JPH01503422A - 改良型ウィーンフィルター設計 - Google Patents
改良型ウィーンフィルター設計Info
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- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims description 23
- 239000012777 electrically insulating material Substances 0.000 claims 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 22
- 230000005672 electromagnetic field Effects 0.000 description 11
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 10
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 7
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 6
- 239000013598 vector Substances 0.000 description 5
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 2
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 210000002784 stomach Anatomy 0.000 description 2
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- 239000005041 Mylar™ Substances 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 229910000595 mu-metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003094 perturbing effect Effects 0.000 description 1
- 229920003223 poly(pyromellitimide-1,4-diphenyl ether) Polymers 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000008439 repair process Effects 0.000 description 1
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/26—Mass spectrometers or separator tubes
- H01J49/28—Static spectrometers
- H01J49/284—Static spectrometers using electrostatic and magnetic sectors with simple focusing, e.g. with parallel fields such as Aston spectrometer
- H01J49/286—Static spectrometers using electrostatic and magnetic sectors with simple focusing, e.g. with parallel fields such as Aston spectrometer with energy analysis, e.g. Castaing filter
- H01J49/288—Static spectrometers using electrostatic and magnetic sectors with simple focusing, e.g. with parallel fields such as Aston spectrometer with energy analysis, e.g. Castaing filter using crossed electric and magnetic fields perpendicular to the beam, e.g. Wien filter
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
改良型ウィーンフィルター設計
1、発明の技術分野
本発明は、同一質量粒子用速度フイルター若しくはある範囲の質量粒子を含むビ
ーム用の質量フィルターとしての使用を含む、改良型汎用ウィーンフィルターの
設計に関する。
2、従来技術
従来、交差型電磁界を用いた速度又は質量フィルター(ウィーンフィルター)が
