JPH0210823A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の目的］ （産業上の利用分野） 本発明は、電子ビーム描画装置を使用して半導体基板（
主としてウェーハ）及びマスク基板などにパターン描画
を行なう半導体装置の製造方法に関するもので、特にパ
ターン描画前の前記描画装置の電子光学系調整段階にお
ける電子ビームのスティグマ補正（非点収差補正ともい
う）を自動的に行なう方法に使用される。

（従来の技術） 半導体素子の微細化、高密度化は著しく、サプミクロン
又はナノメータ領域の加工寸法が要求されるに至ってい
る。　このような微細加工は従来の光学装置の性能限界
を越えており、電子ビーム描画装置が使用されるように
なっている。

このような微細加工のパターン描画装置の一例として、
ＪＢＸ−５ＤＩＩ　（Ｆ）型電子ビーム描画装置（日本
電子製）を収り上げ、従来技術について以下説明する。

　第３図は該装置の電子光学系の構成を示す模式図であ
る。　同図において、カソード１、ウェネルト（ｗｅｈ
ｎｅ　ｌ　１．　Ｊ電極２及びアノード３で構成される
電子銃（ｅｌｅｃｔｒｏｎ　ｇｕｎ）　４から放出され
る電子は、アライメン１〜　コイル（ａｌｉｍｅｎｔ　
ｃｏｉｌ）　５、小円孔（ａｐｅｒｔｕｒｅ）　６を経
て、ビームブランキング電極（ｂｅａｉ　ｂｌａｎｋｅ
ｒ）　７を内蔵する第１の磁界レンズ８で縮小され、ク
ロスオーバ点をビームス１〜ツバ（ｂｅａｎ＋　５ｔｏ
ｐｐｅｒ）　９の位置に縮小結像する。　この縮小結像
した電子ビームは更にアライメントコイル１０を経て中
間レンズ（第２レンズ１１及び第３レンズ１２）に入射
し、第２、第３レンズの強さを連動制御して第２の縮小
結像が行なわれる。　ステイグメータ（ｓｔｉＢａｔｏ
ｒ　、スティグマトール）１３は、非点収差補正装置と
も呼ばれ、磁界レンズの回転対称性の不完全等により生
ずる非点収差を補正する機能を持つ、　符号１４は終段
小円孔（ｆｉｎａｌ　ａｐｅｒｔｕｒｅ）で、第４レン
ズ１６又は第５レンズ１８はそれぞれ対物レンズで、第
３の縮小結像が行なわれる。　第４及び第５の対物レン
ズの内部にはビーム偏向用の８極静電型偏向器１５及び
１７が設置されている。　電子検知器（ｂａｃｋｓｃａ
ｔｔｅｒｅｄ　ｅｌｅｃ−ｔｒｏｎ　ｄｅｔｅｃｔｏｒ
）　１９は、工作片（ｓｖｏｒｋ　ｐｉｅｃｅ）２０を
電子ビームで走査したとき返ってくる反射電子を含む２
次電子（以下単に２次電子と呼ぶこともある）を受光す
る機能を持っている。

上述の電子光学系では、電子Ｒｑから放出される電子は
、第ルンズないし第４レンズを用いウェーハ上に０．１
μｍ以下のビームを形成することができる（ガウス型ビ
ーム方式の場合）。

この電子ビーム描画装置を使用して半導体基板（ウェー
ハ）にパターンを描画する場合、描画前に電子光学系の
調整を必要とする。　例えば電子銃から放射される電子
ビームの中心部分を使用するため、電子ビームのレンズ
軸に対するずれを補正するアライメント調整、或いは電
子ビームが非点収差により楕円スポットとなる場合には
、これを真円にするためのスティグマ調整を行なう。

さらにフォーカス調整を必要とする。　現在フォーカス
調整に関しては、該描画装置の基板載置ステージ又はウ
ェーハ上に設けられた基準マークを電子ビームで走査し
たとき返ってくる２次電子を検出し、ＣＲＴ上でモニタ
像を見ながら作業者が手動で調整するか、或いは前記検
出信号を用い自動的にフォーカス調整をしている。　　
しかしスティグマ調整は、殆ど作業者がモニタ像を見な
がら手動で調整している。

