JPH0192338A - 高純度ニオブチタン合金スポンジ及びその製法 - Google Patents
高純度ニオブチタン合金スポンジ及びその製法Info
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- JPH0192338A JPH0192338A JP24591687A JP24591687A JPH0192338A JP H0192338 A JPH0192338 A JP H0192338A JP 24591687 A JP24591687 A JP 24591687A JP 24591687 A JP24591687 A JP 24591687A JP H0192338 A JPH0192338 A JP H0192338A
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- 239000000956 alloy Substances 0.000 title claims abstract description 34
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 33
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 7
- 229910001275 Niobium-titanium Inorganic materials 0.000 title claims description 21
- RJSRQTFBFAJJIL-UHFFFAOYSA-N niobium titanium Chemical compound [Ti].[Nb] RJSRQTFBFAJJIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 21
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 30
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 26
- YHBDIEWMOMLKOO-UHFFFAOYSA-I pentachloroniobium Chemical compound Cl[Nb](Cl)(Cl)(Cl)Cl YHBDIEWMOMLKOO-UHFFFAOYSA-I 0.000 claims abstract description 22
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims abstract description 19
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 31
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 26
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 17
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 14
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 5
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 abstract description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 2
- 229910019804 NbCl5 Inorganic materials 0.000 abstract 3
- 229910003074 TiCl4 Inorganic materials 0.000 abstract 3
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 abstract 2
- 229910020012 Nb—Ti Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 abstract 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 11
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 10
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 5
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 4
