JPH0153846B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は歯垢（歯芽プラーク）の形成を抑制す
るための歯磨組成物、特に歯科用クリームまたは
ゲルに係る。 現今、歯垢と歯肉炎症との間にはある関係があ
ることが確立されている。現在歯垢を除去するた
めに最も普遍的に行なわれているのは歯ブラシに
よる機械的清浄方法である。しかしながら、一般
に行なわれている歯磨は比較的短時間のため、特
に歯ブラシが届き難い部分の歯垢を除去するには
不充分である。 過去25年間にわたる歯科分野の文献には、歯垢
に対処するための抗菌剤の使用に関する発表が非
常に多い。殆んどの研究はカチオン性薬剤の使用
に集中している。何故なら、これらは口腔組織に
対して独立して存在し得、したがつて口内に保持
されるからである。これらの薬剤の活性は、これ
らが口腔表面上に吸着されかつ一定期間にわたり
徐々に放出されることによると信じられる〔ジヤ
ーナル・オブ・クリニカル・ペリオドントロジー
（Journal of Clinical Periodontology）、1980
年、第７巻、第431−442頁〕。活性抗菌剤が口腔
表面上に吸着されないと、口腔内バクテリアが急
速に回復し、歯垢成長の有意義な減少は期待され
ない〔ブリテイツシユ・デンタル・ジヤーナル
（British Dental Journal）、1984年３月、第175
−178頁〕。しかしながら、市場に受け入れられる
練歯磨中へカチオン性抗菌剤を配合することはま
だ成功していない。これは少なくとも部分的にカ
チオン性抗菌剤と一般の練歯磨成分との非相溶性
に起因する。さらに、カチオン性物質、特に鋭意
研究されているクロルヘキシジンは、菌を着色し
たり口腔組織を刺戟したり或いは苦味が長い間残
つたりするなどの欠点をも有する。歯の着色問題
を克服する試みは、多くの特許の主題となつてい
る。本発明者らの確信するところでは、有意義な
抗歯垢効果を有することが認識されているカチオ
ン性抗菌剤を含有する練歯磨は現在に至るも市販
されていない。 カチオン性化合物以外の抗菌剤を使用して口腔
内の衛生を改善する試みに関する文献も存在する
が、一般にこれら薬剤の口腔内独立性は有意義な
抗歯垢特性を得るには不充分であると考えられ、
いずれにせよこれらは概して難水溶性であるため
有用でないと考えられている。従来、歯磨の活性
薬剤は練歯磨の水性相中で溶液状態である必要が
あると一般に信じられていた。 本発明者らは、実質的に水不溶性の非カチオン
性抗菌剤またはこれら抗菌剤の混合物を用いる
と、これを含有する歯磨組成物が下記に詳細に説
明するいくつかの特性を有すれば、歯垢の成長を
相当に減少させうることを見い出した。このよう
な予期されなかつた抗歯垢活性は、本発明の特殊
な歯磨組成物によつて、抗菌剤が歯表面に対して
放出され、歯垢の再成長の速度、歯垢代謝の速度
および平衡歯垢レベルに対し実質的な影響を及ぼ
すのに充分な時間にわたつて歯表面に留まること
ができるという事実に基づくものと思われる。 また本発明者らの研究によつて、本発明の特殊
な歯磨組成物は、亜鉛塩（一般に抗歯垢効果を有
することが知られている）の口腔内保持を増進さ
せて歯垢成長の抑制効果をも改善しうることが示
された。各種の亜鉛塩、たとえばクエン酸亜鉛が
米国特許第4022880号に開示されている。また、
カルボキシメチルオキシコハク酸亜鉛の使用につ
いては米国特許第4144323号に記載されている。 本発明によつて、表面活性剤と、実質的に水不
溶性の非カチオン性抗菌剤、もしくは25℃、PH７
で水100ｇ当り２×10^-4ｇより大きく、好ましく
は１×10^-2ｇより大きい水溶性を有する亜鉛塩、
またはこれらの混合物より成る抗菌垢剤（anti−
plaque agent）とを含む、歯垢の成長を抑制す
るのに有効な歯磨組成物が提供され、この歯磨組
成物中には、6.0nｍ未満のラメラ間隔（lamellar
spacing）を有する表面活性剤分子と水分子との
交互の相からなる離液性のラメラ液晶相（以下、
ラメラ液晶表面活性剤相と云う）が存在し、この
ラメラ液晶表面活性剤相が歯磨組成物の少なくと
も0.2重量％、好ましくは少なくとも0.3重量％、
より好ましくは少くとも0.5重量％の量で存在す
ることを特徴とする。 歯磨組成物がラメラ液晶表面活性剤相を含んで
いるかどうかは、歯磨を遠心分離工程にかけて得
られる生成物を検査して決定することができる。
これについて以下に説明する。 歯磨を充分な遠心力で遠心分離し、一般に研磨
剤相、水性相、洗浄剤相および香料相として存在
る主たる相を分離する。予備的遠心分離で大部分
の研磨剤を分離すると便利であり、次いで超遠心
分離によつて液体部分の夫々の相を分離する。必
要とされる遠心分離の速度および時間は、分離に
対する調合物の抵抗性に依存する。結合剤として
ナトリウムカルボキシメチルセルロースを含有す
る歯磨の場合は、遠心分離に先立つて結合剤を酵
素的に分解すると分離が容易になる。歯磨をセル
ラーゼ含有粉末（0.1w／ｗ％、アスペルギル
ス・ニガー（Aspergillus niger）から調製、活
性1.3単位／mg）と共に室温で18時間インキユベ
