JPH0160556B2 - - Google Patents

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JPH0160556B2
JPH0160556B2 JP57121356A JP12135682A JPH0160556B2 JP H0160556 B2 JPH0160556 B2 JP H0160556B2 JP 57121356 A JP57121356 A JP 57121356A JP 12135682 A JP12135682 A JP 12135682A JP H0160556 B2 JPH0160556 B2 JP H0160556B2
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JP
Japan
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electrolyte
general formula
tin
sulfuric acid
hydrogen
Prior art date
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Expired
Application number
JP57121356A
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English (en)
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JPS5871386A (ja
Inventor
Bashirefu Todorofu Iban
Buradeimiiroba Mirucheba Bera
Rashukofu Sutefuanofu Sutefuan
Muradenofu Todorofu Iban
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
EDEINEN SENTAA HO SHIMIA
Original Assignee
EDEINEN SENTAA HO SHIMIA
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Publication date
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Publication of JPS5871386A publication Critical patent/JPS5871386A/ja
Publication of JPH0160556B2 publication Critical patent/JPH0160556B2/ja
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/30—Electroplating: Baths therefor from solutions of tin
    • C25D3/32—Electroplating: Baths therefor from solutions of tin characterised by the organic bath constituents used

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
  • Pyridine Compounds (AREA)
  • Cosmetics (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ラジオ産業、電子産業、自動車産
業、食品産業および医療産業に利用可能な光沢の
あるスズ被膜の堆積のための電解液に関する。
光沢のあるスズ被膜の堆積のための電解液に加
える公知の添加剤として、湿潤剤、光沢剤および
均展剤がある。10〜25モルの酸化エチレンを含む
アルキルアルコール又はアルキルフエノールと酸
化エチレンとの縮合生成物が、湿潤剤として広く
知られている。また、ベンザルアセトン、又はア
セトアルデヒド又はクロトンアルデヒドとアセト
ンおよびアンモニアとの混合物が一般に光沢剤と
して認められている。更に、ヘテロ環式窒素含有
化合物又はその誘導体が電解液の高い均展効果と
良好な均一電着性とを達成するために用いられ
る。
光沢のあるスズ被膜のための公知の添加剤の欠
点は、低い許容電流密度、遅い析出速度、限られ
た光沢範囲、電解液の調整のための２種以上の成
分の使用である。添加剤の成分の水不溶性のた
め、添加剤製造のためにはかなりの毒性を持つ溶
媒が必要である。
本発明の目的は、広範囲の電流密度における光
沢性の付与、高電流密度での操作、および電解液
の高い均一電着性と高析出速度の下での被膜の強
い光沢を保証するような、適切な水不溶性添加剤
を用いた光沢のあるスズ被膜の析出のための電解
液を提供することにある。
上記目的は、下記の一般式を有する0.05〜0.8
ｇ／の濃度のニコチン酸の誘導体を電解液の添
加剤として用いることにより達成される。
〔式中、Ｘは―OH、―NH2、―Ｏ
（CH2CH2O）qＨ、―NH（CH2CH2O）pＨであり、
ｑおよびｐは１〜４の整数である。〕 前記電解液は、100〜180ｇ／の硫酸、20〜60
ｇ／の硫酸スズ、４ml／の38％ホルマリン溶
液、光沢剤として0.2〜0.8ｇ／のベンザルアセ
トン、および３〜15ｇ／の下記の一般式の界面
活性剤を含有している。
CnH2oYO（CH2CH2O）nＸ （式中、Ｙは水素又はアリル基、Ｘは水素、
SO2H、又はSO3H、ｎは８〜18、ｍは４〜25で
ある。） 本発明の電解液は、優れた光沢（即ち銀鏡100
％に対し82％）、良好な均展効果を有するスズ被
膜、および広範な電流密度（即ち１〜10A／
dm2）における析出をもたらす。ニコチン酸の誘
導体であり、また添加剤として作用する窒素含有
化合物は、水および電解液の双方に完全に可溶で
あり、電解液の高い均一電着性（即ち42％）に寄
与する。このことにより、本発明の電解液は、一