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 229910001257 Nb alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 238000010314 arc-melting process Methods 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Chemical class 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 210000004251 human milk Anatomy 0.000 description 1
- 235000020256 human milk Nutrition 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000002386 leaching Methods 0.000 description 1
- 238000005339 levitation Methods 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000010517 secondary reaction Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は高純度のニオブチタン合金スポンジに関するも
のである。
のである。
超電導材料は、核磁気共鳴診断装置、高エネルギー粒子
加速器、磁気浮上列車に使用され更に多くの用途が期待
されている。金属系の超電導材料としては、主としてニ
オブチタン(Nb−Ti)合金が用いられており、この
合金の組成は、ニオブ含有量が30〜60重量%のもの
である。
加速器、磁気浮上列車に使用され更に多くの用途が期待
されている。金属系の超電導材料としては、主としてニ
オブチタン(Nb−Ti)合金が用いられており、この
合金の組成は、ニオブ含有量が30〜60重量%のもの
である。
このNb−Ti合金は、粉末又はスポンジ或は板状又は
棒状のチタンとニオブの夫々の材料を用意し、これら材
料を夫々混合するか、又は適当な形に組み合わせて消耗
電極を製作し、これを真空又は不活性雰囲気下でアーク
溶解を行ないNb −Ti合金インゴットとすることに
より製造される。
棒状のチタンとニオブの夫々の材料を用意し、これら材
料を夫々混合するか、又は適当な形に組み合わせて消耗
電極を製作し、これを真空又は不活性雰囲気下でアーク
溶解を行ないNb −Ti合金インゴットとすることに
より製造される。
これらのインゴットは、目的に応じて加工される0例え
ば、圧延加工してビレフトを作り、鋼管に人乳で更に圧
延して伸線加工して超電導線材とする。一般に、Nb−
Ti合金の超電導線材を製造するためには、特に材料中
の酸素などのガス不純物や、鉄などの磁性金属不純物の
含有量が少ないことが要求されると共に、チタンとニオ
ブの合金組成は均〜であることが必要である。
ば、圧延加工してビレフトを作り、鋼管に人乳で更に圧
延して伸線加工して超電導線材とする。一般に、Nb−
Ti合金の超電導線材を製造するためには、特に材料中
の酸素などのガス不純物や、鉄などの磁性金属不純物の
含有量が少ないことが要求されると共に、チタンとニオ
ブの合金組成は均〜であることが必要である。
このためNb −Ti合金材料を作るためには、使用す
るチタンとニオブの材料は夫々高度に精製されたものを
使用する必要があり、特にニオブについては、一般に材
料中の酸素などの不純物を除去するために、通常電子ビ
ーム溶解を用いた精製処理が行なわれている。
るチタンとニオブの材料は夫々高度に精製されたものを
使用する必要があり、特にニオブについては、一般に材
料中の酸素などの不純物を除去するために、通常電子ビ
ーム溶解を用いた精製処理が行なわれている。
また、Nb −Ti合金の造塊処理を行うアーク溶解工
程においては、チタンとニオブの合金成分の均一化をは
かるため、例えば特公昭55.−6089号公報ではニ
オブ板とチタン板を交互に張り合わせたものや、特開昭
61−253353号ではチタン中空体内にニオブ中空
体を内装した複合消耗電極を使用するなど消耗電極の製
作方法についても色々な改良や提案がなされている。
程においては、チタンとニオブの合金成分の均一化をは
かるため、例えば特公昭55.−6089号公報ではニ
オブ板とチタン板を交互に張り合わせたものや、特開昭
61−253353号ではチタン中空体内にニオブ中空
体を内装した複合消耗電極を使用するなど消耗電極の製
作方法についても色々な改良や提案がなされている。
また、チタンと種々の合金スポンジの製造法は、特公昭
49−1371号公報に記載されているが、チタン以外
の合金成分が10%以上含有する合金スポンジは示唆さ
れていない。
49−1371号公報に記載されているが、チタン以外
の合金成分が10%以上含有する合金スポンジは示唆さ
れていない。
本発明は、ニオブ及びチタンの各々の金属を経ることな
く、均一なNb −Ti合金を製造するものであり、高
純度のNb −Ti合金スポンジを提供するものである
。
く、均一なNb −Ti合金を製造するものであり、高
純度のNb −Ti合金スポンジを提供するものである
。
本発明は、ニオブが20〜70重景%、残部チタン及び
不可避不純物からなる高純度ニオブチクン合金スポンジ
