JPH02108000A

JPH02108000A - 小断面及び方向可変のｘ線又はガンマビームを形成する装置

Info

Publication number: JPH02108000A
Application number: JP1222765A
Authority: JP
Inventors: Geoffrey Harding; ジョフレー　ハーディング; Josef-Maria Kosanetzky; ジョセフ―マリア　コッサネッツスキー; Karl-Heinz Fischer; カール―ヘインツ　フィッシャー; Alfred G Meyer; アルフレッド　ガンター　メイヤー
Original assignee: Philips Gloeilampenfabrieken NV
Current assignee: Koninklijke Philips NV
Priority date: 1988-09-01
Filing date: 1989-08-29
Publication date: 1990-04-19
Also published as: US4995066A; DE3829688A1; EP0357146A3; EP0357146A2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】本発明は、放射ビームを供給するＸ線源又はガン？源と
、放射ビームからＸ線ビームを形成し直線スリン］・を
設けた固定のダイヤフラム部及び回転軸の周りに回転し
その外面に螺旋状スリットを設けた円筒状の第１のダイ
ヤフラム本体とよりなる、小さな断面を有し方向を可変
するＸ線ビーム又はガンン線ビーム（１１）を形成する
装置に係る。

かかる装置は、医学応用ではヨーロッパ出願第７４０２
１号公開明細書及び産業応用では西ドイツ出願第３４４
３０９５号公開明１ｉｔｉにより知られている。。

これでは、ダイヤフラム本体番よ、放射吸収物質の中空
筒状体により形成され、その周囲には、２つの互いにず
れた螺旋状に延在するスリットが設けられている。平行
線のビームが、その円筒軸に垂直な方向にこのダイヤフ
ラム本体に入射する場合、Ｘ線ビームが２つのスリット
を通る一点がある。

ダイヤフラム本体が回転する場合、この点は周期的に動
くＸ線ビームがダイヤフラム本体の後から現われるＪ：
う軸に沿っておく。この周期的に変位するＸ線ビームは
、医学又は産業的検査に用いられつる。固定ダイヤフラ
ム部は、所定の方法でＸ線ビームが変位する方向に垂直
にＸ線を制限するのに役立つ、。

実際にｘＩＩは、拡散線のビームを放射するＸ線管によ
り形成される。しかし、拡散放射ビームにおいて、Ｘ線
ビームの強度はエツジに向って減少する。己れは、スリ
ン１〜を適切な形状とすることにより、また直線スリッ
ト及び放射源により形成された面に正確に平行に延在す
る代わりに、ダイヤフラム本体の回転軸は、放射の拡散
、つまり放射源とダイヤフラム本体の回転軸との間の距
離に依存する角に関する角を覆うことを確実にすること
により、少なくとも部分的に防止できる。

従って、かかるダイヤフラム本体は、膨大な費用をか【
ノて製造でき、放射源と回転軸との間の所定の距離に対
してだけに適合する。

本発明の一つの目的は、異なる方法で柱役する一部ビー
ムを発生する上記種類の装置を捉供することである３゜この目的は、ダイヤフラム本体がその長さの少なくとも
一部に亘って少なくても略半円形断面を有するという本
発明によって達成される、。

従って、本発明によって、第１のダイヤフラム本体の螺
旋状スリン１〜及び固定ダイヤフラム部の直線状スリッ
トの協働で、Ｘ線ビームが（拡散）Ｘ線ビームから形成
される３、Ｘ線ビームの現出点は、第１のダイヤフラム
本体の回転により変位され、周期的に動くＸ線ビームと
なる。Ｘ線は、ダイヤフラム本体に対向して位置する２
つのスリットを介する代わりに、一つのスリットで現出
するので、Ｘ線ビームの強度は、ダイヤフラム本体の縁
部に向って減少しない。従って、スリン１〜に所定の形
状を与え又は直線状スリットに関して限定された方法で
配置する必要はない。