ートしてナトリウムカルボキシメチルセルロース
結合剤を分解する。 得られたスラリー、または結合剤の予備的分解
を行なわない場合には歯磨自身を、10000ｇで１
時間遠心分離し、沈降した研磨剤を除去する。次
に、液体部分を２時間200000ｇで遠心分離する。
一般にこの遠心分離条件で歯磨の各相をうまく分
離できることが判明した。 この遠心分離工程で得られた生成物を、本明細
書において遠心分離生成物と呼ぶ。この遠心分離
生成物はいくつかの層からなつている。下側の固
体層とその上部の湿潤剤含有層とで遠心分離生成
物の主要部が構成されている。遠心分離生成物の
残部には、液晶の形態の表面活性剤よりなる層が
含まれていることがある。存在する場合この層は
一般に上層または上層の１つを構成する。その実
際の位置は、これら層の相対密度に依存する。こ
の液晶表面活性剤相を遠心分離生成物から除去す
ることができ、その重量を歯磨に対する％として
決定することができる。ラメラ液晶表面活性剤相
は基本的に水層によつて分離された表面活性剤分
子の複数個の層で構成されるが、歯磨の全体組成
に応じて他の成分を含んでいてもよい。表面活性
剤層と水層との間のこれらの他の成分の分配は、
それぞれの水溶性および疎水性に依存する。 液晶は周知であり、これらについて記載した最
近の文献はエルセビール・サイエンテイフイツク
出版社（Elsevier Scientific Publishing
Company、アムステルダム−オツクスフオード
−ニユーヨーク、1983年）が出版したイー・ワイ
ン−ジヨーンズ（E.Wyn−Jones）およびジエ
ー・ゴーマリー（J.Gormally）編集の「溶液中
の凝集工程（Aggregation Processes in
Solution）」と題するものであり、特にその「離
液性液晶（Lyotropic Liquid Crystals）」と題す
る第７章を参照することができる。 遠心分離生成物がラメラ液晶表面活性剤相を含
む場合、層間隔はＸ線散乱技術によつて決定する
ことができる。 層間隔d₀は、層状液晶構造の断面における反復
単位間の距離、すなわち洗浄剤シートの厚さとこ
れら洗浄剤シート間に挾まれた水層の厚さの合計
として定義される。これは、小角度Ｘ線散乱
（SAXS）、すなわち結晶もしくは液晶物質中にお
ける１〜1000nｍの範囲の長周期（long
periodicities）を測定するのに使用される技術に
よつて測定することができる。この測定に使用さ
れる「クラトキー（Kratky」SAXSカメラでは
精巧なコリメーターによつてＸ線（Cu、K〓放射）
の細かいビームが発生、これが１mmのガラス製毛
細管に入れてあるかまたは厚さ6μｍのマイラー
（Mylar）フイルムの間に挾持された試料に衝突
する。 この散乱した放射線を、角度に対する散乱強度
の変化を測定する比例計数管によつて検出する。
最大ピークに相当する角度をチヤートレコーダー
の記録から測定し、対応する「ｄ−間隔」を次の
ブラツグの条件式から算出する： 2dsinθ＝nλ 〔ここでCuK〓放射の場合、ｎ＝１、λ＝0.1542n
ｍである〕。 ラメラ液晶相のラメラ間隔を測定するためにこ
の技術を応用することについては、ジヤーナル・
オブ・コロイド・アンド・インターフエース・サ
イエンス（journal of Colloid and Interface
Science）、第41巻、第１号（1974年４月）、第59
〜64頁および第86巻、第２号（1982年４月）、第
501〜514頁に記載されている。 液晶表面活性剤相のラメラ間隔は、好ましくは
5.0nｍ未満、特に好ましくは4.4n未満である。 歯磨に使用される最も一般的な表面活性剤は、
ヤシ油脂肪酸から誘導された主としてドデシル硫
酸ナトリウムからなるラウリル硫酸ナトリウムで
あるが、純粋なドデシル硫酸ナトリウムも使用す
ることができる。他の公知の歯磨用表面活性剤と
してはドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムが
あるが、これは歯磨の表面活性剤として単独では
一般に使用されず、ラウリル硫酸ナトリウムと組
み合せて使用することができる。ラウリル硫酸ナ
トリウムとドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウ
ムとの適当な組み合せは、重量で４：１〜１：４
の割合である。亜鉛含有抗歯垢剤を含む歯磨にこ
れら表面活性剤の組み合せを使用することは、英
国特許公開第Ａ−1373003号に記載されている。
ナトリウムラウロイルサルコシネートは他の周知
の歯磨用表面活性剤であつて、これも本発明の歯
磨に使用することができる。 歯磨中の表面活性剤は３種の主る形態、すなわ
ち溶液、液晶相または結晶固体として存在するこ
とができる。表面活性剤が存在する形態は、特に
歯磨の他の成分に依存する。たとえば、単独また
は主たる液体湿潤剤として極めて１般的に使用さ
れるグリセロールの存在下では、表面活性剤は溶
液として存在する。何故なら、グリセロールは一
般的な歯磨用表面活性剤に対る溶剤となるからで
ある。同じことがプロピレングリコール（これも
周知の歯磨用湿潤剤である）についても言える。
さらに、ソルビトールを湿潤剤として使用する場