であり、該スポンジは、超電寡材料素材として有用であ
り、また、ニオブを20〜70重量%、残部チタンとな
る量比の五塩化ニオブと四塩化チタンをナトリウムにて
還元することを特徴とするニオブが20〜70重量%、
残部チタン及び不可避不純物からなる高純度ニオブチタ
ン合金スポンジの製造法である。
不可避不純物からなる高純度ニオブチクン合金スポンジ
であり、該スポンジは、超電寡材料素材として有用であ
り、また、ニオブを20〜70重量%、残部チタンとな
る量比の五塩化ニオブと四塩化チタンをナトリウムにて
還元することを特徴とするニオブが20〜70重量%、
残部チタン及び不可避不純物からなる高純度ニオブチタ
ン合金スポンジの製造法である。
本発明に於いては、ニオブが20〜70重量%、残部チ
タンとなる量比の五塩化ニオブと四塩化チタンをナトリ
ウムと反応させる。
タンとなる量比の五塩化ニオブと四塩化チタンをナトリ
ウムと反応させる。
五塩化ニオブと四塩化チタンの使用量は、五塩化ニオブ
(NbC1、:分子i270)中のニオブの重量(Nb
Cj!s1g分子当り約92.9 g )及び四塩化チ
タン(TiCl 4 :分子i190)中のチタンの重
量(TiC141g分子当り約47.9 g )から容
易に計算できる。又、ナトリウムの使用量は、化学量論
量ないし0.5%過剰であり、五塩化ニオブ1モル当り
5モル、四塩化チタン1モル当り4モルの量である。例
えば、ニオブ20%チタン80%の合金スポンジを1
kg製造するとすれば、五塩化ニオブ582g、四塩化
チタン3,168g及びナトリウム1,783gであり
、ニオブ70%チタン30%の場合は、五塩化ニオブ2
,035g四塩化チタン1.188 g及びナトリウム
1.442 gである。
(NbC1、:分子i270)中のニオブの重量(Nb
Cj!s1g分子当り約92.9 g )及び四塩化チ
タン(TiCl 4 :分子i190)中のチタンの重
量(TiC141g分子当り約47.9 g )から容
易に計算できる。又、ナトリウムの使用量は、化学量論
量ないし0.5%過剰であり、五塩化ニオブ1モル当り
5モル、四塩化チタン1モル当り4モルの量である。例
えば、ニオブ20%チタン80%の合金スポンジを1
kg製造するとすれば、五塩化ニオブ582g、四塩化
チタン3,168g及びナトリウム1,783gであり
、ニオブ70%チタン30%の場合は、五塩化ニオブ2
,035g四塩化チタン1.188 g及びナトリウム
1.442 gである。
反応を実施するに当っては、還元反応容器に所定量のナ
トリウムを仕込み、600〜850℃の温度範囲に保持
して、ニオブが20〜70重伍%、残部チタンとなる量
比の所定量の五塩化ニオブと四塩化チタンを導入する。
トリウムを仕込み、600〜850℃の温度範囲に保持
して、ニオブが20〜70重伍%、残部チタンとなる量
比の所定量の五塩化ニオブと四塩化チタンを導入する。
所定量のナトリウムは予めその全量を反応容器に導入す
るか、また、五塩化ニオブと四塩化チタンと同時に若し
くは交互に導入しても良い。また、予め反応容器でニオ
ブとチタンの低次塩化物を作り、これに所定量のナトリ
ウムを追加して製造することもできる。この場合、反応
温度は五塩化ニオブと四塩化チタンの導入が完了するま
で150〜850℃に保持されるが通常は600〜85
0℃が好ましい。供給する四塩化チタンと五塩化ニオブ
の仕込割合は、四塩化チタンは流量計を用い、また五塩
化ニオブはフィダー等によって調節される。
るか、また、五塩化ニオブと四塩化チタンと同時に若し
くは交互に導入しても良い。また、予め反応容器でニオ
ブとチタンの低次塩化物を作り、これに所定量のナトリ
ウムを追加して製造することもできる。この場合、反応
温度は五塩化ニオブと四塩化チタンの導入が完了するま
で150〜850℃に保持されるが通常は600〜85
0℃が好ましい。供給する四塩化チタンと五塩化ニオブ
の仕込割合は、四塩化チタンは流量計を用い、また五塩
化ニオブはフィダー等によって調節される。
反応生成物は更にこれを900℃以上に加熱して、反応
を完結させた后、これを冷却して取出す。
を完結させた后、これを冷却して取出す。
取出した反応生成物は破砕し塩酸水溶液にて洗滌し°た
后、真空乾燥することにより組成が均一な高純度のNb
−Ti合金スポンジが得られる。
后、真空乾燥することにより組成が均一な高純度のNb
−Ti合金スポンジが得られる。
このようにして得られたNb −Ti合金スポンジは、
そのま−これをプレス成形してブリケットを作り、これ
を真空または不活性雰囲気中でアーク溶解することによ
り、容易に均質なNb −74合金インゴントが得られ
るのである。
そのま−これをプレス成形してブリケットを作り、これ
を真空または不活性雰囲気中でアーク溶解することによ
り、容易に均質なNb −74合金インゴントが得られ
るのである。
本発明の不可避不純物としては、原料並びに製造工程か
ら、酸素、窒素、ナトリウム、塩素、鉄、ニッケル、マ
ンガンなどの不純物が混入する。この内、問題になる不
純物は酸素、ナトリウム、塩素、鉄であるが、これらの