般的用途に利用可能であり、被覆されるべき部品
の複雑な形にかかわらず、定常状態の浴およびた
る型容器のいずれにおいても操作可能である。ま
た、有機溶媒が避けられ、操作中の電解液の調整
は、技術的に最も実行し易い単一溶液を用いて行
なわれる。電解液の組成は簡単であり、製造およ
び適用が容易であり、操作中および24ケ月間の貯
蔵においても安定性を保持する。
以下に実施例を示し、本発明をより具体的に説
明する。
実施例 １ 光沢スズ被膜形成のための電解液の組成は次の
通りである。
硫酸スズ 20ｇ／ 硫酸 100ｇ／ ホルマリン（38％） ４ml／ 非イオン性界面活性剤 7.5ｇ／ （10の−CH2CH2O―基を有する） ベンザルアセトン 0.2ｇ／ ヒドロキシエチル化されたニコチン酸アミド
0.05ｇ／ 上記電解液は15〜25℃の温度で操作され、電流
密度は4A／dm2である。析出温度は2.6ミクロ
ン／分である。得られた被膜の光沢は銀鏡に対し
72％であり、電解液の均一電着性は18％であつ
た。
実施例 ２ 光沢スズ被膜形成のための電解液の組成は次の
通りである。
硫酸スズ 40ｇ／ 硫酸 120ｇ／ ホルマリン ４ml／ 非イオン性界面活性剤 7.0ｇ／ （15の−CH2CH2O―基を有する） ベンザルアセトン 0.3ｇ／ ヒドロキシエチル化されたニコチン酸
0.1ｇ／ 実施例１と同一の条件で被膜が形成された。電
解液の均一電着性は33％、被膜の光沢は広範な電
流密度の下で銀鏡に対し89％であつた。また、析
出速度は2.0ミクロン／分であつた。
実施例 ３ 電解液の組成は次の通りである。
硫酸スズ 60ｇ／ 硫酸 180ｇ／ ホルマリン ４ml／ 非イオン性界面活性剤 7.5ｇ／ （15の−CH2CH2O―基を有する） ベンザルアセトン 0.3ｇ／ ヒドロキシエチル化されたニコチン酸アミド
0.2ｇ／ 実施例１と同一の条件で被膜が形成された。電
解液の均一電着性は36％であつた。被覆された部
分の外観は良好であり、小孔や流れは認められな
かつた。
実施例 ４ 電解液の組成は次の通りである。
硫酸スズ 40ｇ／ 硫酸 160ｇ／ ホルマリン ４ml／ 非イオン性界面活性剤 ７ｇ／ （25の―CH2CH2O―基を有する） ベンザルアセトン 0.5ｇ／ ヒドロキシエチル化されたニコチン酸
0.3ｇ／ 実施例１と同一の条件で被膜が形成された。電
解液の均一電着性は42％であり、光沢は83％であ
つた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 100〜180ｇ／の硫酸、20〜60ｇ／の硫酸
    スズ、0.2〜0.8ｇ／のホルマリン溶液、および
    ３〜15ｇ／の下記の一般式(1)の界面活性剤を含
    有する電解液であつて、更に下記の一般式(2)で示
    す0.05〜0.8ｇ／の濃度のニコチン酸の誘導体
    を含有することを特徴とする光沢スズ被膜形成用
    電解液。 一般式(1)： CnH2oYO（CH2CH2O）nＸ （式中、Ｙは水素又はアリル基、Ｘは水素、
    SO2H、又はSO3H、ｎは８〜18、ｍは４〜25で
    ある。） 一般式(2)： 〔式中、Ｘは―OH、―NH2、―Ｏ
    （CH2CH2O）qＨ、―NH（CH2CH2O）pＨであり、
    ｑおよびｐは１〜４の整数である。〕
JP57121356A 1981-07-14 1982-07-14 光沢スズ被膜形成用電解液 Granted JPS5871386A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
BG52924 1981-07-14
BG8152924A BG34691A1 (bg) 1981-07-14 1981-07-14 Elektrolit za otlagane na blestjahhi kalaeni pokritija

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JPS5871386A JPS5871386A (ja) 1983-04-28
JPH0160556B2 true JPH0160556B2 (ja) 1989-12-22

Family

ID=3909457

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JP57121356A Granted JPS5871386A (ja) 1981-07-14 1982-07-14 光沢スズ被膜形成用電解液

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US (1) US4439286A (ja)
JP (1) JPS5871386A (ja)
BG (1) BG34691A1 (ja)
DE (1) DE3226364A1 (ja)
FR (1) FR2509756B1 (ja)
GB (1) GB2103247A (ja)
IT (1) IT1189316B (ja)
RO (1) RO85493B (ja)

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IT8248795A1 (it) 1984-01-12
RO85493A (ro) 1984-11-25
US4439286A (en) 1984-03-27
BG34691A1 (bg) 1983-11-15
IT1189316B (it) 1988-02-04
GB2103247A (en) 1983-02-16
DE3226364C2 (ja) 1990-06-13
IT8248795A0 (it) 1982-07-12
JPS5871386A (ja) 1983-04-28
DE3226364A1 (de) 1983-03-10
RO85493B (ro) 1984-11-30
FR2509756A1 (fr) 1983-01-21
FR2509756B1 (fr) 1987-10-09

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