JPH0152934B2 - - Google Patents

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JPH0152934B2
JPH0152934B2 JP62116873A JP11687387A JPH0152934B2 JP H0152934 B2 JPH0152934 B2 JP H0152934B2 JP 62116873 A JP62116873 A JP 62116873A JP 11687387 A JP11687387 A JP 11687387A JP H0152934 B2 JPH0152934 B2 JP H0152934B2
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Japan
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electrode
transistor
transistors
electrodes
gate
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JP62116873A
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Japanese (ja)
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Kayao Takemoto
Norio Koike
Shinya Ooba
Haruhisa Ando
Masaaki Nakai
Shoji Hanamura
Ryuichi Izawa
Seiji Kubo
Masakazu Aoki
Shuhei Tanaka
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Hitachi Ltd
Kokusai Denki Electric Inc
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Hitachi Denshi KK
Hitachi Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は走査パルス発生回路、例えば光学文字
読み取り装置、フアクシミリ等の光検知素子アレ
ー、固体撮像装置等のように多数の光電変換素子
を時間的かつデジタル的に選択走査するパルスを
発生させる発生回路で、特にMOS形トランジス
タ等による集積回路(IC、LSI)で構成された回
路に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention is applicable to scanning pulse generation circuits, for example, optical character reading devices, photodetector arrays such as facsimiles, solid-state imaging devices, etc. A generation circuit that generates pulses for selective scanning selectively and digitally, and is particularly related to circuits constructed from integrated circuits (ICs, LSIs) using MOS transistors, etc.

〔従来技術〕[Prior art]

従来、上述のごとき走査パルス発生回路として
は、一次元あるいは二次元状に配置された多数の
光電変換素子を順次選択するために、第5図に示
したような2相以上のクロツクパルスにより入力
パルスを一定時間ずつ遅延させて順次出力させる
シフトレジスタ型の走査回路が広く利用されてい
る。この走査回路はMOS電界効果トランジスタ
(以下MOSTと略称する)を用いたシフトレジス
タ型走査回路の初めの3段を示した回路図であ
る。
Conventionally, in the above-mentioned scanning pulse generation circuit, in order to sequentially select a large number of photoelectric conversion elements arranged one-dimensionally or two-dimensionally, input pulses are generated using clock pulses of two or more phases as shown in FIG. Shift register type scanning circuits that sequentially output signals after delaying them by a certain period of time are widely used. This scanning circuit is a circuit diagram showing the first three stages of a shift register type scanning circuit using MOS field effect transistors (hereinafter abbreviated as MOST).

ブロツクG1,G2はそれぞれクロツクパルスφ1
φ2の発生器、G3は入力パルスV1Nの発生器、また
VDは駆動用の電源電圧、VSは一般にアース電圧
を与える基準電圧印加端子である。トランジスタ
G1,G2はゲートとドレインを短絡させて形成し
た飽和型の負荷MOSであり、トランジスタG3
G4は駆動用MOSTである。G1のソースとQ3のド
レインあるいはG2のソースとQ4のドレインを直
列に組み合せた回路は極性反転回路として動作す
る。また、Q5,Q6は伝達MOSTである。
Blocks G 1 and G 2 have clock pulses φ 1 and φ 1 , respectively.
φ 2 generator, G 3 is the input pulse V 1N generator, and
V D is a power supply voltage for driving, and V S is a reference voltage application terminal that generally provides a ground voltage. transistor
G 1 and G 2 are saturation type load MOS formed by shorting the gate and drain, and the transistors G 3 and
G 4 is the driving MOST. A circuit in which the source of G 1 and the drain of Q 3 or the source of G 2 and the drain of Q 4 are combined in series operates as a polarity inversion circuit. Moreover, Q 5 and Q 6 are transmission MOST.

以下の説明はNチヤンネルMOSTを例にとり
正論理(正に高い電圧を“1”、アース電圧を
“0”で表現する)を用いて行うが、Pチヤンネ
ルについても電圧の符号を逆にすれば全く同様に
説明できる。入力パルス発生器G3により、第1
段目の極性反転回路に加えられた入力パルスV1N
はクロツクパルスφ1,φ2によつて交互に開閉す
る伝達MOSTにより、各段を通過する毎にクロ
ツクパルスによつて定まる一定時間だけ遅延され
て、同図Bのタイミングチヤートに示したように
各段の出力端V01,V02,V03に現われる。
The following explanation will take the N channel MOST as an example and use positive logic (expressing a positive high voltage as "1" and the ground voltage as "0"), but for the P channel as well, if the sign of the voltage is reversed, It can be explained in exactly the same way. The input pulse generator G 3 allows the first
Input pulse V 1N applied to the polarity inversion circuit of the first stage
is delayed by a fixed time determined by the clock pulse each time it passes through each stage due to the transmission MOST which is alternately opened and closed by the clock pulses φ 1 and φ 2 . appears at the output terminals V 01 , V 02 , and V 03 .

上述したMOSTを利用するシフトレジスタ型
走査回路は、回路素子をすべてMOSTから製作
でき、比較的製作工程が簡単である等の点で半導
体集積回路に適しており、その集積度および歩留
りの向上も容易である。また、動作マージンも高
く、各段の特性のバラツキも小さいので、多段の
出力が要求される走査回路としては極めて優れた
ものになる。
The above-mentioned shift register type scanning circuit using MOST is suitable for semiconductor integrated circuits because all circuit elements can be manufactured from MOST and the manufacturing process is relatively simple. It's easy. Further, since the operating margin is high and the variation in characteristics of each stage is small, it is extremely excellent as a scanning circuit that requires multi-stage output.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

しかしながら、上述の走査回路は、以下の欠点
を有している。
However, the above scanning circuit has the following drawbacks.

2段のインバータの片方に常時電流が流れる
ため、消費電力が大きい。
Since current always flows through one of the two-stage inverters, power consumption is large.

負荷の駆動能力は、MOST Q2(又はQ1)で
決まるのに、ドライバ・トランジスタの
MOST Q4(又はQ3)のチヤンネル幅(すなわ
ちトランジスタの大きさ)を大きくしなくては
ならず、集積面積が大きくなる。すなわち、出
力オフセツト電圧は、 V=VD×gm(Q2)/gm(Q4)≒VDL2/L4 VD:電源電圧 gm(Q2):MOST Q2のコンダクタンス gm(Q4):MOST Q4のコンダクタンス L2:MOST Q2のチヤンネル幅 L4:MOST Q4のチヤンネル幅 となり、オフセツトを小さくするためには、
MOST Q4のL4を大きくせねばならず、
MOST Q4の面積が大きくなる。
Although the load driving ability is determined by MOST Q 2 (or Q 1 ), the driver transistor
The channel width (ie, transistor size) of MOST Q 4 (or Q 3 ) must be increased, which increases the integration area. In other words , the output offset voltage is V = V 4 ) : Conductance of MOST Q 4 L 2 : Channel width of MOST Q 2 L 4 : Channel width of MOST Q 4 In order to reduce the offset,
L 4 of MOST Q 4 must be increased,
The area of MOST Q 4 increases.

出力振幅が電源電圧に比べて小さい。すなわ
ち、出力の“0”レベルは接地電位にならず
(約VD・gm(Q2)/gm(Q4))、出力の“1”レ
ベルも電源電位にならない。
The output amplitude is small compared to the power supply voltage. That is, the "0" level of the output does not become the ground potential (approximately V D ·gm (Q 2 )/gm (Q 4 )), and the "1" level of the output does not become the power supply potential.

MOST Q4のしきい値電圧のバラツキ影響が
大きい。
The influence of variations in the threshold voltage of MOST Q 4 is large.

又、第5図に示した走査回路の他にも、相補形
MOST(CMOS)によるシフトレジスタも考えら
れている。CMOS回路によれば、高速で低消費
電力であり、1段あたりの構成素子が少なくなる
が、NチヤンネルMOSTとPチヤンネルMOST
を集積回路化しなければならず、製造プロセスが
繁雑になるといつた点からして、どちらか一方の
チヤンネルのMOSTで走査回路を構成すること
が望ましい。
In addition to the scanning circuit shown in FIG.
Shift registers based on MOST (CMOS) are also being considered. CMOS circuits offer high speed, low power consumption, and fewer components per stage, but N-channel MOST and P-channel MOST
It is desirable to configure the scanning circuit with the MOST of one of the channels, since it requires an integrated circuit and the manufacturing process becomes complicated.

