JPH0196072A - 非酸化物セラミックのマイクロ波接合方法および装置 - Google Patents

非酸化物セラミックのマイクロ波接合方法および装置

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JPH0196072A JP63167897A JP16789788A JPH0196072A JP H0196072 A JPH0196072 A JP H0196072A JP 63167897 A JP63167897 A JP 63167897A JP 16789788 A JP16789788 A JP 16789788A JP H0196072 A JPH0196072 A JP H0196072A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、2つの物体、特に非酸化物セラミックのマ
イクロ波接合のための方法および装置に関するものであ
る。
[従来の技術] セラミック材料を共に接合するには種々の多数の方法お
よび装置が存在する。例えば米国特許箱4,384.9
09号、同第4.347,089号、同第3.998゜
632号、同第3.841.870号、同第3.755
,065号等の明m書に記載されている。
マイクロ波エネルギの供給によって2つの困難な材料を
接合する他の方法および装置は例えば米国特許第4.2
73.950号、同第4.219.361号、同第4.
179.596号、同第4.003.388号等の明細
書に記載されている。
セラミック材料のマイクロ波接合のための方法および装
置については特に米国特許第4,529.857号、同
第4.529.858号、同第4.307.277号、
同第4.292,282号、同第4.147,911号
、同第3,953゜703号、同第3.732.048
号、同第3.585.258号、同第3,520.05
5号等の明細書に記載されている。
マイクロ波エネルギを使用してセラミック材料間の接合
を形成する従来の装置は時には料理用に通常使用されて
いる電子レンジを使用する。このような電子レンジでは
、マイクロ波電界は多数の異なった方向に存在し、電子
レンジに供給された電力はしたがって分散する。これら
の方向またはモードの全てがセラミック材料の接合に有
効に結合されるものではない。さらに、接合を刺激し強
力にするために真空中または不活性ガスで過度に圧力を
高められた雰囲気中で非酸化物セラミック材料に同時に
圧縮力を与えること、および確実に良好な接合を得るた
めにそのような真空中または過度に圧力を高められた雰
囲気中で2つの非酸化物セラミック材料間に形成される
接合部を連続的に監視するような方法および装置は従来
の技術においては知られていない。
[発明の解決すべき課題] この発明の目的は、通常の加熱方法および装置によって
接合される材料に比較して改善された強度および信頼性
を得るように非酸化物セラミック材料を接合するために
、マイクロ波エネルギによりよ一層迅速で実質上均一な
加熱を行なうことである。
[課題解決のための手段および作用] この発明によれば、この目的は、2つの物体の周囲に真
空状態または過度の圧力を生成し、それら2つの物体の
間に形成される接合部にマイクロ波を放射し、同時に2
つの物体に圧縮力を与え、2つの物体間に形成される接
合部を連続的に監視することを特徴とする2つの物体を
接合する方法および装置によって達成される。
この発明の別の目的は、酸化物や水蒸気のような非酸化
物セラミック材料上の表面不純物が接合処理を妨害する
可能性のあるような条件下でマイクロ波放射を行なうこ
とによって非酸化物セラミック材料を接合する少なくと
も2つの方法を提供することであり、その一つの方法は
、非酸化物セラミック材料がその内部で接合される密閉
した容器の排気が必要であり、一方、もう一つの方法で
は、非酸化物セラミック材料を不活性ガスで囲んで密閉
容器に過度に圧力を与える。
この発明の特徴は、熱が材料中の分子グイボールによっ
て吸収された電磁エネルギの消費によって接合される材
料中で内部的に発生されることによってマイクロ波加熱
の利点が得られることである。
熱が材料内部に到達するために伝導も対流も必要ではな
いから、加熱は迅速に行われ、熱はより一層均−に分布
する。さらに主要な熱損失のメカニズムは全ての加熱さ
れた材料の外表面からの放射であるから、マイクロ波加
熱された試料は通常の加熱方法で観察される通常の温度
傾斜′とは反対の残留温度傾斜を示す。換言すれば、マ
イクロ波加熱された試料では中心は外部表面より熱い。
したがって、材料を加熱するためのマイクロ波の供給は
3つの異なった利点を有する。すなわち、実質上均一な
加熱、より迅速な加熱、および通常の加熱とは反対の温
度傾斜である。これらの利点はいくつかの点でマイクロ
波処理されたセラミック材料の特性を増強する。
まず、実質上均一な加熱は、残留応力の生成を最小にし
、付加的に不純物の材料全体への拡散を禁止する。第2
に、迅速な加熱はグレインの成長を阻止し、また通常の
加熱接合処理より長い加熱時間に関係した脆弱化を阻止
する。第3に反対の熱傾斜は材料の中心から外表面への
不純物の拡散を強化し、制御された成分拡散の新しいメ
カニズムである。
この発明は、非酸化物セラミック材料のマイクロ波接合
に対して従来の技術の方法および装置では認められない
4つの付加的な利点を有する。第1に、その方法は真空
中または不活性ガスにより容易に過度に加圧できる密閉
された雰囲気中で行われる。第2に、単一モードマイク
ロ波供給装置が使用され、そのためマイクロ波電界は形
成される接合にマイクロ波放射を結合するのに最適の方
向にすることができ、それによってエネルギ効率が増加
