JPH02105106A - 光ファイバ - Google Patents
光ファイバInfo
- Publication number
- JPH02105106A JPH02105106A JP63258584A JP25858488A JPH02105106A JP H02105106 A JPH02105106 A JP H02105106A JP 63258584 A JP63258584 A JP 63258584A JP 25858488 A JP25858488 A JP 25858488A JP H02105106 A JPH02105106 A JP H02105106A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical fiber
- raman
- carbon film
- carbon
- intensity
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
この発明は、炭素被膜を形成した光ファイバに関し、炭
素被膜の結晶構造を特定することにより耐水素特性と機
械的強度とを大幅に向上せしめるようにしたものである
。
素被膜の結晶構造を特定することにより耐水素特性と機
械的強度とを大幅に向上せしめるようにしたものである
。
［従来の技術］
石英系光ファイバは、水素と接触するとファイバ内に拡
散した水素分子の分子振動に起因する吸収損失が増大し
、さらにドーパントとして含有されているＰ ｔＯｓ、
ＧｅＯｔ、 Ｂ ｔＯｓなどが水素と反応しｏ ｔ−
ｉ基としてファイバガラス中に取り込まれるため、ＯＨ
基の吸収による伝送損失ら増大してしまう問題があった
。
散した水素分子の分子振動に起因する吸収損失が増大し
、さらにドーパントとして含有されているＰ ｔＯｓ、
ＧｅＯｔ、 Ｂ ｔＯｓなどが水素と反応しｏ ｔ−
ｉ基としてファイバガラス中に取り込まれるため、ＯＨ
基の吸収による伝送損失ら増大してしまう問題があった
。
このような弊害に対処するため、水素吸収能を有する液
状の組成物を光ケーブル内に充填する方法（特願昭６１
−２５１８０８号）などが考えられているが、その効果
が不十分であるうえ、構造が複雑となって経済的にも問
題がある。
状の組成物を光ケーブル内に充填する方法（特願昭６１
−２５１８０８号）などが考えられているが、その効果
が不十分であるうえ、構造が複雑となって経済的にも問
題がある。
このような問題を解決するため、最近化学気相成長法（
以下、ＣＶＤ法と略称する）によって先ファイバ表面に
炭素被膜を形成し、これによって光ファイバの耐水素性
を向上させうろことが発表されている。
以下、ＣＶＤ法と略称する）によって先ファイバ表面に
炭素被膜を形成し、これによって光ファイバの耐水素性
を向上させうろことが発表されている。
［発明が解決しようとする課題］
ところで炭素被膜の耐水素特性を向上させるためには緻
密な構造のアモルファス部分を多くする必要があるが、
アモルファス部分の多い炭素被膜は硬＜、形成時に光フ
アイバ表面に損傷を与え、光ファイバの機械的強度を低
下させるので、充分な水素透過阻止能力と機械的強度を
併せ持つ実用に適した光ファイバを得るには至っていな
い。
密な構造のアモルファス部分を多くする必要があるが、
アモルファス部分の多い炭素被膜は硬＜、形成時に光フ
アイバ表面に損傷を与え、光ファイバの機械的強度を低
下させるので、充分な水素透過阻止能力と機械的強度を
併せ持つ実用に適した光ファイバを得るには至っていな
い。
この発明は上記課題を解決するためになされたものであ
って、炭素被膜の結晶構造を特定することにより、充分
な耐水素特性と機械的強度を有する光ファイバを提供す
ることを目的としている。
って、炭素被膜の結晶構造を特定することにより、充分
な耐水素特性と機械的強度を有する光ファイバを提供す
ることを目的としている。
［課題を解決するための手段］
この発明の光ファイバは、１５７５〜１６００ｃｍ−’
の振動数領域で発生するラマン線の強度■１゜ｏｏと、
１３５５〜１３６０ｃｏ＋−’の振動数領域で発生する
ラマン線の強度１．１３ＩＯとの比Ｒ＝ Ｉ ｔ３ｓ。
の振動数領域で発生するラマン線の強度■１゜ｏｏと、
１３５５〜１３６０ｃｏ＋−’の振動数領域で発生する
ラマン線の強度１．１３ＩＯとの比Ｒ＝ Ｉ ｔ３ｓ。
／１ ＋ｓｏｏが０．７５〜１．４０となる炭素被膜を