不純物は何れも超電導材料として使用可能な許容限度以
下に制御することができる。特にナトリウム還元によっ
て混入するナトリウムと塩素はその蒸気圧特性の関係か
ら真空または不活性雰囲気下でのアーク溶解することに
より除去される。反応容器からマンガン、ニッケル、ク
ロムなどが、混入するが、&@量として1)00pp以
下である。
ら、酸素、窒素、ナトリウム、塩素、鉄、ニッケル、マ
ンガンなどの不純物が混入する。この内、問題になる不
純物は酸素、ナトリウム、塩素、鉄であるが、これらの
不純物は何れも超電導材料として使用可能な許容限度以
下に制御することができる。特にナトリウム還元によっ
て混入するナトリウムと塩素はその蒸気圧特性の関係か
ら真空または不活性雰囲気下でのアーク溶解することに
より除去される。反応容器からマンガン、ニッケル、ク
ロムなどが、混入するが、&@量として1)00pp以
下である。
また、酸素と鉄については、酸素1. OOOppm以
下、鉄200ppm以下であることが望ましいが、供給
する四塩化チタンと五塩化ニオブの量比によって影響さ
れる。即ち供給する五塩化ニオブがニオブとして70重
景%以上となる量を加えると、五塩化ニオブ及びその低
次塩化物による反応容器材質に対する腐蝕性が増大して
、鉄含有量の少ないNb −Ti合金スポンジが得られ
ない。
下、鉄200ppm以下であることが望ましいが、供給
する四塩化チタンと五塩化ニオブの量比によって影響さ
れる。即ち供給する五塩化ニオブがニオブとして70重
景%以上となる量を加えると、五塩化ニオブ及びその低
次塩化物による反応容器材質に対する腐蝕性が増大して
、鉄含有量の少ないNb −Ti合金スポンジが得られ
ない。
また、五塩化ニオブがニオブとして20重世%以下の量
を加えた場合には反応領域において、ニオブとチタンの
低次塩化物と副生食塩との共融浴の形成が阻害されて好
ましくない。
を加えた場合には反応領域において、ニオブとチタンの
低次塩化物と副生食塩との共融浴の形成が阻害されて好
ましくない。
即ち五塩化ニオブがニオブとして20重世%以上の量を
加えることにより反応領域において、ニオブとチタンの
共融低次塩化物が形成され、反応が緩慢に進行し、Nb
−Ti合金の結晶生成が進行して合金組成が均質となり
、Nb−Ti合金スポンジを水洗するリーチング工程に
おいて、酸素汚染され難い大きく成長したNb −Ti
合金の結晶を得ることができる。
加えることにより反応領域において、ニオブとチタンの
共融低次塩化物が形成され、反応が緩慢に進行し、Nb
−Ti合金の結晶生成が進行して合金組成が均質となり
、Nb−Ti合金スポンジを水洗するリーチング工程に
おいて、酸素汚染され難い大きく成長したNb −Ti
合金の結晶を得ることができる。
以上、要するに、ニオブとして20〜70重量%、残部
チタンとなる量比の五塩化ニオブと四塩化チタンをナト
リウムによって同時に還元することにより、1. OO
Oppm以下の酸素及び200ppm以下の鉄を含有す
る高純度のNb −Ti合金スポンジを製造することが
可能である。
チタンとなる量比の五塩化ニオブと四塩化チタンをナト
リウムによって同時に還元することにより、1. OO
Oppm以下の酸素及び200ppm以下の鉄を含有す
る高純度のNb −Ti合金スポンジを製造することが
可能である。
実施例
鉄製の還元反応容器にアルゴン雰囲気下で精製した金属
ナトリウム9.328 kgを仕込み、電気炉にて65
0℃に加熱した。
ナトリウム9.328 kgを仕込み、電気炉にて65
0℃に加熱した。
次に反応温度を650〜850℃に維持しながら、五塩
化ニオブ9.334 kgと四塩化チタン1)゜051
kgを同時に滴下して6.0時間で、1次反応を行な
った。
化ニオブ9.334 kgと四塩化チタン1)゜051
kgを同時に滴下して6.0時間で、1次反応を行な
った。
更に950℃で3時間加熱する2次反応を行って反応を
完結させた。
完結させた。
反応生成物を冷却し、取出した後粉砕し、1%塩酸でリ
ーチし、水洗后真空乾燥を行なった。
ーチし、水洗后真空乾燥を行なった。
得られたNb−Ti合金スポンジの収率は98%であり
、製品の酸素含有量は400ppm、鉄含有量は50p
pm 、 Ti46.3%を含有するNb−Ti合金ス
ポンジが得られた。またX線回折の結果、Nb −Ti
の合金を形成していることが確認された。
、製品の酸素含有量は400ppm、鉄含有量は50p
pm 、 Ti46.3%を含有するNb−Ti合金ス
ポンジが得られた。またX線回折の結果、Nb −Ti
の合金を形成していることが確認された。
本発明によれば、高純度のニオブを使用することなく、
酸素が1. OOOppm以下鉄が200ppm以下の
高純度のNb −Ti合金を簡単に製造することが出来
、得られた新規な合金スポンジは超電導材料用として簡
便に用いることができ、例えばそのま\真空又は不活性
雰囲気下でアーク溶解を行うことにより任意に加工でき
る。
酸素が1. OOOppm以下鉄が200ppm以下の
高純度のNb −Ti合金を簡単に製造することが出来
