JPH02107748A - Thin amorphous alloy film - Google Patents

Thin amorphous alloy film

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JPH02107748A
JPH02107748A JP26077488A JP26077488A JPH02107748A JP H02107748 A JPH02107748 A JP H02107748A JP 26077488 A JP26077488 A JP 26077488A JP 26077488 A JP26077488 A JP 26077488A JP H02107748 A JPH02107748 A JP H02107748A
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JP
Japan
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thin film
amorphous alloy
film
alloy thin
amorphous
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Application number
JP26077488A
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Japanese (ja)
Inventor
Kunihiko Mizumoto
邦彦 水本
Koichi Haruta
春田 浩一
Hiroichi Kajiura
梶浦 博一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Petrochemical Industries Ltd
Original Assignee
Mitsui Petrochemical Industries Ltd
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Publication date
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  • Thin Magnetic Films (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide high coercive force and superior magneto-optical characteristics by adding specific amounts of Pd or Pd and Pt to the composition of a thin film of RE-Fe-Co amorphous alloy. CONSTITUTION:A thin amorphous alloy film having an easy magnetization axis perpendicular to a film surface has a composition represented by a formula, where RE consists of >=at least 50atomic% Tb and Dy and the balance Nd, Gd, Ce, Eu, Pr, Ho, and Sm and the symbols (a), (x), (y), and (z) stand for >0-1, >0.2-<0.7, 0.15-0.3, and >0.3-1.0, respectively. By this method, the thin amorphous alloy film having superior magneto-optical characteristics, such as large Kerr rotation angle and large Faraday rotation angle, and superior oxidation resistance and further improved in reflectivity and sufficiently reduced in Curie temp. can be provided.

Description

【発明の詳細な説明】 発明の技術分野 本発明は、優れた耐酸化性を有する非晶質合金薄膜に関
し、さらに詳しくは、膜面に垂直な方向に磁化容易軸を
有し、優れた耐酸化性を有する非晶質合金薄膜に関する
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Technical Field of the Invention The present invention relates to an amorphous alloy thin film having excellent oxidation resistance. The present invention relates to an amorphous alloy thin film having a tendency to oxidize.

発明の技術的背景ならびにその問題点 鉄、コバルトなどの遷移金属と、テルビウム(T b)
、カドリニウム(G d)などの希土類元素との合金か
らなる非晶質薄膜は、膜面と垂直な方向に磁化容易軸を
有し、一方向に全面磁化された膜面にこの全面磁化方向
とは逆向きの小さな反転磁区を形成することができるこ
とが知られている。
Technical background of the invention and its problems Transition metals such as iron and cobalt and terbium (T b)
, an amorphous thin film made of an alloy with a rare earth element such as cadrinium (Gd) has an axis of easy magnetization in the direction perpendicular to the film surface, and the film surface is entirely magnetized in one direction. is known to be able to form small reversed magnetic domains with opposite directions.

この反転磁区の有無を「1」、「0」に対応させること
によって、上記のような非晶質薄膜にデジタル信号を記
録させることが可能となる。
By associating the presence or absence of this inverted magnetic domain with "1" and "0", it becomes possible to record digital signals on the amorphous thin film as described above.

このような光磁気記録媒体として用いられる遷移金属と
希土類元素とからなる非晶質薄膜としては、たとえば特
公昭57−20691号公報に15〜30原子%のTb
を含むTb−Fe系合金非晶質薄膜が開示されている。
For example, Japanese Patent Publication No. 57-20691 discloses an amorphous thin film made of a transition metal and a rare earth element used as such a magneto-optical recording medium.
A Tb-Fe based alloy amorphous thin film containing the following is disclosed.

またTb−Feに第3の金属を添加してなる合金非晶質
薄膜も光磁気記録媒体として用いられている。さらにT
b−Co系、T b−F e−Co系などの光磁気記録
媒体も知られている。
Also, an alloy amorphous thin film made by adding a third metal to Tb-Fe is also used as a magneto-optical recording medium. Further T
Magneto-optical recording media such as b-Co and Tb-Fe-Co are also known.

これらの合金非晶質薄膜からなる光磁気記録媒体は、優
れた記録再生特性を有しているが、使用時にこの非晶質
薄膜は酸化を受けてその特性が経時的に変化してしまう
という実用上の大きな問題点があった。
Magneto-optical recording media made of these alloy amorphous thin films have excellent recording and reproducing properties, but during use, these amorphous thin films undergo oxidation and their properties change over time. There were major practical problems.

このような遷移金属と希土類元素とを含む合金非晶質薄
膜からなる光磁気記録媒体の酸化劣化のメカニズムは、
たとえば日本応用磁気学会誌第9巻、No、2、第93
〜96頁で検討されており、以下のような3つのタイプ
があることが報告されている。
The mechanism of oxidative deterioration of magneto-optical recording media made of alloyed amorphous thin films containing transition metals and rare earth elements is as follows.
For example, Journal of the Japanese Society of Applied Magnetics, Vol. 9, No. 2, No. 93.
It has been discussed on pages 96 to 96, and it has been reported that there are three types as shown below.

イ)孔食 孔食とは合金非晶質薄膜にピンホールが発生することを
意味するが、この腐食は、主として高湿雰囲気下で進行
し、たとえばTb−Fe系、TbCo系などで著しく進
行する。
b) Pitting corrosion Pitting corrosion refers to the formation of pinholes in an amorphous thin film of an alloy. This corrosion mainly progresses in a high humidity atmosphere, and for example, it progresses significantly in Tb-Fe systems, TbCo systems, etc. do.

口)表面酸化 合金非晶質薄膜に表面酸化層が形成され、カー回転角θ
kが経時的に変化し、ついにはカー回転角θkが減少し
てしまう。
) A surface oxidation layer is formed on the amorphous thin film of the surface oxidation alloy, and the Kerr rotation angle θ
k changes over time, and the Kerr rotation angle θk eventually decreases.