有してなることをその解決手段とした。
有してなることをその解決手段とした。
［作用］
このようなラマンスペクトルを示す炭素被膜の結晶構造
は、充分な水素透過阻止能力が得られる程度にアモルフ
ァス部分が多く、かつ光フアイバ裸線表面に損傷を与え
ない程度に軟質であるので、耐水素特性と機械的強度と
を併せ持つ実用に適したものとなる。
は、充分な水素透過阻止能力が得られる程度にアモルフ
ァス部分が多く、かつ光フアイバ裸線表面に損傷を与え
ない程度に軟質であるので、耐水素特性と機械的強度と
を併せ持つ実用に適したものとなる。
以下、この発明の詳細な説明する。
第１図はこの発明の光ファイバの一例を示すもので、図
中符号１は光ファイバ裸線である。この光ファイバ裸線
１は石英系ガラス、多成分系ガラスなどのガラスからな
るものである。この光ファイバ裸線１上には炭素被膜２
が設けられている。
中符号１は光ファイバ裸線である。この光ファイバ裸線
１は石英系ガラス、多成分系ガラスなどのガラスからな
るものである。この光ファイバ裸線１上には炭素被膜２
が設けられている。
この炭素被膜２上にはさらに必要に応じて樹脂波膜３が
設けられている。
設けられている。
ここでの炭素被膜２は、炭素を含有する原料化合物を熱
分解して得られたものであり、！５７５〜１６００ｃｍ
−’の振動数領域で発生するラマン線の強度１ ＋ａｏ
ｏと、１３５５〜１３６０ｃｍ−’の振動数領域で発生
するラマン線の強度■１，６゜との比Ｒ−Ｉ １３６Ｇ
／１１１８００が０．７５〜１．４０となるものである
。
分解して得られたものであり、！５７５〜１６００ｃｍ
−’の振動数領域で発生するラマン線の強度１ ＋ａｏ
ｏと、１３５５〜１３６０ｃｍ−’の振動数領域で発生
するラマン線の強度■１，６゜との比Ｒ−Ｉ １３６Ｇ
／１１１８００が０．７５〜１．４０となるものである
。
炭素被膜２の原料化合物として用いられる炭化水素とし
ては、熱分解によって炭素被膜を析出させるものであれ
ば特に限定されるものではないが、形成されろ炭素被膜
２の性状および析出速度の観点から、炭素数１５以下の
炭化水素またはハロゲン化炭化水素が望ましく、特に炭
素数２である塩素化された脂肪族炭化水素は炭素被膜析
出速度が速いため所定の膜厚を得るまでの時間を短くす
ることができるので好適である。炭素数が１６以上であ
ると原料化合物が炭素化する分解速度が非常に遅くなる
ため好ましくない。また炭化水素の水素原子と置換する
ハロゲン原子としては毒性などの取り扱いの観点から塩
素を用いたものが好ましい。またアルコール類、ケトン
類、エステル類などの酸素原子をその構造中に有した炭
素化合物は、分解によって炭素化する効率が非常に低い
とともに、煤状物質が発生しやすいので用いることがで
今ない。
ては、熱分解によって炭素被膜を析出させるものであれ
ば特に限定されるものではないが、形成されろ炭素被膜
２の性状および析出速度の観点から、炭素数１５以下の
炭化水素またはハロゲン化炭化水素が望ましく、特に炭
素数２である塩素化された脂肪族炭化水素は炭素被膜析
出速度が速いため所定の膜厚を得るまでの時間を短くす
ることができるので好適である。炭素数が１６以上であ
ると原料化合物が炭素化する分解速度が非常に遅くなる
ため好ましくない。また炭化水素の水素原子と置換する
ハロゲン原子としては毒性などの取り扱いの観点から塩
素を用いたものが好ましい。またアルコール類、ケトン
類、エステル類などの酸素原子をその構造中に有した炭
素化合物は、分解によって炭素化する効率が非常に低い
とともに、煤状物質が発生しやすいので用いることがで
今ない。
また原料化合物の熱分解温度は特に限定されないが、４
００〜ｔｔｏｏ℃が好適である。４００℃以下であると
原料化合物の熱分解が起きず、また石英の徐冷点が１１
７０℃であり、この温度以上にすると先ファイバの結晶
構造が変化を起こし脆（なるためにｔ ｔｏｏ℃以上に
することはできない。また原料化合物の分解の方法とし
ては、抵抗加熱炉、誘導加熱炉、赤外線加熱炉などの加
熱分解させろ方法、あるいは原料化合物をガス状に気化
させた後、窒素、ヘリウム、アルゴンなどの不活性ガス
で希釈し、高周波またはマイクロ波を用いてプラズマを
発生させて、イオン分解する方法などを用いることがで
きる。
００〜ｔｔｏｏ℃が好適である。４００℃以下であると
原料化合物の熱分解が起きず、また石英の徐冷点が１１
７０℃であり、この温度以上にすると先ファイバの結晶
