JPH01913A - 照明装置 - Google Patents
照明装置Info
- Publication number
- JPH01913A JPH01913A JP62-156873A JP15687387A JPH01913A JP H01913 A JPH01913 A JP H01913A JP 15687387 A JP15687387 A JP 15687387A JP H01913 A JPH01913 A JP H01913A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical
- light
- light beam
- optical integrator
- condenser lens
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は照明装置に関し、特に半導体製造装置において
被照射面に設けられた電子回路等の微細パターンが形成
されているマスク面やレチクル面等を均一に照明する為
の照明装置に関するものである。
被照射面に設けられた電子回路等の微細パターンが形成
されているマスク面やレチクル面等を均一に照明する為
の照明装置に関するものである。
(従来の技術)
半導体製造装置の製造工程ではマスクに設けられたパタ
ーンをウニ八面上に順次重ねて転写している。この場合
照明装置によりウェハ面に対して密着若しくは極近接状
態に保持した状態でマスク面を照明してマスク面上のパ
ターンをウニ八面上に転写したり、ウェハ面と共役に配
置されたマスク(レチクルも含む。)を照明して投影レ
ンズを用いてウェハ面に投影転写している。
ーンをウニ八面上に順次重ねて転写している。この場合
照明装置によりウェハ面に対して密着若しくは極近接状
態に保持した状態でマスク面を照明してマスク面上のパ
ターンをウニ八面上に転写したり、ウェハ面と共役に配
置されたマスク(レチクルも含む。)を照明して投影レ
ンズを用いてウェハ面に投影転写している。
この場合、ウニ八面上に転写されるパターンの像質は照
明装置の性能、例えば被照射面上の照度分布の均−性等
に大きく影響される。均−照明等の光学性能の向上を図
った照明装置としては例えば特開昭47−4817号公
報や特開昭50−103976号公報等で提案されてい
る。
明装置の性能、例えば被照射面上の照度分布の均−性等
に大きく影響される。均−照明等の光学性能の向上を図
った照明装置としては例えば特開昭47−4817号公
報や特開昭50−103976号公報等で提案されてい
る。
一般に半導体製造装置に使用される照明装置には次のよ
うな要件が要求されている。
うな要件が要求されている。
(イ)マスク面における照度ムラの除去。
(0)集光効率の向上。
(八)マスク面に入射する光束の入射角度を所望の値に
設定すること。
設定すること。
従来より(イ)のマスク面上の照度ムラの除去はハエの
目レンズや自己収束性あるいは普通のファイバーを集束
した光学エレメントあるいはプリズムを放射状に配した
もの等の多光束発生部材で多数の部分光束を発生させ、
これら部分光束の各々をコリメートして被照射面で重畳
させる(オプティカル・インチグレート)ことにより行
フており、この方法によれば±2〜±3%の照度ムラの
範囲に納めることができる。
目レンズや自己収束性あるいは普通のファイバーを集束
した光学エレメントあるいはプリズムを放射状に配した
もの等の多光束発生部材で多数の部分光束を発生させ、
これら部分光束の各々をコリメートして被照射面で重畳
させる(オプティカル・インチグレート)ことにより行
フており、この方法によれば±2〜±3%の照度ムラの
範囲に納めることができる。
又(ロ)の集光効率の向上は光源の高輝度化により推進
されている。(ハ)の入射光束の入射角度は多光束発生
部材の直径とコリメーターレンズの焦点距離によって所
望の値に設定している。