本発明は、上述の従来の走査パルス発生回路を
構成する半導体装置の欠点を改善することを目的
としている。
An object of the present invention is to improve the drawbacks of the semiconductor device constituting the conventional scanning pulse generation circuit described above.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明は、MOSTのブートストラツプ回路及
びフイードバツクを利用したリセツト回路によつ
てダイナミツクな走査回路(シフトレジスタ)を
構成した半導体装置である。
The present invention is a semiconductor device in which a dynamic scanning circuit (shift register) is constructed by a MOST bootstrap circuit and a reset circuit using feedback.

〔作 用〕[Effect]

以下、電子を信号電荷とするNチヤンネル
MOSトランジスタ(以下MOST)で説明する。
第2図A、第3図Aにおいて、1はP形Si基板、
2,3はドレインソースとなるN形拡散層、4は
ゲート電極、5はゲート絶縁膜(SiO2)、6はフ
イールド絶縁膜(SiO2等)、7,8はドレイン、
ソース電極、9はN形反転層である。第2図Aで
ゲート電極4がOVの時、ゲート酸化膜5の下の
P形Si基板1の表面に反転層の形成は無い。ゲー
ト電極4に正の電極4に正の電圧(MOSTの閾
値電圧VTh以上)が印加されると、第3図Aの様
にN形反転層9が形成され、N型拡散層2および
3が電気的に接続される。たとえばN型拡散層2
とゲート電極4との間の容量結合関係を第2図B
および第3図Bで示す。
Below, N channel with electrons as signal charge
This will be explained using a MOS transistor (hereinafter referred to as MOST).
In Fig. 2A and Fig. 3A, 1 is a P-type Si substrate;
2 and 3 are N-type diffusion layers that become drain and source, 4 is a gate electrode, 5 is a gate insulating film (SiO 2 ), 6 is a field insulating film (SiO 2 etc.), 7 and 8 are drains,
The source electrode, 9, is an N-type inversion layer. When the gate electrode 4 is OV in FIG. 2A, no inversion layer is formed on the surface of the P-type Si substrate 1 under the gate oxide film 5. When a positive voltage (more than the MOST threshold voltage V Th ) is applied to the gate electrode 4, an N-type inversion layer 9 is formed as shown in FIG. 3A, and the N-type diffusion layers 2 and 3 are are electrically connected. For example, N type diffusion layer 2
Figure 2B shows the capacitive coupling relationship between
and shown in FIG. 3B.

ゲート電極4がOVの時、N形拡散層2に対応
する端子12とゲート電極4に対応する端子14
との間の結合容量は、それらの構造的なオーバー
ラツプによる容量22のみで、ゲート電極4(端
子14)にはこの容量結合の効果を押える寄生容
量として、実質的に接地20と継ながるゲート電
極4とP型Si基板1とのオーバーラツプ容量2
1、端子13で示したN型拡散層3とのオーバー
ラツプ容量23、およびゲート電極に接続する他
の部分の寄生容量24がある(第2図B)。
When the gate electrode 4 is OV, a terminal 12 corresponding to the N-type diffusion layer 2 and a terminal 14 corresponding to the gate electrode 4
The only coupling capacitance between them is the capacitance 22 due to their structural overlap, and the gate electrode 4 (terminal 14) has a parasitic capacitance that suppresses the effect of this capacitive coupling and is substantially connected to the ground 20. Overlap capacitance 2 between gate electrode 4 and P-type Si substrate 1
1. There is an overlap capacitance 23 with the N-type diffusion layer 3 indicated by the terminal 13, and a parasitic capacitance 24 in other parts connected to the gate electrode (FIG. 2B).

一方ゲート電極(端子14)に正電圧(>Vth
が印加されている場合、ゲート電極4(端子1
4)とN形拡散層2(端子12)の間の容量結合
は、前記容量22に加え、容量21に代わる反転
層9との間の容量25と、N形拡散層3(端子1
3)との間のオーバーラツプ容量23との和とな
り、接地20と継ながるものは寄生容量24のみ
となる。容量22と23は通常同等であり、容量
21と25も実質的に等しく、かつ、通常容量2
2に比べ、1桁近く大きな値となる。
On the other hand, a positive voltage (>V th ) is applied to the gate electrode (terminal 14).
is applied, the gate electrode 4 (terminal 1
4) and the N-type diffusion layer 2 (terminal 12), in addition to the capacitance 22, the capacitance 25 between the inversion layer 9 instead of the capacitance 21 and the N-type diffusion layer 3 (terminal 1
3), and only the parasitic capacitance 24 is connected to the ground 20. Capacities 22 and 23 are normally equivalent, capacitances 21 and 25 are also substantially equal, and normal capacity 2
This value is nearly an order of magnitude larger than that of 2.

したがつて、N形拡散層2とゲート電極4の間
の結合容量は、ゲート電極4に印加した電圧によ
り大きく変化するバラクタ容量の性質を持ち、ゲ
ート電極4にあらかじめ正電圧が印加されている
時に、N形拡散層2に正パルスが印加されるとゲ
ート電極4の電圧をさらに大きく上げる、ブート
ストラツプ的効果を与える。
Therefore, the coupling capacitance between the N-type diffusion layer 2 and the gate electrode 4 has the property of a varactor capacitance that changes greatly depending on the voltage applied to the gate electrode 4, and a positive voltage is applied to the gate electrode 4 in advance. Sometimes, when a positive pulse is applied to the N-type diffusion layer 2, the voltage of the gate electrode 4 is further increased, producing a bootstrap-like effect.

本発明は、このバラクタ容量の性質を利用した
走査回路で、その原理を第4図に示す。第4図A
は基本回路に相当する2ビツト分を示すもので、
主要各点A〜Eのタイミングチヤートを第4図B
に示す。負荷45および46は抵抗、あるいは容
量およびこれらの混成など何れであつても良い。
C点の電圧があらかじめ正になつている時、φ2
が正になるとC点の電圧は大きく叩き上げられ、
MOST43は非飽和条件でφ2を負荷46に与え
る。
The present invention is a scanning circuit that utilizes the properties of this varactor capacitance, the principle of which is shown in FIG. Figure 4A
indicates 2 bits corresponding to the basic circuit,
The timing chart for each main point A to E is shown in Figure 4B.
Shown below. The loads 45 and 46 may be resistors, capacitors, or a combination thereof.
When the voltage at point C is already positive, φ 2
When becomes positive, the voltage at point C is greatly increased,
The MOST 43 applies φ 2 to the load 46 under non-saturated conditions.

設計要件は、たとえばB点が正になつた時のC
点の電圧降下をΔV(=Vth+K√VD−Vth;VD
VD:φ1,φ2の振巾、K:基板効果定数)とする
と、 (C1+C2)VD/C1+C2+C3+C4ΔV ……(1) C2VD/C1+C2+C3+C4Vth ……(2) であれば良い。
The design requirement is, for example, when point B becomes positive, C
The voltage drop at the point is ΔV (=V th + K√V D −V th ; V D :
V D : amplitude of φ 1 , φ 2 , K: substrate effect constant), (C 1 + C 2 ) V D /C 1 + C 2 + C 3 + C 4 ΔV ... (1) C 2 V D /C 1 +C 2 +C 3 +C 4 V th ... (2) It is sufficient.

負荷45及び46が小さい場合は、これと並列
に、容量、高抵抗(通常の集積回路素子寸法、用
途においては105〜107Ω程度)あるいは直流電圧
をゲート電極に印加し、定常的に少量の電流を流
すことのできるMOSTを設け、合わせて負荷と
して扱えば良い。
When the loads 45 and 46 are small, a capacitance, high resistance (approximately 10 5 to 10 7 Ω for normal integrated circuit device dimensions and applications), or DC voltage is applied to the gate electrode in parallel, and the load is constantly maintained. Just set up a MOST that can flow a small amount of current and treat it as a load.