固定のダイヤフラム部のスリットとダイヤフラム本体と
の協働は、台形断面を有するＸ線ビームを決定する。し
かし、方向に依存しない空間解像度を生じる正方形（又
は円形）断面を得ることが望ましい。２つのスリットの
同じ幅に対して、正方形断面の近似は、２つのスリット
が互いに交差する角度が大きくなるにつれ、さらによく
なる３゜交差のより大きな角度は、大きな直径と小さな
軸長を有するダイヤ−ノラム本体を用いることにより達
成されうる。しかし、多くの応用に対して、比較的大き
な偏光角はＸ線ビームに対して要求され、ダイヤスラム
本体の対応する軸長を意味する；固有的に大きな容量の
数、多くの応用に対して大きな直径は望ましくない。

比較的大きな軸長と比較的小さな直径を有するダイヤス
ラム本体の場合に魅力的な断面を１９る為、本発明の別
な実施例では、複数の螺旋状円周スリットが、ｎいに軸
方向に超えるよう第１のダイヤフラム本体に設けられる
３、第１のダイヤフラム本体のｎ個のスリットの場合、
各スリットはダイヤスラム本体の長さの甲に１／ｎだけ
延在し、これによりダイヤフラム部のダイヤスラム本体
の螺旋状スリットの投影は、比較的に大きな角度で毎回
そごに設けられたスリットを交差し、魅力的な断面形状
となる。

ｎ個の螺旋状スリットは、ダイヤスラム本体の半回転に
応じて、初めに近くにあるＸ線ビームにより占められる
位置に移動するｎＸ線ビームを形成する。異なる応用に
対して、例えばＸ線ビームにより形成された拡散放射が
測定される応用では、西ドイツ出願第３４４３０９５号
公開明細書に記載されている如く、甲−のＸ線ビームの
使用のみが、望まれる。

この目的に対して適当な本発明の別な実施例は、その長
手の少なくとも一部に亘って半円形部を有する第２のダ
イヤスラム本体が設けられており、２つのダイ１７ノラ
ム本体は一７Ｕが他方を包囲するように同軸に配置され
ており、第１のダイヤフラム本体はスリットの数の関数
として♀い速度で回転し、第２のダイヤスラム本体の周
囲の孔の配置と形状は、使用できるビームが毎回スリッ
トの唯一つ（例えば９ｂ）を通って現われるようになさ
れていることを特徴とする。

本発明による本実施例の最も簡単な例では、螺旋状のス
リットが第２のダイヤフラム本体に単一の孔として設け
られており、そのスリットは第１のダイヤフラム本体の
スリットより実質的に広く、少なくとも約１８０°の円
周に亘って延在する。従って、スリットは、第２のダイ
ヤフラム本体の半回転生順次に横切られ、Ｘ線ビームは
連続的に一方から他方に動く。第１のダイヤフラム本体
の回転数が、第２のダイヤスラム本体より大きいので、
第１のダイヤフラム本体の１つのスリットは、スリット
又はダイヤフラム本体が放射源に面する時横断され、隣
りのスリブｌ−は、それ又はダイヤスラム本体が放射源
から遠い場合に横断される。形成されるＸ線ビームは、
第２の場合より第１の場合の方がより広く、ダイヤスラ
ム本体の直径が放射源からのその距離に関して大きくな
るにつれ、その差はより大きくなる。。

上記状態が本発明の更に他の実施例で満たされない場合
、Ｘ線ビームが交Ｈに広くなったり、狭くなったりする
のを防ぐため、ｎ個の孔が第２のダイヤフラム本体に設
けられる１、ここで、ｎは第１のダイヤスラム本体のス
リブ］〜の数であり、孔は円周上互いに１８０°／ｎの
角度ずれており、それらの軸位置は毎回放射が関連する
孔を介してスリット通過するよう毎回−のスリブ１への
軸位置に対応する。

第１図中参照番号１は、破線により示されたＸ線ビーム
２を放射するＸ線管（図示せず）の焦点を示す。ＸｗＡ
ビーム２は半円断面を有する中空円筒により形成された
ダイヤフラム本体３に入射する。、その端面で、ダイヤ
フラム本体は円形ディスク４により支持される。ディス
ク４はモータ（図示せず）により回転軸５の周りに回転
可能であり、軸５に中空円筒３の内面の湾曲の中心があ
る。破線６で示される如く、ディスク４は軸方向には動
かない。これは、例えばＸ線源に接続されたハウジンク
（図示せず）に配置された各ベアリングの軸５の周りに
回転可能であるようディスク４を軸支するようことによ
り達成される。

