JPH0160920B2 - - Google Patents
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- JPH0160920B2 JPH0160920B2 JP55090487A JP9048780A JPH0160920B2 JP H0160920 B2 JPH0160920 B2 JP H0160920B2 JP 55090487 A JP55090487 A JP 55090487A JP 9048780 A JP9048780 A JP 9048780A JP H0160920 B2 JPH0160920 B2 JP H0160920B2
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- JP
- Japan
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- anode
- circuit
- tube
- high frequency
- generator
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03B—GENERATION OF OSCILLATIONS, DIRECTLY OR BY FREQUENCY-CHANGING, BY CIRCUITS EMPLOYING ACTIVE ELEMENTS WHICH OPERATE IN A NON-SWITCHING MANNER; GENERATION OF NOISE BY SUCH CIRCUITS
- H03B5/00—Generation of oscillations using amplifier with regenerative feedback from output to input
- H03B5/18—Generation of oscillations using amplifier with regenerative feedback from output to input with frequency-determining element comprising distributed inductance and capacitance
- H03B5/1817—Generation of oscillations using amplifier with regenerative feedback from output to input with frequency-determining element comprising distributed inductance and capacitance the frequency-determining element being a cavity resonator
- H03B5/1835—Generation of oscillations using amplifier with regenerative feedback from output to input with frequency-determining element comprising distributed inductance and capacitance the frequency-determining element being a cavity resonator the active element in the amplifier being a vacuum tube
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/46—Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、分光分析を行うために、分析すべき
溶液のエーロゾルを注入するプラズマ炎をジエツ
トガス流から発生させるための発生装置に関す
る。
溶液のエーロゾルを注入するプラズマ炎をジエツ
トガス流から発生させるための発生装置に関す
る。
例えば40〜60MHzのオーダーの超高周波が供給
される誘導コイルの内部にガス例えばアルゴンガ
スのジエツト流を導いてプラズマ炎を得ることは
知られている。従つて高周波発生器は、誘導プラ
ズマを用いた放出物分光分析装置には不可欠の要
素である。
される誘導コイルの内部にガス例えばアルゴンガ
スのジエツト流を導いてプラズマ炎を得ることは
知られている。従つて高周波発生器は、誘導プラ
ズマを用いた放出物分光分析装置には不可欠の要
素である。
このような高周波発生器は、プラズマ炎の開始
と点火との間の短い期間は高インピーダンスへ接
続され、点火後は低いインピーダンスに自動的に
適合するように、それ故非常に高いサージ係数を
もつようにしなければならない。
と点火との間の短い期間は高インピーダンスへ接
続され、点火後は低いインピーダンスに自動的に
適合するように、それ故非常に高いサージ係数を
もつようにしなければならない。
このような従来の高周波発生装置の発振器に
は、プラズマ発生のため又は高周波の利用を必要
とする他の用途のために用いる陽極同調型のもの
がある。第１図に示したこの公知技術において、
１，２は同一の三極管であり、1/4波長の陽極導
線３，４は、例えば3000〜5000v程度の高電圧が
印加される接続点５に接続されている。三極管
１，２の陰極導線も相互に接続され、抵抗７と減
結合コンデンサー８，９を備えた格子も相互に接
続されている。誘導コイルすなわちインダクター
１１の結合導線１０はコンデンサー１２により接
続されている。電界成分を除去して磁気成分のみ
検出できるようにするために、陽極導線３，４の