、得られた新規な合金スポンジは超電導材料用として簡
便に用いることができ、例えばそのま\真空又は不活性
雰囲気下でアーク溶解を行うことにより任意に加工でき
る。
Claims (3)
- (1)ニオブが20〜70重量%、残部チタン及び不可
避不純物からなる高純度ニオブチタン合金スポンジ。 - (2)超電導材料用である特許請求の範囲第1項記載の
合金スポンジ。 - (3)ニオブが20〜70重量%、残部チタンとなる量
比の五塩化ニオブと四塩化チタンとを、ナトリウムにて
還元することを特徴とするニオブを20〜70重量%、
残部チタン及び不可避不純物からなる高純度ニオブチタ
ン合金スポンジの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24591687A JPH0192338A (ja) | 1987-10-01 | 1987-10-01 | 高純度ニオブチタン合金スポンジ及びその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24591687A JPH0192338A (ja) | 1987-10-01 | 1987-10-01 | 高純度ニオブチタン合金スポンジ及びその製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0192338A true JPH0192338A (ja) | 1989-04-11 |
Family
ID=17140745
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24591687A Pending JPH0192338A (ja) | 1987-10-01 | 1987-10-01 | 高純度ニオブチタン合金スポンジ及びその製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0192338A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996041382A3 (en) * | 1995-06-07 | 1997-01-30 | Teledyne Ind | Niobium 47 weight % titanium by iron addition and method for making superconducting multifilamentary wire |
| WO2002061168A3 (en) * | 2000-10-24 | 2003-03-13 | Honeywell Int Inc | Methods of forming sputtering targets |
| JP2005533660A (ja) * | 2002-07-25 | 2005-11-10 | ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ | 非金属前駆体化合物の還元及び融解によって金属物品を製造する方法 |
| CN102021352A (zh) * | 2011-01-12 | 2011-04-20 | 洛阳双瑞万基钛业有限公司 | 一种用于制取高疏松度海绵钛的装置 |
-
1987
- 1987-10-01 JP JP24591687A patent/JPH0192338A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996041382A3 (en) * | 1995-06-07 | 1997-01-30 | Teledyne Ind | Niobium 47 weight % titanium by iron addition and method for making superconducting multifilamentary wire |
| WO2002061168A3 (en) * | 2000-10-24 | 2003-03-13 | Honeywell Int Inc | Methods of forming sputtering targets |
| US6833058B1 (en) | 2000-10-24 | 2004-12-21 | Honeywell International Inc. | Titanium-based and zirconium-based mixed materials and sputtering targets |
| JP2005533660A (ja) * | 2002-07-25 | 2005-11-10 | ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ | 非金属前駆体化合物の還元及び融解によって金属物品を製造する方法 |
| CN102021352A (zh) * | 2011-01-12 | 2011-04-20 | 洛阳双瑞万基钛业有限公司 | 一种用于制取高疏松度海绵钛的装置 |
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