本発明の走査パルス発生回路は著るしく構成が
簡単であり、通常の極性反転回路の如く、負荷に
比べ不釣合に大きなドライバ用MOSTも不要で
集積化に適し、低消費電力であり、且つ、印加さ
れたパルスφ1,φ2がそのまま負荷に印加される
ために、これを構成する各MOSTの特性のバラ
付、たとえばVthのバラ付けによる負荷へ印加さ
れるパルスの変動も無く、振巾の低下も無い。特
にアナログ素子、たとえば固体撮像素子やフレー
ムメモリなどの画像素子に適用する場合には、著
しく低雑音化することができる。
The scanning pulse generation circuit of the present invention has a significantly simple configuration, does not require a driver MOST that is disproportionately large compared to the load like a normal polarity inversion circuit, is suitable for integration, and has low power consumption. Since the applied pulses φ 1 and φ 2 are applied to the load as they are, there is no fluctuation in the pulses applied to the load due to variations in the characteristics of each MOST that makes up the MOST, such as variations in V th , and there is no vibration. There is no decrease in width. Particularly when applied to an analog device, for example, an image device such as a solid-state image sensor or a frame memory, it is possible to significantly reduce noise.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明を実施例を参照して詳細に説明す
る。
Hereinafter, the present invention will be explained in detail with reference to Examples.

第1図に示した回路は、本発明の一実施例であ
る。第1図でH1,H2は同期(クロツク)パル
ス、Hinは入力パルス、VSはアースで、O1,O2
O3は出力パルスであり、これを用いて、例えば
固体撮線素子の水平スイツチMOSトランジスタ
等を開閉する。
The circuit shown in FIG. 1 is one embodiment of the present invention. In Figure 1, H 1 and H 2 are synchronization (clock) pulses, Hin is an input pulse, V S is ground, and O 1 , O 2 ,
O3 is an output pulse, which is used to open and close, for example, a horizontal switch MOS transistor of a solid-state imaging device.

いま点Aが高レベル(以下“H”と略す)とす
る。次に同期パルスH2が入力される(“H”にな
る)と、トランジスタT1を通じて点Bの電位が
上昇する。点AとBのブートストラツプ容量51
(先述したところのMOSTの寄生容量で良いが、
外部から容量を付加しても良く、本発明の実施例
を以下に各種述べるが、それ等の例においても同
様である。)を通じて点Aの電位がパルス振幅の
VDより上昇し、トランジスタT1は非飽和領域で
動作するようになる。したがつて点Bには同期パ
ルスH2と全く同じ波形のパルスO1が出力される。
また、この時、同時にトランジスタT2がonして
いるので、点Cに“H”が書き込まれる。この電
位はほぼVDからT2のしきい電圧を引いた値とな
る。
It is now assumed that point A is at a high level (hereinafter abbreviated as "H"). Next, when the synchronizing pulse H2 is input (becomes "H"), the potential at point B increases through the transistor T1 . Bootstrap capacitance of points A and B 51
(The parasitic capacitance of MOST mentioned earlier is fine, but
A capacitor may be added externally, and various embodiments of the present invention will be described below, but the same applies to other examples. ), the potential at point A becomes equal to the pulse amplitude
V D and the transistor T 1 begins to operate in the non-saturation region. Therefore, at point B, a pulse O1 having exactly the same waveform as the synchronizing pulse H2 is output.
Also, at this time, since the transistor T2 is on at the same time, "H" is written to point C. This potential is approximately V D minus the threshold voltage of T 2 .

次にH1が“H”になると、トランジスタT3
T4がonし、前述したと同じ理由により点Eに
“H”が書き込まれる。
Next, when H1 becomes “H”, transistor T3 and
T4 turns on, and "H" is written to point E for the same reason as described above.

さらに、次にH2が“H”になると、同様に点
FにパルスO2が出力される。さて、この時、ト
ランジスタT2もonする。点Cには“H”が書き
込まれているので、そこに蓄積されていた電荷が
点Bへ逆流し、点BとCが同じ電位になろうと
し、点Bの電位が0から正の方へ持ち上がる。
Furthermore, when H 2 becomes "H" next time, pulse O 2 is output to point F in the same way. Now, at this time, transistor T2 is also turned on. Since "H" is written in point C, the charge accumulated there flows back to point B, and points B and C tend to have the same potential, and the potential of point B changes from 0 to positive. Lift up to.

例えば固体撮像素子等では水平出力パルスは第
1図Bに描いてあるように、1度だけパルスが出
て、あとはゼロ電位になつていなければ、雑音が
増大する。トランジスタT7は点BとCの電位を
ゼロにクリアするためのトランジスタである。高
レベルになつている点Fがゲートに接続されてい
るので、T7はonし、点BとCはゼロ電位に固定
されたままになる。
For example, in a solid-state image pickup device, as shown in FIG. 1B, a horizontal output pulse is generated only once, and if the potential is not zero thereafter, noise will increase. Transistor T7 is a transistor for clearing the potentials at points B and C to zero. Since point F, which is at a high level, is connected to the gate, T7 is turned on and points B and C remain fixed at zero potential.

第1図に示した回路では、直流的に電流が流れ
る訳ではないので、消費電力はCMOSなみに少
なく、また素子は全てNチヤンネルMOSTだけ
で構成出来る。
In the circuit shown in FIG. 1, since no direct current flows, the power consumption is as low as that of CMOS, and all elements can be constructed using only N-channel MOSTs.

第6図に示した回路は、出力線にリセツト用ト
ランジスタ61,62を挿入したものであり、動
作原理は第5図に示した回路と全く同じである
が、リセツトトランジスタにより動作がより確実
になる。リセツトトランジスタを挿入しても、シ
フトレジスタのピツチには何ら悪影響はない。
The circuit shown in Figure 6 has reset transistors 61 and 62 inserted in the output line, and the operating principle is exactly the same as the circuit shown in Figure 5, but the reset transistor makes the operation more reliable. Become. Inserting a reset transistor has no adverse effect on the pitch of the shift register.

第7図は第1図の実施例の変形であり、フイー
ドバツクする点が若干異なるだけである。つま
り、第1図において点Fの電位が点Cにフイード
バツクされているが、第7図では第1図の点Bに
フイードバツクしたものである(フイードバツク
MOST:T8,T9)。
FIG. 7 is a modification of the embodiment shown in FIG. 1, with only a slight difference in feedback. In other words, in FIG. 1, the potential at point F is fed back to point C, but in FIG. 7, it is fed back to point B in FIG.
MOST: T8 , T9 ).

逆に、第7図において点Bは点Fからフイード
バツクされているが、第8図に示す本発明の他の
実施例のように点Eからフイードバツクを受けて
も本発明の原理には何ら支障はない。
Conversely, although point B is fed back from point F in FIG. 7, receiving feedback from point E as in another embodiment of the present invention shown in FIG. 8 does not interfere with the principle of the present invention. There isn't.

第9図から第12図は本発明の他の実施例であ
る。第9図の実施例は第1図において、ゲートト
ランジスタT2のドレインを電源VDの線に接続し、
出力O1をトランジスタT2のゲートに印加するよ
うにしたものである。第1図、第6図、第7図及
び第8図までの実施例では同期パルスH1,H2
onする度にトランジスタT2,T4がonし、点Bと
Cの電荷がその度にゲート下に移動する。パルス
H1,H2がoffする時に、その電荷の一部が基板へ
流出し、点Cの電位が若干正の方へ移動する事が
ある。第9図から第12図の実施例はそれを避け
たものである。動作原理は第1図とほぼ同じであ
る。
9 to 12 show other embodiments of the present invention. The embodiment of FIG. 9 differs from FIG. 1 in that the drain of the gate transistor T 2 is connected to the power supply V D line,
The output O1 is applied to the gate of the transistor T2 . In the embodiments shown in FIGS. 1, 6, 7, and 8, the synchronization pulses H 1 and H 2 are
Each time it turns on, transistors T 2 and T 4 turn on, and the charges at points B and C move below the gate each time. pulse
When H 1 and H 2 are turned off, part of the charge flows to the substrate, and the potential at point C may move slightly toward the positive side. The embodiments shown in FIGS. 9 to 12 avoid this problem. The operating principle is almost the same as in FIG.