ハ)希土類金属の選択酸化 合金非晶質薄膜中の希土類金属が選択的に酸化され、保
磁力Heが経時的に大きく変化してしまつ0 上記のような合金非晶質薄膜の酸化劣化を防止するため
、従来、種々の方法が試みられている。
C) Selective oxidation of rare earth metals The rare earth metals in the alloy amorphous thin film are selectively oxidized, and the coercive force He changes greatly over time. In order to prevent this, various methods have been tried in the past.

たとえば、合金非晶質薄膜を、Si3N4、Si O,
St O、AgNなどの酸化防止保護膜でサンドイッチ
したような3層構造にする方法が検討されている。とこ
ろがこの酸化防止保護膜は高価であるとともに形成する
のに手間がかかり、またこの保護膜を形成しても必ずし
も合金非晶質薄膜の酸化劣化を充分には防止することが
できないという問題点があった。
For example, alloy amorphous thin films can be made of Si3N4, SiO,
A method of creating a three-layer structure sandwiched between anti-oxidation protective films such as St 2 O and AgN is being considered. However, this oxidation-preventing protective film is expensive and time-consuming to form, and even if this protective film is formed, it is not always possible to sufficiently prevent oxidative deterioration of the amorphous alloy thin film. there were.

また、Tb−Fe系、Tb−Co系などの合金非晶質薄
膜中に、この薄膜の耐酸化性を向上させるために、第3
の金属を添加する方法が種々試みられている。
In addition, in order to improve the oxidation resistance of the thin film, a third layer is added to the amorphous thin film of alloys such as Tb-Fe and Tb-Co.
Various methods of adding metals have been attempted.

たとえば上述した日本応用磁気学会誌では、Tb−Fe
あるいはTb−Coに、Co、Ni、PC。
For example, in the journal of the Japanese Society of Applied Magnetics mentioned above, Tb-Fe
Or Tb-Co, Co, Ni, PC.

Ag、Cr、、Tiなどの第3金属を3.5原子%まで
の量で添加することによって、Tb−Fe系あるいはT
b−Co系の合金非晶質薄膜の耐酸化性を向上させる試
みがなされている。そしてTI>−FeあるいはTb−
CoにCo、Ni 、PLを少量添加した場合には、表
面酸化の防止および孔食の防止には有効であるが、この
合金非晶質薄膜中の希土類金属であるTbの選択酸化の
防止には効果がないと報告されている。このことは、T
b−FeあるいはTb−Coに少量のCo、Ni  P
tを添加した場合には、得られる合金非晶質薄膜では、
Tbが選択酸化されてしまい、保磁力Heか経時的に大
きく変化してしまうことを意味している。したがってT
b−FeあるいはTb−Coに3.5原子%まての少量
のCo5Ni  Ptを添加しても、得られる合金非晶
質薄膜の耐酸化性は充分には改善されていない。
By adding a third metal such as Ag, Cr, Ti in an amount up to 3.5 at%, Tb-Fe system or T
Attempts have been made to improve the oxidation resistance of b-Co alloy amorphous thin films. and TI>-Fe or Tb-
Adding small amounts of Co, Ni, and PL to Co is effective in preventing surface oxidation and pitting corrosion, but it is effective in preventing selective oxidation of Tb, a rare earth metal, in the amorphous thin film of this alloy. is reported to be ineffective. This means that T
b-Fe or Tb-Co with a small amount of Co, NiP
When t is added, in the resulting alloy amorphous thin film,
This means that Tb is selectively oxidized and the coercive force He changes greatly over time. Therefore T
Even when a small amount of up to 3.5 atomic % of Co5NiPt is added to b-Fe or Tb-Co, the oxidation resistance of the resulting alloy amorphous thin film is not sufficiently improved.

また第9回日本応用磁気学会学術講演概要集(1985
年11月)の第209頁には、やはり合金非晶質薄膜の
耐酸化性を向上させる目的で、Tb−FeあるいはT 
b−F B−COに、PL、Ag、Cr、Tiを10原
子%までの量で添加してなる合金非晶質薄膜が教示され
ている。ところがTb−FeあるいはT b−F e−
Coに10原子%までの量のPt、A、pSCr、Ti
を添加しても、表面酸化および孔食はかなり効果的に防
止できるものの、得られる合金非晶質薄膜中のTbの選
択酸化に対する酸化防止性は充分ではなく、やはり時間
の経過とともに保磁力Heが大きく変化し、ついには保
磁力Heが大きく低下してしまうという問題点は依然と
してあった。
Also, the 9th Academic Lecture Summary of the Japanese Society of Applied Magnetics (1985)
(November 2012), page 209, there is a study of Tb-Fe or T
An alloy amorphous thin film is taught in which PL, Ag, Cr, and Ti are added to b-F B-CO in amounts up to 10 atomic percent. However, Tb-Fe or Tb-Fe-
Co with amounts of Pt, A, pSCr, Ti up to 10 atomic %
Although surface oxidation and pitting corrosion can be prevented quite effectively by adding He, the oxidation prevention property against selective oxidation of Tb in the resulting amorphous alloy thin film is not sufficient, and the coercive force He also decreases over time. There still remained the problem that the coercive force He changed greatly and eventually the coercive force He decreased significantly.

さらにまた、特開昭58−7806号公報には、Pt 
Coなる組成を有し、ptが10〜30原子%の量で含
まれている多結晶薄膜からなる磁気薄膜材料が開示され
ている。
Furthermore, in JP-A-58-7806, Pt
A magnetic thin film material comprising a polycrystalline thin film having a composition of Co and containing 10 to 30 at. % of pt is disclosed.

ところがこのPt Coなる組成を有する多結晶薄膜は
、多結晶であるため、成膜後にアニール処理などの熱処
理が必要であり、また結晶間の粒界部分がノイズ信号と
して発生することがあり、さらにこの多結晶薄膜はキュ
リー点が高いという問題点があった。
However, since this polycrystalline thin film with a composition of PtCo is polycrystalline, it requires heat treatment such as annealing after film formation, and the grain boundaries between crystals may generate noise signals. This polycrystalline thin film had a problem in that it had a high Curie point.