されている。(ハ)の入射光束の入射角度は多光束発生
部材の直径とコリメーターレンズの焦点距離によって所
望の値に設定している。
これらの各要素のうち入射光束内の強度分布の均一性が
特に重要視されている。
特に重要視されている。
一般には、不均一な強度分布は楕円反射鏡の様なコンデ
ンサーによる光源像に既に発生している。この為コンデ
ンサーに続く多光束発生部材を複数設配して性能を向上
させる方法が提案されている。しかしながら、多光束発
生部材を照明光路に1個配すると20乃至30%の光量
損失を生ずる為、複数個使用すると集光効率が大きく低
下する難点があった。
ンサーによる光源像に既に発生している。この為コンデ
ンサーに続く多光束発生部材を複数設配して性能を向上
させる方法が提案されている。しかしながら、多光束発
生部材を照明光路に1個配すると20乃至30%の光量
損失を生ずる為、複数個使用すると集光効率が大きく低
下する難点があった。
(発明が解決しようとする問題点)
本発明は光束内の光強度分布の均一性を高め、被照射面
上の照度分布の均一化を図ると共に、集光効率の向上を
図った半導体製造装置に好適な照明装置の提供を目的と
する。
上の照度分布の均一化を図ると共に、集光効率の向上を
図った半導体製造装置に好適な照明装置の提供を目的と
する。
(問題点を解決するための手段)
光源と該光源からの光束を集光する為の集光手段と、該
集光手段からの光束を混合する光束混合手段と、該光束
混合手段からの射出光束を用いて多数の部分光束を発生
させる多光束発生手段と、該多光束発生手段からの光束
を重ね合わせた状態で被照射面を照射する照射手段とを
有していることである。
集光手段からの光束を混合する光束混合手段と、該光束
混合手段からの射出光束を用いて多数の部分光束を発生
させる多光束発生手段と、該多光束発生手段からの光束
を重ね合わせた状態で被照射面を照射する照射手段とを
有していることである。
(実施例)
第1図は本発明の一実施例の概略図である。同図におい
て1は光源で、超高圧水銀ランプ等である。2は集光手
段で楕円ミラー等から成り、該楕円ミラー20の第1焦
点付近に光源1が配置されている。3は光束混合手段で
所定形状のオプティカルバイブより成り、該オプティカ
ルバイブ3の入射面3aは楕円ミラー2の第2焦点付近
に配置されている。4は多光束発生手段であり、集光レ
ンズ5とオプティカルインテグレーター6とを有してい
る。集光レンズ5はオプティカルバイブ3の射出面3b
とオプティカルインテグレーター6の入射面6aとが略
共役関係となるように設定されている。
て1は光源で、超高圧水銀ランプ等である。2は集光手
段で楕円ミラー等から成り、該楕円ミラー20の第1焦
点付近に光源1が配置されている。3は光束混合手段で
所定形状のオプティカルバイブより成り、該オプティカ
ルバイブ3の入射面3aは楕円ミラー2の第2焦点付近
に配置されている。4は多光束発生手段であり、集光レ
ンズ5とオプティカルインテグレーター6とを有してい
る。集光レンズ5はオプティカルバイブ3の射出面3b
とオプティカルインテグレーター6の入射面6aとが略
共役関係となるように設定されている。
又、本実施例では射出面3bが入射面6a上に拡大結像
するように集光レンズ5の光学諸定数が設定されている
。7は照射手段でコンデンサーレンズ等から成り、オプ
ティカルインテグレーター6の射出面6bからの光束を
用いてマスクやレチクル面等が設定される被照射面8を
照射している。
するように集光レンズ5の光学諸定数が設定されている
。7は照射手段でコンデンサーレンズ等から成り、オプ
ティカルインテグレーター6の射出面6bからの光束を
用いてマスクやレチクル面等が設定される被照射面8を
照射している。
オプティカルインテグレーター6は複数の微少レンズよ
り成るハエの目レンズやファイバー束等から成り、その
射出面6bは第2次光源面を形成している。
り成るハエの目レンズやファイバー束等から成り、その