構造が変化を起こし脆（なるためにｔ ｔｏｏ℃以上に
することはできない。また原料化合物の分解の方法とし
ては、抵抗加熱炉、誘導加熱炉、赤外線加熱炉などの加
熱分解させろ方法、あるいは原料化合物をガス状に気化
させた後、窒素、ヘリウム、アルゴンなどの不活性ガス
で希釈し、高周波またはマイクロ波を用いてプラズマを
発生させて、イオン分解する方法などを用いることがで
きる。
第２図はこの発明の光ファイバの１０００〜！８００ｃ
＋＋−’の振動数領域のラマンスペクトルを示したもの
である。１６００ｃａ＋−’を中心としたピークは、炭
素のグラファイト構造の各層を形成する二次元六方格子
に起因するものであり、このピークが大きい程、炭素被
膜の結晶性が高いものとなる。また１ ３６０ｃｍ−’
を中心としたピーク°は、グラファイト構造中の構造欠
陥により二次元六方格子の対称性が低下するか、あるい
は六方格子構造カ消失することに起因するもので、この
ピークが大きい程、アモルファス部分が多いものとなる
。
＋＋−’の振動数領域のラマンスペクトルを示したもの
である。１６００ｃａ＋−’を中心としたピークは、炭
素のグラファイト構造の各層を形成する二次元六方格子
に起因するものであり、このピークが大きい程、炭素被
膜の結晶性が高いものとなる。また１ ３６０ｃｍ−’
を中心としたピーク°は、グラファイト構造中の構造欠
陥により二次元六方格子の対称性が低下するか、あるい
は六方格子構造カ消失することに起因するもので、この
ピークが大きい程、アモルファス部分が多いものとなる
。
ところで炭素被膜２の結晶度が高いと、六員環構造が規
則的に配列されることになるので、柔らかいものとなる
。そして炭素被膜２の形成時に生じる収縮を緩和するこ
とができ、光ファイバ裸線ｌの内部歪を吸収するととも
に、外部からの光ファイバにかかる応力をも吸収するこ
とができるので、光ファイバの機械的強度を向上させる
ことができろ。一方、アモルファス部分の多い炭素被膜
は結晶度の高い炭素被膜に比べて硬質であり、形成時に
光ファイバ裸線１表面に損傷を与えることがあるが、構
造が緻密であるので非常に高い水素透過阻止能力を示す
。よって、炭素被膜２の結晶度を示す１６００ｃａ＋−
’のピークとアモルファス部分を示す１３６０ｃｍ−’
のピークのそれぞれの強度１１８ｏｏと１ ＋３６０と
の比Ｒ＝ Ｉ ＋ｅｏｏ／ Ｉ ＋＊ｅｏを求め、これ
を一定にしておけば、機械的強度と水素透過阻止能力と
を併せ持つ炭素被膜２を得ることができる。１６００ｃ
ｍ−’のピークと１３６０ｃｍ−’のピークの強度比Ｒ
を求めるには、まず光ファイバ裸線１表面に炭素被膜２
を形成したのら、ラマン分光光度計によりＩ ０００〜
Ｉ ８００ｃｍ−’の振動数領域のラマンスペクトルを
得る。このラマン分光光度計には通常のレーザラマン分
光光度計を用いることができる。次に１５７５〜１６０
０ｃｍ−”の振動数領域と１３５５〜１３６０ｃｎ−’
の振動数領域とで各々ピークを求める。ピークの強面は
、第２図中に示したようにベースライン引き、ベースラ
インからの高さを測定して、この高さをそれぞれの強度
１１１１００ｑ Ｉ ＋３１１０とし、Ｒ＝ １１３
１１０／ Ｉ ＋ｓｏ。
則的に配列されることになるので、柔らかいものとなる
。そして炭素被膜２の形成時に生じる収縮を緩和するこ
とができ、光ファイバ裸線ｌの内部歪を吸収するととも
に、外部からの光ファイバにかかる応力をも吸収するこ
とができるので、光ファイバの機械的強度を向上させる
ことができろ。一方、アモルファス部分の多い炭素被膜
は結晶度の高い炭素被膜に比べて硬質であり、形成時に
光ファイバ裸線１表面に損傷を与えることがあるが、構
造が緻密であるので非常に高い水素透過阻止能力を示す
。よって、炭素被膜２の結晶度を示す１６００ｃａ＋−
’のピークとアモルファス部分を示す１３６０ｃｍ−’
のピークのそれぞれの強度１１８ｏｏと１ ＋３６０と
の比Ｒ＝ Ｉ ＋ｅｏｏ／ Ｉ ＋＊ｅｏを求め、これ
を一定にしておけば、機械的強度と水素透過阻止能力と
を併せ持つ炭素被膜２を得ることができる。１６００ｃ
ｍ−’のピークと１３６０ｃｍ−’のピークの強度比Ｒ
を求めるには、まず光ファイバ裸線１表面に炭素被膜２
を形成したのら、ラマン分光光度計によりＩ ０００〜
Ｉ ８００ｃｍ−’の振動数領域のラマンスペクトルを
得る。このラマン分光光度計には通常のレーザラマン分
光光度計を用いることができる。次に１５７５〜１６０