また特開昭58−73746号公報には、Tb   (
Fe   Co  )    (式中0.15≦X  
  l−y   y  1−x X≦0.35、O<y<0.50である)で表わされる
、膜面と垂直な方向に磁化容易軸を有する非晶質合金薄
膜からなる光磁気記録媒体が開示されている。ところが
この公報に開示された光磁気記録媒体では、0.50<
yとなると、キュリー点が高すぎたりして、実用性がな
いとされているが、もし0.5<yであり、しかも耐酸
化性に優れた光磁気記録媒体が得られるならば、その実
用上の価値は極めて大きい。
Furthermore, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-73746, Tb (
FeCo) (0.15≦X in the formula
magneto-optical recording medium consisting of an amorphous alloy thin film having an axis of easy magnetization perpendicular to the film surface, expressed as is disclosed. However, in the magneto-optical recording medium disclosed in this publication, 0.50<
When it comes to y, the Curie point is too high and it is said to be impractical, but if 0.5<y and a magneto-optical recording medium with excellent oxidation resistance can be obtained, then The practical value is extremely large.

発明の目的 本発明は、上記のような従来技術に伴う問題点を解決し
ようとするものであって、保磁力が大きくかつカー回転
角やファラデー回転角が大きいなどの優れた光磁気光学
特性を有し、しかも耐酸化性に優れて、経時的に保磁力
が変化したりあるいはカー回転角が変化することがなく
、さらに反射率も高く、その上キュリー温度が充分に低
いような非晶質合金薄膜を提供することを目的としてい
る。
Purpose of the Invention The present invention aims to solve the problems associated with the prior art as described above. It is an amorphous material that has excellent oxidation resistance, does not change its coercive force or Kerr rotation angle over time, has high reflectance, and has a sufficiently low Curie temperature. The purpose is to provide alloy thin films.

発明の概要 本発明に係る膜面に垂直な磁化容易軸を有する非晶質合
金薄膜は、 [pd、 Pt、−a] y [RE  (re   Co  )   ]    −
[11[1−z  z  l−x  1−y(式中、R
Eは少なくとも50原子%以上がTbおよび/またはD
yであり、残部がNd 、 Gd 。
Summary of the Invention The amorphous alloy thin film having an easy axis of magnetization perpendicular to the film surface according to the present invention has the following structure: [pd, Pt, -a] y [RE (re Co)] -
[11[1-z z l-x 1-y (wherein, R
At least 50 atomic % of E is Tb and/or D
y, and the remainder are Nd and Gd.

Co、Eu、Prs HoまたはS11であり、0くa
≦1.0.2<x<0.7.0.15≦y≦O13,0
,3<z≦1.0である)で表わされる。
Co, Eu, Prs Ho or S11, 0kua
≦1.0.2<x<0.7.0.15≦y≦O13,0
, 3<z≦1.0).

本発明に係る上記のような非晶質合金薄膜は、保磁力が
大きくかつカー回転角やファラデー回転角が大きいなど
の優れた光磁気特性を有し、しかも耐酸化性に優れて、
経時的に保磁力が変化したりあるいはカー回転角が変化
したりすることがないという優れた特性を有している。
The amorphous alloy thin film as described above according to the present invention has excellent magneto-optical properties such as a large coercive force and a large Kerr rotation angle and a large Faraday rotation angle, and has excellent oxidation resistance.
It has an excellent property that the coercive force or Kerr rotation angle does not change over time.

その上、Tbx(FeCo)   なる組成を有する非
晶質合金1−y  y  L−x 薄膜と比較して、キュリー温度が充分に低く、実用上優
れた特性を有している。
Furthermore, compared to an amorphous alloy 1-y y L-x thin film having a composition of Tbx (FeCo), the Curie temperature is sufficiently lower and it has practically excellent properties.

発明の詳細な説明 本発明に係る膜面に垂直な磁化容易軸を有する非晶質合
金薄膜は、 [PdaPtl、]。
Detailed Description of the Invention The amorphous alloy thin film having an easy axis of magnetization perpendicular to the film surface according to the present invention is [PdaPtl,].

[R[E  (Fe   Co  )   ]X   
   l−z    z    L二!    ■−y
(式中、REは少なくとも50原子%以上がTbおよび
/またはDyであり、残部がNd 、Gd、Ce、Eu
、Pr、HoまたはSmであり、0くa≦1、Q、  
2<x<0.7.0.15≦y≦さらに本発明に係る特
に好ましい膜面に垂直な磁化容易軸を有する非晶質合金
薄膜は、上記式において0.25<x<Q、5であり、
REの少なくとも80原子%以上好ましくは90原子%
以上がTbであり、残部がDy、Nd、Gd、Ce。
[R[E(FeCo)]X
l-z z L2! ■-y
(In the formula, RE is at least 50 atomic % or more of Tb and/or Dy, and the remainder is Nd, Gd, Ce, Eu
, Pr, Ho or Sm, 0kua≦1, Q,
2<x<0.7. and
At least 80 atomic % or more preferably 90 atomic % of RE
The above is Tb, and the rest are Dy, Nd, Gd, and Ce.

E u s P r SHoまたはSIIである非晶質
合金薄膜である。
It is an amorphous alloy thin film that is EusPrSHo or SII.

次にこのような非晶質合金薄膜について説明する。Next, such an amorphous alloy thin film will be explained.

(i)FeおよびCoは、合計で、非晶質合金薄膜を上
記式[1]で表わした場合に1−X(ただし、0.2<
X<0.7好ましくは0.25<xく0.6である)で
あるような量で存在している。
(i) Fe and Co are 1-X (however, 0.2<
x<0.7, preferably 0.25<x0.6).