ダイヤフラム本体はＸ線が実質的に完全に吸収されるよ
うな材料から作られ、そのような厚さを有する。ダイヤ
フラム本体の厚さ及び材料は、Ｘ線の強度に依存する。

１２０ｋｖのＸ線管電圧に対して、タングステン又はタ
ンゲスアン合金から成り、１．５．の厚さを有するダイ
ヤフラム本体は、実質的に完全にＸ線を吸収する。１本
体３の厚さは、次の関係から生じる値ｄｍに制限される
。

ｄｍ＝ｗ／ｊａｎ　　（β／２）、ここで、βがＸ線ビームの偏向角、ＷはＸ線ビームの幅
である。１例えば２３°の偏向角に対して、ｗ＝　０．
５ａｍ＋、　ｄｍ　＝　２．４５　ｍである。

ダイヤフラム本体３は、ダイヤフラム本体の一角（上布
）を反対の角（１左）に接続する螺旋状スリット９を設
けられている３、スリットの幅は、形成されるべきＸ線
ビームの寸法に適合される。

ダイヤフラム本体の反対側（焦点１から見て）で、直線
状スリットよりなる固定ダイヤフラムが配置されている
。放射源１．ダイヤフラム本体３゜及びダイヤフラム７
は、ダイヤフラム本体の回転軸５がスリット８の中心線
及び焦点１により決まる平面に位置し、ダイヤフラム７
により決まる平面に平行に延在するように互いに配置さ
れていることが望ましい。焦点１は、面が回転軸に関し
て垂直に延在するダイヤスラム本体３及びダイヤフラム
面７の対称面に出来るだ番プ配置されるべきである。

Ｘ線ビーム２は、交差のこの点の周りの所定の領域にお
けると同様、スリン］−が回転軸５及び焦点１により画
成される面により交差される領域でダイヤスラム本体の
スリット９を通る。しかし、ダイヤフラム面７は、交差
の点から現われるＸ線ビームだけを伝送し、スリットか
らのこのビームの両側に現われるＸ線を実質的に抑圧し
、これにより、該面の上及び干で、それで小さな断面（
ペンシルビーム）を有するＸ線ビーム１１がスリット８
から現われる。

矢印１０により示された方向に軸５の周りにダイヤフラ
ム本体が回転するのに応じて、その而とスリット９の間
の交差の点は、右に変位され、それにより、ＸＩｉ！ビ
ーム８はスリットの直線端部に達するまで右に進む。ダ
イヤスラム本体がさらに回転した時、Ｘ線ビームは、先
ずスリット９の左端を横切り、続いて右に動き、これに
よりダイヤフラム本体が一定速度で回転する際Ｘ線ビー
ムの周期的のこぎり波状動作がなされる。

動作の終り端（右）及び新たな始まり端（左）との間の
時間間隔は、一方ではダイヤフラム本体のスリット９に
より示される円周角に依存し、他方では本体自身の断面
により示される弧に依存する。この間隔が短かいと、弧
は１８０°よりやや大きいだけであり、ダイヤフラム本
体の周りのスリット９により示される角度は１８０°で
なければならない。弧は正確に１８０°に作られる必要
はない。

な「なら、ダイヤフラムのエツジが回転軸５及び焦点１
により画成される角度位置を占めるダイヤフラム本体の
角度位置において、Ｘ線はダイヤ・フラム本体を通過す
る際スリット７から現われるからである。その結果、ダ
イヤスラム本体の円形断面の弧が、１８０°よりやや大
ぎくな１ノればならｆｌこれによりスリットは、Ｘ線ビ
ーム８がスリットを横断する位置に達するまで、ダイヤ
フラム本体７により焦点１からいつもシールドされる。

スリット９は螺旋形を有し、即ちピッチは円筒体の全長
に亘って一定であるとする。しかし、多くの揚台、ビー
ムがエツジより中央でより早く（又はより遅く）動くこ
とが望ましい。かかる実施例は第２図に示され、ここで
は固定ダイヤフラム７とダイヤフラム７の側から見たダ
イヤフラム本体３を示す。スリットのピッチ（軸方向に
見た）はエツジより中央で大きく現われる。従って、ダ
イヤフラム本体の一定回転速度の場合、Ｘ線ビームはエ
ツジより中心でよりψく動く。