０ｃｍ−”の振動数領域と１３５５〜１３６０ｃｎ−’
の振動数領域とで各々ピークを求める。ピークの強面は
、第２図中に示したようにベースライン引き、ベースラ
インからの高さを測定して、この高さをそれぞれの強度
１１１１００ｑ Ｉ ＋３１１０とし、Ｒ＝ １１３
１１０／ Ｉ ＋ｓｏ。
を求める。
以下、Ｒの適正値を求めるための試験例について述べる
。
。
［試験例］
強度比Ｒの適正値を求めるために光ファイバ裸線！表面
に種々の条件にて炭素被膜２を形成し、得られた光ファ
イバのラマンスペクトルと、機械的強度、伝送損失等の
特性評価をした。
に種々の条件にて炭素被膜２を形成し、得られた光ファ
イバのラマンスペクトルと、機械的強度、伝送損失等の
特性評価をした。
（試験例１）
光フアイバ母材から光ファイバ裸線を紡糸する紡糸装置
内に、内径４０ｍｍの石英管を通した抵抗加熱炉を取り
付けた。次にこの紡糸装置内にＧｅＯ７がドープ剤とし
て含浸されたコア部を有する外径３０ｍｍの光フアイバ
母材を設置した。この先ファイバ母材を２０００℃に加
熱して、３０ｍ／分の紡糸速度で外径１２５μｍの光フ
ァイバに紡糸すると共に、上記抵抗加熱炉内を１４００
℃に加熱しつつ、炭素被膜を形成する原料化合物として
約５ｖ０１％にアルゴンガスで希釈したベンゼン蒸気を
約５ｆｆ／分の流量で供給して紡糸された光ファイバ課
線表面に炭素被膜を形成した。
内に、内径４０ｍｍの石英管を通した抵抗加熱炉を取り
付けた。次にこの紡糸装置内にＧｅＯ７がドープ剤とし
て含浸されたコア部を有する外径３０ｍｍの光フアイバ
母材を設置した。この先ファイバ母材を２０００℃に加
熱して、３０ｍ／分の紡糸速度で外径１２５μｍの光フ
ァイバに紡糸すると共に、上記抵抗加熱炉内を１４００
℃に加熱しつつ、炭素被膜を形成する原料化合物として
約５ｖ０１％にアルゴンガスで希釈したベンゼン蒸気を
約５ｆｆ／分の流量で供給して紡糸された光ファイバ課
線表面に炭素被膜を形成した。
（試験例２）
炭素被膜２を形成する抵抗加熱炉内の温度を９５０℃に
した以外は試験例１と全く同様にして光ファイバを製造
した。
した以外は試験例１と全く同様にして光ファイバを製造
した。
（試験例３）
原料化合物として１．２ジクロロエチレンを用い、抵抗
加熱炉内の温度を６５０℃とした以外は試験例１と全く
同様にして光ファイバを製造した。
加熱炉内の温度を６５０℃とした以外は試験例１と全く
同様にして光ファイバを製造した。
（試験例４）
原料化合物として１．２ジクロロエチレンを用い、抵抗
加熱炉内の温度を２５００℃とした以外は試験例１と全
く同様にして光ファイバを製造した。
加熱炉内の温度を２５００℃とした以外は試験例１と全
く同様にして光ファイバを製造した。
（比較例１）
光ワアイバ母材から光ファイバ裸線を紡糸する紡糸装置
内に、Ｇｅｍｔがドープ剤として含浸されたコア部を有
する外径３０ｍｍの光フアイバ母材を設置し、これを２
０００℃に加熱して、３０■／分の紡糸速度で外径１２
５μｍの光ファイバに紡糸し・た。
内に、Ｇｅｍｔがドープ剤として含浸されたコア部を有
する外径３０ｍｍの光フアイバ母材を設置し、これを２
０００℃に加熱して、３０■／分の紡糸速度で外径１２
５μｍの光ファイバに紡糸し・た。
このようにして得られた試験例１ないし試験例４の各光
ファイバのラマンスペクトルを、レーザラマン分光光度
計により１０００〜１８００ｃｍ−’の振動数領域で測
定した。このレーザラマン分光には、光源として４８８
ｒｖのアルゴンレーザを用い、回折格子として有効波
長範囲４５０〜８５０ｎ１１１で１８００本／ｍ＋ｅの
ホログラフィック回折格子を用い、ラマン光集光光学系
は「＝５０ｍｍ＋、レーザ光導入素子には全反射プリズ
ムを用い、振動数精度±１ｃｍ−’で測定を行った。こ
の結果、いずれも１３５５〜１３６０ｃｍ−’の振動数
領域と、１５７５〜１６００ｃｍ−’の振動数領域とに
、それぞれ炭素を起因とする大きなピークが観測できた
。次にこれらのピークの強度ｔ ｔａｏｏ、Ｉ ＋３８
Ｇをそれぞれ測定し、これから強度比Ｒ＝ Ｉ １３ｇ
。／［，６゜。を得た。これらのラマンスペクトルを模
式化したグラフと強度比Ｒの値とを第３図に示した。な
お第３図には比較のために天然グラファイトのラマンス
ペクトルを模式化したグラフも併せて示した。
ファイバのラマンスペクトルを、レーザラマン分光光度
計により１０００〜１８００ｃｍ−’の振動数領域で測