する。第3に、圧縮力が同時に接合される非酸化物セラ
ミック材料に加えられ、そのためマイクロ波接合処理は
通常の熱接合処理よりもずっと短い時間で本質的に完了
する。第4に、形成される接合部は非破壊的評価装置に
よって連続的に監視され、良好な連続的な接合が確実に
得られる。
これまで、同じ時間に同じ条件下で形成された全てのバ
ッチの特性を評価するために、1以上の試料を破壊する
方法以外に各接合の連続的な監視を行なうことは不可能
であった。しかも、個々の試料には特有の欠陥があるた
め、いわゆる良好なバッチ中にも欠陥がある接合があり
得る。この発明は、その形成中に各接合を定常的に監視
するために非破壊的評価装置を使用するため、各接合が
充分な構造的完全性を持つことを確実にする。
さらに、単一モードマイクロ波供給装置に関しては、2
つのセラミックの物体の接合区域のみが直接加熱される
。接合区域から離れた非酸化物セラミック材料は拡散に
よって低い温度に加熱されるけれども、この発明は、加
熱装置内部で材料の全体が加熱される従来の対流型およ
びマイクロ波加熱型装置よりも基本的に効率が高い。こ
れらの通常のマイクロ波加熱型装置は単一モードではな
く混合されたモードが使用されているためにエネルギ効
率が悪い。
圧縮力は容易に非酸化物セラミック材料に与えられる。
何故ならば接合される領域だけがマイクロ波放射にさら
され、一方セラミック材料の物体の残りの部分は単一モ
ードマイクロ波放射装置の放射領域の外にあるからであ
る。放射領域の外のセラミック材料の部分に対して圧縮
力が与えられ、それによって接合処理がスピードアップ
される。
さらに、非酸化物セラミック材料の物体の一部が放射領
域の外にあるから、非破壊的評価装置は直接セラミック
体に取付けることができる。例えば、この方法により、
接合領域からの音響反射が監視され、形成されつつある
接合部の品質を連続的に評価することができる。
この発明の方法および装置によって生成された接合は同
等加工していない非酸化物セラミック材料と同程度或い
はそれ以上の強度である。
さらに、はんだ材料が使用されてもよく、その使用を排
除するものではないが、はんだは必要ではない。
これら、およびその他のこの発明の利点は添附図面を参
照にした実施例の説明によりさらによく理解でるであろ
う。
[実施例] 第1図には2つの非酸化物セラミックよりなる物体をマ
イクロ波エネルギを供給することによって接合する装置
が示されている。マグネトロン11はマイクロ波信号を
発生し、導波管を表わしている矢印の方向に約2.45
G Hzの周波数で1000ワツトまでの電力を出力す
る。
第1のサーキュレータ12は順次矢印で定められた経路
に沿ってマイクロ波エネルギを導き、一方向ゲートまた
はアイソレータとして作用し、マグネトロン11を反射
マイクロ波に対して保護している。反射されたマイクロ
波エネルギはこの第1のサーキュレータ12によって第
1の抵抗負荷素子39に導かれ、そこで消費される。
電圧サンプリングプローブ14は伝播されたマイクロ波
の電圧の大きさを感知し、そのほんの一部を抽出する。
電力ヘッド15はこの伝播電圧の一部を受けて、この入
力電圧の2乗に比例する出力電圧を発生する。電力計1
6は電力ヘッド15と関連して使用され、前進方向に伝
播するマイクロ波電圧に比例する出力電圧を生成し、表
示する。この出力電圧は差動増幅器22の非反転入力に
供給される。
一方前進方向に伝播するマイクロ波電圧の残りの部分は
マイクロ波ブリッジ素子として作用する第2のサーキュ
レータ17に伝送される。この第2のサーキュレータ1
7はその右側の2頭矢印であられされるように二つの機
能を有する。まず、サーキュレータ17はマイクロ波が
前進方向で密閉容器21に向かって通過することを許容
する。第2に、サーキュレータエ7は密閉容器21から
反射されたマイクロ波電力を電圧サンプリングプローブ
24、電力ヘッド25、電力計26を経て差動増幅器2
2の反転入力へ導く。過剰の反射されたマイクロ波電力
は第2のサーキュレータ17によって第2の抵抗負荷素
子40に導かれ、そこで消費される。プローブ24、電
力ヘッド25、電力計26はプローブ14、電力ヘッド
15、電力計18と同一の装置である。しかしながらプ
ローブ24は反射電圧の大きさを感知し、電力計26は
反射された電圧に比例する電圧を生成して出力し、表示
する。一方ブローブ14と電力計16は前進方向の電力
を処理するものである。
説明を第2のサーキュレータ17に戻すと、前進方向に
伝播する電圧は固定アイリス23を通って密閉容器21
中へ供給される。この固定アイリス23はマイクロ波エ
ネルギを2つの物体間に形成される接合部Jに集束する
。アイリス23は異なる固定開口寸法の別のアイリスに
置換えられてもよい。またその代りにアイリス23は調
整可能であってもよい。
第2図の実施例において、物体は2個の非酸化物セラミ
ック材料の物体、すなわち試料Sl。
S2である。密閉容器21は内部マイクロ波共振空洞2
7を有し、それはハンドル29によって滑動可能な後面
壁28を前後に移動することによって寸法を調整できる
。ハンドル29を動かすことによってオペレータは後面
壁28の位置を調整することができ、それ故密閉容器2
1中の空洞27の長さは変化される。
この変化は空洞27の共振周波数の変化を生じ、それは
結果的にアイリス23と滑動可能な後面壁28との間で
空洞27内にマイクロ波定在波を生じる。その代りに、
後面壁28が固定されて空洞27内に予め定められた共
振周波数を生じるようにしてもよい。
しかしながら、そのような場合には可変周波数のマイク
ロ波源を使用しなければならない。
コンプレッサ30は密閉容器21の外側へ突出している