第４図は基準マーク位置及びその形状の一例を示す図で
ある。　同図（ａ　）において、ウェーハ載置ステージ
２１上にホルダー２２に保持されたウェーハ２３が載置
されている。　符号Ｐ、Ｑ、Ｒ，Ｓはウェーハ上に設け
られた十字形の基準マーク、符号Ｍ１、Ｍ２　、Ｍ３　
、Ｍ４．Ｍ５はステージＬに設けられた十字形を連接し
たメツシュ状の基準マークである。　同図（１））は十
字マーク（点線）を検出するための４つの走査（実線）
モー［１）、（２）、（３）、及び（４）を、又同図（
Ｃ）は段差マーク２４と異種金属マーク２５のそれぞれ
の断面図である。　第５図はマーク検出信号処理とその
処理波形の流れを示し、第６図はフォーカス調整、ステ
ィグマ調整を含むマーク検出制御系の概要を示すブロッ
ク図である。

基準マーク２４又は２５を電子ビームで走査し、返って
くる２次電子を電子検知器１９で受光し、検出信号Ａ及
びＢを得る。　基準マークが段差マークの場合には差信
号出力Ｗｌ　、（Ａ−Ｂ）を、又異種金属マークの場合
には和信号出力Ｗ２　。

（Ａ＋Ｂ）を微分回路２７で微分した出力を可変利得ア
ンプ２８にて増幅し所望の大きさのアンプ出力Ｗ３が得
られる。　又符号２６は切換えスイッチで、段差マーク
の場合にはＳＵＢ、異種金属マークの場合にはＡＤＤｌ
１１！Ｉに切換える。　アンプ出力Ｗ３は、その一部は
モニタ２９、池の一部はＡ／Ｄ変換を含む、波形メモリ
３０に入力され、さらにＷ３の池の一部は絶対値アンプ
３１に入力される。　絶対値アンプ出力Ｗ４は一部はモ
ニタに、他の一部は波形形成回路３２に人力され、波形
形成出力Ｗ５はモニタ及び信号処理部３３に送られる。

　計算機３４には波形メモリにストアされた、若しくは
信号処理部で処理された２次電子の信号波形が入力され
る。

オートフォーカスではこの信号波形を用い、計算機３４
の制御によりフォーカス調整部３５のフォーカスボリュ
ームを変化させ、検出信号Ａ及びＢの出力を第５図に示
す流れに従い処理し、計算ａ３４にフィードバックして
、信号波形の波高値が最も高くなるポイントを、Ｘ方向
走査及びＹ方向走査のそれぞれの場合で検出し、両者の
平均値をベストフォーカスとしている。　フォーカス調
整部３５は、計算機３４を介して第２レンズ１１及び第
３レンズ１２の強さを連動制御し、前記標準マーク上に
電子ビームの結像位置を合わせる作用をする。

前記電子ビーム描画装置を使用し、０．２μｍレベルの
微細パターンの形成を行なう場合を例にとり、パターン
描画前の作業で主として問題となるフォーカス調整とス
ティグマ調整について更に詳しく説明する。　第７図は
０．２μ■ないし１μｍ寸法の各孤立パターンを、ＣＭ
Ｓ−ＥＸ（Ｒ）（東洋曹達）ネガ型電子ビーム描画用レ
ジストにパターニングした際のフォーカスずれによる寸
法余裕度（フォーカスマージン）を示すものである。

横軸はベストフォーカスからのずれを示すもので、単位
ポイントは、フォーカス設定値の最小単位で、第２、第
３レンズの強さに対応する。　縦軸はパターニングされ
たレジスト寸法（μｎ）である。

○印は描画面積１６００μｍ口（１６００μＴｌＸ１６
００μ１１１）フィールド、・印は１１００μｍ口フィ
ールドの場合を示す、　第７図より０．２μｍパターン
は描画面積１６００μｍ口フィールドで±５０（ポイン
ト）、１１００μｍ口フィールドでは±１３０（ポイン
ト）程度のフォーカスずれによる寸法余裕度があるが、
１１００μｍ口フィールドでも、作業者の個人差により
±（１００〜２００　）　　（ポイント）近くずれてし
まう、このためビーム走査による２次電子を検出して、
その波形よりベストフォーカスを調べる前述のオートフ
ォーカス機能がある。　この機能を実行した場合、現状
±６０（ポイント）（３σ）以内に個人差なくフォーカ
スを合わせることが可能となっている。