ループと結合回路１０のループとの間に、一連の
開放ダイポールにより形成したスクリーン１４が
配設されている。この高周波発生器の完全な説明
については、「アナリテイカ・ヒミカ・アクタ」
誌、第84号、271〜281頁、1976年発行、を参照さ
れたい。
は、プラズマ発生のため又は高周波の利用を必要
とする他の用途のために用いる陽極同調型のもの
がある。第１図に示したこの公知技術において、
１，２は同一の三極管であり、1/4波長の陽極導
線３，４は、例えば3000〜5000v程度の高電圧が
印加される接続点５に接続されている。三極管
１，２の陰極導線も相互に接続され、抵抗７と減
結合コンデンサー８，９を備えた格子も相互に接
続されている。誘導コイルすなわちインダクター
１１の結合導線１０はコンデンサー１２により接
続されている。電界成分を除去して磁気成分のみ
検出できるようにするために、陽極導線３，４の
ループと結合回路１０のループとの間に、一連の
開放ダイポールにより形成したスクリーン１４が
配設されている。この高周波発生器の完全な説明
については、「アナリテイカ・ヒミカ・アクタ」
誌、第84号、271〜281頁、1976年発行、を参照さ
れたい。
この高周波発生器は、三極管１，２が同一特性
をもつ限り正確に動作する。対を形成する三極管
が新しい場合に、また２つの三極管が同じように
経年変化する場合に高周波発生器は正確に動作す
る。実際にはこのようになるのはまれで、２つの
三極管の老化が異なる推移を示すことから、高周
波の零点のドリフトによる回路の不平衡を生じ、
発生器の機能に重大な支障が生じる。更に２個の
三極管１，２とその給電部並びに付属部材は、大
きな電力を使用する場合には特にかさばつたもの
になる。
をもつ限り正確に動作する。対を形成する三極管
が新しい場合に、また２つの三極管が同じように
経年変化する場合に高周波発生器は正確に動作す
る。実際にはこのようになるのはまれで、２つの
三極管の老化が異なる推移を示すことから、高周
波の零点のドリフトによる回路の不平衡を生じ、
発生器の機能に重大な支障が生じる。更に２個の
三極管１，２とその給電部並びに付属部材は、大
きな電力を使用する場合には特にかさばつたもの
になる。
本発明は、1/4波長に同調された陽極同調型の
発生器の利点を保ちながら、２個の発振器が同一
の老化特性をもたないことによる上述の欠点を除
いて、かさばらず、安価な高周波発生器を提供す
ることを目的としている。
発生器の利点を保ちながら、２個の発振器が同一
の老化特性をもたないことによる上述の欠点を除
いて、かさばらず、安価な高周波発生器を提供す
ることを目的としている。
誘導コイル中に電離すべきガスを導くための手
段と、誘導コイルに接続した結合回路と、1/4波
長に同調した陽極導線を備えた型式の電子管発振
回路を備えた誘導性高周波発生器を有するプラズ
マ発生装置であつて、1/4波長の陽極回路がただ
１つの発振管から制御され、その陽極回路の一端
は高周波の零点から、発振管の陽極に接続され、
他端はこの同じ陽極に容量結合により外部的に接
続されるようにしたプラズマ発生器が本発明によ
り提供される。
段と、誘導コイルに接続した結合回路と、1/4波
長に同調した陽極導線を備えた型式の電子管発振
回路を備えた誘導性高周波発生器を有するプラズ
マ発生装置であつて、1/4波長の陽極回路がただ
１つの発振管から制御され、その陽極回路の一端
は高周波の零点から、発振管の陽極に接続され、
他端はこの同じ陽極に容量結合により外部的に接
続されるようにしたプラズマ発生器が本発明によ
り提供される。
本発明による高周波発生器の一例を示した第２
図を参照する。
図を参照する。
第３図は陽極の容量結合の一例を示す。
高電圧に接続点（高周波の零点）２５で接続し
た1/4波長導線２３，２４は、一個の三極管２０
に接続され、この三極管２０の陰極への給電は、
従来の２個の三極管を備えた装置と同様に行われ
る。陽極導線２３は三極管２０の陽極に接続され
ている。他の陽極導線２４は容量結合により同じ
陽極に結合されている。第３図にこのような容量
結合の一例を示し、ここでは導線２４は、三極管
２０の外部の導電板２７に接続してあり、三極管
２０のガラス管が誘電体として用いられる。導線
２３は三極管２０の陽極に接続したプラズマに支
持体２８を通つて接続されている。
た1/4波長導線２３，２４は、一個の三極管２０
に接続され、この三極管２０の陰極への給電は、
従来の２個の三極管を備えた装置と同様に行われ
る。陽極導線２３は三極管２０の陽極に接続され
ている。他の陽極導線２４は容量結合により同じ
陽極に結合されている。第３図にこのような容量
結合の一例を示し、ここでは導線２４は、三極管
２０の外部の導電板２７に接続してあり、三極管
２０のガラス管が誘電体として用いられる。導線
２３は三極管２０の陽極に接続したプラズマに支
持体２８を通つて接続されている。
誘導コイルすなわちインダクター３１への結合
回路のループ３０は第１図と同様に形成されてお
り、電界成分を除去して、ループ３０に完全な平
衡状態を設定するためにスクリーン３４を使用す
る。
回路のループ３０は第１図と同様に形成されてお
り、電界成分を除去して、ループ３０に完全な平
衡状態を設定するためにスクリーン３４を使用す
る。
このようにして、たゞ一個の三極管２０を使用
して、第１図のものと正確に同一の特性を備えた
共振線型の高周波発生器が形成される。これによ
り装置の容積、重量及びコストが減少し、また一
度同調させた後は発振管の老化に伴つて回路の不
平衡が生じるということがないため、発生器の経
時特性は安定化される。
して、第１図のものと正確に同一の特性を備えた