射出面6bは第2次光源面を形成している。
半導体製造装置等では被照射面8にはマスクやレチクル
が配置されており、これらに設けられた電子回路等のパ
ターンは不図示のウェハ面上に直接転写されたり、又は
投影レンズにより所定倍率で投影転写されている。
が配置されており、これらに設けられた電子回路等のパ
ターンは不図示のウェハ面上に直接転写されたり、又は
投影レンズにより所定倍率で投影転写されている。
尚、本実施例において光束混合手段3とは前述したライ
トパイプのように明確な光軸は1つで、かつ1つの領域
を有し、特定出来る光束が1つとなるような光学素子を
いい、又、多光束発生手段4とはハエの目レンズやファ
イバー束等のように複数の光学軸を有し、かつ各々の光
学軸を中心として有限な面積の領域を有し、各々の領域
において各々1つの光束が特定出来るような光学素子を
いう。
トパイプのように明確な光軸は1つで、かつ1つの領域
を有し、特定出来る光束が1つとなるような光学素子を
いい、又、多光束発生手段4とはハエの目レンズやファ
イバー束等のように複数の光学軸を有し、かつ各々の光
学軸を中心として有限な面積の領域を有し、各々の領域
において各々1つの光束が特定出来るような光学素子を
いう。
本実施例においては光源1からの光束は楕円ミラー2に
より集光され、楕円ミラー2の第2焦点付近に入射面3
aが位置するように配置されたオプティカルパイプ3に
入射する。オプティカルパイプ3は例えば第2図に示す
ように円筒形状をして−おり、入射面3aに入射した光
束を反射膜21を施した内面壁面で多重反射させた後、
射出面3bから射出させている。このときオプティカル
パイプ3の・入射面3aに入射する光束の内面壁面での
反射回数は入射角度の大小に依存し、入射角が大きい程
多くなる。
より集光され、楕円ミラー2の第2焦点付近に入射面3
aが位置するように配置されたオプティカルパイプ3に
入射する。オプティカルパイプ3は例えば第2図に示す
ように円筒形状をして−おり、入射面3aに入射した光
束を反射膜21を施した内面壁面で多重反射させた後、
射出面3bから射出させている。このときオプティカル
パイプ3の・入射面3aに入射する光束の内面壁面での
反射回数は入射角度の大小に依存し、入射角が大きい程
多くなる。
これによりオプティカルパイプ3内で光束の混合を行い
、例えば第3図(A)に示すように入射面3a上の不均
一な強度分布を射出面3bでは第3図(B)に示すよう
な均一の強度分布となるようにしている。即ち強度分布
の平滑化を行っている。
、例えば第3図(A)に示すように入射面3a上の不均
一な強度分布を射出面3bでは第3図(B)に示すよう
な均一の強度分布となるようにしている。即ち強度分布
の平滑化を行っている。
そして第1図に示すように集光レンズ5によりオプティ
カルパイプ3の射出面3bから射出した光束を集光し、
オプティカルインテグレーター6の入射面6aに収束さ
せている。このように集光レンズ5を用いることにより
、射出面3bと入射面6aを光学的に密着させるように
して集光効率の向上を図ると共に入射面6aに射出面3
bと同様な均一の強度分布を形成している。
カルパイプ3の射出面3bから射出した光束を集光し、
オプティカルインテグレーター6の入射面6aに収束さ
せている。このように集光レンズ5を用いることにより
、射出面3bと入射面6aを光学的に密着させるように
して集光効率の向上を図ると共に入射面6aに射出面3
bと同様な均一の強度分布を形成している。
オプティカルインテグレーター6の入射面6aの強度分
布はそのまま射出面6bに転写されるので第2次光源面
となる射出面6bの強度分布は第3図(B)に示すよう
な均一の強度分布となっている。
布はそのまま射出面6bに転写されるので第2次光源面
となる射出面6bの強度分布は第3図(B)に示すよう
な均一の強度分布となっている。
尚、オプティカルインテグレーター6は例えば第4図に