従来技術におけるスティグマ調整は、Ｘ方向及びＹ方向
それぞれ独立したボリューム値を手動によりか１整して
いる。　第８図（ａ　）はＸ方向、同図（ｂ　）はＹ方
向のそれぞれスティグマ調整ずれによる寸法マージンを
示す。　同図においてＯ印及び・印はそれぞれ１６００
μｍ０フイールド及び１１００μ１口の場合を示す。　
横軸は、ベストフォーカスとなるスティグマ設定値を０
とし、この設定値からのスティグマ設定値ずれを示す、
単位ポイントはスティグマ設定値の最小単位で、ステイ
グメータの強さに対応する。　縦軸はパターニングされ
たレジスト寸法である。　同図（ａ　）より、Ｘ方向で
は１１００μｍ口フィールドで±３００（ポイント）程
度、１６００μｍ口フィールドで±２００（ポイント）
程度のスティグマ調整ずれによる寸法余裕度がある。　
又同図（ｂ　）より、Ｙ方向では７１００μｍ口フィー
ルドで±２５０（ポイント）　、１６００μｍ口フィー
ルドで±１００（ポイント）程度の寸法余裕度がある。

　しかしながらモニタ像を見ながらスティグマ調整を行
なうと、個人差によるバラツキがあり、そのスティグマ
調整ずれは±（３００〜４００）　（ポインｌ−）近く
ある。　又、スティグマ調整ずれによりフォーカス調整
への影響が十分考えられる。

（発明が解決しようとする課題） 電子ビーム描画装置の描画面の電子光学系の調整のうち
主たるものはフォーカス調整とスティグマ調整である。

　このうちフォーカス調整については前述のオートフォ
ーカス機能を設けたことにより、その調整ずれを許容値
内にすることができる。　しかしながらスティグマ調整
については従来技術ではマニュアル調整で対応している
。　そのため作業者の個人差による調整ずれか生じ、こ
のずれがオートフォーカス調整に影響を与え、例えば０
．２μｍレベルのパターン形成で出来上がり寸法にずれ
が生じ、最悪ではバターニング出来ないという課題があ
る。

本発明の目的は、手動スティグマ調整に起因する前記出
来上がりパターン寸法のずれを低減するため、ビーム走
査時の返ってくる２次電子（反射電子を含む）を用いて
、スティグマ調整の最適設定値を自動的に検出し、これ
により前記課題を解決できる半導体装置の製造方法を提
供することである。

［発明の構成１ （課題を解決するための手段） 本発明は、電子ビームにより半導体基板等に回路パター
ンを描画する場合、描画前のスティグマＩＲＭｋにおい
て、自動的にスティグマ補正を行なうことを特徴とする
半導体装置の製造方法である。

即ち該描画装置の基板載置ステージ又は基板上に設けら
れた基準マーク（第４図）を電子ビームで走査する時、
返ってくる反射電子を含む２次電子（ｂａｃｋｓｃａｔ
ｊｅｒｅｄ　ｅｌｅｃｔｒｏｎ）を電子検知器により受
光し、この２次電子の信号波形を成形する方法を用い　
前記ステージ又は基板上の互いに直交するＸ方向及びＹ
方向或いはＸ、Ｙ両方向のうちいずれか１つの方向のス
ティグマ設定値を所定の値ずつステップ状に変化させ、
このスティグマ設定値の各ステップ毎に、Ｘ方向にビー
ム走査した時の前記成形された２次電子信号波形の波高
値を最大にするオートフォーカス調整の設定値Ｆうを検
出し、同様にＹ方向にビーム走査した時の波高値を最大
にするオートフォーカス調整値の設定値Ｆｘを検出し、
Ｆｘ＝Ｆｙとなる同一組のスティグマ設定値を検出し、
このスティグマ設定値をスティグマ補正値とする。　こ
れらの操作は、計算機の制御により自動的に行なわれる
。

なおスティグマ設定値は、Ｘ方向とＹ方向との２つの設
定値によって決められる。　上記の同一組のスティグマ
設定値とは５Ｘ方向にビーム走査した時の１組のスティ
グマ設定値と、Ｙ方向にビーム走査した時の１組のステ
ィグマ設定値とが同一であることを意味する。　又Ｘ方
向及びＹ方向のスティグマ設定値が共に未定の場合には
両方向、又Ｘ、Ｙ両方向のうち一方の方向のスティグマ
設定（Ｉｒｉが規定されている時は他方の方向のスティ
グマ設定値をステップ状に変化させる。