合には、香料油が存在しないとき表面活性剤は固
体結晶剤として存在することも判明した。すなわ
ち、液晶表面活性剤相の形成を促進する歯磨調合
物は、主としてソルビトールを湿潤剤として使用
しかつさらに香料油を含有するものである。しか
しながら、液晶表面活性剤相の形成を妨げないよ
うな量のグリセロールをソルビトールと組み合せ
て使用することが可能である。勿論、ラメラ液晶
表面活性剤相の他の成分方法も本発明の範囲内で
ある。 歯磨中の液晶表面活性剤相の層間隔は、水性相
の電解質濃度によつて影響を受ける。すなわち、
本発明に従つて6.0nｍ未満の層間隔を得るには、
水性相の電解質濃度を調節することで行なうこと
ができる。このような低ラメラ間隔を得るには、
電解質濃度を比較的高くする必要がある。しかし
ながら、電解質濃度の調節以外の手段を使用して
ラメラ間隔を調整することもできる。 適する電解質濃度は、適当な水溶性電解質を添
加して得ることができる。低いd₀値を得るのに必
要とされる電解質の量を決定するには簡単な実験
しか必要とされない。一般に、治療成分および他
の歯磨成分に対し相溶性でありかつ器官感覚受容
性的に許容しうる任意の無毒性塩または塩の混合
物を使用することができる。ここにいう塩とは、
抗カリエス特性を付与するために含ませうる何ら
かの弗素含有塩に付加するものである。勿論、こ
の種の塩は表面活性剤（これも電解質である）お
よび同様に存在させうる任意の亜鉛塩に付加する
ものである。また、この追加の塩は、水性湿潤剤
液相用の結合剤もしくは増粘剤とも区別されるべ
きであり、この結合剤もしくは増粘剤は一般的に
使用される歯磨成分であり、塩たとえばナトリウ
ムカルボキシメチルセルロースであつてもよい。
常用レベルでは、表面活性剤、結合剤および弗素
含有塩を組み合せて使用しても表面活性剤液晶相
の層間隔を6.0nｍ未満まで低下させる程充分な電
解質濃度は得られない。 追加する塩のカチオンは好ましくはナトリウ
ム、カリウム、アルミニウム、マグネシウムまた
は亜鉛である。適するアニオンは酢酸、塩化物、
クエン酸、グルコン酸、乳酸、硫酸、燐酸、酒石
酸、グコン酸およびアスコルビン酸イオンであ
る。d₀値を減少させるのに或る種の塩は同一モル
濃度のカチオン添加で他のものよりも有効であ
る。好ましい塩はナトリウムおよびアルミニウム
の塩である。 塩化ナトリウムの添加量は、歯磨組成物に対し
約0.1〜約３重量％、好ましくは約0.1〜約１重量
％の範囲とするのが好適であることが判明した。
その他の塩は、全カチオンモル濃度が前記塩化ナ
トリウムの量（モル濃度）に相当するよな量で添
加することができる。 所望の低カメラ間隔を得るのに必要とされるよ
り多い塩を含ませることは推奨できない。過剰量
は歯磨の器官感覚受容性的な面での品質を損なう
だけでなく、実際に液晶相の破壊をもたらす。５
％の塩化ナトリウムを添加すると液晶が破壊され
うることが判明した。したがつて、添加する電解
質の量は歯磨に対し約３重量％の塩化ナトリウム
に相当するカチオンモル当量を越えないことが推
奨される。実際上、層間隔の最適な減少は、３重
量％より実者的に少ない塩化ナトリウムの添加レ
ベルで達成され得る。 存在する場合亜鉛塩は水性相の全電解質濃度に
寄与する。 水性相中に存在する電解質の１部は、固体研磨
剤から生ずるイオン、たとえばアルミナ研磨剤か
らのアルミニウムイオンからなつていてもよく、
水性相中のこのようなイオンの割合は使用するミ
キサーのタイプ、特に歯磨の製造中固体成分を混
合するのに使用されるエネルギーに依存し得る。 本発明の歯磨は、一般に少なくとも１重量％の
液晶表面活性剤相を有し、典型的にはその含有量
は1.5〜12重量％である。 本発明の歯磨の抗菌垢剤は実質的に水不溶性の
非カチオン性抗菌剤または上記に定義したような
亜鉛塩またはこれらの混合物である。本明細書中
実質的に水不溶性の抗菌剤という用語は、25℃の
水に対し１％未満、好ましくは0.5％未満、より
好ましくは0.1％未満の溶解度を有するものを意
味する。ただし、抗菌剤がイオン化しうる残基を
含有する場合、溶解度はこれらの残基がイオン化
されないようなPHで測定するものとする。本発明
の歯磨組成物に使用る抗菌剤は、本質的に非イオ
ン性であると見なすことができる。しかしなが
ら、多くの適する抗菌性化合物は或るPHにおいて
イオン化しうる１個以上のフエノール性ヒドロキ
シ基を含有する。したがつて、本発明の歯磨組成
物に有用な抗菌剤の一般的なものが非カチオン性
であると記載する方が正確であると考えられる。 本発明の歯磨組成物に使用しうる非カチオン性
抗菌剤の例はフエノール系化合物、ビスフエノー
ル系化合物、ハロゲン化ジフエニルエーテル、安
息香酸エステルおよびカルボアニリドである。 フエノール系抗菌化合物（ハロゲン化サリチル
アニリドを包含する）の例は次の通りである。 ２−フエニルフエノール、 ４−クロロフエノール、 ４−クロロ−２−メチルフエノール、 ４−クロロ−３−メチルフエノール、 ４−クロロ−３，５−ジメチルフエノール、 ２，４−ジクロロ−３，５−ジメチルフエノー
ル、 ３，４，５，６−テトラブロモ−２−メチルフ