FeとGoとの合計量に対して、FBは0〜30原子%
未満好ましくは20〜5o原子%の量で存在し、Coは
30原子%を超え、100原子%まで、好ましくは50
〜80原子%の量で存在している。
FB is 0 to 30 atomic% with respect to the total amount of Fe and Go.
Co is present in an amount of less than 20 to 5 atom %, preferably more than 30 atom %, up to 100 atom %, preferably 50
It is present in an amount of ~80 atom %.

本発明に係る非晶質合金薄膜では、T b−F e−C
o系の非晶質合金薄膜にPdあるいはPdとptとの両
者を特定量加えることによって、キュリー点が低くなり
、しかもキュリー点または磁気的補償温度の組成依存性
を小さくすることができる。
In the amorphous alloy thin film according to the present invention, T b-F e-C
By adding a specific amount of Pd or both Pd and pt to the o-based amorphous alloy thin film, the Curie point can be lowered, and the composition dependence of the Curie point or magnetic compensation temperature can be reduced.

なおFeとCoとの合計量に対して、5原子%以下好ま
しくは3原子%以下のNlを含んでいてもよい。
Note that Nl may be contained in an amount of 5 atomic % or less, preferably 3 atomic % or less, based on the total amount of Fe and Co.

(i)本発明に係る非晶質合金薄膜は、Pd、あるいは
Pdとptとの両者を含んでいる。
(i) The amorphous alloy thin film according to the present invention contains Pd or both Pd and pt.

PdあるいはPdとptとの両者は、非晶質合金薄膜中
に15原子%以上で30原子%以下好ましくは18原子
%以上で25原子%以下の量で存在している。
Pd or both Pd and pt are present in the amorphous alloy thin film in an amount of 15 atomic % or more and 30 atomic % or less, preferably 18 atomic % or more and 25 atomic % or less.

またPdとptとは、これらの含有割合をPd    
Pi 、  1、で表わした場合に、Ova≦1である。Pd
の含有割合が0.2<a<1であると、経済性に優れた
非晶質合金薄膜が得られる。
In addition, Pd and pt refer to their content ratios as Pd and pt.
When expressed as Pi, 1, Ova≦1. Pd
When the content ratio of a is 0.2<a<1, an economically efficient amorphous alloy thin film can be obtained.

このPdあるいはPdとptとの両者の含有量が15原
子%以上で30原子%以下の範囲であると、得られる非
晶質合金薄膜の耐酸化性が優れ、あるいは経時的に保磁
力Hcが大きく変化せず、また小さなバイアス磁界で充
分に高いC/N比が得られるという利点がある。
When the content of Pd or both Pd and pt is in the range of 15 atomic % or more and 30 atomic % or less, the resulting amorphous alloy thin film has excellent oxidation resistance, or the coercive force Hc decreases over time. It has the advantage that it does not change significantly and a sufficiently high C/N ratio can be obtained with a small bias magnetic field.

(ii )本発明に係る非晶質合金薄膜は、上記(i)
および(i)に加えて、少なくとも1種の希土類元素(
RE)を含んで構成されている。
(ii) The amorphous alloy thin film according to the present invention includes the above (i)
and (i) plus at least one rare earth element (
RE).

このREは、少なくとも50原子%以上がTbおよび/
またはDyであり、残部がNd 、 Gd 。
This RE contains at least 50 at% or more of Tb and/or
Or Dy, with the remainder being Nd and Gd.

Ce、Eu、Pr、HoまたはSmからなる群から選ば
れた少なくとも1種の元素である。好ましくはREの8
0原子%以上がTbであり、残部がDy、Nd、Gd、
Ce5EuSPr、Hoまたは5I11である。さらに
好ましくは、REの90原子%以上がTbであり、残部
がDy 、Nd SGd 。
At least one element selected from the group consisting of Ce, Eu, Pr, Ho, or Sm. Preferably RE 8
0 atomic % or more is Tb, the balance is Dy, Nd, Gd,
Ce5EuSPr, Ho or 5I11. More preferably, 90 atomic % or more of RE is Tb, and the remainder is Dy, NdSGd.

Ce、Eu、Pr、HoまたはSmである。Ce, Eu, Pr, Ho or Sm.

上記のような希土類元素REは、非晶質合金薄膜を上記
式[T]で表わした場合に、Q、2<Xく0.7好まし
くは0.25<x<0.6であるような量で存在してい
る。
The above rare earth element RE is such that when the amorphous alloy thin film is expressed by the above formula [T], Q, 2<X, 0.7, preferably 0.25<x<0.6. Exists in quantity.

上記のような組成を有する合金薄膜は、膜面に垂直な磁
化容易軸を有し、多くはカー・ヒステリシスが良好な角
形ループを示す垂直磁気および光磁気記録可能な非晶質
薄膜となることが広角X線回折などにより確かめられる
。ここでX≦O62、X≧0.7であるとカーヒステリ
シスが良好な角形ループを示さなくなる傾向があるため
好ましくない。
An alloy thin film having the composition described above has an axis of easy magnetization perpendicular to the film surface, and in most cases is an amorphous thin film that exhibits a rectangular loop with good Kerr hysteresis and is capable of perpendicular magnetic and magneto-optical recording. This can be confirmed by wide-angle X-ray diffraction. Here, if X≦O62 and X≧0.7, Kerr hysteresis tends not to show a good square loop, which is not preferable.

なお本明細書において、カー・ヒステリシスが良好な角
形ループを示すとは、最大外部磁場におけるカー回転角
である飽和カー回転角(θに、)と外部磁場ゼロにおけ
るカー回転角である残留カー回転角(θに2)との比θ
に2/θに1が0.8以上であることを意味している。
In this specification, a square loop with good Kerr hysteresis means the saturated Kerr rotation angle (in θ), which is the Kerr rotation angle at the maximum external magnetic field, and the residual Kerr rotation, which is the Kerr rotation angle at zero external magnetic field. The ratio θ to the angle (2 to θ)
This means that 1 in 2/θ is 0.8 or more.