第３図は、スリット９が２つの段付曲線９ａ及び９ｂに
より形成された実施例を示し、幅対高さの比は、全ての
段について同じであり、ダイヤフラム本体の長さと円周
との比に対応する。本実施例で、形成されたＸ線ビーム
は連続的には動かず、間歇的に動く。これは種々の応用
、例えば、最初のビームの強度（検査領域の他側での）
が隣り合って、配置された複数の検出器により測定され
る応用に対して利点がある。

ダイヤフラム本体が一部ユニットを形成する場合、ダイ
ヤフラム本体の断面の弧で示される角度は、スリットに
より示される円周角より常に大きくなければならない（
機械的理由で）。これは、Ｘ線ビームの消滅（右端で）
及びその再出現（左端で）の間の詩間経過の間隔を延ば
す。さらに、明白に第３図に示す如く段状が必要とされ
る場合、一体のダイヤフラム本体にスリットを形成する
ことは比較的複雑である１゜これらの欠点は、スリットにより分離された２つの整合
部からダイヤフラム本体を製造することにより避けるこ
とができ、それらの端ではディスクに設けられたセグメ
ント状溝に挿入されることによりディスク４に強固に接
続される。スリット９の所望のコースは、ダイヤスラム
本体を形成する２つの部分の対向面を適宜に製造するこ
とにより比較的に簡単に実現できる。

ダイヤフラム板７のスリット９の中心投影（焦点１から
の如く）は９０’以外の角度でスリット８と交差するの
で、Ｘ線ビーム１１の断面は、たとえスリット８及び９
の幅が同じでも、それに垂直な方向よりスリットの方向
上より大きい。この差は、ダイヤフラム本体３の直径が
より小さく、その長さがより大きくなるにつれより大き
くなる６゜より明瞭な横方向の限定は、焦点１及びスリ
ット８により決定される平面から軸５を傾けることによ
り達成され、つまり、これにより、ダイヤフラム本体の
右側は持ち上げられ、左側が下げられる。これは、従っ
てスリット９及びスリット８の中心投影間の角面がより
大ぎいからであり、それによりＸ線ビーム１１は横方向
に多少より厳密に決定される６、シかし、ダイヤフラム
本体３の弧は、所定の位置にダイヤフラム本体をバイパ
スする間Ｘ線がスリットに達するのを避ける為、１８０
°を越えてさらに長くさるへきである。

第４図は、ダイヤフラム本体の同じ長さ及び同じ直径に
対して、形成されたＸ線ビーム１１の実質的によりよい
横方向の限定を生ずる望ましい実施例を示す。唯一つの
ダイヤフラム本体の代りに、放射源１及びダイヤフラム
部７の間で、第１のダイヤフラム本体３及び第２のダイ
ヤフラム本体１２が配置される。これら本体は一方が他
方を包囲するように同軸に配置される。２つのダイヤフ
ラム本体は、例えば５０ｍになるそれらの長さに少なく
とも一部に亘って半円形断面を有する。、第１図に示す
装置の如く、放射源１及びダイヤフラム装置の間で、ダ
イヤフラム装置をバイパスする間に放射が発生するのを
妨げるダイヤフラム（凶暴せ！ｒ）が配置される。

第２のダイヤフラム本体１２を包囲する第１のダイヤフ
ラム本体３は、第７図の開発と同様第５図に示す。この
第１のダイヤフラム本体は、例えば０．４．の幅を有す
る５つのスリット９ａ…９ｅからなる。しかし、異なる
数のスリットが設けられてもよく、この場合この数は奇
数でなければならない。第７図示す如く、スリット９ａ
…９０は全て同じで、一定のピッチを有する。横方向に
夫々のスリットは、半円形断面の領域の長さの１７５以
上延在する。所定のオーバラップは、従って軸方向のス
リットにより占められる領域の間に存在し、つまり一つ
のスリットは隣りのスリンＩ〜がまだ完全に終っていな
い時に始まる。１従って、Ｘ線ビームの偏向角内で構造
により決まる位置が照射されないことが避けられる。第
１の円筒３を通る断面は、正確に１８０°の円の弧を示
す。スリットがダイヤフラム本体をスライスしないのを
確実する為、それらは、第７図に示す如く、１８０°よ
り少し小さな円周の角に口って延在す６．１第６図及び
第８図は、夫々平面図及び展開図にホされた内部の第２
のダイヤフラム本体１２が第１のダイヤフラム本体のス
リットの数に対応する数の台形アパーチャに１３ａ…１
３ｅからなる：従・〕てこの例では、５つの孔がある。

