染液のスプレーを受ける第１の傾斜セクション１８と、はぼ水平な第２のセ クション８８と、そして好ましくは傾斜した第３のセクション８９を提供する点 のみにおいて第３の具体例と相違する。

この実施態様においては、液体がストリップから分離しそしてホンパー５中へ落 下する時、前記清浄化および／または脱汚染液によって運び去られた粒子がスト リップ上に再沈着することを防止するように、下方ローラー８と下方ローラー９ との間に囲い内部に垂直仕切り９０が設置される。

添付図面の第６および３図は、第２図に概略的に示した本発明による装置の具体 例の詳細を図示する。

第６図に見られるように、囲い１はストリップ７の前進運動方向に対して平行な 二つの対向面に、清浄化装置の点検と必要あれば囲い内部へのアクセスを有する 熱可塑ガラスドア４７を提供し得る箱を備える。

チューブ状でそして相互に平行に組立てることができる囲い１内部の固定バー４ ８．４９．５０および５１は、囲いの上流壁５２と下流壁５３から６架している 。これら囲いの前方で延びるこれらバー４８ないし５１の各自に対応して囲いの 後方にもバーがある。このため囲い１内部には囲い中に収容される設備が懸架さ れる４対の固定バー４８ないし５１が存在する。

固定バー４８の対へ上方もどりローラー１０および４１がＬ架さ　、れ、そのシ ャフト１４はボルト５６によってバー４８へフックされたライダー５５へ接続さ れたタブ５４に形成された孔の内側を自由に回転する。この構造により、もどり ローラーｌＯおよび４１の位置はライダー５５のバー４８上の単純なスライディ ングによって相互に多少引き離すことによって修正することができる。

円形断面を有する誘導路２１および４２の対は固定バー４９の対へ懸架される。

その両端においてこれら誘導路の各自は大きい直径の円筒形部分５７を有し、そ の上にそれらの一端により５９にヒンジ止めされ、そしてそれらの他端に蝶形ナ ツト６０を備えた二つの半円形アーム５８°および５８”から形成された締付は リング５８が締付けられる。締付はリングのアーム５８”はボルト６２によって 第２の多角形部材６３へ固着された形状が多角形の部材６１へ取付けられる。部 材６エおよび６３は各自その縁に沿って半円形ノツチを有し、それが誘導路を囲 む０部材６１および６３によって形成された小プレートがバー４９の一つから懸 架しているライダーへ可動に取付けられたタブ６４から懸架している。

リング５８がナツトを外してゆるめられる時、誘導路２１．４２によって支承さ れるノズル２２．４２の方向を前記誘導路をそれらの縦軸上で回転することによ って修正することができる。小プレートを形成する部材６１および６３について も、その中へ各誘導路が入れ子式に係合するチューブ６６に関し誘導路２工およ び４２の縦方向移動を許容するように、ボルト６２をゆるめることにより相互に ゆるめることができる。誘導路２１．４２の各対の誘導路へ清浄化液を供給する 役目をするチューブ６６へは、清浄化液源（図示せず）へ接続されたダクト６８ が入れ子式に接続される他のチューブ６７が係合される。前記のリング５８に類 似の締付はリング６９がダクト６８をチューブ６７の隣接端上に締付ける役目を する。

異なる誘導路のむ架および供給のための手段は上記と同じであり、そして第３． ６および７図においてそれらは同じ参照番号で表わされている。脱ミネラル水源 （図示せず）へ接続されたダクト６日は誘導路１９．４２および４６の対へ供給 し、他方蒸留水源（図示せず）へ接続された他のダクト６８は誘導路２１へ供給 する。