エノール、 ５−メチル−２−ペンチルフエノール、 ４−イソプロピル−３−メチルフエノール、 ５−クロロ−２−ヒドロキシジフエニルメタ
ン、 4′，５−ジブロモサリチルアニリド、 ３，4′，５−トリクロロサリチルアニリド、 ３，4′，５−トリブロモサリチルアニリド、 ２，３，3′，５−テトラクロロサリチルアニリ
ド、 ３，3′，４，5′−テトラクロロサリチルアニリ
ド、 ３，５−ジブロモ−3′−トリフルオロメチルサ
リチルアニリド、 ５−ｎ−オクタノイル−3′−トリフルオロメチ
ルサリチルアニリド。 ビスフエノール系化合物としては次のものを挙
げることができる。 ２，２−メチレンビス（３，４，６−トリクロ
ロフエノール）、 ２，２−メチレンビス（４−クロロフエノー
ル）、 ２，2′−メチレンビス（４−クロロ−６−ブロ
モフエノール）、 ビス（２−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフエ
ニル）スルフイド、 ビス（２−ヒドロキシ−５−クロロフエニル）
スルフイド。 これらの抗菌剤はその亜鉛誘導体として使用す
ることができ、多くのものが米国特許第4022880
号に開示されている。 ハロゲン化ヒドロキシジフエニルエーテルを例
示すれば、次の化合物が挙げられる。 ２，４，4′−トリクロロ−２−ヒドロキシ−ジ
フエニルエーテルおよび ２，2′−ジヒドロキシ−５，5′−ジブロモ−ジ
フエニルエーテル。 他の周知の種類の非カチオン性抗菌剤はｐ−ヒ
ドロキシ安息香酸のエステル、特にメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチ
ル、ヘキシル、ヘプチルおよびベンジルエステル
である。 ハロゲン化カルボアニリドも使用することがで
き、これらは次のものが典型的である。 ３，４，4′−トリクロロカルボアニリド、 ３−トリフルオロメチル−４，4′−ジクロロカ
ルボアニリド、 ３，3′，４−トリクロロカルボアニリド。 その他の公知の実質的に水不溶性の非カチオン
性抗菌剤、たとえば２，４−ジクロロベンジルア
ルコール、３，４−ジクロロベンジルアルコール
および３−（４−クロロフエノキシ）−プロパン−
１，２−ジオールも使用することができる。 好適な抗菌剤はハロゲン化ビスフエノール化合
物およびハロゲン化ヒドロキシジフエニルエーテ
ルである。特に好ましいのは、2′，４，4′−トリ
クロロ−２−ヒドロキシ−ジフエニルエーテル
（以下、トリクロサン（Triclosan）と云う）お
よび２，2′−メチレンビス（４−クロロ−６−ブ
ロモフエノール）である。 一般に、抗菌剤は歯磨に対し0.01〜５重量％、
好ましくは0.05〜１重量％の量で使用される。抗
菌剤の混合物も、勿論、使用することができる。 また、本発明の歯磨組成物の抗菌垢剤は、25
℃、PH７の水100ｇ当り２×10^-4ｇより大きく、
好ましくは１×10^-2ｇより大きい水溶性を有する
亜鉛塩とすることもできる。多数の適する亜鉛塩
が米国特許第4022880号に記載されている。好ま
しい亜鉛塩はモノ−、ジ−およびトリ−カルボン
酸、α−ヒドロキシカルボン酸およびアミノ酸の
亜鉛塩である。好適な塩の例はクエン酸亜鉛、酒
石酸亜鉛、リンゴ酸亜鉛、乳酸亜鉛、グリコール
酸亜鉛、コハク酸亜鉛、カルボキシメチルオキシ
コハク酸亜鉛、グルコン酸亜鉛、サリチル酸亜
鉛、亜鉛ヒスタミンおよび亜鉛ヒスチジンであ
る。米国特許第4325939号に記載されているよう
なアンモニウムおよびアルカリ金属のクエン酸亜
鉛塩も使用することができる。２種以上の亜鉛塩
も、勿論、使用することができる。 亜鉛塩または亜鉛塩の混合物は、望ましくは歯
磨中に約0.05〜約1.5重量％の亜鉛を供給するよ
うな量で使用される。 好適な亜鉛塩はクエン酸亜鉛である。これは三
水塩として容易に入手することができる。好まし
くは、これは約0.2〜約５重量％、特に好ましく
は0.2〜２重量％の量で配合される。 抗菌剤をたとえばクエン酸亜鉛のような亜鉛塩
と組み合せて使用すると最良の結果が得られる。
特に好適な抗菌垢系は、トリクロサンとクエン酸
亜鉛との組み合せ、および２，2′−メチレンビス
（４−クロロ−６−ブロモフエノール）とクエン
酸亜鉛との組み合せとに基づくものである。抗菌
剤とクエン酸亜鉛との組み合せは最良の歯垢成長
抑制度を示し、特に好適な組み合せはトリクロサ
ンとクエン酸亜鉛との組み合せである。この後者
の組み合せにより、カチオン性物質の使用に関連
した重大な欠点を示すことなく、クロルヘキシジ
ンを用いて得られる抑制に近い歯垢抑制が得られ
る。 本発明の歯磨組成物は、好ましくはさらに練歯
磨の活性成分に対し相容性の粒状研磨剤をも含
む。特に好適なものは水和アルミナおよびシリカ
研磨剤であり、これら両者は市販製品として広く
使用されている。燐酸塩研磨剤も広く使用されて
いるが、これらは亜鉛塩を含む場合には適してい
ない。何故なら、これら成分の間に化学的相互作
用が生じうるからである。研磨剤の粒子寸法は一
般に通常通り２〜20μｍの範囲である。適するグ
レードのα−アルミナ三水和物は、英国のBAケ
ミカルズ社（BA Chemicals）によりBACOの名
称で、および西ドイツのマルチンスヴエルケ社
（Martinswerke GmbH）によりマルチナル