共振線型の高周波発生器が形成される。これによ
り装置の容積、重量及びコストが減少し、また一
度同調させた後は発振管の老化に伴つて回路の不
平衡が生じるということがないため、発生器の経
時特性は安定化される。
第１図は従来の高周波発生器を示す接続図、第
２図は本発明による高周波発生器を示す接続図、
第３図は陽極の容量結合の一例を示す接続図であ
る。 ２０…三極管（発振管）、２３，２４…陽極導
線、２７…導電板（容量結合）。
２図は本発明による高周波発生器を示す接続図、
第３図は陽極の容量結合の一例を示す接続図であ
る。 ２０…三極管（発振管）、２３，２４…陽極導
線、２７…導電板（容量結合）。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 電離しようとするガスを誘導コイル３１中に
導くための手段と上記の誘導コイル３１に接続し
た結合回路３０と、1/4波長に同調した陽極導線
を有する電子管発振回路とを備えたプラズマ発生
装置において、 1/4波長の陽極回路の一端は高周波の零点２５
からたゞ一個の発振管の陽極に接続され、上記の
陽極回路の他端は上記の陽極に容量結合により上
記の発振管の外部から接続されていることを特徴
とするプラズマ発生器。 ２ 発振管２０の外壁に導電板２７を固定し、発
振管のガラス管を誘電体として陽極回路の他端を
発振管の陽極へ容量結合した請求の範囲１項に記
載のプラズマ発生器。 ３ 陽極回路と結合回路との間に一連の開放ダイ
ポールから成るスクリーン３４を配置した請求の
範囲１項又は２項記載のプラズマ発生器。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR7917359A FR2460589A1 (fr) | 1979-07-04 | 1979-07-04 | Generateur de plasma |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5635400A JPS5635400A (en) | 1981-04-08 |
| JPH0160920B2 true JPH0160920B2 (ja) | 1989-12-26 |
Family
ID=9227498
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9048780A Granted JPS5635400A (en) | 1979-07-04 | 1980-07-02 | Plasma generator |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4337415A (ja) |
| EP (1) | EP0022404B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5635400A (ja) |
| AT (1) | ATE2811T1 (ja) |
| DE (1) | DE3062341D1 (ja) |
| FR (1) | FR2460589A1 (ja) |
Families Citing this family (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB9226335D0 (en) * | 1992-12-17 | 1993-02-10 | Fisons Plc | Inductively coupled plasma spectrometers and radio-frequency power supply therefor |
| US5383019A (en) * | 1990-03-23 | 1995-01-17 | Fisons Plc | Inductively coupled plasma spectrometers and radio-frequency power supply therefor |
| NL9000809A (nl) * | 1990-04-06 | 1991-11-01 | Philips Nv | Plasmagenerator. |
| FR2683422B1 (fr) * | 1991-10-31 | 1994-01-21 | Rc Durr Sa | Generateur haute frequence pour torche a plasma. |
| AU2003195A (en) * | 1994-06-21 | 1996-01-04 | Boc Group, Inc., The | Improved power distribution for multiple electrode plasma systems using quarter wavelength transmission lines |
| WO2001005020A1 (en) | 1999-07-13 | 2001-01-18 | Tokyo Electron Limited | Radio frequency power source for generating an inductively coupled plasma |
| US6305316B1 (en) * | 2000-07-20 | 2001-10-23 | Axcelis Technologies, Inc. | Integrated power oscillator RF source of plasma immersion ion implantation system |
| US7459899B2 (en) | 2005-11-21 | 2008-12-02 | Thermo Fisher Scientific Inc. | Inductively-coupled RF power source |