セラミックの試料Slの一端に位置する水圧ピストンを
有する。コンプレッサ30は試料S1、S2を横切って
圧縮力を作用させる。ロードセル31はコンプレッサ3
0により試料S1の一端に加えられた静的な力を測定す
る。
試料5ISS2は窒化シリコン(Si3N、+)のよう
な任意の非酸化物セラミックでよい。実験室で行われた
実験データはこの特定の非酸化物セラミック材料の誘電
体特性と、各試料SL、S2の外表面からの熱放射の両
方を考慮した。非酸化物セラミック材料試料の接合のた
めの初期加熱速度はマイクロ波放射にさらされたとき典
型的には毎秒20℃であり、毎秒100℃までテストさ
れた。
窒化シリコンから作られた直径3/8インチの棒の試料
5tSS2の半径方向の温度プロファイルが計算され、
中心と外部表面との間には中心の方が高い若干の温度差
を有しているが、それでも実質的には均一な加熱プロフ
ァイルである。
非破壊的評価装置32は試料S2の下端に配置され、空
洞27の内部で形成される接合部Jの領域から反射され
る音響パルスを定常的に監視している。
接合部Jに間隔または空隙がある間は評価装置32によ
って試料S2に沿って送信された音響パルスはこの空隙
で反射されて評価装置32に戻ってくる。
試料SL、S2間に接合が形成されたために接合部Jに
もはや空隙が存在しないときには、評価装置32から送
られた音響パルスは試料S2から試料S1の縦方向に沿
って伝播し、したがって反射される音響パルスの大きさ
はゼロに減少し、接合が試料Sl、82間に形成された
ことを示す。
説明を第1図に戻すと、接合部Jにおける試料S2の温
度測定値は赤外線パイロメータ19から自由走行2チヤ
ンネルストリツプチヤートレコーダ1Bに電子的に供給
される。差動増幅器22に関して、接合部Jに対して増
幅される電力は前進方向電力マイナス反射電力と同じ大
きさであることが認められる。前進方向電力に比例する
電圧は差動増幅器22の非反転入力に与えられ、アイリ
ス23で反射された電力に比例する電圧は差動増幅器2
2の反転入力に与えられるから、差動増幅器22の出力
電圧は密閉容器21の内部の空洞27中のマイクロ波電
力に比例している。この電力は接合の形成中に接合部J
において試料St、S2によって吸収されるのに使用さ
れる電力である。吸収に使用される電力を表わす差動増
幅器の出力はレコーダ18に供給され、レコーダ18に
よってマークされた時間に対してのグラフとされ、また
パイロメータ19による接合部Jの測定温度に対して記
録される。レコーダ18の出力はストリップチャートで
あり、それは経過時間に対する吸収された電力および測
定された温度のグラフである。
再び第2図に戻ると、コンプレッサ30および非破壊的
評価装置32の詳細が示されている。マイクロ波電界が
アイリス23を通って密閉容器21中に入ると、内部の
空洞27の共振周波数は、試料Sl。
82間の接合部Jに電界成分の最大振幅がある定在波電
界が設定されるようにハンドル29により滑動可能な後
面壁28を移動させることによって調整される。
定在波マイクロ波電界が設定されると、接合部Jにおけ
る接合の形成を助けるようにコンプレッサ30によって
力が試料Slの突出した上端に加えられる。反対側の試
料S2の端部には音響結合材料、例えばグリースが付着
され、試料S2に沿った接合部Jと評価装置32との間
の音響波の伝送を容易にする。評価装置32内に、試料
S2とトランスデユーサ34との間の音響信号の伝送を
最大にする音響増大レンズ33が設けられる。トランス
デユーサ34は送信機またはパルサ35から受信した電
気パルスを音響パルスに変換し、これらの音響パルスを
試料S2に沿って接合部Jに送信し、音響パルスは接合
部Jから反射されてS2に沿って戻り、音響増大レンズ
33を経てトランスデユーサ34に入力する。反射過程
において、トランスデユーサ34は音響パルスを電気パ
ルスに変換し、その電気パルスは受信機36に送られる
。受信機36の出力はオシロスコープ37で表示される
コンプレッサ30と評価装置32は共に試料St。
S2を保持する密閉容器21の外部に配置され、測定装
置に熱や放射によるダメージを与えることなく接合部J
について正確な測定を行なうことができる。
説明をオシロスコープ37に戻すと、そのような装置は
入力端子に与えられた電気信号をオペレータが観察する
ために表示するものとして知られている。例えばこの場
合には与えられる入力信号は結合される試料Sl、32
間の接合部Jからの反射に応じたトランスデユーサ34
によって生成された電気信号である。試料Sl、S2が
接合されると、この音響パルスは振幅が減少し、接合部
Jを横切って完全な接合が形成されるとき明瞭に消失す
る。
この音響パルスの監視は、オペレータが接合処理状態を
観察し、接合された試料SL、S2内部に形成される可
能性のある不完全結合部を認識することを可能にする。
接合された試料SL、S2は非酸化物材料を同等破壊す
ることなく評価されるから、品質制御が大いに高められ
る。
第3図に示された実施例において、密閉容器21の後部
部分がハンドル29を動かすことによって空洞の寸法を
調整する後部壁を明らかにするために破いた状態で示さ
れている。ハンドル29は固定壁41によって案内され
ると共にシールされている。
保持板42はOリング43を保持し、このOリング43
は外部雰囲気から空洞27中へ汚染物が導入されること
に対してハンドル29を密封している。
密閉容器21中の空洞27およびアイリス板52と第2
のサーキュレータ17(第1図)との間に延在するイン
ピーダンス整合部分51はいずれも真空/圧力ライン4
4によって排気されるか、または過度(1気圧より高い
)の圧力とされる。この真空/圧力ライン44にゲージ