（MARTINAL）の名称で販売されている。好適
なシリカ研磨剤は周知のシリカキセロゲルおよび
沈降シリカ、たとえばガシル（GASIL）200（ク
ロスフイールド・ケミカルズ社（Crosfield
Chemicals）、英国により販売されている）、サイ
ロイド（SYLOID）63（グレース・コーポレーシ
ヨン（Grace Corporation）、USAにより販売さ
れている）およびゼオ（ZEO）49（ヒユーバー・
コーポレーシヨン（Huber Corporation）、USA
により販売されている）である。研磨剤の使用量
は一般に歯磨組成物に対し５〜60重量％の範囲で
ある。 歯磨組成物に使用するのに適する結合剤または
増粘剤は当業者に公知である。一般的に使用され
るものは、ナトリウムカルボキシメチルセルロー
スおよびキサンタンガムである。歯磨に着香する
にはペパーミント油およびスペアミント油が一般
に使用されるが、他の広範な種類の香料油も使用
することができる。上記の一般的な標準成分の他
に、多数の任意成分も含ませることができ、特に
たとえばモノフルオロ燐酸ナトリウムのような弗
化物、乳白剤（たとえば二酸化チタン）、保存料、
甘味料およびPH調整剤も含むことができる。 本発明による歯磨の水分含量は一般に不溶性固
形物を除いた歯磨の重量に対し約25〜60重量％の
範囲である。 本発明の歯磨は常法により製造することができ
る。液晶表面活性剤相の低d₀間隔は最終練歯磨組
成物の水性相中の電解質濃度によつて調節される
ので、製造の際の水分損失は電解質濃度（したが
つてd₀間隔）に影響を与える。したがつて、製造
に際し高過ぎる温度を使用したり或いは過度の熱
を発生させるのは避けるのが望ましく、処理温度
は好ましくは15〜35℃、より好ましくは22〜32℃
の範囲である。 以下、実施例により本発明を説明する。 ％は重量による。 実施例 １ 多数の練歯磨を次の成分から作成した。 成 分 ％ アルミナ三水和物 50.00 ソルビトールシロツプ（70％溶液） 27.00 ラウリル硫酸ナトリウム 1.875 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム
0.625 ナトリウムカルボキシメチルセルロース0.80 クエン酸亜鉛三水塩 1.00 トリクロサン 0.50 モノフルオロ燐酸ナトリウム 0.85 香 料 1.20 サツカリン酸ナトリウム 0.18 ホルマリン 0.04 水 100.00まで 各種の練歯磨用ミキサーを用いて練歯磨を作成
した。或るミキサーは他のミキサーより大きい混
合エネルギーを有していた。或る場合には、他の
場合よりも水分損失が大きかつた。このため、溶
液中に入つて来た研磨剤に由来する様々な量のカ
チオンと相俟つて、異なる電解質濃度を有する練
歯磨が得られた。それぞれの場合、表面活性剤は
練歯磨中に液晶の形態で存在していたが、ラメラ
間隔は最終生成物の水性相中の電解質濃度が異な
る結果種々の練歯磨で異なつていた。この実施例
および後述の全ての実施例の練歯磨を製造する
際、成分は22〜32℃の範囲の温度で混合した。ラ
メラ間隔d₀の数値を下記第表に示す。第表お
よびその他本明細書中に示したd₀の数値は、各練
歯磨の製造後１ケ月以内に測定した。 さらに第表には各生成物のPG値も示す。PG
は歯垢の成長を意味し、PG値が低い程、歯に対
する練歯磨の歯垢成長抑制効果が大きい。PG値
は、歯垢の成長を測定する標準法にしたがつて得
られるデータから決定される。歯垢の成長の測定
法は、ジヤーナル・クリニカル・ペリオドントロ
ジー（J.Clin.Periodontol.）、1974年、第１巻、
第166−174頁に記載されているハラツプ
（Harrap）の方法であり、これは歯肉境界部に隣
接した歯に対する歯垢の量の測定方法である。こ
の方法は次の通りである。 午后遅く、各被検者が単純な非活性練歯磨（以
下に示すような組成を有する）により歯を不特定
時間磨て、できるだけ歯垢を除去する。この直後
に、1.5ｇの所定の試験練歯磨で１分間歯を磨く。
残留した練歯磨を水で口をゆすいで除去し、残存
する歯垢を軟質ラクダ毛ブラシを用いてエリスロ
シン（Erythrosin）の水溶液（0.5w／ｗ％）を
歯に塗布して顕示させる。過剰の染料を水洗して
除去し、歯垢の量を測定し、16本の歯のそれぞれ
（各象限（上下の顎の左右四部分）の第３〜６歯）
につき記録する。記録した歯垢をP₀として示す。 他の口腔内衡生は18時間にわたり許可せず、そ
の後各被検者が水で口をゆすいで食物残渣と粘性
唾液とを除去する。次いで、上記のように歯垢測
定を行ない、かつ記録する（P₁₈）。各歯に関する
P₁₈−P₀の数値を平均して、１名当りのP₁₈−P₀値
を得る。試験した被検者の得られた数値の平均が
PG値である。少なくとも12名の被検者よりなる
パネルを用いる。活性成分を含有しない練歯磨の
PG値は通常22〜26の範囲にある。 上記した単純な非活性練歯磨の組成は次の通り
とした。 成 分 ％ アルミナ三水和物 50.00 グリセリン 27.00 ヒドロキシエチルセルロース 0.95 二酸チタン 0.50 水 100.00まで 配合した練歯磨のラメラ間隔およびPG値を、
ラメラ間隔の大きさの順に第表に示す。