第10図は第9図のブートストラツプ容量51
としてMOSTトランジスタ101のゲート容量
を用いたものである。
Figure 10 shows the bootstrap capacity 51 in Figure 9.
In this case, the gate capacitance of the MOST transistor 101 is used.

第11図は、トランジスタT1,T2が既にバラ
クタ容量を有しているが、特にブートストラツプ
容量としてコンデンサ111を外付けで設けた例
である。
FIG. 11 shows an example in which a capacitor 111 is provided externally as a bootstrap capacitor, although the transistors T 1 and T 2 already have varactor capacitors.

第9図のフイードバツクトランジスタT0のゲ
ートが点Eに接続されているのに比べ、第12図
は点Dからフイードバツクされている例である。
While the gate of the feedback transistor T0 in FIG. 9 is connected to point E, FIG. 12 shows an example in which feedback is provided from point D.

第13図は本発明の別の実施例である。第13
図は第6図において、フイードバツクトランジス
タT7を点Cではなく、点Bへフイードバツクし
たものである。
FIG. 13 shows another embodiment of the invention. 13th
The figure shows the same as in FIG. 6, but the feedback transistor T7 is fed back to point B instead of point C.

第14図に他の実施例を示す。この実施例は第
9図の実施例の出力O1,O2,O3…の線にリセツ
トトランジスタ141,142を設け、そのゲー
トをそれぞれ同期パルスH1,H2に接続したもの
である。
FIG. 14 shows another embodiment. In this embodiment, reset transistors 141 and 142 are provided on the output lines O 1 , O 2 , O 3 .

また、以上の実施例では出力O1,O2,O3は、
同期パルスのH1あるいはH2の一方のみに同期し
たパルスであつたが、通常の走査回路として使用
する場合には、これに限定されるものではない。
たとえば第1図において、H1,H2を相似のパル
スとすれば点B,D,Fから出力パルスが得られ
る。この使用法は本発明の実施例全てに適用出来
ることは言うまでもない。
Furthermore, in the above embodiment, the outputs O 1 , O 2 , O 3 are as follows:
Although the pulse was synchronized with only one of the synchronization pulses H1 or H2 , the use as a normal scanning circuit is not limited to this.
For example, in FIG. 1, if H 1 and H 2 are similar pulses, output pulses can be obtained from points B, D, and F. It goes without saying that this method of use is applicable to all embodiments of the present invention.

本発明の他のタイプの実施例を以下説明する。 Other types of embodiments of the invention are described below.

第15図は本発明の走査回路の一実施例を示
す。4個のMOST、例えばT11,T12,T14で単位
回路(ビツト)を構成する。第15図Bに入力パ
ルスφio、駆動パルスφ1,φ2、および第15図A
に於ける主な点の代表として点15A,15B、
および走査パルスを得る点15C,15F,15
Iの電位のタイムチヤートを第15図Bに示す。
点15Dと15E、15Gと15Hの各点の電位
はそれぞれ点15Aと15Bと同様な電位が
360゜、720゜の位相遅となつて現われる。端子VS
接地するが、φ1と結合しても(点15Aの電位
波形は少し変るが)同様な効果を得る。
FIG. 15 shows an embodiment of the scanning circuit of the present invention. A unit circuit (bit) is composed of four MOSTs, for example, T 11 , T 12 , and T 14 . FIG. 15B shows input pulse φ io , drive pulses φ 1 , φ 2 , and FIG. 15A
Points 15A and 15B are representative of the main points in
and points 15C, 15F, 15 where scanning pulses are obtained.
A time chart of the potential of I is shown in FIG. 15B.
The potentials at points 15D and 15E, 15G and 15H are similar to those at points 15A and 15B, respectively.
It appears as a phase delay of 360° and 720°. Although the terminal V S is grounded, the same effect can be obtained even if it is coupled to φ 1 (although the potential waveform at point 15A changes slightly).

点15Aの得る最高電位はT11の閾電圧Vth
基板効果によりΔV1低下し、さらにT13のゲート
容量の充電のためにΔV2低下して点15Bに伝え
られ、T13を導通させる。φ1により点15Bの電
位は前記バラクタ容量効果(容量151で代表)
により叩き上げられΔV3上昇する。ΔV3Vth
ΔV1+ΔV2であれば、φ1はT13を素通りして
(T13が非飽和の条件で)出力端、たとえば点1
5Cに伝えられる。
The highest potential obtained at point 15A is reduced by ΔV 1 due to the threshold voltage V th of T 11 and the substrate effect, and further reduced by ΔV 2 due to charging of the gate capacitance of T 13 , which is transmitted to point 15B, making T 13 conductive. . Due to φ 1 , the potential at point 15B is due to the varactor capacitance effect (represented by capacitance 151).
It is pushed up by ΔV and increases by 3 . ΔV 3 V th +
If ΔV 1 + ΔV 2 , φ 1 passes through T 13 (under the condition that T 13 is not saturated) and reaches the output end, for example, point 1.
This will be communicated to 5C.

またT12のゲート電極容量効果により、第15
図Bに示すように、φ2のパルスが正になる度に
点15A,15Bには電位ΔV4が現われT15を周
期的に導通させる。この時φ1は接地レベルにあ
り、出力端を常に接地電位に安定化させるリセツ
ト動作を行なう。T14の閾値電圧のみを他の
MOSTより高くすれば、この効果はさに良く発
揮される。
Also, due to the gate electrode capacitance effect of T 12 , the 15th
As shown in FIG. B, each time the pulse of φ 2 becomes positive, a potential ΔV 4 appears at points 15A and 15B, making T 15 periodically conductive. At this time, φ1 is at ground level, and a reset operation is performed to always stabilize the output terminal at ground potential. T 14 threshold voltage only other
This effect is best exhibited if the value is set higher than MOST.

本発明の走査回路は、出力パルスがφ1のみか
ら得れ、且つ、各MOST、特にT13閾電圧などの
特性のバラ付の影響を受けず、減衰も無く、一様
性が著しく改善される。また、所要電力が著しく
少なく、インバータ回路に必要な、負荷に不均合
に大きなドライバ用MOSTも不要であり、高集
積化に特に適している。
The scanning circuit of the present invention can obtain output pulses only from φ 1 , is not affected by variations in characteristics of each MOST, especially T 13 threshold voltage, has no attenuation, and has significantly improved uniformity. Ru. In addition, the power required is extremely low, and there is no need for a driver MOST that is disproportionately large to the load, which is required for inverter circuits, making it particularly suitable for high integration.

第16図は前例におけるリセツト動作をより大
きくするために、φ2によつてφ1と出力端を接続
するMOST、T15を設けたものである。T15のド
レインをφ1の代り、接地用の端子VSに接続して
も同様を効果を得る。
In FIG. 16, in order to increase the reset operation in the previous example, a MOST, T15, is provided, which connects φ1 and the output terminal through φ2 . The same effect can be obtained by connecting the drain of T15 to the grounding terminal V S instead of φ1 .

第17図は第15図の例にソースドレインを
φ2に接続したMOST、T16を加えたもので、T16
はT13と同様なバラクタ容量効果を発揮し、前記
T13のゲート容量充電により低下するΔV2を解消
し、設計要件を簡略化する。
Figure 17 shows the example in Figure 15 with the addition of a MOST, T 16 , whose source and drain are connected to φ2 .
exhibits a varactor capacitance effect similar to T 13 , and the
Eliminates the ΔV 2 drop caused by T 13 gate capacitance charging and simplifies design requirements.