多孔は、第１のダイヤフラム本体３の中心投影が、第１
のダイヤフラム本体（軸り向に）のスリットと少なくと
も客しい長さを右する領域に亘って軸り向に延在する。

名札１３ａ…１３ｅは、例えば３６°を介して、第１の
ダイヤスラム本体のスリット９ａ…９ｅにより示された
円周角の１１５より広い円周角度に亘って延在する。孔
は、１８０°１５、即ち３６°だけ円周上ずれている１
、スリット９ａに関連した孔１３ａは、Ｏから３６°の
角度範囲に亘って延在する。第２のスリット６ｂに関連
した孔１３ｂは、７２から１０８°の角度範囲に亘って
延在し、スリット９Ｃに関連した第３の孔１３ｃは、１４４から１８０６の角度範囲に亘って延在する。孔１
３ｄは、３６から７２°の角度範囲に亘り、孔１３ｅは
１０８から１４４°の角度範囲に亘る。外側の孔１３ａ
及び１３ｃの領域にある部分１４及び１５は、周囲から
孔をクローズオフする。

ダイヤフラム本体３及び１２の外径は、夫々例えば１２
．５ｍｍ及び８．４＃に達し、スリン１〜又はアパチャ
が設けられる軸方向の長さは、約５０履である。なお、
第４．５，６．７．８図は、ダイヤフラム本体を各回毎
に示しであることに注意のこと。

動作中、ダイヤスラム本体は同方向に回転し、第１のダ
イヤフラム本体の角速度は、第２のダイヤフラムの角速
度の５倍の速さである。、これは、共通駆動モータに接
続された歯つき部分（図示せず）のダイヤフラム本体の
端面を設けることにＪ、り達成され、従ってギヤ比は２
つのダイＸツノラム本体に対して選ばれる１、従ってで
の代わり、各ダイヤスラム本体に対して、別体のステッ
ピングモータが設けられてもよく、第１のダイヤスラム
本体用モータは同じステップ幅に対し５倍人きい駆動パ
ルスを受け、又はステップ幅を５倍人きい場合同じ数の
パルスを受ける。

動作中の所定の時点で、スリット９ａ…９ｅはダイヤフ
ラム部７に面し、焦点スポットは、図面の面に垂直に延
びる回転軸５を含む面に配置されるとする。この場合、
Ｘ線ビームは、孔１３ｂ。

ダイヤフラム部７のスリット９ｂ及びスリット８を通過
出来る。全ての他のスリン１へ（より正確に言えば、源
１及び軸５により決定される面に位置するこれらのスリ
ットの一部）は、ダイヤフラム本体１２によりシールド
される。回転の影響下で、スリット９ｂの交差の点及び
該平面は右にシフトされ、つまりＸ線ビームは右に移動
し、孔１３ｂはスリット９ｂの端部が達するまで同時に
上方に動く。従って、Ｘ線ビームは］度孔１３ｂの１・
側領域から現われる１゜スリット９ｂの端部が、この方法で達した場合、スリッ
ト９ｂを通るビームは、別な回転により妨げられ、第１
のダイヤフラム本体３の前歯（回転の方向に関し）は、
該平面を交差する。その後、放射は、別なスリットを通
り、すなわちその関連する孔が、本実施例で最後に照射
された円周方向の孔に続くスリットは、スリット９ｅ及
び孔１３ｅである。しかし、放射源１に面し、即ち、そ
れはスリット９ｂが以前に軸５の他端に位置する時、放
射源と軸５の間に位置する。かくて、同じスリット幅に
対して、Ｘ線ビームの断面は増す１．形成されたＸ線ビ
ームの幅を変えると、放射源１及び軸５の間の距離が例
えば１２．５＃Ｉ＃Ｉのダイヤフラム本体３の外径の場
合に１１０＃に達する場合、妨害効果が生ずる。