定した。このレーザラマン分光には、光源として４８８
ｒｖのアルゴンレーザを用い、回折格子として有効波
長範囲４５０〜８５０ｎ１１１で１８００本／ｍ＋ｅの
ホログラフィック回折格子を用い、ラマン光集光光学系
は「＝５０ｍｍ＋、レーザ光導入素子には全反射プリズ
ムを用い、振動数精度±１ｃｍ−’で測定を行った。こ
の結果、いずれも１３５５〜１３６０ｃｍ−’の振動数
領域と、１５７５〜１６００ｃｍ−’の振動数領域とに
、それぞれ炭素を起因とする大きなピークが観測できた
。次にこれらのピークの強度ｔ ｔａｏｏ、Ｉ ＋３８
Ｇをそれぞれ測定し、これから強度比Ｒ＝ Ｉ １３ｇ
。／［，６゜。を得た。これらのラマンスペクトルを模
式化したグラフと強度比Ｒの値とを第３図に示した。な
お第３図には比較のために天然グラファイトのラマンス
ペクトルを模式化したグラフも併せて示した。
またファイバ強度の中央値、常温常圧下での疲労試験、
８０℃、１気圧の水素雰囲気中に２４時間放置した前後
での波長１２４μｍでの伝送損失の増加を調べて、得ら
れた光ファイバの耐水素特性と機械的強度とを調べた。
８０℃、１気圧の水素雰囲気中に２４時間放置した前後
での波長１２４μｍでの伝送損失の増加を調べて、得ら
れた光ファイバの耐水素特性と機械的強度とを調べた。
この結果を第１表に強度比Ｒと共に示した。
（以下、余白）
第１表
第１表の結果から、耐水素特性と機械的強度とを併せ持
つ光ファイバは、試験例２、試験例３であることが判明
し、１５７５〜１６００ｃｍ−’の振動数領域でのラマ
ン線の強度１ ｔａｏｏと、１３５５〜１３６０ｃｍ−
’の振動数領域でのラマン線の強度！ ＋３１１０との
比ＵＬ ＝ １１３８０／ Ｉ ｔａｏｏの適正値は０
゜７５〜１．４０であることがわかった。
つ光ファイバは、試験例２、試験例３であることが判明
し、１５７５〜１６００ｃｍ−’の振動数領域でのラマ
ン線の強度１ ｔａｏｏと、１３５５〜１３６０ｃｍ−
’の振動数領域でのラマン線の強度！ ＋３１１０との
比ＵＬ ＝ １１３８０／ Ｉ ｔａｏｏの適正値は０
゜７５〜１．４０であることがわかった。
［実施例］
光フアイバ母材から光ファイバ裸線を紡糸する紡糸装置
内に、内径４０１１ＩＭの石英管を通した抵抗加熱炉を
取り付けた。次にこの紡糸装置内にＧｅ０、がドープ剤
として含浸されたコア部を存する外径３０ＩＩ１ｍの光
フアイバ母材を設置した。この光フアイバ母材を２００
０℃に加熱して、３０ｍ／分の紡糸速度で外径１２５μ
ｍの光ファイバに紡糸すると共に、ｔ ｔａｏｏと１１
１１１゜との強度比Ｒが０７５〜１．４０の範囲になる
ように上記抵抗加熱炉内を１１００℃に加熱しつつ、炭
素被膜を形成する原料化合物として約５ｖｏ１％にアル
ゴンガスで希釈したトリクロロエタン蒸気を約５（２／
分の流量で供給して紡糸された光フアイバ裸線表面に炭
素被膜を形成した。この光ファイバのラマンスペクトル
を調べ、強度比Ｒの値を求めたところＲ＝０．８４とな
り、適正値であることが確認できた。この光ファイバの
強度は５．３ｋｇ、疲労指数は２００．８０℃、１気圧
の水素雰囲気中に２４時間放置した前後の１．２４μｍ
波長での伝送損失増加は全くみられず、機械的強度と耐
水素特性とを併せ持つ実用に適したものであることが確
認できた。
内に、内径４０１１ＩＭの石英管を通した抵抗加熱炉を
取り付けた。次にこの紡糸装置内にＧｅ０、がドープ剤
として含浸されたコア部を存する外径３０ＩＩ１ｍの光
フアイバ母材を設置した。この光フアイバ母材を２００
０℃に加熱して、３０ｍ／分の紡糸速度で外径１２５μ
ｍの光ファイバに紡糸すると共に、ｔ ｔａｏｏと１１
１１１゜との強度比Ｒが０７５〜１．４０の範囲になる
ように上記抵抗加熱炉内を１１００℃に加熱しつつ、炭
素被膜を形成する原料化合物として約５ｖｏ１％にアル
ゴンガスで希釈したトリクロロエタン蒸気を約５（２／
分の流量で供給して紡糸された光フアイバ裸線表面に炭
素被膜を形成した。この光ファイバのラマンスペクトル
を調べ、強度比Ｒの値を求めたところＲ＝０．８４とな
り、適正値であることが確認できた。この光ファイバの
強度は５．３ｋｇ、疲労指数は２００．８０℃、１気圧
の水素雰囲気中に２４時間放置した前後の１．２４μｍ
波長での伝送損失増加は全くみられず、機械的強度と耐
水素特性とを併せ持つ実用に適したものであることが確
認できた。
［発明の効果］
以上説明したように、この発明の光ファイバは、１５７