下方ローラー８，４０．９および２７のシャフトは囲い１の枠へ固着されたタブ ７０．７１中に形成された孔の内部で自由に回転し得る。

固定バー５０は固定バー４９と同じ態様で誘導路１９および４６の対を支持する 。

最後に、固定バー５１は乾燥誘導路３０をための支持体として作用する。圧力下 の無菌乾燥空気源（図示せず）へ接続されたダクト７２は、その両端を通って乾 燥誘導路３０へ供給する他のチューブへ接続された第１のチューブ７４上へ可動 締付はリング７３によって締付けられ蚤、誘導路３０の方向およ、びその縦方向 位置は、液体をスプレーする異なる誘導路１９．２１．４２および４６に使用し たものと同じ手段（締付はリング５８１部材６１．６３．タブ６４およびライダ ー６５）によって修正することができる。

第３図に示すように、それらの一端において囲いの下方部へ接続されたタブ７５ は収集ホッパー５の上部へ取付けたボルトを収容するスロット７６を有する。該 ボトル上にナツト７７がねじ込まれる。

このシステムはホンパー５の上縁のレベル、従って囲いの天井２中の孔３によっ て囲い中へ送られた圧力下の無菌空気がそれを通って逃げることができるスリッ ト３９の幅を調節することを可能にする。

第４図に図示した本発明の具体例によるフィルムの洗浄および脱汚染のテストは 、高密度ポリエチレンの一層と低密度ポリエチレンの一層からつくったストリッ プについて以下とおりであった。

１、潅流液バッグの内面である低密度ポリエチレン面（７９）のクリーニングは 、大部分核表面に存在する粒子から来る数個のサブミクロン粒子を含有する潅流 液バッグを得ることを可能にした。このため本発明による装置をもって、サブミ クロン粒子（２ないし５ミクロン）の数を潅流液−当たり２５０粒子以下へ、そ して６０粒子以下へさえも減らすことが可能となった。このような低粒子濃度は 異なる健康機構によって許容されている、一般に潅流液献当たり２ミクロンサブ ミクロン粒子５００ないし１０００粒子の範囲にある濃度限界を満足させること が可能とする。・２、予備乾燥手段８２．８３は、そのような手段が設置されて いない装置において必要な消費量に比較して、乾燥室２５において乾燥に必要な 空気消費量を３分の１へ減らすことを許容する。このより少ない消費量は乾燥室 ２５中の騒音レベルを大きく減らすことを許容する。