知られている。アール・ヘルツオーク著、1934、Vol、89.p447)
およびダブりニー・ヘンネベルグ著、1934、アニ二アル フィジックス、1
9(5)巻、335頁(Henneberg、 W。
(1934)Ann、Phys、 Vol、 19(5)、p335)を含む初
期文献は、フィルターを速度分光計として機能させて電子のエネルギースペクト
ルを得るウィーンフィルターの使用に関するものである。また、K、W、オウジ
ルピー、R9J、キットリッジ、T、D、ウイルカーソン共著(1968)レビ
ュー・オブ・サイエンテイフ什ツク・インストルーメンツ、39巻、459頁(
Ogilvie、)(、w、、Kittridge。
R,J、、 Wilkerson、 T、 D、 (1968)Rev、 S
ci、 1 nstrum、 Vol。
39、p459)は、重質量粒子分析用ウィーンフィルターに関するものであり
、R,L、セリガー著(1972)ジャーナル・オブ・アプライド・フィジック
ス、43巻、2352頁(S eliger、 R,L、(1972)J、Ap
pl、 Phys、 Vol、 43. p2352は質量分析計に使用するウ
ィーンフィルターと考えられる。
全ての応用においても、質量(速度)フィルターの有効口径の寸法は重要である
。現在知られているウィーンフィルターを通過する物理的口径の範囲内ではある
が、有効口径外の粒子は、収差となり易く、これが速度または質量フィルターの
動作モードのいずれにおいてもウィーンフィルターで達成しうる性能を制限する
。
発明の概要
本発明は交差型電磁場を利用したウィーンフィルターの設計の改良である。ウィ
ーンフィルターの物理的口径は磁極および電極片で囲まれた空間として定義され
る。ウィーンフィルターの有効口径は、イオンビームが通過可能で、所望の質量
(速度)分離を受け得る物理的口径の範囲内の領域である。従来技術では、磁極
および電極片の設計構造により、その有効口径が実際の物理的口径の小部分に制
限されている。本発明は有効口径をほぼ物理的口径の寸法にまで増大させる磁極
および電極片の設計の改良である。
本発明の主要構成要素は、フェライトのような、低導電性磁性材料で作られた二
つの磁極片を含む。これらの極片は装置の物理的口径の両側に相互に相対して配
置されている。
また、本発明は、二つの電極片をも含み、これらは、電流が一方の電極片から他
方の電極片へ磁極片を通って流れ得るように、相互に相対して、かつ、磁極片の
縁と接触して装着するように設計されている。これらの電極片は装置の物理的口
径の両側に磁極片に対して垂直に装着されている。磁極片間に物理的口径を横断
する磁場を励起させる二つコイルが磁極片に隣接して、かつ、それから絶縁して
配設されている。
所要電圧を電極片に伝導するワイヤおよび所要電流を磁極片に伝導するワイヤは
これらの部材に電気的に接続されている。
磁気ハウジングおよび取り付は構造体は、コイル、磁極片および電極片を固定構
造で保持する。
本発明は、有効入射口径を物理的口径の一部として増大させることによって、E
xBウィーンフィルターを通る帯電粒子の伝送を著しく増大させるものである。
これは、集束イオンビーム器械を用いるフォトマスク修復のような応用には大切
な利点である。というのは、伝送の増大はS/N比を高め、より速いおよび/ま
たはより良い撮像を可能にし、また、スパッタ除去行程の終点検出の向上を可能
にするからである。
図面の簡単な説明
第1図はウィーンフィルターの動作原理の説明図、第2図は従来のウィーンフィ
ルターの動作を示す図、第3図は本発明の実施例に係るウィーンフィルターの動
作を示す図、
第4図は本発明の好ましい実施例を示す図である。
好ましい実施例の詳細な説明
第1図はウィーンフィルターの動作原理を示す。この型式の質量(速度)フィル
ターは、フィルターを通過する帯電粒子に逆方向の力を作用させるため交差した
電磁界を用いている。X−Y−Z直交座標系8を示しである。大きさBの平等磁
界10はY軸に平行で負方向に向かっている。大きさEの平等電界12はX軸に
平行で負の方向に向かっている。帯電粒子のビーム14は、最初(磁界10およ
び電界12に出会う前)Z軸に平行で正方向に向けられ、電磁界を通る。電磁界
10.12は、電磁界10.12の大きさが軌導14に沿って常に同じ割合で、
初期値Oガウス(G)、Oポルト/”センチメートル(V / cx)からある
所定の最大値にまで増加し、次いで再びOG、OV/cINにまで減少するよう
な空間に置かれている。磁界10および電界12は粒子のビーム14に力を付与
する。式16は電界12によりビーム14に働く力を表わす。この力は、第1図
にカベクトル18で示すように、正(+)の粒子について−X方同であることに
注意されたい。
ウィーンフィルターを速度分離に使用する場合、ビーム14に及ぼす磁力および
電気力の前記説明が適用される。速度V(中心)を中心とする狭い範囲の速度(
ΔV)を有する帯電粒子(例えば、電子)のみを伝送するのが要求されるとする