５〜１６００ｃｍ−’の振動数領域で発生するラマン線
の強度夏＋ｓｏｏと、１３５５〜１３６０ｃｍ刊の振動
数領域で発生するラマン線の強度１１３６Ｇとの比Ｒ−
１＋３＠Ｏ／１ ＋ｓｏｏ／Ｊ’０．７５〜１．４０と
なる炭素被膜を有してなるものであるので、水素透過阻
止能力を示す緻密なアモルファス部分と軟質の結晶部分
とが適度に存在するので、充分な耐水素特性を有し、か
つ高い機械的強度を示すものとなる。
５〜１６００ｃｍ−’の振動数領域で発生するラマン線
の強度夏＋ｓｏｏと、１３５５〜１３６０ｃｍ刊の振動
数領域で発生するラマン線の強度１１３６Ｇとの比Ｒ−
１＋３＠Ｏ／１ ＋ｓｏｏ／Ｊ’０．７５〜１．４０と
なる炭素被膜を有してなるものであるので、水素透過阻
止能力を示す緻密なアモルファス部分と軟質の結晶部分
とが適度に存在するので、充分な耐水素特性を有し、か
つ高い機械的強度を示すものとなる。
第１図はこの発明の光ファイバの一例を示した概略断面
図、第２図はこの発明の光ファイバのラマンスペクトル
を示したグラフ、第３図は種々条件下で炭素被膜を形成
した光ファイバのラマンスペクトルを模式化したグラフ
である。 ■・・・光ファイバ裸線、 ２・・・炭素被膜。
図、第２図はこの発明の光ファイバのラマンスペクトル
を示したグラフ、第３図は種々条件下で炭素被膜を形成
した光ファイバのラマンスペクトルを模式化したグラフ
である。 ■・・・光ファイバ裸線、 ２・・・炭素被膜。
Claims (1)
- １５７５〜１６００ｃｍ＾−＾１の振動数領域で発生す
るラマン線の強度Ｉ＿１＿６＿０＿０と、１３５５〜１
３６０ｃｍ＾−＾１の振動数領域で発生するラマン線の
強度Ｉ＿１＿３＿８＿０との比Ｒ＝Ｉ＿１＿３＿６＿０
／Ｉ＿１＿６＿０＿０が０．７５〜１．４０となる炭素
被膜を有してなる光ファイバ
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63258584A JPH02105106A (ja) | 1988-10-14 | 1988-10-14 | 光ファイバ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63258584A JPH02105106A (ja) | 1988-10-14 | 1988-10-14 | 光ファイバ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02105106A true JPH02105106A (ja) | 1990-04-17 |
Family
ID=17322287
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63258584A Pending JPH02105106A (ja) | 1988-10-14 | 1988-10-14 | 光ファイバ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02105106A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5983107A (ja) * | 1982-11-04 | 1984-05-14 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光フアイバ− |
| JPS6415710A (en) * | 1987-07-09 | 1989-01-19 | Ricoh Kk | Optical fiber |
-
1988
- 1988-10-14 JP JP63258584A patent/JPH02105106A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5983107A (ja) * | 1982-11-04 | 1984-05-14 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光フアイバ− |
| JPS6415710A (en) * | 1987-07-09 | 1989-01-19 | Ricoh Kk | Optical fiber |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Friebele et al. | Overview of radiation effects in fiber optics | |