また上記のような本発明に係る非晶質合金薄膜は、優れ
た耐酸化性を有し、第1図に示すようにP d 1oP
 L toT b a3F e 22CO25なる組成
を有する非晶質合金薄膜は、たとえば85℃、相対湿度
859、の環境下に240時間以上保持しても、その保
磁力はほとんど変化しない。これに対して、Pdあるい
はPdとptとの両者を含まないTb  Co  ある
いはT b 25 F eee CO9なる組成を有す
る非晶質合金薄膜は、85℃、相対湿度85%の環境下
に保持すると、その保磁力は経時的に大きく変化してし
まう。さらにこの環境試験を1000時間続けても、P
dあるいはPdとptとの両者を含有する系はやはりそ
の保磁力がほとんと変化しない。これらのことより、P
dあるいはPdとptとの両者を含む系は、希土類の選
択酸化を抑制することがわかる。
Furthermore, the amorphous alloy thin film according to the present invention as described above has excellent oxidation resistance, and as shown in FIG.
Even if an amorphous alloy thin film having a composition of L to T b a3F e 22CO25 is kept in an environment of 85° C. and relative humidity of 859 for 240 hours or more, its coercive force hardly changes. On the other hand, when an amorphous alloy thin film having a composition of Tb Co or T b 25 F eee CO9 that does not contain Pd or both Pd and pt is kept in an environment of 85° C. and 85% relative humidity, The coercive force changes greatly over time. Furthermore, even if this environmental test is continued for 1000 hours, P
In systems containing d or both Pd and pt, the coercive force hardly changes. From these things, P
It can be seen that the system containing d or both Pd and pt suppresses the selective oxidation of rare earth elements.

また、環境試験後におけるθにの変化も小さいことから
表面酸化が防止されていること、ならびに、顕微鏡によ
る膜表面の観察から孔食の発生も抑制されていることが
わかる。
Furthermore, the change in θ after the environmental test was small, indicating that surface oxidation was prevented, and observation of the film surface using a microscope revealed that pitting corrosion was also suppressed.

また、P d 12P L e Tb 34F e 2
1CO27、P d t5P j ttT b 35F
 ’a tgc O23などの組成を有する非晶質合金
薄膜も同様に優れた耐酸化性を有し、その保磁力はほと
んど変化しない。
Also, P d 12P L e Tb 34F e 2
1CO27, P d t5P j ttT b 35F
An amorphous alloy thin film having a composition such as 'a tgc O23 also has excellent oxidation resistance, and its coercive force hardly changes.

このように本発明に係る非晶質合金薄膜は、耐酸化性に
著しく優れており、したがってこの非晶質合金薄膜を使
用する際に、必ずしも酸化防止保護膜を非晶質合金薄膜
上に設ける必要はないという優れた特性を有している。
As described above, the amorphous alloy thin film according to the present invention has extremely excellent oxidation resistance. Therefore, when using this amorphous alloy thin film, it is not necessary to provide an oxidation-preventing protective film on the amorphous alloy thin film. It has an excellent property that it is not necessary.

本発明においては、その他に種々の元素を添加して、キ
ュリー温度や補償温度あるいはHeやθにの改善あるい
は低コスト化を計ってもよい。
In the present invention, various other elements may be added to improve the Curie temperature, compensation temperature, He and θ, or to reduce costs.

これらの元素は、重希土類元素に対してたとえば50原
子%未溝の割合で置換可能である。
These elements can be substituted for the heavy rare earth elements at a ratio of, for example, 50 atomic %.

併用できる他の元素の例としては、 (1)Fe、Co以外の3d遷移元素 具体的には、Sc、TI  VSCr、Mn。Examples of other elements that can be used in combination are: (1) 3d transition elements other than Fe and Co Specifically, Sc, TI VSCr, Mn.

N i −Cu s Z nが用いられる。Ni-CusZn is used.

これらのうち、Ti 、Ni 、CuSZnなどが好ま
しく用いられる。
Among these, Ti, Ni, CuSZn, etc. are preferably used.

(II)4d遷移元素 具体的には、Y % Z r −、N b s M o
 s Te %Ru、RhSAg、Cdが用いられる。
(II) 4d transition elements, specifically, Y% Z r −, N b s Mo
sTe %Ru, RhSAg, Cd are used.

このうちZr、Nbが好ましく用いられる。Among these, Zr and Nb are preferably used.

(m)PL以外の5d遷移元素 具体的には、Hf’、Ta、W、Re、Os。(m) 5d transition elements other than PL Specifically, Hf', Ta, W, Re, Os.

Ir、Au、Hgが用いられる。Ir, Au, and Hg are used.

このうちTaが好ましく用いられる。Among these, Ta is preferably used.

(V)WB族元素 具体的には、B、AΩ、Ga、In、Tlが用いられる
(V) WB group element Specifically, B, AΩ, Ga, In, and Tl are used.

このうちB、A9 SGaが好ましく用いられる。Among these, B and A9 SGa are preferably used.

(VI) IVB族元素 具体的には、C,S!  Ge、5nSPbが用いられ
る。
(VI) Group IVB elements, specifically C, S! Ge, 5nSPb is used.

このうち、St、Ge、Sn、Pbが好ましく用いられ
る。
Among these, St, Ge, Sn, and Pb are preferably used.

(■)VB族元素 具体的には、NSP、As5Sb、Blが用いられる。(■) VB group element Specifically, NSP, As5Sb, and Bl are used.

このうちsbが好ましく用いられる。Among these, sb is preferably used.

(■)WB族元素 具体的には、S、5eSTe、Poが用いられる。(■) WB group elements Specifically, S, 5eSTe, and Po are used.

このうちTeが好ましく用いられる。Among these, Te is preferably used.

次に、本発明に係る非晶質合金薄膜の製造方法について
説明する。
Next, a method for manufacturing an amorphous alloy thin film according to the present invention will be explained.