言うまでも無く第16図は第17図の実施例と
組み合わせた、すなわち、T15とT16を設ければ
両方の効果を同時に得る。また、第15図で示し
たT13の有するバラクタ的容量151に加え、並
列に容量を設けることにより、ΔV3をより大きく
することができる。これは第2図Bおよび第3図
Bにおける容量23を大きくすることと等価であ
る。
Needless to say, FIG. 16 is combined with the embodiment of FIG. 17, that is, by providing T 15 and T 16 , both effects can be obtained at the same time. Further, by providing a capacitor in parallel in addition to the varactor-like capacitance 151 of T 13 shown in FIG. 15, ΔV 3 can be made larger. This is equivalent to increasing the capacitance 23 in FIGS. 2B and 3B.

いずれの例においても同様な効果を得ることは
言うまでもない。
Needless to say, similar effects can be obtained in either example.

第18図は本発明の走査回路の例のタイプの実
施例を示す。4個のMOST、例えばT21,T22
T23,T24で単位回路(ビツト)を構成する。第
18図Bに入力パルスφio、駆動パルスφ1,φ2
および第18図Aに於ける主な点の代表として点
18A〜18Hの電位のタイムチヤートを第18
図Bに示す。
FIG. 18 shows an embodiment of an exemplary type of scanning circuit of the present invention. 4 MOSTs, e.g. T 21 , T 22 ,
T 23 and T 24 constitute a unit circuit (bit). In FIG. 18B, input pulse φ io , drive pulse φ 1 , φ 2 ,
And as a representative of the main points in FIG. 18A, the time chart of the potential at points 18A to 18H is
Shown in Figure B.

たとえば点18Cの得る最高電位はT21のしき
い電圧Vthと基板効果によりΔV1低下し、さらに
T23のゲート容量の充電のためにΔV2低下して点
18Dに伝えられ、T23を導通させる。φ1により
点18Dの電位は前記バラクタ容量効果により叩
き上げられ、ΔV3上昇する。ΔV3Vth+ΔV1
ΔV2であれば、φ1はT23を素通りして(T23が非
飽和の条件で)出力端、点18Eに伝えられる。
For example, the highest potential obtained at point 18C is reduced by ΔV 1 due to the threshold voltage V th of T 21 and the substrate effect, and further
Due to the charging of the gate capacitance of T 23 , ΔV 2 drops and is transmitted to point 18D, causing T 23 to conduct. Due to φ 1 , the potential at point 18D is raised by the varactor capacitance effect, and increases by ΔV 3 . ΔV 3 V th + ΔV 1 +
If ΔV 2 , φ 1 passes through T 23 (under the condition that T 23 is not saturated) and is transmitted to the output terminal, point 18E.

またT2のゲート電極容量効果により、第18
図Bに示すように、φ2のパルスが正になる度に
点18C,18Dには電位ΔV4が現われT23を周
期的に導通させる。この時φ1は接地レベルにあ
り、出力端を常に接地電位に安定化させるリセツ
ト動作を行なう。T24の閾値電圧のみを他の
MOSTより高くすれば、この効果はさらに良く
発揮される。
In addition, due to the gate electrode capacitance effect of T 2 , the 18th
As shown in FIG. B, each time the pulse of φ 2 becomes positive, a potential ΔV 4 appears at points 18C and 18D, making T 23 periodically conductive. At this time, φ1 is at ground level, and a reset operation is performed to always stabilize the output terminal at ground potential. T 24 threshold voltage only other
This effect will be even better if it is set higher than MOST.

第19図は前例におけるリセツト動作をより大
きくするために、φ2によりφ1と出力端を接続す
るMOST、T25を設けたものである。T25のドレ
インをφ1に代り、接地に接続しても同様な効果
を得る。
In FIG. 19, in order to increase the reset operation in the previous example, a MOST, T25 , is provided to connect φ1 and the output terminal through φ2 . The same effect can be obtained by connecting the drain of T25 to ground instead of φ1 .

第20図は第18図の例にソース、ドレインを
φ2に接続したMOST、T20を加えたもので、T20
はT23と同様なバラクタ容量効果を発揮し、前記
T23のゲート容量充電により低下するΔV2を解消
し、設計要件を簡略化する。
Figure 20 shows the example in Figure 18 with the addition of a MOST, T 20 , with the source and drain connected to φ 2 .
exhibits a varactor capacitance effect similar to T 23 , and the
Eliminates the ΔV 2 drop caused by T 23 gate capacitance charging and simplifies design requirements.

言うまでも無く第19図と第20図の例を組み
合わせた、すなわち、T25とT26を設ければ両方
の効果を同時に得る。また、第18図で示した
T23の有するバラクタ的容量に加え、並列に容量
を設けることにより、ΔV3をより大きくすること
ができる。これは第2図Bおよび第3図Bにおけ
る容量23を大きくすることと等価である。いず
れの実施例においても同様な効果を得ることは言
うまでもない。
Needless to say, by combining the examples shown in FIGS. 19 and 20, that is, by providing T 25 and T 26 , both effects can be obtained at the same time. Also, as shown in Figure 18
By providing a parallel capacitance in addition to the varactor-like capacitance of T 23 , ΔV 3 can be made larger. This is equivalent to increasing the capacitance 23 in FIGS. 2B and 3B. Needless to say, similar effects can be obtained in any of the embodiments.

第21図は、本発明による走査回路のさらに別
のタイプの実施例である。また第21図Bは、第
21図Aの各ノードの電圧波形を示したものであ
る。本走査回路の動作を簡単に説明する。第21
図において、入力パルスφINが与えられると、ク
ロツクパルスφ2によつて、MOSトランジスタ
(以下MOSTと略す)T31がONし、ノード21Z
(MOST、T32のゲート)に電荷がたまる。次に、
クロツクパルスφ1が高レベル(“H”)になると、
ノード21Aは“H”になり、MOST、T33
ONして、ノード21Bも“H”となる。φ1が低
レベル(“H”)なるとノード21Aの電位は
“L”になるが、ノード21BはMOST、T33
ダイオード特性のおかげで“H”になつたままで
ある。ノード21Bの電位は、MOST、T35のゲ
ートと同電位であり、φ2が“H”になると、ノ
ード21Cおよびノード21Dも“H”となる。
再び、φ2が“L”になると、ノード21Cの電
位は“L”になるが、ノード21Dの電位は
“H”のままである。同様に、ノード21E,2
1F,21G,21Hに電圧が伝わつていき、ノ
ード21Fの電位が“H”になればMOST、T34
のゲートが“H”になり、ON状態になり、ノー
ド21Bの電位はVSS、すなわち“L”にリセツ
トされる。
FIG. 21 is yet another type of embodiment of a scanning circuit according to the present invention. Moreover, FIG. 21B shows the voltage waveform of each node in FIG. 21A. The operation of this scanning circuit will be briefly explained. 21st
In the figure, when input pulse φ IN is applied, MOS transistor (hereinafter abbreviated as MOST) T 31 is turned on by clock pulse φ 2 and node 21Z
Charge accumulates at (MOST, gate of T 32 ). next,
When clock pulse φ1 becomes high level (“H”),
Node 21A becomes “H” and MOST and T 33 also become
ON, the node 21B also becomes "H". When φ 1 is at a low level (“H”), the potential of the node 21A becomes “L”, but the node 21B remains at “H” thanks to the diode characteristics of MOST and T 33 . The potential of the node 21B is the same as that of the gate of the MOST and T35 , and when φ 2 becomes "H", the nodes 21C and 21D also become "H".
When φ 2 becomes "L" again, the potential of the node 21C becomes "L", but the potential of the node 21D remains "H". Similarly, node 21E,2
The voltage is transmitted to 1F, 21G, and 21H, and when the potential of node 21F becomes “H”, MOST, T 34
The gate of node 21B becomes "H" and turned on, and the potential of node 21B is reset to V SS , that is, "L".

第21図Bを見るとわかるように、走査回路の
出力としては、21A,21C,21E,21
G,…という幅の狭いパネル列(歯抜けのパルス
列)とB,D,F,H,…という幅の広い列を得
ることができる。また21A,21C,21E,
21G,…のパルス振幅はMOST、T32,T35
T38…のゲート・チヤンネル間の容量によるブー
ト・ストラツプ効果によりφ1(あるいはφ2)のパ
ルス振幅とまつたく同じものが得られる。
As can be seen from FIG. 21B, the outputs of the scanning circuit are 21A, 21C, 21E, 21
It is possible to obtain narrow panel rows (blank pulse trains) such as G, . . . and wide panel rows such as B, D, F, H, . Also 21A, 21C, 21E,
The pulse amplitude of 21G,... is MOST, T 32 , T 35 ,
Due to the boot strap effect due to the capacitance between the gate and channel of T 38 . . . , a pulse amplitude exactly the same as that of φ 1 (or φ 2 ) can be obtained.