と、ΔV/V (中心) < l 、、、、、、(式I)である。
そこで、E/B=V(中心)/C、、、、、、(式J)に従って磁界および電界
の強度の比を設定すると、速度V(中心)の帯電粒子は偏向されずにウィーンフ
ィルターを通り抜ける。わずかに遅い粒子[V < V (中心)]は、電気力
18が磁力22よりもわずかに大きいため、小さなネ・7トカを受ける。わずか
に速い粒子[V>■(中心)]は、磁力22が電気力18をわずかに超えるため
、逆方向に小さなネット力を受ける。全ての速度く〉■(中心)の帯電粒子はX
軸に平行な方向に磁界の強さBに比例する角度でZ軸外へ偏向させられる。
速度分離口径が電磁界から+Z方向の位置でZ軸上にあれば、帯電粒子ビーム1
4はウィーンフィルターを通過した後、速度分離口径に遭遇する。電磁界の強度
の比が式Jに従って設定されていれば、速度V(中央値)の帯電粒子のみが偏向
されずにウィーンフィルターを通って伝送される。磁界10が十分に強ければ、
所望の速度範囲(ΔV)外の粒子は、速度分離口径を通過し得ない十分に遠くの
Z軸外に偏向される。速度分離に用いるウィーンフィルターの動作は一般に当業
者に理解されているところである。
式20は磁界10によるビーム14への力を表わす。この力はビーム14中の各
帯電粒子の速度Vと磁界10の強度Bとのベクトルのクロス積であることに注意
されたい。■が初期に+Z方向でBが−Y方向である場合の入射ビーム14につ
いては、このクロス積は、第1図に力ベクトル22として示される+X方向の力
を与える。両方の力ベクトル18.22ともイオンの電荷ne(eは基本電荷1
.60209X10”クーロンで、nはイオンの正味の全電荷で単位はeである
)に比例するので、二つの力の比は粒子電荷と無関係である。
F IIIag/ F ele= [(V/C)Bコ/E 、、、、(式A)力
ベクトル18.22が大きさが等しければ、これらはX軸に平行な反対方向に向
いているため、完全に相殺される。この同等性は式A=1、即ち、
E/B=V/C、、、、、、、、、(弐B)であるときに起こる。従って、ビー
ム14がV=C(E/B) 、、、、、、、、、(式C)(式中、Cは光速=2
.997925X 10”cm/seeである。)を満足する速1iVを持って
いれば、ビームはその最初の方向から偏向されずにウィーンフィルターを通り抜
け、フィルターから出てZ軸に平行に正方向に進む。粒子のビーム14がその平
均速度Vavに対して狭い速度の広がりΔVを持っていれば、ΔV/ Vav
< 1 、、、、、、、、(式D)であり、電界12の強さEと磁界10の強さ
Bを、E/B =Vav/C、、、、、、、、(弐E)となるように選べば、ビ
ームは質量フィルターを通ることにより少量の発散を受ける。この発散は、電気
力18が磁力22をわずかに超えるので、わずかに遅いイオン(V < V a
v)が小さなネット力を受けるために生じる。わずかに速いイオン(V>Vav
)は、磁力22が電気力18よりわずかに大きいので、反対方向に小さなネット
力を受ける。
ビーム14が、異なる質量m(i)、 i=1.・・・N、(Nは異なる種の数
)を持つが、同じ平均エネルギーEavを持つ、帯電位子種の分布状態を含むも
のとすると、各々の種iについて、非相対論的ビームエネルギーを仮定すれば、
V(i)=SQRT[2Eav/m(i)] 、、、、、(弐F)である。弐F
は、異なる質量m(i)の種々の種(i)が異なる速度V(i)を持つことを示
している。また、イオンエネルギー範囲(ΔE)が狭いことが必要であれば、
□ΔE/Eav < 1 、、、、、(式G)で、式りを満足する。ここで、
E/B=SQRT[2Eav/m(j)]/C−・・(式H)に設定すると、種
j(1≦j≦N)の粒子は、偏向されることなく交差電磁界を通り抜ける。他の
全ての種+ (1< > jl 1≦i≦N)は、X軸に対して平行な方向にZ
軸外へ偏向される。
質量分離口径を電磁界から+Z方向の位置でZ軸上に置けば、帯電粒子ビーム1
4はウィーンフィルターを通過した後、それに打当たる。電磁界の強さの比が式
Hに従って設定されていれば、種jのみが偏向されることなくウィーンフィルタ
ーを通り抜ける。磁界10が十分に強ければ、他の全ての種i (i<>j、l
≦i≦N)はZ軸外へ十分遠くへ偏向され、質量分離口径を通り抜けることはな
い。質量分離に使用されるウィーンフィルターの動作は、当業者に一般に知られ
ているところである。
第2図aはウィーンフィルターの磁極片40.42および電極片44.46につ
いての代表的な従来技術の設計例を示す。第2図aに磁界線を示してあり、これ
らは磁極片40.42の磁性体およびビーム14が通過する両極片間の空間48
を通る。磁極および電極は図示のように適合させるように設計されている。一般
に、従来技術では、極片40.42は、良い導電体である軟鉄あるいはミューメ
タルのような磁性体で作られ、それらの電位は図示のようにOvである。極片4