【表】

【表】 表は、d₀値が減少するにつれて歯垢成長を抑制
する練歯磨の効果が増大することを示している。 上記練歯磨に対する液晶表面活性剤相の量は、
全て各練歯磨に対し1.5重量％を越えていた。 実施例 ２ この実施例は、比較的少量の電解質を添加して
得られるPG値の有利な減少を示している。 塩化ナトリウムを含有する各種の練歯磨を、第
表に示した成分を用いて作成した。

【表】 塩化ナトリウムを用いずに対応する練歯磨A′、
B′およびC′を作成した。 各対の練歯磨Ａ、A′、Ｂ、B′およびＣ、C′を
同じ方法で同じミキサーを用いて作成した。各対
は市販のミキサ、すなわちそれぞれトンプソン型
（Thompson）、プレスインダストリヤ型
（Pressindustria）およびフリマ型（Fryma）ミ
キサーを用いて作成した。 第表は、それぞれの場合塩化ナトリウムを含
ませると歯垢成長を抑制する効果が改善されるこ
とを示している。

【表】 ６種の練歯磨のそれぞれの液晶表面活性剤相の
量は２重量％を越えていた。 実施例 ３ 実施例２の練歯磨Ａと同じ成分から練歯磨を作
成した。ただし、この場合トリクロサンの代りに
次の抗菌剤を使用した。練歯磨 抗 菌 剤 Ｄ ２，2′−メチレンビス（３，４，６−ト
リクロロフエノール） この練歯磨のd₀値、液晶表面活性剤重量割合
（％）およびPG値を第表に示す。

【表】 実施例 ４ この実施例は、他の抗菌剤の使用を示してい
る。 実施例２の練歯磨Ｃと同様に練歯磨を配合した
が、ただし第表に示した抗菌剤をトリクロサン
の代りに使用した。各練歯磨の液晶表面活性剤相
のラメラ間隔d₀を、液晶表面活性剤相の重量％と
共に第表に示す。

【表】 ール

【表】 ド
実施例 ５ この実施例は、練歯磨の液晶表面活性剤相のd₀
間隔を低下させるために広範な種類の電解質を使
用しうることを示している。 実施例２の練歯磨Ｃの各成分を有する一連の練
歯磨を作成し、ただし塩化ナトリウムの代りに下
記第表に示す他の塩を使用した。この表は、さ
らに各練歯磨における液晶表面活性剤相のd₀間隔
をも示している。

【表】 それぞれの場合、塩の配合量は0.5％塩化ナト
リウムと同じモルカチオン濃度に相当していた。 練歯磨ＣおよびC′に関するd₀値はそれぞれ3.9n
ｍおよび7.2nｍであつた。 実施例 ６〜10 次のものは、作成した本発明の歯磨調合物の他
の例である。

【表】 実施例 11〜13 次のものは、さらに本発明による歯磨調合物の
他の例である：

【表】 ナトリウム

【表】 ム

【表】 ％
実施例 14 この実施例は、低いd₀間隔を有する液晶の形態
で表面活性剤相を存在させた練歯磨では、d₀値が
これより高い練歯磨よりも歯に対する抗菌剤の保
持が優れていることを示している。 このインビトロ法においては、ヒトの大臼歯を
使用した。試験練歯磨に露出させる歯の面積は次
のように標準化した。各歯を垂直方向に２分し、
ラクダ毛ブラシを用いて各半分をワツクスで覆つ
たが、ただし各半分の歯のエナメル質表面には６
mm²の総部を覆わずに残した。 練歯磨は、試験当日に次のように新たに作成し
た50％（ｗ／ｖ）スラリーとして供給した。使用
した希釈剤はエタノールと水との混合物（１：
2v／ｖ）とし、H³−トリクロサンを溶解して試
験するペーストの全含有量よりも20％多い練歯
磨／希釈剤スラリーにおけるトリクロサンの最終
濃度を与えた。たとえば、ペースト１ｇにつきト
リクロサン２mgを含有する組成物５ｇすなわち、
トリクロサン10mg）を追加のH³−トリクロサン
２mgを含有するエタノール／水混和物５mlでスラ
リー化した。 各場合に使用した試験スラリーの容量は30μ
とした。この量は、歯の窓部を覆うのに充分であ
り、これを１分間で施こした。これを施こした
後、歯を水２mlで45秒間洗浄した。次いで、ワツ
クスを除去して捨て、かつ歯をさらにエタノール
（２ml）で45秒間づつ２回、および酸性化エタノ
ール（２ml：濃塩酸／エタノール１／9v／ｖ）
で30分間１回洗浄した。最終の２回のエタノール
洗浄物および酸性エタノール洗浄物に集められた
放射能を適当な消光補正をしたパツカード・トリ
カルブ（Packard Tricarb）4530型シンチレー
シヨン・カウンターにより測定した。その際イン
スターゲル・液体・シンチレーシヨン・カクテル
（Insta−gel Liquid Scintillation Cocktail、ユ
ナイテツド・テクノロジーズ・パツカード、
United Technologies Packard）を使用した。
次いで、これを露出窓部における歯表面に対する
トリクロサン結合量として表わした。 適当な比較実験によつて、放射能が歯表面のワ
ツクス被覆に浸透しないことが示された。ワツク
スに対するトリクロサンの結合は無視した。ワツ
クスは単に保護膜として作用し、かつ吸収量の測
定はワツクス窓部により露出された歯の設定領域
につき行なつた。 それらの結果を第表に要約する。