45が設けられて、ライン44の圧力を監視している。
真空/圧力ライン44はインピーダンス整合部分51に
連結されることが好ましい。それはこのような配置はア
クセスが必要になったときにいつでもライン44を外す
必要なく容器21にアクセスできるようにしているから
である。しかしながら、ライン44はアイリス23の背
後で直接容器21に接続することもてきる。
密閉容器21が排気されることが望まれるときには、第
1の流体弁46が開かれ、真空ポンプ47がオンにされ
る。真空ポンプ47は適当なマイクロ波電力レベルにお
いてもファラデー放電が生じないように空洞27内の圧
力を10−6以下に減少させることができなければなら
ない。
第1の流体弁4B、第2の流体弁48および加圧された
不活性ガスシリンダ49は密閉容器21内を過度の圧力
にすることが望まれるとぎに開放される。
空洞27の好ましい圧力は2気圧以上である。不活性ガ
スシリンダ49に含まれる適当な不活性ガスは窒素およ
びアルゴンである。
排気された容器21を再充填し或いは過度の圧力の容器
を排気することによって処理を反対にしようとするとき
には、排気弁50が開かれ、空気が排気された容器21
中に流入するか、或いは内部の高い圧力の不活性ガスが
容器2Iから外部へ流出する。
酸化物セラミックの場合には、接合は通常の雰囲気環境
で行われることができる。しかしながら、非酸化物セラ
ミックの場合には、良好な接合を得るためには処理の前
に密閉容器21を排気するか、或いは不活性ガスで容器
21を過度の圧力にすることが必要であることが研究の
結果判明した。
例えば、窒化シリコンを使用して行われた実験では、試
料31.S2が通常の雰囲気環境でマイクロ波放射を受
けると、セラミック材料の製造中に残留する可能性のあ
る不純物その他の異物質が試料SL、82の表面で酸化
され、接合を困難にし、或いは不可能にすることが明ら
かにされた。
この酸化を防止するために、試料Sl、S2を含む容器
21全体は真空中に置かれるか、不活性ガスで過度の圧
力にされる。
本来試料SL、S2を囲む領域だけを真空にするか、不
活性ガスで過度の圧力にすればよいのであるが、実際に
はアイリス23と第2のサーキュレータ17との間のイ
ンピーダンス整合部分51を含めて容器21全体を真空
にしたり、加圧したりするほうが容易である。
第4図および第5図に示すようにアイリス23はアイリ
ス板52における厚さの減少している部分における開口
である。密閉容器21中の空洞27はアイリス23を介
して排気されるか高い圧力にされる。
アイリス板52は密閉容器21とインピーダンス整合部
分51との間に通常のナツト53Aとボルト53Bのよ
うな任意の適当な固定手段によって連結される。
アイリス板52は円形の溝55Aに適合した前面0リン
グ54Aおよび円形溝55Bに適合した後面0リング5
4Bによって漏洩を生じないように密封されている。溝
55Aに対応するインピーダンス整合部分51の表面に
も対応する溝55Aを有し、溝55Bに対応する密閉容
器21の表面にも対応する溝55Bを有している。
第6図に示すように、排気および加圧の両者は、容器2
1の各観察ポート56が容器21の空気の流入または不
活性ガスの流出のいずれかの漏洩に対して密封されるこ
とを必要としている。観察ポート56は窓59を保持す
るための板58を有するキャップ57により覆われてい
る。観察ポート56はキャップ57との間の漏洩に対し
てOリング60で密封され、−方キャップ57は窓59
との間の漏洩に対して0リング61で密封されている。
窓59は試料SL、S2からの赤外線放射が最小の減衰
で通過できなければならない。この目的には通常のガラ
スおよび透明なマイカが充分に適当であることが判明し
た。
第7図に示すように、試料S1は密閉容器21の上部ポ
ート62から空洞27中に伸びており、一方試料S2は
密閉容器21の底部ポート63がら空$J27中に伸び
ている。試料S1と82とが接合されるとき上部ボート
62と試料S1との間で漏洩が生じないように密封する
Oリング64が設けられ、また底部ボート63と試料S
2との間で漏洩が生じな2いように密封するOリング8
5が設けられている。
以上説明した素子は非酸化物セラミックのような材料の
マイクロ波接合のための装置の部品を構成している。次
に処理について以下説明する。
最初に空洞27の内部が第3図に示した装置によって上
述のように排気されるか、または加圧されなければなら
ない。その後2つの非酸化物セラミック試料S1と82
の接合プロセスが開始される。
再び第1図を参照すると、マイクロ波エネルギはマグネ
トロン11から矢印で示されるように密閉容器21へ導
波管に沿って伝播する。第2図に示すようにマイクロ波
電界の定在波は3つのほぼ等しい間隔の位置で最大振幅
を有する。非酸化物セラミック試料S1と82とは利用
できるマイクロ波をほとんど全てを吸収して熱として消
散させるようにこれらの位置の一つに配置されている。
マイクロ波エネルギを密閉容器内に入力させるアイリス
23はインピーダンス変換装置として作用し、空洞27
のインピーダンスをマイクロ波を容器21まで導く方形
のインピーダンス整合部分51のインピーダンスに整合
させる。可変結合は結合の程度を制御するように適当な
開口のアイリスを選択することによって行われる。
滑動可能な後部壁28により長さを調整できる空洞を有
する容器21を使用する理由は、終端された導波管部分
と異なって空洞27中の電力は伝播するマイクロ波電界
中の電力のQ倍であることである。
ここでQは電力損失に対する(2πf)×(サイクル当
り蓄積された平均エネルギ)として定義される空洞の品
質係数(選択度)である。それ故、Qは数千の単位にな