示す如く対象とする有効光束内をファイバー束等により
複数の微少領域4−1.4−2.−.4−nに分割して
いる。このときの各領域の充填率は70〜80%程度で
ある。そして各々の微少領域からの射出光束により被照
射面8上をコンデンサーレンズ7により重畳して照射す
ることにより被照射面8上を全体的に均一の照度分布と
なるようにしている。このときオプティカルインテグレ
ーター6の入射面6aと被照射面8が略共役関係となる
ようオプティカルインテグレーター6とコンデンサーレ
ンズ7の光学諸定数が設定されている。
示す如く対象とする有効光束内をファイバー束等により
複数の微少領域4−1.4−2.−.4−nに分割して
いる。このときの各領域の充填率は70〜80%程度で
ある。そして各々の微少領域からの射出光束により被照
射面8上をコンデンサーレンズ7により重畳して照射す
ることにより被照射面8上を全体的に均一の照度分布と
なるようにしている。このときオプティカルインテグレ
ーター6の入射面6aと被照射面8が略共役関係となる
ようオプティカルインテグレーター6とコンデンサーレ
ンズ7の光学諸定数が設定されている。
又、本実施例ではオプティカルパイプ3の射出面3bが
オプティカルインテグレーター6の入射面6allに拡
大結像するように集光レンズ5の光学的諸定数を設定し
、これにより射出面3bからの光束が入射面6aに効率
良く入射するようにしている。
オプティカルインテグレーター6の入射面6allに拡
大結像するように集光レンズ5の光学的諸定数を設定し
、これにより射出面3bからの光束が入射面6aに効率
良く入射するようにしている。
尚、本実施例において集光レンズ5を用いず、オプティ
カルパイプ3とオプティカルインテグレーター6を直接
接合するようにして構成しても良い。
カルパイプ3とオプティカルインテグレーター6を直接
接合するようにして構成しても良い。
本実施例ではオプティカルパイプを用いて入射光束の全
ての光束の混合を行うことにより光損失を少なくし、光
束内の強度分布の均一化を容易にしている。即ち第2次
光源面の強度分布の均一化を容易にしている。
ての光束の混合を行うことにより光損失を少なくし、光
束内の強度分布の均一化を容易にしている。即ち第2次
光源面の強度分布の均一化を容易にしている。
又、オプティカルパイプの形状や長さそして内面壁面の
反射率を制御することにより光束内の強度分布を任意に
制御することを可能としている。
反射率を制御することにより光束内の強度分布を任意に
制御することを可能としている。
第5図(^) 、 (B) 、 (C)は各々本発明に
係るオプティカルパイプの他の実施例の概略図である。
係るオプティカルパイプの他の実施例の概略図である。
同図(A)のオプティカルパイプ51は硝子の円柱より
成り、側面において入射光束は全反射を繰り返し射出面
51bより射出している。尚、本実施例において側面に
反射膜を施しても良い。
成り、側面において入射光束は全反射を繰り返し射出面
51bより射出している。尚、本実施例において側面に
反射膜を施しても良い。
同図(B) 、 ((:)は各々側面に傾きをつけたも
のであり同図(B)のオプティカルパイプ52は入射光
束径を縮少して射出面52bより射出させている。同図
(C)のオプティカルパイプ53は逆に入射光束径を拡
大して射出面53bより射出させている。
のであり同図(B)のオプティカルパイプ52は入射光
束径を縮少して射出面52bより射出させている。同図
(C)のオプティカルパイプ53は逆に入射光束径を拡
大して射出面53bより射出させている。
このようにオプティカルパイプの側面の角度を変えるこ
とにより射出面からの光束径及び射出角を任意に変化さ
せている。即ち射出面からの光束の射出角と射出光束径
はへルムホルツ・ラグランジェの不変量より一定値とな
るので、これを利用して射出角と射出光束径を適切に設
定している。