0.42は、良導電体であるため、電圧がそれぞれ+V、−Vである電極片44
.46と接触させられない。このため極片40.42の許容幅が制限される。対
称面に沿う磁界線5oは、所望の通り真直である。この場合、縁では、磁界線5
2は磁界線間の自然反発作用により図示のようにふくらむ。従って、空間4sの
縁近傍では磁界はもはやY軸に平行に配向されず、第1図についての前記要件を
破ることになる。
第2図すは電極片44.46にそれぞれ+V、 −Vの電圧を印加したときに生
ずる電界線を示す。第2図aについても述べた制約により、これらの極片の幅も
電圧が異なることに束縛されて制限される。対称面に沿う電界線54は、所望通
り、真直である。対称面から離れると、電界線56は電界線間の反発により外方
へふくらむ。
対称面からさらに遠ざかると、電極片44から始まる電界線58は、極片44か
ら極片46に入る代わりに、磁極片4oまたは42で終端する。他の電界線60
が極片4oまたは42がら極片46に入る。
従って、空間48の縁の近傍では、電界もはやX軸に平行に配向されていず、第
1図で与えられた要件をはずれる。
磁界線および電界線が空間48の縁近傍で不適当であるため、ウィーンフィルタ
ーは、そのいずれかの電磁極片の近傍を通るビーム14に対して適切に機能しな
い。これにより、ウィーンフィルターの有効口径は、一般に空間48に相当する
物理的口径の小部分に制限される。
第3図aは本発明で実施された磁極電極片の改良された設計を示す。第2図にお
ける磁極片40.42(これらは電気的に伝導性であった。)は、フェライトの
ような電気的に絶縁性の磁性材料を用いて作られた磁極片80.82に置換され
ている。磁極片80.82は電極片84.86と電気的に接触している。磁極片
8o、82は電気的にグランドから絶縁され、電極片どうしを短絡させることが
ないので、従来技術でのこれらの極片間の接触に対する全ての制限が除去される
。これらの制限の除去に伴い、極片8oおよび82は図示のように幅を広くでき
る。磁界線88は、所望の通り、対称軸上にあって真直である。幅広い磁極片8
o、82が、空間48の外にある磁界線92で示すように、縁近傍以外の磁界線
のふくれを阻止するので、磁界線90もほとんど真直である。従って、空間48
内においては、全ての磁界線はほぼY軸についての平行性に対する第1図の要件
を満足する。
第3図は電極片84および86にそれぞれ電圧+V、−Vを印加したときに生じ
る電界線を示す。磁極片8oは電極片84と領域94で電気的接触をしている。
極片のこの部分に導電性被覆を形成すると、良好な接触が得られる。同様な接続
が極片8oおよび82と極片84および86との他の三つの接触部で行われる。
今、電圧が電極片に印加されると、図示のように、X軸に平行に電流96が磁極
片80および82を流れる。この電流は極片8oと82の内面(空間48に面す
る側)を横切る直線的電圧勾配を生じさせる。電界線98は対称面上にあり、所
望通り真っすぐである。電界線100は極片80の表面の近傍にある。従来技術
では、第2図に示されるように、この電界線はX軸との平行を乱される。しかし
、本発明においては、電流96によって生じた直線的電圧勾配が、第1図での説
明により要求されるような、電界線100のX軸との平行を維持させる。極片8
0および82の磁性材料の電気的固有抵抗は、適切な電圧勾配を生じさせるため
十分な電流を許容するように設定しなければならないが、過剰な熱を発散させる
だけ電流を許容するものであってはならない。一般に、電流96は、飛散する帯
電粒子が所望の直線的電圧勾配を撹乱させるという問題を避けるために、ビーム
14の電流の予期される最大値を超えるべきである。
磁界および電界は共に、実質的に本発明における全空間48で適切であるから、
有効口径はほぼ物理的口径、即ち、空間48と概略等しい。
第4図は第3図に記載した改良型極片設計を用いたウィーンフィルターの好適な
実施例を示す。これはX−Y面での断面図で、ビーム14は図の平面から放射さ
れる。極片106および108管に磁界を生起させるため、コイル102および
104に電流が供給される。好ましい実施例では、極片106および108は、
lXl0@〜I X 10”Ω−cmの範囲内の電気的固有抵抗を有するフェラ
イトで作られる。極片106と108間の磁界分布状態を示しである。
第3図に示すように、極片106および108共に、それぞれ表面110および
112を絶縁材料、例えば、カプトン(Kapton)またはマイラー(Myl
ar)の薄膜で電気的に絶縁されている。
電極片114及び116は、ステンレス鋼304のような真空適合性で導電性の
非磁性材料を用いて作られている。マウントスクリュウ118および120は極
片114および116を所定位置に保持するため絶縁体122および124に押
圧している。ワイヤ(図示せず。)が電圧+V、−Vを印加するため各極片11
4.116にそれぞれ接続されている。本実施例では、電極片114.116が