し得るから、空洞27は非1常に少ない人力電力によっ
て高いレベルの蓄積エネルギを得ることができ、そのた
め試料Sl、S2により高いレベルのエネルギを消費す
ることができる。もちろん、消費されるエネルギは空洞
外部から伝播されるマイクロ波と関係する値を越えて消
費されることはない。
温度測定に関して、空洞27内に導電物質が入るとそれ
はアンテナとして、或いは空洞27の外部にマイクロ波
を伝送する同軸伝送ラインの一部として作用するため、
試料Sl、S2の温度測定ののために空洞27中にサー
モカップルやサーミスタを挿入することはできない。事
実、この現象は電圧結合プローブの基本としている原理
である。この現象を避けるためにこの発明では侵入しな
い温度Apl定技術が使用されている。すなわち加熱さ
れた試料S2の外面から放射される赤外線の強度を測定
する。この強度はブランクの放射法則にしたがつて材料
の表面の温度と特定の関係にある。残念なことに、この
関係はまた表面の熱放射性にも依存している。この熱放
射性は、完全黒体表面に対しては、全ての放射は放射さ
れるか吸収されるかのいずれかであり、一方完全な白の
表面では、放射され、或いは吸収される放射線はない、
すなわち全て内部または外部に反射される、というよう
な表面の熱放射効率の尺度である。大抵の表面では正確
に熱放射性を知ることは困難である。したがって大きな
温度の不確実性がある。この誤差を避けるために、この
発明ではそのような誤差をキャンセルするいわゆる“2
色”パイロメータ19を使用している。
この発明の期待された効果をテストするために直径3/
8インチ、長さ3インチの窒化リコン棒を使用して実験
が行われた。試料SL、S2は市販(G T E −W
esgo社販売)されているものである。
第1図に示すように、マイクロ波はマグネトロン11に
より供給され、矢印で概略的に示した方形導波管を通っ
てインピーダンス整合部分51(第3図)および密閉容
器21に送られ、密閉容器21中の空洞27中に試料3
1.S2が配置された。空洞27は単一モードマイクロ
波電界形態で励振され、マイクロ波電界がアイリス23
を通って空洞27に入力された後、後面壁28の位置を
調整することによってその共振周波数は変化された。試
料St、S2により吸収された電力は空洞27に集束さ
れた前進方向の電力と空洞27から反射して戻された電
力との差としてa定される。試料SL、S2はマイクロ
波電界の定在波の振幅の最大の位置に配置された。
第2図に示されるように、コンプレッサ30は密閉容器
21の外部に位置し、接合過程において試料Sl、S2
に圧縮力を加える。ロードセル31はこの力をall定
し、そのデータをカモニタおよびレコーダ38に伝送し
、レコーダ38はそのデータをオペレータのために表示
する。接合の形成中、吸収された電力、上昇した温度、
加えられた圧力が監視され、第1図のレコーダ18およ
び第2図のレコ−ダ38に時間の関数として適当に記録
される。これらの測定は接合過程中に生じた電力、温度
、および圧力の最適化を時間の関数として確実に得させ
る。
窒化リコンを使用して実験の結果、接合された棒は接合
されない試料St、S2と同程度以上の強度を示した。
第2に、接合部Jの周囲の光学顕微鏡および電子顕微鏡
による観察によって、この領域が非常に均質であり、2
つの試料St、S2間の境界を横切って均一なマイクロ
構造が維持されていることが認められた。第3に、4点
屈曲の屈曲テスト中の破壊は接合部Jからある距離で生
じ、破壊係数はもとの材料のそれより大きい。したがっ
て接合部Jは試料Sl、S2の最初の状態の材料よりも
強いことが認められる。初期加熱時間の15分以内に形
成された同一の接谷の大きな強度は適切なマイクロ構造
の完全性を有する結合の形成の一つのキーであることを
結論づけている。
これらの接合は熱拡散結合である。しかしながら、この
発明はまたセラミックのとラミックのろう付は処理に適
用することもできる。
非酸化物セラミックと金属の接合に対しては、2つの異
なる型式の接合が可能である。すなわち、通常のろう打
法および中間層を使用する間接ろう付接合である。この
ような非酸化物セラミックと金属の接合を行なうために
金属棒またはその他のセラミック以外の物質の試料の位
置が、セラミック棒または試料と接合されるべき端部が
容器21中の空洞27の内壁のと一致し、その一部とな
るように注意深く最初に調整されなければならない。空
洞27を共振に同調させるために、金属棒は上部ポート
G2または底部ポートB3のいずれかから容器21内に
若干挿入される。金属物体は電磁エネルギを吸収するの
ではなく反射するために一般にはマイクロ波加熱では避
けられるべきであるけれども、空洞27中に挿入された
金属棒は本質的にキャパシチブなポストとして作用し、
このポストの電気リアクタンスおよび加熱処理における
その効果は高い正確度で計算できる。その後、非酸化物
セラミック試料が金属試料と接触され、セラミックとセ
ラミックの接合の場合と正確に同じ方法で加熱される。
すなわち、空洞27が金属と非酸化物セラミックとの接
合過程に対して再同調され、接合が空洞27中の最大電
界位置で形成される。電界は円筒状の試料Sl、S2の
縦軸に沿って一定であることに注意すべきである。また
金属とセラミックの接合に対しても温度/時間ブロフフ
イルの計算を行なうことができる。
以上、この発明の好ましい実施例についてのみ説明した
。しかしながら、接合技術の当業者であればこの説明に
より多くの変形、変更が容易に可能であろう。したがっ
て、この発明は上述した方法および装置に限定されるも
のではなく、特許請求の範囲の記載によってのみ限定さ
れるべきものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は、この発明のマイクロ波接合方法を行なうため