基板温度を室温程度に保ち、本発明に係る非晶質合金薄
膜を構成する各元素からなるチップを所定割合で配置し
た複合ターゲットまたは所定割合の組成を有する合金タ
ーゲットを用い、スパッタリング法あるいは電子ビーム
蒸着法などの従来公知の成膜条件を採用してこの基板(
基板は固定していでもよく、また自転していてもよい)
上に所定組成の非晶質合金薄膜を被着させることにより
、本発明に係る非晶質合金薄膜を形成することができる
The substrate temperature is maintained at about room temperature, and a composite target in which chips made of each element constituting the amorphous alloy thin film according to the present invention are arranged at a predetermined ratio or an alloy target having a predetermined composition is used by sputtering method or electron beam. This substrate (
(The substrate may be fixed or rotating)
By depositing an amorphous alloy thin film of a predetermined composition thereon, the amorphous alloy thin film according to the present invention can be formed.

このように本発明に係る非晶質合金薄膜は、常温での成
膜が可能であり、膜面に垂直な磁化容易軸を持たせるた
めに成膜後にアニール処理などの熱処理をする必要がな
い。
As described above, the amorphous alloy thin film according to the present invention can be formed at room temperature, and there is no need to perform heat treatment such as annealing after film formation in order to have an axis of easy magnetization perpendicular to the film surface. .

なお必要に応じては、基板温度を50〜600℃に加熱
しながらまたは一50℃まで冷却しながら、基板上に非
晶質合金薄膜を形成することもできる。
Note that, if necessary, the amorphous alloy thin film can be formed on the substrate while heating the substrate temperature to 50 to 600°C or cooling it to -50°C.

またスパッタリング時に、基板を負電位になるようにバ
イアスすることもできる。このようにすると、電界で加
速されたアルゴンなどの不活性ガスイオンはターゲット
物質ばかりでなく成膜されつつある垂直磁化膜をもたた
くことになり、優れた特性を有する垂直磁化膜が得られ
ることがある。
Further, during sputtering, the substrate can be biased to a negative potential. In this way, ions of an inert gas such as argon accelerated by an electric field will strike not only the target material but also the perpendicularly magnetized film being formed, resulting in a perpendicularly magnetized film with excellent properties. There is.

本発明の非晶質合金薄膜は、膜面に垂直な磁化容易軸を
有しているので、垂直磁気記録膜、磁気バブルメモリー
あるいは光磁気記録膜といった磁気記録材料分野、磁気
光学効果を利用した光変調器といった各種の分野に応用
できる。
Since the amorphous alloy thin film of the present invention has an axis of easy magnetization perpendicular to the film surface, it can be used in the field of magnetic recording materials, such as perpendicular magnetic recording films, magnetic bubble memories, or magneto-optical recording films, using the magneto-optic effect. It can be applied to various fields such as optical modulators.

たとえば垂直磁気記録分野では、垂直フレキシブルディ
スクの記録膜、リジット磁気ディスク用の記録膜への利
用が期待できるし、光磁気記録にはカー回転角またはフ
ァラデー回転角を利用して情報信号あるいは静止画像や
動画像を記録再生する光磁気ディスク、光磁気カード、
光磁気テープへの利用が期待てきる。また、外部磁場の
コントロールによりカー回転角やファラデー回転角を制
御し、反射光や透過光の光量変化によって光電池を作動
させる光変調器への利用も期待できる。
For example, in the field of perpendicular magnetic recording, it is expected to be used in the recording films of vertical flexible disks and rigid magnetic disks, and in magneto-optical recording, the Kerr rotation angle or Faraday rotation angle is used to generate information signals or still images. magneto-optical disks, magneto-optical cards,
It is expected to be used in magneto-optical tapes. It is also expected to be used in optical modulators that control the Kerr rotation angle and Faraday rotation angle by controlling an external magnetic field, and activate photovoltaic cells by changing the amount of reflected light and transmitted light.

本発明の非晶質合金薄膜を光磁気ディスクの記録膜とし
て応用した場合について以下に説明する。
A case where the amorphous alloy thin film of the present invention is applied as a recording film of a magneto-optical disk will be described below.

本発明の非晶質合金薄膜は、膜面に垂直な磁化容易軸を
有する垂直磁化膜であるとともに、多くの場合カー・ヒ
ステリシス・ループが角形性を有して、外部磁場のない
状態下でのθkが最大外部磁場での飽和θにとほぼ同一
であり、保磁力Heも大きいので、光磁気記録膜として
好適である。
The amorphous alloy thin film of the present invention is a perpendicularly magnetized film having an axis of easy magnetization perpendicular to the film surface, and in many cases has a square Kerr hysteresis loop, so that it can be easily magnetized under the absence of an external magnetic field. Since θk is almost the same as the saturation θ at the maximum external magnetic field and the coercive force He is large, it is suitable as a magneto-optical recording film.

また、θkが良好であることは、θrも良好であること
を意味し、よってカー効果利用型、ファラデー効果利用
型のいずれの方式に利用することができる。
Furthermore, a good value of θk means that a good value of θr, and therefore it can be used in either the Kerr effect type or the Faraday effect type.

また、本発明の非晶質合金薄膜は、耐酸化性に優れるた
め、従来のT b−F !3 % T b F e−C
o等の重希土類−3d遷移金属合金薄膜の場合のような
酸化防止のための保護膜を用いる必要は必ずしもない。
Moreover, since the amorphous alloy thin film of the present invention has excellent oxidation resistance, it has better oxidation resistance than the conventional T b-F! 3% T b Fe-C
It is not necessarily necessary to use a protective film for preventing oxidation as in the case of heavy rare earth-3d transition metal alloy thin films such as O.

また、記録膜に接する基板や他の機能性膜(たとえばエ
ンハンス膜、反射膜)あるいは貼合せのための接着層等
にも酸化防止性の材料を用いなくてもよい。
Furthermore, it is not necessary to use anti-oxidation materials for the substrate in contact with the recording film, other functional films (for example, enhancement film, reflective film), or adhesive layers for bonding.