とにより射出面からの光束径及び射出角を任意に変化さ
せている。即ち射出面からの光束の射出角と射出光束径
はへルムホルツ・ラグランジェの不変量より一定値とな
るので、これを利用して射出角と射出光束径を適切に設
定している。
第6図、第7図は本発明の照明装置における光束混合手
段と多光束発生手段との関係を示す他の実施例の概略図
である。
段と多光束発生手段との関係を示す他の実施例の概略図
である。
第6図に示す実施例はオプティカルパイプ3の両側にフ
ィールドレンズ62.63を配置し、入射光束の入射角
及び射出光束の射出角の補正を行い、より効率良く、光
束を混合し射出面3bの強度分布の均一化を行っている
。
ィールドレンズ62.63を配置し、入射光束の入射角
及び射出光束の射出角の補正を行い、より効率良く、光
束を混合し射出面3bの強度分布の均一化を行っている
。
尚、本実施例においてオプティカルパイプ3の片側のみ
フィールドレンズを配置しても、所定の効果を得ること
が出来る。
フィールドレンズを配置しても、所定の効果を得ること
が出来る。
第7図に示す実施例はオプティカルパイプ3の射出面3
bからの光束を集光レンズ71により略平行光束として
オプティカルインテグレーター6の入射面6aに入射さ
せている。
bからの光束を集光レンズ71により略平行光束として
オプティカルインテグレーター6の入射面6aに入射さ
せている。
これにより射出面3bの配向分布を入射面6aに転写し
ている。第1図に示す実施例のように射出面3bと入射
面6aとを集光レンズ71により必ずしも共役関係にし
なく、本実施例のように構成しても第2次光源面となる
射出面6bの強度分布の均一化を良好に達成することが
できる。
ている。第1図に示す実施例のように射出面3bと入射
面6aとを集光レンズ71により必ずしも共役関係にし
なく、本実施例のように構成しても第2次光源面となる
射出面6bの強度分布の均一化を良好に達成することが
できる。
尚、第1図、第7図に示す実施例のおいてオプティカル
パイプの両側若しくは片側に第6図に示すようなフィー
ルドレンズを配置しても良く、これによればより集光効
率を向上させることができる。
パイプの両側若しくは片側に第6図に示すようなフィー
ルドレンズを配置しても良く、これによればより集光効
率を向上させることができる。
(発明の効果)
本発明によれば前述の構成の光束混合手段と多光束発生
手段を利用することにより高い集光効率を有しつつ、第
2次光源面の強度分布の均−化及び被照射面上の照度分
布の均一化が容易な特に半導体製造装置に好適な照明装
置を達成することができる。
手段を利用することにより高い集光効率を有しつつ、第
2次光源面の強度分布の均−化及び被照射面上の照度分
布の均一化が容易な特に半導体製造装置に好適な照明装
置を達成することができる。
第1図は本発明の一実施例の概略図、第2図は本発明に
係るオプティカルパイプの一実施例の説明図、第3図(
A) 、 (B)は第2図に示すオプティカルパイプの
入射面と射出面の強度分布の説明図、第4図は本発明に
係るオプティカルインテグレーターの一実施例の説明図
、第5図(A) 、 (B) 、 ((:)は本発明に
係るオプティカルパイプの他の実施例の説明図、第6.
第7図は本発明の他の実施例の要部の概略図である。 図中、1は光源、2は集光手段、3は光束混合手段、4
は多光束発生手段、5は集光レンズ、6はオプティカル
インテグレーター、7は照射手段、8は被照射面である
。 第 2 図 第 3 図 (A)(B) 強 酩 4 図 第 5 図 (A) (B) (の 第6図
係るオプティカルパイプの一実施例の説明図、第3図(
A) 、 (B)は第2図に示すオプティカルパイプの
入射面と射出面の強度分布の説明図、第4図は本発明に
係るオプティカルインテグレーターの一実施例の説明図
、第5図(A) 、 (B) 、 ((:)は本発明に
係るオプティカルパイプの他の実施例の説明図、第6.