国際調査報告 ＡＮＮＥＸ　Ｔｏ　’ｈＦＥ　！ＮＴＥＲＮＡＴＺＯＮＡ（，５ＥＡＲＣＨＲＥ ＰＯＲＴ　０ＮＺｈＴＥＲ−ＮＡＴＩＯＮＡＬ　ＡＦＰ’ＪＣＡＴｒＯＮ　Ｎｏ 、　ＰＣτ／３Ｅ　８７１００００９　（ＳＡ　１７７２８）ｒＲ−Ｅ−９４３ ９８０８７０８／６９　・Ｎｏｎｅ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．熱可塑性材料のフィルムの連続ストリップ（７）のための清浄化および／ま たは脱汚染装置であって、その内部に無菌空気の圧力が維持される囲い（１）を 備え、該囲い内部を入口（１６）および出口（２９）間で連続ストリップ（１） がもどりローラーのまわりを曲がりくねった軌道に沿って動かされ、そして前記 ストリップの少なくとも一面に清浄化および／または脱汚染液体のジェットのス プレーを許容するように、少なくとも一つのノズルを備えた大体水平な誘導路が 前記囲い（１）に設置され、ストリップ（７）から除去された汚染粒子で負荷さ れた前記液体は囲い（１）の底（４）へ落下するようになっていることを特徴と する前記装置。 ２．前記誘導路（７８，８１）は、上昇する軌道を追従しそして下方もどりロー ラー（８）と上方もどりローラー（１０）Φの間を延びるストリップ（７）の傾 斜セクション（１８）の第１の表面（７９）の上に前記液のスプレーを許容する ように配置されており、前記第１の表面（７９）は下方もどりローラー（８）と 接触する第２の表面（８０）の反対面であり、そして垂直に関して下方ローラー （８）の回転方向（Ｗ）に傾斜していることを特徴とする第１項の装置。 ３．前記セクション（１８）の垂直に関する傾斜は５ないし３０°の範囲である ことを特徴とする第２項の装置。 ４．誘導路ノズル（２０，２２，４３，４５）はストリップ（７）の運動方向に 対し大体反対方向を向いていることを特徴とする第１項または第２項の装置。 ５．ストリップ（７）の両側に大体同じレベルに設置された、ノズル（２０，２ ２，４３，４５）を備えた少なくとも１対の誘導路（１９，２１；４２，４６； ７８，８１）を備えていることを特徴とする第４項の装置。 ６．複数の誘導路（１９，２１，４２，４６，７８，８１）または誘導路対がス トリップ（７）に対し横断方向に設置されており、そのためそれらのノズル（２ ０，２２，４３，４５）が囲い（１）の内部で前進運動（Ｙ）を与えられそして 囲い内部でもどりローラー（８，９，１０，４０，４１）の上を案内される前記 ストリップ（７）の連携セクションの上に清浄化および／または脱汚染液をスプ レーするようになっていることを特徴とする第４項の装置。 ７．誘導路（１９，２１，４２，４６，７８，８１）または誘導路対はストリッ プ（７）の同じセクション（１８，４４）の異なるレベルに設置されていること を特徴とする第６項の装置。 ８．連続ストリップ（７）は最初脱ミネラル水のジェットに、そして次に蒸留水 のジェットヘかけられることを特徴とする第１項ないし第７項のいずれかの装置 。 ９．囲い（１）の下部（４）にある囲いの内部の連続ストリップ（７）のための 入口（１６）のレベルに大体配置された第１のもどりローラー（８）と、囲い（ １）の上端近くに配置された第２のもどりローラー（１０）と、囲い（１）の下 端近くに配置されそして第１のローラー（８）に関しシフトされた第３のもどり ローラー（９）を備え、そのため囲い（１）内部を動いているストリップ（７） は有利には第１のローラー（８）と第２のローラー（１０）間の傾斜した軌道に 沿って上方へ、次に第２のローラー（１０）と第３のローラー（９）間を下方へ 動き、ストリップ（７）の両側に配置された二つの対向する誘導路（１９，７８ ）の第１のグループは、第１のグループの誘導路（１９，７８）よりも高いレベ ルにおいて第１（８）および第２のローラー（１０）間のストリップ（７）の軌 道上に配置され、第１のグループの誘導路（１９，７８）のノズルはストリップ （７）の上に脱ミネラル水をスプレーし、第２のグループの誘導路のノズルはス トリップ上に蒸留水をスプレーすることを特徴とする第１項または第２項の装置 。 １０．