さらに、エンハンス膜、反射膜等を成膜するに際しても
、真空蒸着やスパッタリングなどの乾式成膜法の他に、
従来ては行えなかったスピンコード法やスプレー法など
の湿式成膜を行ってもよいことになる。
Furthermore, when forming enhancement films, reflective films, etc., in addition to dry film formation methods such as vacuum evaporation and sputtering,
This means that wet film formation such as a spin code method or a spray method, which could not be performed conventionally, may be performed.

したがって、本発明の非晶質合金薄膜を記録膜とした光
磁気ディスクの構造としては、(i)基板/記録膜 (i)基板/エンハンス膜/記録膜 (ii)u板/記録膜/反射膜 (1■)基板/エンハンス膜/記録膜/反射膜(v)基
板/エンハンス膜/記録膜/エンハンス膜/反射膜 あるいはこれらの記録膜側の最外層に耐傷性のみを付与
するための保護コートや保護ラベルを形成したような構
造のものが可能となる。
Therefore, the structure of a magneto-optical disk using the amorphous alloy thin film of the present invention as a recording film is as follows: (i) substrate/recording film (i) substrate/enhancement film/recording film (ii) U plate/recording film/reflection film Film (1■) Substrate/enhanced film/recording film/reflective film (v) Substrate/enhanced film/recording film/enhanced film/reflective film or protection for imparting only scratch resistance to the outermost layer on the recording film side It becomes possible to create a structure with a coat or protective label formed thereon.

そして、ここでエンハンス膜としてはその屈折率が基板
の屈折率よりも大きいものであればよく、有機あるいは
無機のいずれの材料であってもよい。
Here, the enhancement film may be made of any organic or inorganic material as long as its refractive index is greater than the refractive index of the substrate.

エンハンス膜の具体例としては、T I O2,5IO
1TI O,Zn 01ITO1Z r O2、Ta 
 OSNb  O、CeOXSnO2,TeO等の酸化
物、SI  N  、A、l!N、BN等の窒化物、Z
n S、Cd S等の硫化物、Zn5eSSt C55
lなどがある。また、コバルトフェライトに代表される
フェライト類、B1置換ガーネントに代表されるガーネ
ット類等のファラデー効果を有する透明材料をエンハン
ス膜として使用してもよい。基板もガラスやアルミニウ
ム等の無機材料の他に、ポリメチルメタクリレート、ポ
リカーボネート、ポリカーボネートとポリスチレンのポ
リマーアロイ、USP4614778で示されるような
非晶質ポリオレフィン、ポリ4−メチル−1−ペンテン
、エポキシ樹脂、ポリエーテルサルフオン、ポリサルフ
オン、ポリエーテルイミド等の有機材料も使用できる。
A specific example of the enhancement film is T I O2,5IO
1TI O, Zn 01 ITO1Z r O2, Ta
Oxides such as OSNb O, CeOXSnO2, TeO, SI N , A, l! Nitride such as N, BN, Z
Sulfides such as nS, CdS, Zn5eSSt C55
There are l, etc. Further, transparent materials having a Faraday effect such as ferrites such as cobalt ferrite and garnets such as B1-substituted garnent may be used as the enhancement film. In addition to inorganic materials such as glass and aluminum, substrates can also be made of polymethyl methacrylate, polycarbonate, polymer alloys of polycarbonate and polystyrene, amorphous polyolefins as shown in USP 4,614,778, poly4-methyl-1-pentene, epoxy resins, and Organic materials such as ether sulfones, polysulfones, polyetherimides, etc. can also be used.

さらに、光磁気ディスクの構成は、前述の(i)〜(V
)の構成にのみ限定されるものではなく、必要に応じて
下地層あるいは高透磁率軟磁性膜の積層などを行っても
よく、単板のほか貼合せて使用することも可能である。
Furthermore, the configuration of the magneto-optical disk is as follows (i) to (V
) The structure is not limited to the above structure, but a base layer or a high permeability soft magnetic film may be laminated as necessary, and it is also possible to use a laminated structure in addition to a single plate.

発明の効果 本発明に係る非晶質合金薄膜は、 [PdaPt、、 ] 。Effect of the invention The amorphous alloy thin film according to the present invention is [PdaPt,,].

[RE  (Fo   Co  )   ]     
・・・[11x   1−z  z  L−x  1−
y(式中、REは少なくとも50原子%以上がTbおよ
び/またはDyであり、残部がNd 、Gd、Ce5E
uSPr、HoまたはSmであり、0くa≦1.0.2
<x<0.7.0.15≦y≦角が大きいなどの優れた
光磁気特性を有し、しかも耐酸化性に優れて、経時的に
保磁力が変化したりあるいはカー回転角が変化したりす
ることがないという優れた特性を有している。その上、
Tbx(FeCo)   なる組成を有する非晶質合金
1−y  y  l−x 薄膜と比較して、キュリー温度が充分に低く、実用上優
れた特性を有している。また本発明に係る非晶質合金薄
膜を基板上に形成するに際して、室温での成膜が可能で
あり、成膜後に熱処理をする必要もない。
[RE (FoCo)]
...[11x 1-z z L-x 1-
y (wherein, RE is at least 50 atomic % Tb and/or Dy, and the remainder is Nd, Gd, Ce5E
uSPr, Ho or Sm, 0kua≦1.0.2
It has excellent magneto-optical properties such as a large angle of <x<0.7. It has an excellent property of not causing any damage. On top of that,
Compared to an amorphous alloy 1-y y l-x thin film having a composition of Tbx (FeCo), the Curie temperature is sufficiently lower and it has practically excellent properties. Furthermore, when forming the amorphous alloy thin film according to the present invention on a substrate, it is possible to form the film at room temperature, and there is no need for heat treatment after film formation.

以下本発明を実施例により説明するが、大発明はこれら
実施例に限定されるものではない。
The present invention will be explained below with reference to examples, but the invention is not limited to these examples.

実験例1〜8 本実験例はP t−T b−F e−Co系の非晶質合
金質膜に関する。
Experimental Examples 1 to 8 The present experimental examples relate to Pt-Tb-Fe-Co-based amorphous alloy films.

