JPH02108770U - - Google Patents

Description

補正 平１．９．４ 図面の簡単な説明を次のように補正する。

【図面の簡単な説明】 本考案の一つの実施例として、液晶ガラスの上
にギヤプ材を散布する作業を例にして図面の簡単
な説明をします。第１図は、ギヤツプ材散布装置
の全体構成図を表し、この装置には液撹拌装置Ａ
、超音波アトマイザー装置Ｂ及び散布装置本体Ｃ
から構成せれています。又、第２図は液撹拌装置
Ａ、第３図は超音波アトマイザーＢ、第４図は散
布装置本体Ｃ、第５図は散布装置本体の断面図を
示しております。 さらに各部の名称は下記の通り。１；超音波発
振機、２；液撹拌槽、３；液供給ポンプ、４；有
機溶剤又は純水の混合液、５；液注入パイプ、６
；１．７ＭＨｚ超音波発振機、７；振動子、８；
液オーバーフローパイプ、９；ガスパイプ、１０
；キヤリヤガス送風フアン、１１；霧化室、１２
；混合ミスト、１３；吹出パイプ、１４；散布室
、１５；ミスト噴出口、１６；過熱ヒーター、１
７；液晶ガラス基板、１８；基板用支柱、１９；
排気ダクト、２０；排気用フアン、２１；排気ダ
ンパー、２２；制御パネル、２３；セパレーター
、２４；純水、２５；キヤリヤーガス、２６；散
布室ドアー、２７；撹拌装置スイツチ、２８；超
音波アトマイザースイツチ、２９；キヤリヤーガ
ス送風フアンスイツチ、３０；ヒータースイツチ
、３１；排気ダンパースイツチ、３２；排気用フ
アンスイツチ、３３；ギヤプ材含有ミスト、３４
；有機溶剤又は純水ミスト、３５；微少溶液中に
含有されたミスト、３６；気化状態の溶液微少ミ
スト、３７；ギヤプ材。 第６図は本装置を操作する時の各動作スイツチ
の入り切りの動作モードの関係を示しています。
一サイクルその動作順序は次のとおり。［第一ス
テツプ］ 液晶ガラス基板のセツト（１７）、ヒ
ータースイツチＯＮ（３０）、撹拌装置スイツチ
ＯＮ（２７）します。［第二ステツプ］超音波ア
トマイザースイツチＯＮ（２８）。［第三ステツ
プ］キヤリヤーガス送風フアンスイツチＯＮ（２
９）。［第四ステツプ］超音波アトマイザースイ
ツチＯＦＦ（２８）、排気ダンパースイツチＯＮ
（３１）。［第五ステツプ］排気用フアンスイツ
チＯＮ（３２）。［第六ステツプ］キヤリヤーガ
ス送風フアンスイツチＯＦＦ（２９）。［第七ス
テツプ］ヒータースイツチＯＦＦ（３０）、排気
ダンパースイツチＯＦＦ（３１）、排気用フアン
スイツチＯＦＦ（３２）してガラス基板を取り出
す。の各ステツプで一サイクルの作業を終了しま
す。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 超音波アトマイゼーシヨンを利用して、溶液中
   に混入された微細粒子を混合ミスト状態で浮遊さ
   せ、更にそのミストをキヤリヤガスを用いて特定
   の基板上に搬送して、均等に散布することを特徴
   とした微細粒子状物体の散布装置。