囲い（１）の下部（４）において相互に離れた三つのもどりローラー（８ ，４０，９）と、囲い（１）の上部においてやはり相互に離れた二つのもどりロ ーラー（１０，４１）を備え、そのためそれがこれら異なるもどりローラー（８ ，９，１０，４０，４１）上を通過する時と、フィルムのストリップ（７）は囲 い（１）の入口（１６）および出口（２９）間で交替に垂直な（１９，４４）お よび強く傾斜した四つの連続したセクションを有し、相互に対向する二つの誘導 路で各自形成される二つのグループ（１９，４２；２１，４６）は異なるレベル においてストリップ（７）の垂直セクション（１８，４４）の各一つへ接近して 設置され、囲い（１）の入口（１６）から下流へ延びるストリップ（７）の第１ の垂直セクション（１８）へ隣接した対向誘導路の二つのグループのノズル（２ ０，４３）と、ストリップ（７）の第２の垂直セクション（４４）に隣接した対 向する誘導路（４６，２１）のグループのこの第２の垂直セクション（４４）下 端４へ近いノズル（４５）はストリップの第１の垂直セクション（１８）の対向 面へおよびストリップ（７）の第２の垂直セクション（４４）の下部の対向面上 に脱ミネラル水をスプレーし、他方ストリップ（７）の第２の垂直セクション（ ４４）へ隣接し囲いの上部へ近い誘導路（２１）のノズル（２２）はストリップ （７）の第２の垂直セクション（４４）の対向面上に蒸留水をスプレーすること を特徴とする第１項の装置。 １１．囲い（１）の下部において相互に離れた二つのもどりローラー（８，９） と、囲い（１）の上部において相互に離れた二つのもどりローラー（１０，４１ ）を備え、そのためそれがこれら異なるもどりローラー上を通過する時、フィル ムのストリップ（７）は、清浄化および／または脱汚染液の１種のスプレーを受 ける第１の傾斜セクション（１８）と、大体水平である第２のセクションと、そ して大体垂直かまたは少し傾斜した第３のセクション（８９）よりなる三つの連 続したセクションを持っていることを特徴とする第２項の装置。 １２．誘導路のノズル（２０，２２，４３，４５）はフィルムのストリップに対 し３０ないし９０°，好ましくは４５ないし６０°の角度を形成するようにフィ ルムのストリップへ向かって傾斜していることを特徴とする第１項または第２項 の装置。 １３．誘導路（１９，２１，４２，４６，７８，８１）のノズル（２０，２２， ４３，４５）の向きを調節する手段（５８）を備えていることを特徴とする第１ 項ないし第１２項のいずれかの装置。 １４．誘導路（１９，２１，４２，４６，７８，８１）の縦方向位置および／ま たは横方向位置および／またはレベルを調節する手段を備えていることを特徴と する第１項の装置。 １５．ストリップ（７）を乾燥する手段が囲い（１）の出口のすぐ上流に設置さ れていることを特徴とする第１項ないし第１４項のいずれかの装置。 １６．前記乾燥手段は囲い（１）の出口から上流にそれを通ってフィルム（７） が通過する室（２５）内に設置された空気吹出し装置からなることを特徴とする 第１５項の装置。 １７．前記空気吹出し装置は調節した空気を供給されそしてストリップ（７）の 両面の一方および／または他方の上に空気を吹付けるノズルを備えた一つまたは 数個の誘導路（３０）を備えていることを特徴とする第１６項の装置。 １８．囲い（１）は囲い（１）内部の調節された空気の雰囲気を形成する無菌空 気へ通路を与える多数の孔（３）を備えた天井（２）を持っていることを特徴と する第１項の装置。 １９．囲い（１）はその下部にストリップ（７）上にスプレーされた液体を収集 するように設計されたコレクター（５）を備えていることを特徴とする第１項の 装置。 ２０．囲いの天井（２）を通って囲い（１）中へ導入された空気の制御された逃 げに役立つ調節し得る幅のスリット（３９）が囲い（１）の下端と前記コレクタ ー（５）との間に設けられていることを特徴とする第１８項または第１９項の装 置。 ２１．囲い（１）内部において粒子がストリップ（７）上に再沈着することを防 止するように、第１（８）と最後（９）のローラー間に仕切り（９０）が配置さ れていることを特徴とする第９項ないし第１１項のいずれかの装置。 ２２．ストリップ（７）の予備乾燥のための手段がストリップが乾燥室（２５） へ入る直前に設置れさていることを特徴とする第１５項ないし第１７項のいずれ かの装置。 ２３．予備乾燥手段は二つのスクレーパーを備えた二つのシステム（８２，８３ ）より構成され、これらシステムはストリップ（７）の両側に配置され、そのた め一方のシステム（８２）の一つのスクレーパー（８４）は他方のシステム（８ ３）のスクレーパー（８６，８７）間に位置するストリップのセクションを掻き 落とすことを特徴とする第２２項の装置。