（作用） スティグマ調整のＸ方向及びＹ方向の設定値が十分良好
に調整されている場合には、Ｘ方向にビーム走査をした
場合でも、Ｙ方向にビーム走査した場合でも２次電子信
号波形の波高値を最大にするフォーカス調整の設定値は
等しく、即ちＦｘ＝Ｆｙとなることが試行結果より確認
された。　本発明は、この知見に基づいて完成されたも
のである。　電子光学系に非点収差のある場合、パター
ン描画面のビームスポット形状は楕円形となるが、ステ
ィグマ調整のＸ方向及びＹ方向の設定値が十分調整され
ると、ビームスポットはほぼ真円となる。　このためＸ
方向にビーム走査をした場合でも、Ｙ方向にビーム走査
した場合でも、２次電子信号波形の波高値を最大にする
フォーカス調整の設定値は等しくなるものと推定される
。

本発明の前記手段は、計算機からの制御により、前記の
方法でスティグマ設定値を所定のステップ幅で変化させ
、各ステップにおけるＦｘ値及びＦｘ値を求め５、例え
ば第２図のようにスティグマ設定値とベストフォーカス
の設定値Ｆ８、及びＦｙとの関係を示す曲線の交点を求
め、その交点におけるスティグマ設定値を検出し、この
設定値をスティグマ補正値とする。　これによりビーム
スボ・ットはほぼ真円となる。又上記交点のスティグマ
設定値の検出は、計Ｍ、Ｒの自動制御により行なわれる
ので従来の個人差による調整ずれは無くなる。

（実施例） 以下実施例により本発明を更に詳しく説明する。

本実施例で使用する電子ビーム描画装置は、従来技術で
説明したＪＢＸ−５ＤＩ［（Ｆ）型（日本電子製）であ
り、該装置の電子光学系の構成等については第３図ない
し第６図を参照する。

初めに本発明の基礎となった試行結果について第２図を
参照して説明する。　まずＸ方向及びＹ方向のスティグ
マ設定値をそれぞれ０にした状態（オフセットの状！ｒ
３）から手動で１００ポイントずつステップ状に増減し
、スティグマ設定値の各ステップ毎にオートフォーカス
ａ能を実行して得られたベストフォーカス設定値のＸ方
向走査、Ｙ方向走査及び平均のそれぞれの値を検出する
。　なお上記ベストフォーカス設定値は、基準マークを
電子ビームでＸ方向又はＹ方向に走査し、返ってくる２
次電子を電子検知器により受光し、この２次電子信号波
形を成形して得られた信号波形の波高値が、最大になる
よう計算機制御により自動的にフォーカス調整を実行し
て得られたフォーカス設定値である。

第２図においてΔ印はＸ方向及びム印はＹ方向にそれぞ
れ電子ビームを走査した場合のベストフォーカス設定値
Ｆｘ及びＦｙを、又○印はＦｘとＦｘの平均値を示す。

　同図（ａ　）及び（ｂ　）はスティグマ設定値をＸ方
向及びＹ方向について１００ポインＩ・ずつ階段状に変
化した場合である。

なお、以下の説明においてＸ方向のスティグマ設定値を
Ｓｘ、Ｙ方向のスティグマ設定値をＳｙで表わし、階段
幅（ステップ幅）をΔＳｘ及びΔＳｙで表わす、　同図
（ａ　）の横軸は、スティグマ設定値（ＳＸ、５ｙ）＝
（ｎΔＳｘ、ｎＡＳｙ）、ただしｎ−０〜５の整数、Δ
Ｓｘ＝ΔＳ、＝１００ポイント及び（ＳＸ　、５ｙ）＝
　（−ｒｍΔＳｘ。

１ΔＳｙ）、ただしｍ−１〜５の整数、ΔＳつΔ５ｙ−
１００ポイント、を表わす。　縦軸は、スティグマ設定
値（Ｓ、、Ｓ、）におけるベストフォーカス設定値Ｆｘ
（Δ印）、Ｆｙ　（ム印）を表わす、　同図（ｂ）では
スティグマ設定値を（Ｓｘ、５ｙ）＝（ｎΔＳ、、−ｎ
ＡＳｙ）及び（ｓｘ　、　ＳＶ　）＝　（−ＩＩΔＳ、
　、−ｎＡＳｙ　）と階段状に変化した場合を示す。　
又同図（Ｃ）ではＳ、　−〇にした状態でＳｘを変化し
た場合で、スティグマ設定値（８つ、５Ｖ）＝（ｎΔ５
８０）及び（ｓｘ、５ｙ）＝（ＩＩΔＳ、、Ｏ）とする
、　同図（ｄ　）ではＳ、＝０としてＳｙを変化した場
合で（ｓｘ、　ｓｙ　）＝（ｏ、　ｎΔＳ、）及び（Ｓ
ｘ　、　　Ｓｙ　）　＝　（０，−ｒｘΔＳ、）とする
。