電力の消費は入力パルスが伝達しているステー
ジだけであり、しかも負荷を充電するだけでよく
極めて小さくなる。
The power consumption is only in the stage where the input pulse is being transmitted, and it is extremely small as it only requires charging the load.

本発明の他の例を第22図に示す。これは、第
21図におけるMOST、T32,T35,T38,T41
のブート・ストラツプ効果を強めるためにゲー
ト・ソース間に外付けの容量221を付加したも
のである。
Another example of the present invention is shown in FIG. This is MOST, T 32 , T 35 , T 38 , T 41 . . . in Fig. 21.
An external capacitor 221 is added between the gate and source to enhance the boot strap effect.

第23図は他の例であり、ノード21B,21
D,…の電位を“L”にリセツトするためのノー
ド21E,21G,…からフイード・バツクした
ものである(第21図とはフイード・バツクの場
所が異なるだけである)。
FIG. 23 shows another example, where nodes 21B, 21
This is the feedback from nodes 21E, 21G, . . . for resetting the potentials of D, .

第24図は別の例であり、第23図の例にブー
ト・ストラツプ効果を強める外付けの容量241
を付け加えたものである。
FIG. 24 is another example, in which an external capacitor 241 is added to the example of FIG. 23 to enhance the boot strap effect.
is added.

第25図は他の例である。リセツト用トランジ
スタのソスをφ1,φ2に接続したものである。
FIG. 25 is another example. The sos of the reset transistor is connected to φ1 and φ2 .

第26図は他の例であり、第25図の回路構成
にブート・ストラツプ効果を強めるための容量2
61を加えたものである。
Figure 26 is another example, in which the circuit configuration of Figure 25 has a capacitance of 2 to strengthen the boot strap effect.
61.

第27図は他の例である。第21図に271の
MOSバラクタを加えたもので、これらはゲート
が“H”のときだけ容量が大きいという性質があ
る。例えばノード21Bの電位了“H”であれば
271の容量によつてMOST、T35のゲートは十
分“H”になり、“L”であれば271の容量は
小さく何も悪影響を示さない。なお、このMOS
バラクタは第22図〜第26図の例にも加えるこ
とができる。
FIG. 27 shows another example. 271 in Figure 21
This includes a MOS varactor, and these have a property that their capacitance is large only when the gate is "H". For example, if the potential of node 21B is "H", the capacitance of 271 sufficiently brings the gate of MOST, T35 to "H", and if it is "L", the capacitance of 271 is small and does not have any adverse effect. Furthermore, this MOS
Varactors can also be added to the examples of FIGS. 22-26.

第28図は他の例である。第23図の回路のノ
ード、21A,21C,21E,21G,…の
“H”電位をより完全にするためにMOST、T51
〜T54を加えたものである。このリセツトを完全
にするMOSTは第21図、第22図、第24図
〜第27図にも加えたことができる。
FIG. 28 shows another example. In order to make the “H” potential of the nodes 21A, 21C, 21E, 21G, etc. of the circuit in FIG. 23 more complete, MOST, T 51
~ T54 plus. The MOST to complete this reset can also be added to FIGS. 21, 22, and 24-27.

なお、第22図から第27図の回路に対するタ
イミング・チヤートは第21図Bと同様である。
Note that the timing chart for the circuits of FIGS. 22 to 27 is the same as that of FIG. 21B.

本実施例の特徴をまとめると次のようになる。 The features of this embodiment can be summarized as follows.

(i) 3MOST/stageでよく、集積度が向上する。
(ただし、第28図の実施例では4MOST/
stageとなる) (ii) 6MOST/stageとして用いると、φ1(あるい
はφ2)だけに同期した出力パルスが得られ、
出力パルスの不均一性はいちじるしく減少す
る。
(i) 3MOST/stage is sufficient, improving the degree of integration.
(However, in the example shown in Figure 28, 4MOST/
(ii) When used as 6MOST/stage, output pulses synchronized only with φ 1 (or φ 2 ) can be obtained,
The non-uniformity of the output pulses is significantly reduced.

(iii) 出力パルスとして、ノード21A,21C,
21E,21G,…を用いると出力パルス増幅
がφ1(orφ2)とまつたく同じであり、MOSTに
よるVTHdropがない。
(iii) As output pulses, nodes 21A, 21C,
When using 21E, 21G, . . . , the output pulse amplification is exactly the same as φ 1 (or φ 2 ), and there is no V TH drop due to MOST.

(iv) 出力パルス幅は、クロツクパルス幅と同じも
の(狭にパルス幅)と、クロツクパルス周期
(広いパルス幅)とが得られる。
(iv) The output pulse width can be the same as the clock pulse width (narrow pulse width) and the clock pulse period (wide pulse width).

(v) IC化したときの悪い寄生効果(chatge
pumping)がない。
(v) Bad parasitic effects when integrated into ICs (chatge
pumping).

(vi) 消費電力が極めて小さい。(vi) Extremely low power consumption.

(vii) 本走査回路を動作させるためには、φ1,φ2
φIN,VSS(GND)だけでよく、VDDは不要であ
る。
(vii) In order to operate this scanning circuit, φ 1 , φ 2 ,
Only φ IN and V SS (GND) are required; V DD is not necessary.

第29図は以上の走査回路の終端回路を示した
ものである。
FIG. 29 shows the termination circuit of the above scanning circuit.

この図は第21図の実施例にT61,T62,T63
T64,T65のMOSTを接続したものである。
This figure shows T 61 , T 62 , T 63 ,
This is the MOST of T 64 and T 65 connected.

ノード21Fの電位は、ノード21Hの電位が
“H”の時の限り、MOST、T61によつてφ1に同
期したパルス21Iによつてリセツトする。また
パルスHの電位は、ノード21Gの電位が“L”
のときに限りMOST、T63によつてφ2同期したパ
ルス21Jによつてリセツトされることを示して
いる。なお、MOST、T63,T64のgm比はgm、
64/gm、638程度にすればよい。また、
MOST、T62は特になくてもよい動作を確実にす
るために入れてある。
The potential of the node 21F is reset by the pulse 21I synchronized with φ1 by MOST, T61 , as long as the potential of the node 21H is "H". Further, the potential of the pulse H is "L" when the potential of the node 21G is "L".
It is shown that it is reset by the pulse 21J synchronized with φ2 by MOST and T63 only when . In addition, the gm ratio of MOST, T 63 and T 64 is gm,
It should be 64/gm, about 638. Also,
MOST, T 62 is included to ensure operation that is not required.

第30図は別の終端回路について説明したもの
である。今シフトレジスタの30A点に“H”が
蓄積されているとする。次にφ1が“H”になる
とT71はON状態であるため、30B点、30C
点の電位は“H”となる。φ1が“L”となると、
30B電位は“L”となるが、30C電位は
“H”のまま保持される。次にφ2が“H”となる
とT73がON状態となり、30C電位は30C点、
30D点の容量分割される。(30C点容量CC
30D点容量CD電位はCC/CC+CDדH”となる。) この時30Dの電位がT75のしきい電圧より大き
くしておくとT75はON状態となり、30A電位
は放電し、“L”となる。次にφ1が“H”となる
と、T74はON状態となり、30D電位は“L”
となる(C電位はCC/CC+CDדH”のままであ る)。次にφ2が“H”となると30C電位は再び
CCCDに分割される。以上のくり返しで30Aの
電位を放電させた後、30Cの電位は“L”に下
がつてゆく。
FIG. 30 illustrates another termination circuit. Assume that "H" is currently stored at point 30A of the shift register. Next, when φ 1 becomes “H”, T 71 is in the ON state, so the 30B point and 30C
The potential at the point becomes "H". When φ1 becomes “L”,
The potential 30B becomes "L", but the potential 30C remains "H". Next, when φ 2 becomes “H”, T 73 becomes ON state, and the 30C potential is at the 30C point.
The capacity is divided into 30D points. (30C point capacity C C ,
The capacitance C D potential at the 30D point is C C /C C +C D דH”. ) At this time, if the potential of 30D is made higher than the threshold voltage of T75 , T75 will be in the ON state, and the potential of 30A will be discharged and become "L". Next, when φ1 becomes “H”, T74 becomes ON state and the 30D potential becomes “L”
(The C potential remains C C /C C +C D דH”). Next, when φ 2 becomes “H”, the 30C potential changes again.
Divided into C C C D. After repeating the above steps to discharge the potential of 30A, the potential of 30C drops to "L".