【表】 ＊ ５％レベルで有意差のある数値
＊＊ 〃
この実験に使用した練歯磨2Aおよび2A′のそれ
ぞれは、第表にデータを示したものとは異なる
ものとした。 実施例 15 この実施例は、クエン酸亜鉛を含有する練歯磨
を使用した後に口内に保持される亜鉛の量は練歯
磨の液晶表面活性剤相のラメラ間隔が小さくなる
と大きくなることを示している。 19名の試験員が口の周囲の練歯磨の水性スラリ
（練歯磨１ｇ、水４ml）を１分間ゆすいだ。これ
を吐き出して集めた後、10mlの水で１分間ゆすい
でこれを集めた。分析により、練歯磨中における
亜鉛のどの程度の割合がゆすいだ後に口内に保持
されるかを測定した。 使用した２種の練歯磨は、実施例１に示した組
成を有する。 これらの結果を第表に示す。第 表 d₀（ｎｍ） 口内に保持された亜鉛％ 4.0 26％ 6.3 6％ 長期歯垢減少および歯内衛生維持の例示 この試験に使用した練歯磨は、4.3nｍのd₀間隔
を有する第表に示したものとした。 １％のクエン酸亜鉛と0.5％のトリクロサンと
ご含有すると長期使用が歯垢蓄積および歯肉衛生
（健康）に及ぼす効果を検討した。 試験を２つの部分に分割し、すなわち動因
（motivation）および専門的清浄の影響を減少さ
せる４週間の予備試験期間の後に10週間の実験期
間を設けた。予備試験期間の際、参加者は、クエ
ン酸亜鉛とトリクロサンとを省略した以外は試験
練歯磨と同じ組成を有するプラセボ歯磨を使用し
た。10週間の実験期間は、２週間の間隔で分離し
た４週間づつの２つの期間に分けた。これら４週
間づつの２つの実験期間に際し、参加者は二重盲
検交差実験において試験歯磨とプラセボ歯磨とを
使用した。繰越効果の影響を最小化させるため、
２週間の間隔を設けた。 この試験に参加させる前に志願者を選別した。
この選別法は次の通りであつた。ジヤーナル・ク
リニカル・ペリオドントロジー（J.Clinical
Periodontology）、1975年、第２巻、第231−240
頁においてカウエル（Cowell）等が推奨してい
る部分記録法を使用して、対象とする６本の特定
の歯が明確なカリエスを含まずかつWHOプロー
プ（WHOは世界保健機構（World Health
Organisation）を意味する）を用いて探査した
際に3.5mm未満の関連するポケツト深さを有する
試験員を選択した。さらに、選択した被験者は、
いかなる改善をも示しうるよう最小レベルの歯肉
炎症（24ケ所のうち７ケ所より多い出血点）を少
なくとも示さねばならなかつた。年令23才〜55才
の20名の男性および29名の女性がこの試験に参加
した。口腔衛生に関する指示は何も与えなかつた
が、参加者には歯ブラシの頭部を覆うのに充分な
量の歯磨（約1.5ｇ）を使用するように指示した。 シルネス（Silness）およびロエ（Loe）〔アク
タ・オドント、スカンジナビア（Acta Odont.
Scandinavia）、1964年、第22巻、第121−35頁〕
による歯垢インデツクスを用いて歯垢を評価し
た。歯肉炎症については、ロエ（Leo）〔ジヤー
ナル・ペリオドントロジー（J.Periodontology）、
1967年、第38巻、第610−16頁〕によつて記載さ
れた歯肉インデツクス、並びにカウエル
（Cowell）等〔ジヤーナル・クリニカル・ペリオ
ドントロジー（J.Clinical Periodontology）、
1975年、第２巻、第231−240頁〕により示唆され
た出血インデツクスの変法により評価した。ポケ
ツト深さは、幅1.0mmの0.5mm目盛のプラスチツク
ストリツプを用いて記録した〔スミス（Smith）、
ブリテイツシユ・デンタル・ジヤーナル
（British Dental J.）1975年、第139巻、第369
頁〕。ラムフイヨルド（Ramfjord）〔ジヤーナ
ル・ペリオドントロジー（J.Periodontology）、
1959年、第30巻、第51−59頁〕により示唆された
ように代表歯（２本の大臼歯、２本の小臼歯およ
び２本の切歯）の頬側、歯列弓近心側、遠位側お
よび舌側表面につき評価を行なつた。 先ず最初に、これらの歯を専門的に掃除して上
部および歯肉下部における歯垢および歯石を全て
除去した。次いで、参加者にプラセボ歯磨と新た
な歯ブラシとを与えた。さらに、歯を第２回の検
査で専門的に掃除し、第１回の実験交差期間に対
する基準線を作成した。この検査で記録した出血
および歯垢のデータを使用して、試験員を２つの
調和したグループが形成されるようにこれら群の
１つの含当てた（第表）。一方のグループには
試験歯磨を与え、かつ他方の群にはプラセボを与
え、それぞれ４週間使用させた。この期間の後、
臨床パラメータを再評価し、かつプラセボ歯磨を
２週間使用して第２回の交差期間の前に試験歯磨
から生ずる全ての繰越効果を回避した。臨床検査
と専門的掃除とを、第２実験期間の前に行なつ
た。次いで、各参加者にそれぞれ第２の歯磨を与
えた。参加者を、この期間の終了時に再び検査し
た。 ４週間の予備試験期間にわたる歯垢、歯肉およ
び出血インデツクスの平均値を下記第表に示
す。