Ｘ線ビームの上記拡大を避【ノる為に、Ｘ線はダイヤス
ラム本体の前縁が１及び５により決まる平面の下に位置
するまでスイッチオフされる１、スイッチオフは、ダイ
ヤスラム本体５に接続された角度検出器（図示ｔ！！ｒ
）により制御される、。

ダイヤスラム本体３の前縁が上記の面を通って上方向に
延びる場合、孔１３Ｃの上縁もこの面に位置する。この
孔は、続いてスリット９Ｃを開放し、このスリットを介
して現われるＸ線ビームは再び右に動く。軸方向にスリ
ット９ａ…９ｅが上記の如くオーバラップするため、Ｘ
線ビームは、平面に関連して、スリット９ｂの端部に達
した際現われる同じ位置、或いはそれよりほんの少し左
に現われる。その結果、オーバラップ領域におＣノるＸ
線ビームの使用は、スリット９ｂの端部及びスリット９
Ｃの始端のＸ線が足されるので、この領域の外側より高
くなる。１しかし、この効果は、Ｘ線ビームのこの位置
で角度検出器により限定された場合補償され、対象（図
示せず）により伝送され又分散されたＸ線を検出する検
出装置（図示せず）の測定値に、適宜の重みづけ係数を
掛ける。

続いて、Ｘ線ビームはスリット９ｃにより決定される領
域を左から右に動く。

続いて、Ｘ線は、再びスイッヂオノされ、その後孔１３
ｄ及びスリット９ｄが竹動状態になる。

しかし、孔１３Ｃとが以前に軸５の他側（放射源１に関
して）に位置していたなら、次に孔１３ｄは軸５と、放
射源１の間に位置する。、従ってダイヤスラム本体３の
孔１３ｄの投影は増すが、形成されたＸ線ビームの断面
は専らスリット９ａ…９ｅ及びスリット８の１つの寸法
により決められるので、妨害効果は有さない。１３ａ…
１３ｅは、スリットの１つを通る放射を許容する役をす
るだけである。

Ｘ線ビームは又スリット９ｄにより決められる範囲を横
断した後、スリット９ｅは、Ｘ線のスイッチオノの後、
半回転して動性状態になり；続いてスリット９ａが動作
状態になり、以上同様である。従って、５回の順次の回
転内で、放射源により放出されたＸ線ビームは、スリッ
トを設りたダイヤフラム本体３の領域を一度横断する１
、それらが、隣りの孔に関して円周上１８０°／　ｎ　
ｆれており、軸方向にスリットの寸法に適合されている
限りにおいて、ダイヤスラム本体１２の孔は、他のｈ法
でその円周に亘って分布される。しかし、空間的に順次
の領域は、Ｘ線ビームにより時間的に順次に横断されな
い：即らその代り、ビームは例えばス］〜リップ９Ｃか
らストリップ９Ｃへ或いは同様にジャンプする。

第１のダイヤスラム本体３の直径の放射源１及び回転軸
５の間の距離に対する割合が小さければ小さい程、上記
Ｘ線ビームの交ｎの拡大及び狭小が顕著でなくなる。Ｘ
線ビームのかかる「呼吸」が許容されうる場合、ダイヤ
スラム本体３の各半回転毎に放射源１をＭ０仙とする必
要はない。この場合、第６図及び第８図に示す第２のダ
イヤスラム本体も用いられ、Ｘ線ビームは、従って、ス
リット９ａからスリット　９　ｄに更にスリット９ｂ等
にジャンプをする。、シかし、第２のダイヤフラム本体
１２は、実質的により単純な構造でよい。

この場合に第８図で左上から右下へ延在する単一の螺旋
状の広いスリットを設番ノるだけで十分である。スリッ
トの幅は、Ｘ線ビームがスリット９ａ…９ｅの１つの中
で動くのを可能にする為十分でなければならないが、１
及び５により決められる而の２つのスリン１〜が同時に
Ｘ線にさらされる程大きくてはいけない。この場合、第
１のダイヤフラム孔も、偶数のスリットを設けられても
よい。