の装置の概略図であり、第2図は、この発明のマイクロ
波接合方法を行なうための装置中の2つのキー素子を構
成するコンプレッサと監視装置の詳細図である。第3図
は、この発明のマイクロ波接合方法を行なうための装置
を形成する素子のいくつかのものの上面図であり、第4
図は、第3図の線4−4に沿った断面図である。第5図
は、この発明の装置の容器への入力におけるアイリスお
よび周辺素子の分解斜視図である。第6図は、第3図の
線6−6に沿った断面図であり、第7図は、第3図の線
7−7に沿った断面図である。 11・・・マグネトロン、12.17・・・サーキュレ
ータ、14、24・・・電圧サンプリングプローブ、1
5.25・・・電力ヘッド、16.28・・・電力計、
18・・・レコーダ、19・・・パイロメータ、21・
・・密閉容器、22・・・差動増幅器、27・・・空洞
、30・・・コンプレッサ、31・・・ロードセル、3
2・・・非破壊評価装置、39.40・・・抵抗負荷素
子。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 〜  〜 16事件の表示 特願昭63−167897号 2、発明の名称 非酸化物セラミックのマイクロ波接合方法および装置3
、補正をする者 事件との関係  特許出願人 名称 キューズテック・インコーホレーテッド4、代理
人 東京都千代田区霞が関3丁目7番2号 UBEビル〒1
00  電話 03 (502)3181 (大代表)
6、補正の対象 明細書 2、特許請求の範囲 (1)2つの物体の周囲に真空状態を生成し、それら2
つの物体の間に形成される接合部にマイクロ波を放射し
、 同時に2つの物体に圧縮力を与え、 2つの物体間に形成される接合部を連続的に監視するこ
とを特徴とする2つの物体を接合する方法。 (2)2つの物体の周囲に真空状態を生成する手段と、 それら2つの物体の間に形成される接合部にマイクロ波
を放射する手段と、 同時に2つの物体に圧縮力を与える手段と、2つの物体
間に形成される接合部を連続的に監視する手段とを具備
していることを特徴とする2つの物体を接合する装置。 (2)2つの物体の周囲の空洞に過度に圧力を与え、 2つの物体間に形成される接合部にマイクロ波を放射し
、 同時に2つの物体に対して圧縮力を供給し、2つの物体
間に形成される接合部を連続的に監視することを特徴と
する2つの物体を接合する方法。 (4)2つの物体の周囲の空洞に過度に圧力を与える手
段と、 2つの物体間に形成される接合部にマイクロ波を放射す
る手段と、 同時に2つの物体に対して圧縮力を供給する手段と、 2つの物体間に形成される接合部を連続的に監視する手
段とを具備していることを特徴とする2つの物体を接合
するための装置。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦

Claims (62)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)2つの物体の周囲に真空状態を生成し、それら2
    つの物体の間に形成される接合部にマイクロ波を放射し
    、 同時に2つの物体に圧縮力を与え、 2つの物体間に形成される接合部を連続的に監視するこ
    とを特徴とする2つの物体を接合する方法。
  2. (2)前記マイクロ波を放射する過程は、2つの物体間
    の接合部に単一モードマイクロ波のみを直接供給する過
    程を含む特許請求の範囲第1項記載の方法。
  3. (3)前記圧縮力を与える過程は、各物体の一つの端部
    が2つの物体間に形成される接合部から離れた位置にあ
    る状態で2つの物体を横切って圧縮力を供給する過程を
    含む特許請求の範囲第1項記載の方法。
  4. (4)前記監視する過程は、音響的刺激に対する前記接
    合部の特性を測定することによつて、2つの物体間に形
    成される接合部を非破壊的に評価する過程を含む特許請
    求の範囲第1項記載の方法。
  5. (5)前記監視する過程は、接合部から自然発生する音
    響放射を検出し、測定することによつて、2つの物体間
    に形成される接合部を非破壊的に評価する過程を含む特
    許請求の範囲第1項記載の方法。
  6. (6)前記監視する過程は、接合部からの刺激により発
    生された音響放射を測定することによつて、2つの物体
    間に形成される接合部を非破壊的に評価する過程を含む
    特許請求の範囲第1項記載の方法。
  7. (7)前記2つの物体は共に非酸化物セラミックである
    特許請求の範囲第1項記載の方法。
  8. (8)前記2つの物体の一方は非酸化物セラミックであ
    り、他方は金属からなる特許請求の範囲第1項記載の方
    法。
  9. (9)2つの物体の周囲に真空状態を生成する手段と、 それら2つの物体の間に形成される接合部にマイクロ波
    を放射する手段と、 同時に2つの物体に圧縮力を与える手段と、2つの物体
    間に形成される接合部を連続的に監視する手段とを具備
    していることを特徴とする2っの物体を接合する装置。
  10. (10)前記マイクロ波を放射する手段は、2つの物体
    間に形成される接合部に単一モードマイクロ波のみを直
    接供給する過程を含む特許請求の範囲第9項記載の装置
  11. (11)前記マイクロ波を放射する手段は、2つの物体
    間に形成される接合部に可変周波数マイクロ波のみを直
    接供給する過程を含む特許請求の範囲第9項記載の装置
  12. (12)前記圧縮力を与える手段は、各物体の一つの端