この回路の特徴は、 {CC/CC+CDדH”>(T74のしきい電圧)30 D電位(シフトレジスタのくり返し時間後<
(T74のしきい電圧)} となる様にCC、CDを選べばよく、CCとCDの関
係は厳しくなく、ラフな比率でよい。
The characteristics of this circuit are as follows: {C C /C C +C D × “H” > (Threshold voltage of T 74 )
(Threshold voltage of T 74 )} C C and C D should be selected so that the relationship between C C and C D is not strict, and a rough ratio is sufficient.

30B,30Cの電位がチヤージポンピング
等により“H”に上がろうとしてもφ2で分割
し、φ1で放電するタイミングのくり返しで、
“L”にもどす事ができる。
Even if the potential of 30B and 30C tries to rise to "H" due to charge pumping, etc., by repeating the timing of dividing by φ 2 and discharging at φ 1 ,
It can be returned to “L”.

2ケのMOSTを付け加えるだけで終端する
事ができる。
It can be terminated by simply adding two MOSTs.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明によれば、極性反転回路のごとく直流電
流が流れる期間がなく、このため低消費電力で高
速走査に適し、高集積化に適し、効率の良いブー
トストラツプの結合容量により出力波形の一様性
が良く、誤動作の少なく動作マージンが大きくと
れるという効果がある。
According to the present invention, there is no period during which DC current flows as in a polarity inversion circuit, so it is suitable for low power consumption, high-speed scanning, and high integration, and has a uniform output waveform due to the efficient coupling capacitance of the bootstrap. This has the effect of providing good performance, less malfunction, and a large operating margin.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の走査パルス発生回路の一実施
例を示す図、第2図および第3図はMOST形ト
ランジスタの寄生容量を説明する図、第4図は本
発明の走査パルス発生回路の原理を説明する図、
第5図は従来の走査パルス発生回路を示す図、第
6図、第7図、第8図、第9図、第10図、第1
1図、第12図、第13図、第14図、第15
図、第16図、第17図、第18図、第19図、
第20図、第21図、第22図、第23図、第2
4図、第25図、第26図、第27図、第28
図、第29図及び第30図は本発明の走査パルス
発生回路の他の実施例を示す図である。 φ1,φ2…同期パルス(端子)、41,42,4
3,44…MOS形トランジスタ、45,46…
負荷、C1,C2,C3,C4…寄生容量。
FIG. 1 is a diagram showing an embodiment of the scanning pulse generation circuit of the present invention, FIGS. 2 and 3 are diagrams explaining the parasitic capacitance of a MOST type transistor, and FIG. 4 is a diagram showing an embodiment of the scanning pulse generation circuit of the present invention. A diagram explaining the principle,
FIG. 5 is a diagram showing a conventional scanning pulse generation circuit, FIG. 6, FIG. 7, FIG. 8, FIG. 9, FIG.
Figure 1, Figure 12, Figure 13, Figure 14, Figure 15
Figure 16, Figure 17, Figure 18, Figure 19,
Figure 20, Figure 21, Figure 22, Figure 23, Figure 2
Figure 4, Figure 25, Figure 26, Figure 27, Figure 28
29 and 30 are diagrams showing other embodiments of the scanning pulse generation circuit of the present invention. φ 1 , φ 2 ... Synchronous pulse (terminal), 41, 42, 4
3, 44...MOS type transistor, 45, 46...
Load, C 1 , C 2 , C 3 , C 4 ...parasitic capacitance.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 ソース又はドレインとなる第1及び第2電極
並びにゲート電極をそれぞれ有する少なくとも6
個の第1、第2、第3、第4、第5、第6の
MOS形電界効果トランジスタからなる基本回路
を複数個接続して構成され、上記第1トランジス
タのゲート電極は前段の上記基本回路の出力端に
接続され、上記第1トランジスタの第1電極は上
記第2トランジスタの第1電極に接続され、上記
第2トランジスタの第2電極は上記第3トランジ
スタのゲート電極に接続され、上記第3トランジ
スタの第1電極は上記第4トランジスタの第1電
極に接続され、上記第4トランジスタの第2電極
は後段の上記基本回路の入力端に接続され、上記
第5及び第6トランジスタの第1端子はそれぞれ
上記第2及び第4トランジスタの第1又は第2電
極のいずれか一方に接続され、上記第5及び第6
トランジスタの第2電極はそれぞれ接地され、上
記第5及び第6トランジスタのゲート電極はそれ
ぞれ後段の第1及び第3トランジスタの第1電極
又はゲート電極に接続され、上記第1及び第3ト
ランジスタのゲート電極と第1電極との間に容量
性素子が設けられ、上記第1トランジスタの第2
電極及び上記第2トランジスタのゲート電極には
第1の同期パルスが印加され、上記第3トランジ
スタの第2電極及び上記第4トランジスタのゲー
ト電極には第2の同期パルスが印加されてなり、
上記第1及び第3トランジスタの第1電極の少な
くとも一方から走査パルス出力を出力することを
特徴とする半導体装置。 2 ソース又はドレインとなる第1及び第2電極
並びにゲート電極をそれぞれ有する少なくとも6
個の第1、第2、第3、第4、第5、第6の
MOS形電界効果トランジスタからなる基本回路
を複数個接続して構成され、上記第1トランジス
タのゲート電極は前段の上記基本回路の出力端に
接続され、上記第1トランジスタの第1電極は上
記第2トランジスタのゲート電極に接続され、上
記第2トランジスタの第1電極は上記第3トラン
ジスタのゲート電極に接続され、上記第3トラン
ジスタの第1電極は上記第4トランジスタのゲー
ト電極に接続され、上記第4トランジスタの第1
電極は後段の上記基本回路の入力端に接続され、
上記第5及び第6トランジスタの第1端子はそれ
ぞれ上記第2及び第4トランジスタの第1電極に
接続され、上記第5及び第6トランジスタの第2
電極はそれぞれ接地され、上記第5及び第6トラ
ンジスタのゲート電極はそれぞれ後段の第2及び
第4トランジスタの第1電極又はゲート電極に接
続され、上記第1及び第3トランジスタのゲート
電極と第1電極との間に容量性素子が設けられ、
上記第1トランジスタの第2電極には第1の同期
パルスが印加され、上記第3トランジスタの第2
電極には第2の同期パルスが印加され、上記第2
及び第4トランジスタの第2電極には電源電圧が
印加されてなり、上記第1及び第3トランジスタ
の第1電極の少なくとも一方から走査パルス出力
を出力されることを特徴とする半導体装置。 3 ソース又はドレインとなる第1及び第2電極
並びにゲート電極をそれぞれ有する少なくとも6
個の第1、第2、第3、第4、第5、第6の
MOS形電界効果トランジスタからなる基本回路
を複数個接続して構成され、上記第1トランジス
タのゲート電極は前段の上記基本回路の出力端に
接続され、上記第1トランジスタの第1電極は上
記第2トランジスタの第1電極及びゲート電極に
接続され、上記第2トランジスタの第2電極は上
記第3トランジスタのゲート電極に接続され、上
記第3トランジスタの第1電極は上記第4トラン
ジスタの第1電極及びゲート電極に接続され、上
記第4トランジスタの第2電極は後段の上記基本
回路の入力端に接続され、上記第5及び第6トラ
ンジスタの第1端子はそれぞれ上記第2及び第4
トランジスタの第2電極に接続され、上記第5及
び第6トランジスタの第2電極はそれぞれ接地さ
れ、上記第5及び第6トランジスタのゲート電極
はそれぞれ後段の第2及び第4トランジスタの第
2電極又はゲート電極に接続され、上記第1及び
第3トランジスタのゲート電極と第1電極との間
に容量性素子が設けらけ、上記第1トランジスタ
の第2電極には第1の同期パルスが印加され、上
記第3トランジスタの第2電極には第2の同期パ
ルスが印加されてなり、上記第1及び第3トラン
ジスタの第1電極の少なくとも一方から走査パル
ス出力が出力されることを特徴とする半導体装
置。 4 特許請求の範囲第3項において、前記第1及
び第3トランジスタの第1電極に第7及び第8ト
ランジスタの第1電極がそれぞれ接続され、上記
第7及び第8トランジスタの第2電極はそれぞれ
接地され、上記第7トランジスタのゲート電極に
は前記第2の同期パルスが印加され、上記第8ト
ランジスタのゲート電極には前記第1の同期パル
スが印加されることを特徴とする半導体装置。 5 特許請求の範囲第3項において、さらに第
9、第10、第11、第12及び第13のMOS電界効果
トランジスからなる終端回路が上記基本回路の最
終段に接続され、上記第9トランジスタのゲート
電極は前段の第4トランジスタの第2電極に接続
され、上記第9トランジスタの第1電極は第10ト
ランジスタの第1電極及び前段の第5トランジス
タのゲート電極に接続され、上記第9トランジス
タの第2電極には上記第1の同期パルスが印加さ
れ、上記第10トランジスタの第2電極は接地さ
れ、上記第10トランジスタのゲート電極は上記第
2同期パルスが印加され、上記第11トランジスタ
のゲート電極及び第2電極には上記第2の同期パ
ルスが印加され、上記第11トランジスタの第1電
極は上記第12トランジスタの第1電極、上記第13
トランジスタの第1電極及び前段の第6トランジ
スタのゲート電極に接続され、上記第12トランジ
スタのゲート電極は前段の第3トランジスタの第
1電極に接続され、上記第13トランジスタのゲー
ト電極には上記第1の同期パルスが印加され、上
記第10、第12及び第13トランジスタの第2電極は
それぞれ接地されていることを特徴とする半導体
装置。
[Claims] 1. At least six electrodes each having first and second electrodes serving as a source or drain, and a gate electrode.
1st, 2nd, 3rd, 4th, 5th, 6th
The gate electrode of the first transistor is connected to the output terminal of the basic circuit in the previous stage, and the first electrode of the first transistor is connected to the second basic circuit. a first electrode of the transistor; a second electrode of the second transistor is connected to a gate electrode of the third transistor; a first electrode of the third transistor is connected to a first electrode of the fourth transistor; The second electrode of the fourth transistor is connected to the input terminal of the basic circuit at the subsequent stage, and the first terminals of the fifth and sixth transistors are connected to either the first or second electrode of the second and fourth transistors, respectively. connected to one of the fifth and sixth