２つのダイヤフラム本体の直径を、スリットを有する第
１のダイヤフラム本体が第２のダイヤフラム本体内に位
置するように、選ぶことも可能である。連続的にＸ線が
印加される場合、Ｘ線ビームの上記［呼吸１は、強調さ
れない；しかし、Ｘ線が各半回転復電にスイッチオノさ
れる時、スリットから現われるＸ線ビームがよく限定さ
れるので、第４図に示す逆転装置（外側の第１のダイヤ
フラム本体）を選ぶのは一般的により効果的である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による第１実施例を示す図、第２図は第
１実施例のグイレフラム本体及びダイヤフラム部を示す
図、第３図は第２実施例のダイヤフラム本体及びダイヤ
フラム部を示す図、第４図は所望の実施例の断面図、第
５図及び第６図は大々第４図に示した実施例の第１及び
第２のタイ−７ノラム本体の平面図、第７図及び第８図
は大々第１及び第２のダイヤスラム本体の開発４示す図
て゛ある。１…Ｘ線管の交点、２，１１…Ｘ線ビーム、３…ダイヤ
スラム本体、４…円形ディスク、５…回転軸、６…破線
、７…ダイヤフラム、８…スリット、９…螺旋状スリッ
ト１１０…回転方向、　１２…第２のダイヤフラム本体
、１３…台形孔。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）放射ビームを供給するＸ線源又はガンマ源（１）
と、放射ビームからＸ線ビームを形成し、直線スリット
（８）を設けた固定のダイヤフラム部（７）及び回転軸
（５）の周りに回転しその外面に螺旋状スリット（９）
を設けた円筒状の第１のダイヤフラム本体（３）とより
なり、ダイヤフラム本体（３）はその長手の少なくとも
一部に亘って略半円筒断面を有することを特徴とする、
小さな断面を有し方向を可変するＸ線ビーム又はガンマ
線ビーム（１１）を形成する装置。
（２）ダイヤフラム本体（３）の回転軸（５）は、放射
源（１）及び直線状スリット（８）により決められる平
面に位置することを特徴とする請求項１記載の装置。
（３）螺旋状スリット（９）は、ダイヤフラム本体（３
）（第２図）の長さに亘つて可変するピッチを有するこ
とを特徴とする請求項１及び２のうちいずれか１項記載
の装置。
（４）スリットは段状（第３図）であることを特徴とす
る請求項１乃至３のうちいずれか１項記載の装置（第３
図）。
（５）複数の螺旋状スリット（９ａ…９ｅ）が第１のダ
イヤフラム本体の軸方向を互いに続いていることを特徴
とする請求項１乃至４のうちいずれか１項記載の装置。
（６）少なくても１つの孔からなり、その長手の少なく
とも一部に亘って半円形部を有する第２ダイヤフラム本
体（１２）が設けられており、２つのダイヤフラム本体
（３、１２）は一方が他方を包囲するように同軸に配置
されており、第１のダイヤフラム本体（３）はそれに設
けられたスリットの数の関数として第２のダイヤフラム
本体（１２）より早い速度で回転し、第２のダイヤフラ
ム本体の周囲の孔の配置と形状は、使用できるビームが
毎回スリットの唯一つ（例えば９ｂ）を通つて現われる
ようになされていることを特徴とする請求項５記載の配
置。
（７）第１のダイヤフラム本体（３）が第２のダイヤフ
ラム本体（１２）を包囲していることを特徴とする請求
項６記載の装置。
（８）第１のダイヤフラム本体（３）が放射源（１）及
びダイヤフラム部（７）の間に配置されていることを特
徴とする請求項１乃至７のうちいずれか１項記載の装置
。
（９）第２のダイヤフラム本体に、ｎ個の孔（１３ａ…
１３ｅ）が設けられており、ここでｎは第１のダイヤフ
ラム本体のスリットの数であり、孔は円周上互いに１８
０°／ｎの角度ずれており、それらの軸位置は、放射が
毎回スリットの１つ（例えば、８ｂ）及び関連したアパ
ーチャ（１３ｂ）を通過するよう各スリット（９ａ…９ｅ）の
軸位置に対応することを特徴とする請求項５又は７記載
の装置。
（１０）第２のダイヤフラム本体（１２）に、第１のダ
イヤフラム本体のスリットより実質的に広く、少なくと
も約１８０°の円周角に亘って、延在する螺旋状スリッ
トの形の単一の孔が設けられていることを特徴とする請
求項５記載の装置。