    部が2つの物体間に形成される接合部から離れた位置に
    ある状態で2つの物体を横切って圧縮力を供給する特許
    請求の範囲第9項記載の装置。
  13. (13)共振周波数を有する内部空洞中においてその接
    合部が形成される2つの物体を収容するための容器手段
    を備え、この容器手段はマイクロ波の入力を許容するた
    めのアイリス手段を前面壁に有し、また内部空洞の共振
    周波数を変化させるための滑動可能な後面壁手段を有し
    ている特許請求の範囲第9項記載の装置。
  14. (14)前記アイリス手段はそれを通る固定した開口を
    有している特許請求の範囲第13項記載の装置。
  15. (15)前記アイリス手段はそれを通る調整可能な開口
    を有している特許請求の範囲第13項記載の装置。
  16. (16)予め定められた共振周波数を有する内部空洞中
    においてその接合部が形成される2つの物体を収容する
    ための容器手段を備え、この容器手段はマイクロ波の入
    力を許容するためのアイリス手段を前面壁に有し、また
    固定された後面壁を有している特許請求の範囲第9項記
    載の装置。
  17. (17)前記アイリス手段はそれを通る固定した開口を
    有している特許請求の範囲第16項記載の装置。
  18. (18)前記アイリス手段はそれを通る調整可能な開口
    を有している特許請求の範囲第16項記載の装置。
  19. (19)前記2つの物体は共に非酸化物セラミックであ
    る特許請求の範囲第9項記載の装置。
  20. (20)前記2つの物体の一方は非酸化物セラミックで
    あり、他方は金属からなる特許請求の範囲第9項記載の
    装置。
  21. (21)前記監視する手段は、音響的刺激に対する前記
    接合部の特性を測定する非破壊的評価手段を具備してい
    る特許請求の範囲第9項記載の方法。
  22. (22)前記監視する手段は、接合部から自然発生する
    音響放射を検出し、測定するための非破壊的評価手段を
    具備している特許請求の範囲第9項記載の装置。
  23. (23)前記監視する手段は、接合部からの刺激により
    発生された音響放射を検出し、測定するための非破壊的
    評価手段を具備している特許請求の範囲第9項記載の装
    置。
  24. (24)前記非破壊的評価手段は、電気パルスを音響パ
    ルスに変換するトランスデューサ手段と、接合部との間
    で送受する音響信号を増大するための音響増大レンズと
    を具備している特許請求の範囲第21項記載の装置。
  25. (25)前記監視する手段は、トランスデューサ手段に
    対して電気パルスを伝達するためのパルサ手段を具備し
    ている特許請求の範囲第24項記載の装置。
  26. (26)前記監視する手段は、トランスデューサ手段か
    らの電気パルスさらに伝送するために受信する手段を具
    備している特許請求の範囲第24項記載の装置。
  27. (27)前記監視する手段は、受信手段からさらに伝送
    された電気パルスを表示するためのオシロスコープ手段
    を具備している特許請求の範囲第25項記載の装置。
  28. (28)前記監視する手段は、2つの物体間に形成され
    る接合部における温度を測定するために非破壊的評価手
    段に接続されたパイロメータ手段を具備している特許請
    求の範囲第24項記載の装置。
  29. (29)前記監視する手段は、温度、電力、時間プロフ
    ァイルを表示するためにパイロメータ手段に接続された
    記録手段を具備している特許請求の範囲第28項記載の
    装置。
  30. (30)前記監視する手段は、マイクロ波放射手段から
    の前進方向の電力と接合部から記録手段へ反射された電
    力との差の測定を入力するために、マイクロ波放射手段
    と記録手段との間に接続された手段を具備している特許
    請求の範囲第29項記載の装置。
  31. (31)2つの物体の周囲の空洞に過度に圧力を与え、 2つの物体間に形成される接合部にマイクロ波を放射し
    、 同時に2つの物体に対して圧縮力を供給し、2つの物体
    間に形成される接合部を連続的に監視することを特徴と
    する2つの物体を接合する方法。
  32. (32)前記過度に圧力を与える過程は、2つの物体の
    周囲に不活性ガスを供給する過程を含む特許請求の範囲
    第31項記載の方法。
  33. (33)前記マイクロ波を放射する過程は、2つの物体
    間に形成される接合部に単一モードマイクロ波のみを直
    接供給する過程を含む特許請求の範囲第31項記載の方
    法。
  34. (34)前記圧縮力を供給する過程は、各物体の一方の
    端部が2つの物体間に形成される接合部から離れた位置
    にある状態で2つの物体を横切って圧縮力を供給する過
    程を含む特許請求の範囲第31項記載の方法。
  35. (35)前記監視する過程は、音響的刺激に対する前記
    接合部の特性を測定することによって、2つの物体間に
    形成される接合部を非破壊的に評価する過程を含む特許
    請求の範囲第31項記載の方法。
  36. (36)前記監視する過程は、接合部から自然発生する
    音響放射を検出し、測定することによつて、2つの物体
    間に形成される接合部を非破壊的に評価する過程を含む
    特許請求の範囲第31項記載の方法。
  37. (37)前記監視する過程は、接合部からの刺激により
    発生された音響放射を測定することによって、2つの物