第２図（ａ　）、（ｂ　）、（Ｃ）の各図ではスティグ
マ設定値（Ｓｘ　、ｓ、）の値が大きくなると、ＦＸと
Ｆｙの差が大きくなり、明らかに１ケ所で、即ちＡ、Ｂ
、Ｃの各点で交わることがわかる。

同図（ｄ　）においても、スティグマ設定値のずれに対
しＦＸ又はＦｘは極端な変化は見られないか、２つの曲
線はＤ点で交わる。　この現象は、スティグマ設定値が
適値からずれると非点収差が発生し、ベストフォーカス
設定値に影響し、本来の（ビームスポットが真円の場合
）のベストフォーカス設定値からずれてＭ１定され、こ
のような結果が出てくると判断される。

上記試行結果を利用したオートスティグマ機能の手順の
ブロック図の一例を第１図に示す、　あらかじめ第４図
（ａ　）に示すウェーハ上の基準マークＰがあると予想
される位置をビームのマーク検出走査とステージ移動に
より自動的に検索しＰ点位置が検知され、オートフォー
カスＲ能によりフォーカスを合わせておく。

次に手順■において。　オペレーターがある程度までモ
ニタ１象を用いてスティグマ調整を行なう。

この時のスティグマ設定値ＳＸＯ及びＳｙｏは（ＳＸ、
Ｓｙ）の初期値となる。

手順■において。　コンピュータ処理によるオートモー
ドに切換える。　これにより、オートフォーカス及びオ
ートスティグマの各調整機能が動作し次の手順が自動的
に進められる。

手順■において。　Ｘ及びＹ方向のスティグマ設定値（
ｓｘ　、Ｓ、）を所定の値△Ｓずつステップ状に変化す
る。　即ち、５ｘ＝Ｓ、。±ｎΔＳ、５ｙ＝Ｓ、Ｊ０±
ｎΔＳで、ｎは任意の移変数で、ΔＳと共にあらかじめ
計算機内のメモリにス１〜アされ、例えばｎ　＝０．１
，２．・・・の順にステップ状に変化し、ステップ毎に
引続き後述の手順■、■の工程を行ない、Ｆｘ≠Ｆｙの
ときは手順■に戻り、スティグマ設定値を次のステップ
値とする。Ｆ８Ｆｙが検出されるまで手順■ないし■は
繰返される。　なおスティグマ設定値（ｓｘ　、　ｓｙ
　）の信号は計３Ｗａ３４から出力されてスティグマ調
整部３６に転送され、調整部３６内のスティグマボリュ
ーム等を介してステイグメータ１３の強さ、従って、ビ
ームスポットのＸ方向及びＹ方向の形状を設定１（ＳＸ
、Ｓｙ）に対応した量だけ変化させる。

手順■において、　オートフォーカス機能により各ステ
ップ毎のスティグマ設定値（ｓｘ　、　ＳＶ　）の状態
で、Ｘ方向又はＹ方向にビーム走査し、基準マークから
の２次電子を受光成形して得られる信号波形の波高値を
最大にするベストフォーカス設定値Ｆｘ　（Ｘ方向ビー
ム走査）又はＦｙ　（Ｙ方向ビーム走査）を検出する。

手順■において。　ベストフォーカス値ＦｘとＦｘとを
比叙し、等しければ手順■に進み、異なれば手順■に戻
り、手順■、■、■をＦｘ＝Ｆｙになるまで繰返す。

手順■において、　　Ｆ”、＝Ｆｘとなったときのステ
ィグマ設定値（ｓｘ　、Ｓｙ）を検出し、スティグマ調
整部３６に転送する。

手順■において。　スティグマ調整部３６のスティグマ
ボリュームはこの設定値（Ｓｘ、Ｓ、）に対応して変化
し、スティグマメータのＸ方向及びＹ方向の強さを補正
する。