ターゲットとして、Coターゲット上にPt1Feおよ
びTbのチップを所定割合で配置した複合ターゲットを
用いて、ガラス基板上に、基板を水冷により20〜30
℃の常温付近にコントロールしながらDCマグネトロン
スパッタリングにより非晶質合金薄膜を1000人の膜
厚に成膜した。
As a target, a composite target in which Pt1Fe and Tb chips are arranged at a predetermined ratio on a Co target is used.
An amorphous alloy thin film was formed to a thickness of 1,000 mm by DC magnetron sputtering while controlling the temperature to be around room temperature (°C).

成膜条件は、A「圧5mTorr 、Ar流! 35e
effi、真空到達度5 X 10 =Torr以下で
行なった。
The film forming conditions were A: 5mTorr pressure, Ar flow! 35e
effi, the vacuum attainment was 5×10 = Torr or less.

得られた合金薄膜は、広角X線回折法により結晶状態を
測定するとともに、組成をICP発光分光分析によって
求めた。
The crystalline state of the obtained alloy thin film was measured by wide-angle X-ray diffraction, and the composition was determined by ICP emission spectrometry.

また、カー回転角はガラス基板側からn1定した外部磁
場ゼロでの残留カー回転角を斜入射法(λ=633nm
)で測定した。斜入射法の具体的flll+lll上び
装置は、山川相部監修「磁性材料の測定技術」 (昭和
60年12月25日トリケッブス株式会社発行)第26
1頁〜263頁に記載されている。
In addition, the Kerr rotation angle is the residual Kerr rotation angle at zero external magnetic field, which is determined by n1 from the glass substrate side, using the oblique incidence method (λ = 633 nm).
) was measured. The specific flll+llll ascending device for the oblique incidence method is described in "Measurement Techniques for Magnetic Materials" supervised by Aibe Yamakawa (published by Trikebbs Co., Ltd. on December 25, 1985), No. 26.
It is described on pages 1 to 263.

また得られた非晶質合金薄膜について、キュリー温度(
Tc )および保磁力を測定し、各値とともに表1に示
す。
Furthermore, the Curie temperature (
Tc ) and coercive force were measured and shown in Table 1 along with each value.

さらに、本発明の非晶質合金薄膜の耐酸化性を確認する
ため、ガラス基板上に成膜された状態そのままを85℃
、85%RHの高温高湿条件のオーブン中に、240時
間放置する環境試験を行い、時間経過後のカー回転角(
θk)、反射率(R)、保磁力(He)を測定し、それ
ぞれの試験前の初期値θko、 Ro 、 Hcoと比
較したところ、θk SR,Heは、はとんどそれぞれ
θko、RoxHcoと同じであった。
Furthermore, in order to confirm the oxidation resistance of the amorphous alloy thin film of the present invention, the film was deposited on a glass substrate at 85°C.
An environmental test was conducted in which the car was left in an oven under high temperature and high humidity conditions at 85% RH for 240 hours, and the Kerr rotation angle (
When we measured θk), reflectance (R), and coercive force (He) and compared them with the initial values θko, Ro, and Hco before the test, we found that θkSR, He was almost the same as θko, RoxHco, respectively. It was the same.

比較例1〜3 実施例1〜7において、Pdまたはptを用いず、表1
に示すような組成を有する非晶質合金薄膜をガラス基板
上に成膜した以外は、実施例1〜7と同様にした。
Comparative Examples 1 to 3 In Examples 1 to 7, Pd or pt was not used and Table 1
Examples 1 to 7 were carried out in the same manner as in Examples 1 to 7, except that an amorphous alloy thin film having the composition shown in was formed on a glass substrate.

得られた非晶質合金薄膜について、実施例1〜7と同様
にして物性を測定した。
The physical properties of the obtained amorphous alloy thin film were measured in the same manner as in Examples 1 to 7.

結果を表1に示す。The results are shown in Table 1.

この表1より、Z値がほぼ同一であっても、ptを含ま
せることによって非晶質合金薄膜の、キュリー温度(T
c )を低くすることができることがわかる。
From Table 1, even if the Z values are almost the same, the Curie temperature (T
It can be seen that c) can be lowered.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、本発明に係る(Pd1oPt1oTb33F
O2□Co2.)の保磁力の変化および比較例に係るT
 b 25 CO75およびT b 25 F e e
e CO−9の保磁力の変化を示す図である。
FIG. 1 shows (Pd1oPt1oTb33F) according to the present invention.
O2□Co2. ) changes in coercive force and T related to comparative examples
b 25 CO75 and T b 25 F e e
FIG. 3 is a diagram showing changes in coercive force of e CO-9.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1)[Pd_aPt_1_−_a]_y [RE_x(Fe_1_−_zCo_z)_1_−_x
]_1_−_y(式中、REは少なくとも50原子%以
上がTbおよび/またはDyであり、残部がNd、Gd
、Ce、Eu、Pr、Ho、またはSmであり、0<a
≦1、0.2<x<0.7、0.15≦y≦0.3、0
.3<z≦1.0である)で表わされることを特徴とす
る、膜面に垂直な磁化容易軸を有する非晶質合金薄膜。 2)REの少なくとも80原子%以上がTbである特許
請求の範囲第1項に記載の非晶質合金薄膜。
[Claims] 1) [Pd_aPt_1_-_a]_y [RE_x(Fe_1_-_zCo_z)_1_-_x
]_1_-_y (wherein, RE is at least 50 atomic % Tb and/or Dy, and the remainder is Nd, Gd
, Ce, Eu, Pr, Ho, or Sm, and 0<a
≦1, 0.2<x<0.7, 0.15≦y≦0.3, 0
.. 3<z≦1.0), an amorphous alloy thin film having an axis of easy magnetization perpendicular to the film surface. 2) The amorphous alloy thin film according to claim 1, wherein at least 80 atomic % or more of RE is Tb.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100763496B1 (en) * 2006-05-02 2007-10-04 학교법인연세대학교 Biphasic amorphous alloy with multi-stage deformation

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