| RU2706849C2 (ru) | Оптическое волокно с высоким содержанием хлора и малым коэффициентом затухания | |
| US5056888A (en) | Single-mode, single-polarization optical fiber | |
| EP0381473A2 (en) | Polarization-maintaining optical fiber | |
| Kashaykin et al. | Radiation-Induced Attenuation in Silica Optical Fibers Fabricated in High O_2 Excess Conditions | |
| EP0402895A1 (en) | Hermetically coated optical fiber and production of the same | |
| US6760526B2 (en) | Chalcogenide doping of oxide glasses | |
| EP0371628B1 (en) | A method of producing carbon-coated optical fiber | |
| CN101523257B (zh) | 具有减少氢感生损耗的光纤及其制造方法 | |
| EP0167054A1 (en) | Method for producing glass preform for optical fiber | |
| JPH02105106A (ja) | 光ファイバ | |
| Deparis et al. | Gamma radiation tests of potential optical fiber candidates for fibroscopy | |
| Nelson et al. | The fabrication and performance of long lengths of silica core fiber | |
| JPH0648325B2 (ja) | 光ファイバ及びその製造方法 | |
| Alessi et al. | Phosphorous doping and drawing effects on the Raman spectroscopic properties of O= P bond in silica-based fiber and preform | |
| Kuzuu et al. | KrF-and ArF-excimer-laser-induced absorption in silica glasses produced by melting synthetic silica powder | |
| EP4620927A1 (en) | Method for fabricating a nanofiber device | |
| JP2004109124A (ja) | 光ファイバおよび光ファイバの評価方法 | |
| JP2966883B2 (ja) | 気密コーティングを有する光ファイバの製造方法 | |
| Li et al. | Electron paramagnetic resonance hyperfine spectrum of the Si E′ defect associated with weakly bonded hydrogen molecules in synthetic silica optical fibers | |
| JP3406034B2 (ja) | カーボンコート光ファイバ | |
| JPH0273315A (ja) | 光ファイバ | |
| Yakusheva | Devitrification Kinetics and Optical Stability of Optical Fibers at High Temperatures | |
| JP2595364B2 (ja) | 光ファイバの製造方法 | |
| Alberto et al. | Simultaneous regeneration of seed FBGs during the HFCVD diamond-grating coating process and its thermal monitoring |