| US9591738B2 (en) * | 2008-04-03 | 2017-03-07 | Novellus Systems, Inc. | Plasma generator systems and methods of forming plasma |
| WO2009146439A1 (en) | 2008-05-30 | 2009-12-03 | Colorado State University Research Foundation | System, method and apparatus for generating plasma |
| US9288886B2 (en) | 2008-05-30 | 2016-03-15 | Colorado State University Research Foundation | Plasma-based chemical source device and method of use thereof |
| US8994270B2 (en) | 2008-05-30 | 2015-03-31 | Colorado State University Research Foundation | System and methods for plasma application |
| US8222822B2 (en) | 2009-10-27 | 2012-07-17 | Tyco Healthcare Group Lp | Inductively-coupled plasma device |
| JP2013529352A (ja) | 2010-03-31 | 2013-07-18 | コロラド ステート ユニバーシティー リサーチ ファウンデーション | 液体−気体界面プラズマデバイス |
| EP2552340A4 (en) | 2010-03-31 | 2015-10-14 | Univ Colorado State Res Found | PLASMA DEVICE WITH LIQUID GAS INTERFACE |
| US9532826B2 (en) | 2013-03-06 | 2017-01-03 | Covidien Lp | System and method for sinus surgery |
| US9555145B2 (en) | 2013-03-13 | 2017-01-31 | Covidien Lp | System and method for biofilm remediation |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3467471A (en) * | 1963-10-21 | 1969-09-16 | Albright & Wilson Mfg Ltd | Plasma light source for spectroscopic investigation |
| DE1514322C3 (de) * | 1965-11-12 | 1974-06-06 | Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg | Schaltungsanordnung zum Zünden und Betrieb eines Hochfrequenz-Induktions-Plasmabrenners |
| US3958883A (en) * | 1974-07-10 | 1976-05-25 | Baird-Atomic, Inc. | Radio frequency induced plasma excitation of optical emission spectroscopic samples |
-
1979
- 1979-07-04 FR FR7917359A patent/FR2460589A1/fr active Granted
-
1980
- 1980-06-30 US US06/164,024 patent/US4337415A/en not_active Expired - Lifetime
- 1980-07-01 EP EP80400993A patent/EP0022404B1/fr not_active Expired
- 1980-07-01 AT AT80400993T patent/ATE2811T1/de not_active IP Right Cessation
- 1980-07-01 DE DE8080400993T patent/DE3062341D1/de not_active Expired
- 1980-07-02 JP JP9048780A patent/JPS5635400A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3062341D1 (en) | 1983-04-21 |
| FR2460589B1 (ja) | 1982-09-03 |
| FR2460589A1 (fr) | 1981-01-23 |
| EP0022404A1 (fr) | 1981-01-14 |
| ATE2811T1 (de) | 1983-04-15 |
| JPS5635400A (en) | 1981-04-08 |
| US4337415A (en) | 1982-06-29 |
| EP0022404B1 (fr) | 1983-03-16 |
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