以上オートスティグマ調整の概略の手順について述べた
。　スティグマ調整については第８図に示すように寸法
的に見たスティグマ設定値のマージンは士（２５０〜３
００）ポイントであるのに対し、従来の技術では作業者
の個人差により士（３００〜４００）ポイントのずれが
あった。　しかし本手順にてオートスティグマ調整をす
ることにより、テイグマ調整のずれを±１００ポイント
以内の精度で実行することができた。

［発明の効果］ これまで詳述したように、本発明において、ビーム走査
時の返ってくる２次電子を用いて、スティグマ調整の最
適設定値を自動的に検出できるオートスティグマ調整機
能を電子ビーム描画装置に設けたので、従来の手動ステ
ィグマ調整に起因する半導体基板上の出来上がりパター
ン寸法のずれは大幅に低減され、前記課題を解決する半
導体装置の製造方法を提供することができた。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明におけるオートスティグマ調整機能の手
順概要の一例を示すブロック図、第２図は本発明の基礎
となった試行結果を示す図、第３図は本発明の実施例及
び従来例で使用した電子ビーム描画装置の電子光学系の
模式図、第４図は基準マーク位置及びその形状の一例を
示す図、第５図はマーク信号処理とその処理波形を示す
図、第６図はフォーカス調整、スティグマ調整を含むマ
ーク検出制御系の概要を示すブロック図、第７図はフォ
ーカスずれによる寸法マージンを示す図、第８図はステ
ィグマ調整ずれによる寸法マージンを示す図である。 １・・・Ｌ、Ｒ，カソード、　　２・・・ウェネルト電
極、３・・・アノード、　４電子銃、　　５．１０・・
・アライメントコイル、　６，１４・・・小円孔、　７
・・・ビームブランキング電極、　８，１１，１２，１
６゜１８・・・第１．第２．第３．第４．第５レンズ、
９・・・ビームストッパ、　　１３・・・ステイグメー
タ、１６．１７・・・第２．第１ビーム偏向板、　１９
・・・電子検知器、　２０・・・工作片、　２１・・・
ウェーハａＷスデージ、　２３・・・ウェーハ、　２９
・・・モニタ、　３５・・・フォーカスＡ諮部、　３６
・・・スティグマ調整部、　Ｐ、Ｑ、Ｒ，Ｓ・・・基板
上の基準マーク、　Ｍ、ないしＭ！ｌ・・・ステージ上
の基準マーク、　ＷｌないしＷ５・・・２次電子信号出
力。 手順 第 図 ′／べＪ−、ｒ′Ｘ簀−タベ望似壇（駒ｉへム）第 図 ♀ でべ−ｔ−へに−セベ望偶壇（暑ヤへム）７ベ、Ｌへ←
−やべ閑叔壊（船【入ム）第 図 第 図（１） ７ベーＬへ和−夕べ認似壇（基ｉ入み）波形形成（Ｗ５ −Ｌ」− −し」− 第 図（２） 第 図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １　電子ビーム描画装置を用い半導体基板にパターン描
   画をする前の該描画装置の電子光学系調整操作のうち、
   レンズ系にて絞り込まれた電子ビームを真円にするため
   のスティグマ調整を行なうにあたって、 該描画装置の基板載置ステージ又は基板上に設けられた
   基準マークを電子ビームで走査すると共に返ってくる反
   射電子を含む２次電子を電子検知器により受光し、走査
   時における前記２次電子の信号波形を成形する方法を用
   い、 前記ステージ又は基板上の互いに直交するＸ方向及びＹ
   方向或いはこれらいずれか１つの方向のスティグマ設定
   値を所定の値ずつ階段状に変化させ、このスティグマ設
   定の各階段値毎に、Ｘ方向にビーム走査した時の前記２
   次電子信号波形の波高値を最大にするフォーカス調整の
   設定値Ｆ＿ｘ及びＹ方向にビーム走査した時の前記２次
   電子信号波形の波高値を最大にするフォーカス調整の設
   定値Ｆ＿ｙをそれぞれ検出し、フォーカス調整の設定値
   Ｆ＿ｘ及びＦ＿ｙが等しくなる同一組のスティグマ設定
   値を検出し、このスティグマ設定値を補正値として、 自動的にスティグマ補正を行なうことを特徴とする半導
   体装置の製造方法。