【表】 両者の歯磨に関するそれぞれ４週間の実験期間
並びに全試験（ｎ＝41）に対する歯垢、歯肉およ
び出血インデツクスの平均値を下記第表に示
す。

【表】

【表】 第表に示した結果は、プラセボと比較して試
験歯磨につき歯垢蓄積の有意な減少および歯肉健
康における改善を示している。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 表面活性剤と、実質的に水不溶性の非カチオ
   ン性抗菌剤、25℃、PH７で水100ｇ当り２×10^-4
   ｇより大きい水溶性を有する亜鉛塩、またはこれ
   らの混合物から成る抗菌垢剤とを含む歯垢の成長
   を抑制するのに有効な歯磨組成物であつて、この
   歯磨組成物中に6.0nｍ未満のラメラ間隔を有する
   ラメラ液晶表面活性剤相が歯磨組成物の少なくと
   も0.2重量％の量で存在することを特徴とする歯
   磨組成物。 ２ 液晶表面活性剤相のラメラ間隔が5.0nｍ未満
   であることを特徴とする特許請求の範囲第１項に
   記載の歯磨組成物。 ３ ラメラ間隔が4.4nｍ未満であることを特徴と
   する特許請求の範囲第２項に記載の歯磨組成物。 ４ ラメラ液晶相が歯磨組成物の少なくとも0.3
   重量％の量で存在することを特徴とする特許請求
   の範囲第１項〜第３項のいずれかに記載の歯磨組
   成物。 ５ ラメラ液晶相が歯磨組成物の少なくとも0.5
   重量％の量で存在することを特徴とする特許請求
   の範囲第４項に記載の歯磨組成物。 ６ 表面活性剤がラウリル硫酸ナトリウムである
   ことを特徴とする特許請求の範囲第１項〜第４項
   のいずれかに記載の歯磨組成物。 ７ 表面活性剤がラウリル硫酸ナトリウムとドデ
   シルベンゼンスルホン酸ナトリウムの混合物であ
   ることを特徴とする特許請求の範囲第１項〜第５
   項のいずれかに記載の歯磨組成物。 ８ 歯磨組成物中に更に、塩化ナトリウムが0.1
   〜３重量％、または弗素含有塩以外の塩が当モル
   カチオン濃度で含まれていることを特徴とする特
   許請求の範囲第１項〜第７項のいずれかに記載の
   歯磨組成物。 ９ 前記塩の量が0.1〜１重量％であることを特
   徴とする特許請求の範囲第８項に記載の歯磨組成
   物。 １０ 前記塩のカチオンがナトリウム、カリウ
   ム、アルミニウム、マグネシウムまたは亜鉛であ
   ることを特徴とする特許請求の範囲第８項または
   第９項に記載の歯磨組成物。 １１ 塩が塩化ナトリウムであることを特徴とす
   る特許請求の範囲第８項〜第１０項のいずれかに
   記載の歯磨組成物。 １２ 歯磨組成物中に塩化ナトリウムが0.1〜１
   重量％含まれていることを特徴とする特許請求の
   範囲第８項に記載の歯磨組成物。 １３ 抗菌剤がフエノール系化合物、ビスフエノ
   ール系化合物、ハロゲン化ジフエニルエーテル、
   安息香酸エステルまたはカルボアニリドであるこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第１項〜第１２項
   のいずれかに記載の歯磨組成物。 １４ 抗菌剤が25℃の水に対し0.5％未満の溶解
   度を有することを特徴とする特許請求の範囲第１
   項〜第１３項のいずれかに記載の歯磨組成物。 １５ 抗菌剤が25℃の水に対し0.1％未満の溶解
   度を有することを特徴とする特許請求の範囲第１
   ４項に記載の歯磨組成物。 １６ 抗菌剤がトリクロサン、２，2′−メチレン
   ビス（４−クロロ−６−ブロモフエノール）また
   はｐ−ヒドロキシ安息香酸エステルであることを
   特徴とする特許請求の範囲第１４項に記載の歯磨
   組成物。 １７ 抗菌剤がトリクロサンであることを特徴と
   する特許請求の範囲第１６項に記載の歯磨組成
   物。 １８ 抗菌剤が0.01〜５重量％の量で存在するこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第１項〜第１７項
   のいずれかに記載の歯磨組成物。 １９ 抗菌剤が0.05〜１重量％の量で存在するこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第１項〜第１８項
   のいずれかに記載の歯磨組成物。 ２０ 抗菌垢剤が抗菌剤と、亜鉛が0.05〜1.5重
   量％になるような量の亜鉛塩との混合物からなる
   ことを特徴とする特許請求の範囲第１項〜第１９
   項のいずれかに記載の歯磨組成物。 ２１ 抗菌垢剤が亜鉛が0.05〜1.5重量％となる
   ような量の亜鉛塩であることを特徴とする特許請
   求の範囲第１項〜第１２項のいずれかに記載の歯
   磨組成物。 ２２ 亜鉛塩がクエン酸亜鉛であることを特徴と
   する特許請求の範囲第２０項または第２１項に記
   載の歯磨組成物。 ２３ クエン酸亜鉛が0.2〜２重量％の量で存在
   することを特徴とする特許請求の範囲第２２項に
   記載の歯磨組成物。 ２４ 潤滑剤としてソルビトールを含むことを特
   徴とする特許請求の範囲第１項〜第２３項のいず
   れかに記載の歯磨組成物。 ２５ トリクロサン0.05〜0.3％、クエン酸亜鉛
   0.3〜1.5％、塩化ナトリウム0.2〜１％およびラウ
   リル硫酸ナトリウム１〜３％からなることを特徴
   とする特許請求の範囲第１項に記載の歯磨組成
   物。 ２６ 更に水和アルミナ研磨剤をも含むことを特
   徴とする特許請求の範囲第１項〜第２５項のいず
   れかに記載の歯磨組成物。 ２７ 更にシリカ研磨剤をも含むことを特徴とす
   る特許請求の範囲第１項〜第２５項のいずれかに
   記載の歯磨組成物。 ２８ 研磨剤がシリカキセロゲルであることを特
   徴とする特許請求の範囲第２７項に記載の歯磨組
   成物。 ２９ 研磨剤が沈降シリカであることを特徴とす
   る特許請求の範囲第２７項に記載の歯磨組成物。 ３０ 界面活性剤と、実質的に水不溶性の非カチ
   オン性抗菌剤、25℃、PH７で水100ｇ当り２×
   10^-4ｇより大きい水溶性を有する亜鉛塩、または
   これらの混合物から成る抗菌垢剤とを含む歯垢の
   成長を抑制するのに有効な歯磨組成物の製造方法
   であつて、この歯磨組成物中に6.0nｍ未満のラメ
   ラ間隔を有するラメラ液晶界面活性剤相が歯磨組
   成物の少なくとも0.2重量％の量で存在し、前記
   6.0nｍ未満のラメラ間隔を有する液晶表面活性剤
   相を生成するのに充分な電解質濃度の水性相を得
   るように、水溶性塩を他の成分と混合することを
   特徴とする前記方法。 ３１ 歯磨成分を15〜35℃の範囲内の温度で混合
   することを特徴とする特許請求の範囲第３０項に
   記載の方法。 ３２ 歯磨成分を22〜32℃の範囲内の温度で混合
   することを特徴とする特許請求の範囲第３１項に
   記載の方法。