第7図は本発明の他の実施例の要部の概略図である。 図中、1は光源、2は集光手段、3は光束混合手段、4
は多光束発生手段、5は集光レンズ、6はオプティカル
インテグレーター、7は照射手段、8は被照射面である
。 第 2 図 第 3 図 (A)(B) 強 酩 4 図 第 5 図 (A) (B) (の 第6図
Claims (5)
- (1)光源と該光源からの光束を集光する為の集光手段
と、該集光手段からの光束を混合する光束混合手段と、
該光束混合手段からの射出光束を用いて多数の部分光束
を発生させる多光束発生手段と、該多光束発生手段から
の光束を重ね合わせた状態で被照射面を照射する照射手
段とを有していることを特徴とする照明装置。 - (2)前記光束混合手段はオプティカルパイプを有して
いることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の照明
装置。 - (3)前記多光束発生手段は集光レンズとオプティカル
インテグレーターを有しており、該集光レンズを介して
前記光束混合手段の射出面と該オプティカルインテグレ
ーターの入射面とが略共役関係に維持されていることを
特徴とする特許請求の範囲第2項記載の照明装置。 - (4)前記オプティカルインテグレーターの射出面が第
2次光源面となるように各要素が設定されていることを
特徴とする特許請求の範囲第3項記載の照明装置。 - (5)前記集光レンズは前記光束混合手段の射出面が前
記オプティカルインテグレーターの入射面に拡大結像す
るように設定されていることを特徴とする特許請求の範
囲第3項記載の照明装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62156873A JPS64913A (en) | 1987-06-24 | 1987-06-24 | Luminator |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62156873A JPS64913A (en) | 1987-06-24 | 1987-06-24 | Luminator |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01913A true JPH01913A (ja) | 1989-01-05 |
| JPS64913A JPS64913A (en) | 1989-01-05 |
Family
ID=15637256
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62156873A Pending JPS64913A (en) | 1987-06-24 | 1987-06-24 | Luminator |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS64913A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2973611B2 (ja) * | 1991-06-26 | 1999-11-08 | キヤノン株式会社 | 光励起プロセス装置及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法 |
| JP3005203B2 (ja) | 1997-03-24 | 2000-01-31 | キヤノン株式会社 | 照明装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
| JP3264224B2 (ja) | 1997-08-04 | 2002-03-11 | キヤノン株式会社 | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 |
| US6392742B1 (en) | 1999-06-01 | 2002-05-21 | Canon Kabushiki Kaisha | Illumination system and projection exposure apparatus |
| WO2012137842A1 (ja) * | 2011-04-04 | 2012-10-11 | 株式会社ニコン | 照明装置、露光装置、デバイス製造方法、導光光学素子及び導光光学素子の製造方法 |
-
1987
- 1987-06-24 JP JP62156873A patent/JPS64913A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3275575B2 (ja) | 投影露光装置及び該投影露光装置を用いたデバイスの製造方法 | |
| JPH0378607B2 (ja) | ||
| JPS60232552A (ja) | 照明光学系 | |
| JPH032284B2 (ja) | ||
| JPS597359A (ja) | 照明装置 | |
| JP3576685B2 (ja) | 露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法 | |
| JP3278277B2 (ja) | 投影露光装置及びこれを用いたデバイス製造方法 | |
| JPH07230949A (ja) | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 | |
| JP2000021712A (ja) | 照明光学系及びそれを有する露光装置 | |
| JP2875143B2 (ja) | 投影露光装置 | |
| JPH01913A (ja) | 照明装置 | |
| JPH0629189A (ja) | 投影式露光装置およびその方法並びに照明光学装置 | |
| JPS622539A (ja) | 照明光学系 | |
| JP2001033875A (ja) | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 | |
| JP2914035B2 (ja) | 輪帯光束形成方法および照明光学装置 | |
| JPH0769576B2 (ja) | 照明光学装置 | |
| JPH07135145A (ja) | 露光装置 | |
| JPS6380243A (ja) | 露光装置用照明光学装置 | |
| JPS61251858A (ja) | 照明光学系 | |
| JPH0568846B2 (ja) | ||
| JPS60166951A (ja) | 照明光学装置 | |
| JPS6381420A (ja) | 照明装置 | |
| JP2739712B2 (ja) | 照明光学系,焼付装置及び回路製造方法 | |
| JPH0794403A (ja) | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 | |
| JPH03171614A (ja) | 照明光学系 |