The second electrodes of the transistors are each grounded, the gate electrodes of the fifth and sixth transistors are respectively connected to the first electrode or the gate electrode of the first and third transistors in the subsequent stage, and the gates of the first and third transistors A capacitive element is provided between the electrode and the first electrode, and a capacitive element is provided between the second electrode and the first electrode.
A first synchronization pulse is applied to the electrode and the gate electrode of the second transistor, and a second synchronization pulse is applied to the second electrode of the third transistor and the gate electrode of the fourth transistor,
A semiconductor device characterized in that a scanning pulse output is output from at least one of the first electrodes of the first and third transistors. 2 At least 6 electrodes each having first and second electrodes serving as a source or drain and a gate electrode.
1st, 2nd, 3rd, 4th, 5th, 6th
The gate electrode of the first transistor is connected to the output terminal of the basic circuit in the previous stage, and the first electrode of the first transistor is connected to the second basic circuit. a first electrode of the second transistor is connected to a gate electrode of the third transistor, a first electrode of the third transistor is connected to a gate electrode of the fourth transistor, and a first electrode of the second transistor is connected to a gate electrode of the fourth transistor; 1st of 4 transistors
The electrode is connected to the input end of the above basic circuit in the subsequent stage,
First terminals of the fifth and sixth transistors are connected to first electrodes of the second and fourth transistors, respectively;
The electrodes are respectively grounded, the gate electrodes of the fifth and sixth transistors are connected to the first electrodes or gate electrodes of the subsequent second and fourth transistors, respectively, and the gate electrodes of the first and third transistors and the first A capacitive element is provided between the electrode and
A first synchronization pulse is applied to a second electrode of the first transistor, and a second synchronization pulse of the third transistor is applied to a second electrode of the first transistor.
A second synchronization pulse is applied to the electrode, and the second synchronization pulse is applied to the electrode.
A semiconductor device, wherein a power supply voltage is applied to the second electrode of the fourth transistor, and a scanning pulse output is output from at least one of the first electrodes of the first and third transistors. 3 At least 6 electrodes each having first and second electrodes serving as a source or drain and a gate electrode.
1st, 2nd, 3rd, 4th, 5th, 6th
The gate electrode of the first transistor is connected to the output terminal of the basic circuit in the previous stage, and the first electrode of the first transistor is connected to the second basic circuit. The second electrode of the second transistor is connected to the gate electrode of the third transistor, and the first electrode of the third transistor is connected to the first electrode of the fourth transistor and the gate electrode of the fourth transistor. The second electrode of the fourth transistor is connected to the input terminal of the basic circuit at the subsequent stage, and the first terminals of the fifth and sixth transistors are connected to the second and fourth transistors, respectively.
The second electrodes of the fifth and sixth transistors are respectively grounded, and the gate electrodes of the fifth and sixth transistors are connected to the second electrodes of the subsequent second and fourth transistors, respectively. A capacitive element is connected to the gate electrode and is provided between the gate electrode and the first electrode of the first and third transistors, and a first synchronization pulse is applied to the second electrode of the first transistor. , wherein a second synchronizing pulse is applied to the second electrode of the third transistor, and a scanning pulse output is output from at least one of the first electrodes of the first and third transistors. Device. 4. In claim 3, the first electrodes of the seventh and eighth transistors are connected to the first electrodes of the first and third transistors, respectively, and the second electrodes of the seventh and eighth transistors are connected to the first electrodes of the first and third transistors, respectively. A semiconductor device that is grounded, wherein the second synchronizing pulse is applied to the gate electrode of the seventh transistor, and the first synchronizing pulse is applied to the gate electrode of the eighth transistor. 5 In claim 3, a termination circuit including ninth, tenth, eleventh, twelfth, and thirteenth MOS field effect transistors is further connected to the final stage of the basic circuit, and The gate electrode is connected to the second electrode of the fourth transistor in the previous stage, the first electrode of the ninth transistor is connected to the first electrode of the tenth transistor and the gate electrode of the fifth transistor in the previous stage, and the first electrode of the ninth transistor is connected to the first electrode of the tenth transistor and the gate electrode of the fifth transistor in the previous stage. The first synchronization pulse is applied to the second electrode, the second electrode of the tenth transistor is grounded, the second synchronization pulse is applied to the gate electrode of the tenth transistor, and the gate of the eleventh transistor is applied to the second electrode. The second synchronous pulse is applied to the electrode and the second electrode, and the first electrode of the eleventh transistor is applied to the first electrode of the twelfth transistor, and the first electrode of the thirteenth transistor is applied to the first electrode of the eleventh transistor.
The gate electrode of the 12th transistor is connected to the first electrode of the transistor and the gate electrode of the 6th transistor in the previous stage, and the gate electrode of the 13th transistor is connected to the gate electrode of the 6th transistor in the previous stage. 1. A semiconductor device, wherein one synchronizing pulse is applied, and second electrodes of the tenth, twelfth, and thirteenth transistors are each grounded.
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