    体間に形成される接合部を非破壊的に評価する過程を含
    む特許請求の範囲第31項記載の方法。
  38. (38)前記2つの物体は共に非酸化物セラミックであ
    る特許請求の範囲第31項記載の方法。
  39. (39)前記2つの物体の一方は非酸化物セラミックで
    あり、他方は金属からなる特許請求の範囲第1項記載の
    方法。
  40. (40)2つの物体の周囲の空洞に過度に圧力を与える
    手段と、 2つの物体間に形成される接合部にマイクロ波を放射す
    る手段と、 同時に2つの物体に対して圧縮力を供給する手段と、 2つの物体間に形成される接合部を連続的に監視する手
    段とを具備していることを特徴とする2つの物体を接合
    するための装置。
  41. (41)前記過度に圧力を与える手段は、2つの物体の
    周囲に不活性ガスを供給する手段を含む特許請求の範囲
    第40項記載の装置。
  42. (42)前記マイクロ波を放射する手段は、2つの物体
    間に形成される接合部に単一モードマイクロ波のみを直
    接供給する手段を含む特許請求の範囲第40項記載の装
    置。
  43. (43)前記マイクロ波を放射する手段は、2つの物体
    間に形成される接合部に可変周波数マイクロ波のみを直
    接供給する手段を含む特許請求の範囲第40項記載の装
    置。
  44. (44)前記圧縮力を供給する手段は、各物体の一方の
    端部が2つの物体間に形成される接合部から離れた位置
    にある状態で2つの物体を横切って圧縮力を供給する特
    許請求の範囲第40項記載の装置。
  45. (45)共振周波数を有する内部空洞中にその間に接合
    部が形成される2つの物体を収容するための容器手段を
    備え、この容器手段はマイクロ波の入力を許容するため
    のアイリス手段を前面壁に有し、また内部空洞の共振周
    波数を変化させるための滑動可能な後面壁手段を有して
    いる特許請求の範囲第40項記載の装置。
  46. (46)前記アイリス手段はそれを通る固定した開口を
    有している特許請求の範囲第45項記載の装置。
  47. (47)前記アイリス手段はそれを通る調整可能な開口
    を有している特許請求の範囲第45項記載の装置。
  48. (48)予め定められた共振周波数を有する内部空洞中
    にその間に接合部が形成される2つの物体を収容するた
    めの容器手段を備え、この容器手段はマイクロ波の入力
    を許容するためのアイリス手段を前面壁に有し、また固
    定された後面壁を有している特許請求の範囲第40項記
    載の装置。
  49. (49)前記アイリス手段はそれを通る固定した開口を
    有している特許請求の範囲第48項記載の装置。
  50. (50)前記アイリス手段はそれを通る調整可能な開口
    を有している特許請求の範囲第48項記載の装置。
  51. (51)前記2つの物体は共に非酸化物セラミックであ
    る特許請求の範囲第40項記載の装置。
  52. (52)前記2つの物体の一方は非酸化物セラミックで
    あり、他方は金属からなる特許請求の範囲第40項記載
    の装置。
  53. (53)前記監視する手段は、音響的刺激に対する前記
    接合部の特性を測定する非破壊的評価手段を具備してい
    る特許請求の範囲第40項記載の方法。
  54. (54)前記監視する手段は、接合部から自然発生する
    音響放射を検出し、測定するための非破壊的評価手段を
    具備している特許請求の範囲第40項記載の装置。
  55. (55)前記監視する手段は、接合部からの刺激により
    発生された音響放射を検出し、測定するための非破壊的
    評価手段を具備している特許請求の範囲第40項記載の
    装置。
  56. (56)前記非破壊的評価手段は、電気パルスを音響パ
    ルスに変換するトランスデューサ手段と接合部との間で
    送受する音響信号を増大するための音響増大レンズとを
    具備している特許請求の範囲第53項記載の装置。
  57. (57)前記監視する手段は、トランスデューサ手段に
    対して電気パルスを伝達するためのパルサ手段を具備し
    ている特許請求の範囲第56項記載の装置。
  58. (58)前記監視する手段は、トランスデューサ手段か
    らの電気パルスをさらに伝送するために受信する手段を
    具備している特許請求の範囲第56項記載の装置。
  59. (59)前記監視する手段は、受信手段からさらに伝送
    された電気パルスを表示するためのオシロスコープ手段
    を具備している特許請求の範囲第57項記載の装置。
  60. (60)前記監視する手段は、2つの物体間に形成され
    る接合部における温度を測定するために非破壊的評価手
    段に接続されたパイロメータ手段を具備している特許請
    求の範囲第56項記載の装置。
  61. (61)前記監視する手段は、温度、電力、時間プロフ
    ァイルを表示するためにパイロメータ手段に接続された
    記録手段を具備している特許請求の範囲第60項記載の
    装置。
  62. (62)前記監視する手段は、マイクロ波放射手段から
    の前進方向の電力と接合部から記録手段へ反射された電
    力との差の測定値を入力するために、マイクロ波放射手
    段と記録手段との間に接続された手段を具備している特
    許請求の範囲第61項記載の装置。
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