磁極片106.1080表面126を押圧する模型構造が示しである。このよう
にすると、極片106.108を押圧して絶縁体110.112に対する適切な
接続と共に、良好な電気的接触が容易となる。磁束線128は、一般に軟鉄ある
いはミニ−メタルのような通常の磁性材料で作られたウィーンフィルターの外部
ハウジング内を流れる。
第4図6は第4図aと同じ(同一断面図を示すが、ここでは極片114.116
にそれぞれ印加された電圧+V、−■により生じた電界が示しである。磁極片1
06.108を通って、電流140が電極片11.4.116間を流れる。空間
48中の電界線は、第1図での説明によって要求されるように、X軸と実質的に
総て平行である。
第4図aおよび第4図すは、物理的口径全てにわたり、電界および磁界が第1図
で述べた適切な質量(速度)分離のための方向性に関する要件を満足しているこ
とを示している;第1表に第4図に示す本発明の実施例の物理的設計パラメータ
を示す。
第1表
電極片
材料 ステンレス鋼304
イオン軌道方向長さ 80mm
物理的口径横断幅 8mm
磁極片
材料 フェライト
固有抵抗 1〜100MΩ−am
イオン軌道方向長さ 80mm
物理的口径横断幅 15mm
厚さ 3 mm
磁気コイル
材料 軟鉄
巻き数 360/片側(2方)
標準ワイヤ 23AWG
抵抗 3.7Ω/片側
外部ハウジング
、材料 軟鉄
直径 82.5+nm
以上、好ましい実施例について説明し、第1表に実例となる設計パラメーターを
示したが、当業者であれば、これらを添付の請求の範囲によってのみ定義されべ
きである本発明の技術的思想から逸脱することな(、拡張し又は変形の仕方を容
易に認識し得よう。
FIGURE7
FIGURE2A、(PRIORART)FIGURE 2B、 (PRIOR
ART)FIGURE3A
FIGURE3B
国際調査報告
Claims (1)
- 1.所定間隔をおいて配置された二つの抵抗性磁極片部材と、所定間隔をおいて 配置された二つの電極片とを含み、前記磁極片が相互にほぼ平行に配向され、各 々それに係合する電気的に絶縁性の材料からなる層で該磁極片から分離された励 磁コイルを有し、前記電極片が前記磁極片と電極片の表面で包囲されたほぼ矩形 の物理的口径を形成するように、前記磁極片に対し直交して、かつ、前記磁極片 と物理的に接触して配設された質量フィルター2.前記磁極片が、前記物理的口 径に平等電界を生じさせるように、該磁極片を通って前記電極片間を十分な電流 が流れる固有抵抗を有することを特徴とする請求項1記載の質量フィルター。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US055,414 | 1987-05-27 | ||
| US07/055,414 US4789787A (en) | 1987-05-27 | 1987-05-27 | Wien filter design |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01503422A true JPH01503422A (ja) | 1989-11-16 |
Family
ID=21997637
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63505149A Pending JPH01503422A (ja) | 1987-05-27 | 1988-05-27 | 改良型ウィーンフィルター設計 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4789787A (ja) |
| JP (1) | JPH01503422A (ja) |
| GB (1) | GB2211656B (ja) |
| NL (1) | NL8820413A (ja) |
| WO (1) | WO1988009559A1 (ja) |
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- 1988-05-27 WO PCT/US1988/001694 patent/WO1988009559A1/en not_active Ceased
- 1988-05-27 JP JP63505149A patent/JPH01503422A/ja active Pending
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| NL8820413A (nl) | 1989-04-03 |
| GB2211656A (en) | 1989-07-05 |
| WO1988009559A1 (en) | 1988-12-01 |
| GB2211656B (en) | 1991-02-27 |
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