JPH02111496A - 残留塩素濃度連続自動検知装置 - Google Patents
残留塩素濃度連続自動検知装置Info
- Publication number
- JPH02111496A JPH02111496A JP23705989A JP23705989A JPH02111496A JP H02111496 A JPH02111496 A JP H02111496A JP 23705989 A JP23705989 A JP 23705989A JP 23705989 A JP23705989 A JP 23705989A JP H02111496 A JPH02111496 A JP H02111496A
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- JP
- Japan
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- residual chlorine
- foreign matter
- chlorine
- detection device
- mud
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- Granted
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- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は海水中の残留塩素を連続的に検知するものであ
り特に検知された残留塩素濃度を電気信号に変え塩素注
入装置へフィードバックすることにより塩素注入量を自
動コントロールするに好適な残留塩素自動検知装置に関
する。
り特に検知された残留塩素濃度を電気信号に変え塩素注
入装置へフィードバックすることにより塩素注入量を自
動コントロールするに好適な残留塩素自動検知装置に関
する。
残留塩素自動検知の従来例を第３図及び第４図に示す。
海水ライン１より取水されたサンプリング海水は、スト
レーナ−２によって泥あるいは異物を除去し、ポンプ３
によって検知器４に送水され残留塩素を検知する。検知
された残留塩素は濃度に従って、電気信号により分析計
６．制御盤７に伝達され塩素注入装置８による塩素注入
量をコントロールしている。ストレーナ−２は網あるい
はミクロンフィルター等が使用されている。ポンプ３は
サンプリング取水側に十分な水圧があれば不要な場合も
ある。
レーナ−２によって泥あるいは異物を除去し、ポンプ３
によって検知器４に送水され残留塩素を検知する。検知
された残留塩素は濃度に従って、電気信号により分析計
６．制御盤７に伝達され塩素注入装置８による塩素注入
量をコントロールしている。ストレーナ−２は網あるい
はミクロンフィルター等が使用されている。ポンプ３は
サンプリング取水側に十分な水圧があれば不要な場合も
ある。
なお、この種の技術として関連するものには、例えば、
特開昭６０−１７９１９１号、同昭６０−１６６０８２
号等がある。
特開昭６０−１７９１９１号、同昭６０−１６６０８２
号等がある。
上記従来技術においては、泥あるいは異物をストレーナ
−２内に設置されている網あるいはフィルターによって
除去すが短時間で目詰りを起こし、検知器４側へサンプ
リング海水が流れなくなる為、頻繁に網あるいはフィル
ターを交換する必要があった。又目詰り防止の為に、読
口の網あるいはフイルターを使用した場合ストレーナ−
２を通過した泥あるいは異物は、第４図の検知器４の隔
膜５に付着し残留塩素の検知を不可能にする為、短時間
で隔膜５の交換が必要となるという問題があった。
−２内に設置されている網あるいはフィルターによって
除去すが短時間で目詰りを起こし、検知器４側へサンプ
リング海水が流れなくなる為、頻繁に網あるいはフィル
ターを交換する必要があった。又目詰り防止の為に、読
口の網あるいはフイルターを使用した場合ストレーナ−
２を通過した泥あるいは異物は、第４図の検知器４の隔
膜５に付着し残留塩素の検知を不可能にする為、短時間
で隔膜５の交換が必要となるという問題があった。
本発明の目的は上記の如き高メインテナンス性から解放
され、連続的に残留塩素を自動検知することにある。
され、連続的に残留塩素を自動検知することにある。
上記目的は連続自動検知システムの構成及び検知部分の
形状を変えることにより達成される。
形状を変えることにより達成される。
前者は泥あるいは異物の除去の為に、遠心分離式セパレ
ーターの採用、後者は泥あるいは異物が検知器隔膜部に
付着することを防止する為に検知部分にてサンプリング
海水が乱流となる形状を採用することにより達成される
。又長期間の連続運転により検知器隔膜部に付着した泥
あるいは異物は洗浄用逆洗ラインにて洗浄除去すること
により隔膜の交換無しにて引き続き残留塩素の連続自動
検知を継続され、目的を達成される。
ーターの採用、後者は泥あるいは異物が検知器隔膜部に
付着することを防止する為に検知部分にてサンプリング
海水が乱流となる形状を採用することにより達成される
。又長期間の連続運転により検知器隔膜部に付着した泥
あるいは異物は洗浄用逆洗ラインにて洗浄除去すること
により隔膜の交換無しにて引き続き残留塩素の連続自動
検知を継続され、目的を達成される。
遠心分離式セパレーターに流入してきた泥あるいは異物
はセパレーター内を円周側壁にそって回転しながらセパ
レーター下部に落下する。落下したそれ等はブロー配管
によって系外に排出する。
はセパレーター内を円周側壁にそって回転しながらセパ
レーター下部に落下する。落下したそれ等はブロー配管
によって系外に排出する。
これによってサンプリング海水から大半の泥あるいは異
物が除去されるので検知器隔膜部への付着はわずかとな
る。本セパレーターは遠心力によって泥あるいは異物を
除去するものであるから目詰りによって頻繁に交換を必
要とする網あるいはフィルターを必要としない。
物が除去されるので検知器隔膜部への付着はわずかとな
る。本セパレーターは遠心力によって泥あるいは異物を
除去するものであるから目詰りによって頻繁に交換を必
要とする網あるいはフィルターを必要としない。
上記セパレーターを設置しても若干の泥あるいは異物は
検知器側へ流れて来る為、検知部分にてサンプリング海
水を乱流にすめ為のダムを設ける。
検知器側へ流れて来る為、検知部分にてサンプリング海
水を乱流にすめ為のダムを設ける。
この乱流により検知器隔膜部に付着した泥あるいは異物
は常時洗い流される為、残留塩素は連続的に検知するこ
とが出来る。
は常時洗い流される為、残留塩素は連続的に検知するこ
とが出来る。
しかし乍ら長期間の運転により付着する泥あるいは異物
は正規流れ方向の乱流のみにては除去出来ない為、逆流
方向の乱流を与え除去する。
は正規流れ方向の乱流のみにては除去出来ない為、逆流
方向の乱流を与え除去する。
しかも泥あるいは異物は全く含まない真水を使用するこ
とにより完全に付着物は除去される為、隔膜の交換を必
要としない。
とにより完全に付着物は除去される為、隔膜の交換を必
要としない。
以下本発明の一実施例を第１図及び第２図により説明す
る。
る。
第１図において海水ライン１より取水されたサンプリン
グ海水は、ポンプ３により昇圧され、遠心分離式セパレ
ーター９にて泥あるいは異物を除去する。除去物はブロ
ーライン１ｏにより糸外にブローする。泥あるいは異物
を除去されたサンプリング海水は残留塩素検知器４にて
残留塩素を検知する。検知器部隔膜５には泥あるいは異
物が付着せぬようサンプリング海水を乱流にするダム１
２を設ける。
グ海水は、ポンプ３により昇圧され、遠心分離式セパレ
ーター９にて泥あるいは異物を除去する。除去物はブロ
ーライン１ｏにより糸外にブローする。泥あるいは異物
を除去されたサンプリング海水は残留塩素検知器４にて
残留塩素を検知する。検知器部隔膜５には泥あるいは異
物が付着せぬようサンプリング海水を乱流にするダム１
２を設ける。
長期間使用によって隔膜５に付着した泥あるいは異物は
逆洗用洗浄水ライン１１からの逆洗水により付着物を除
去する。逆洗水はブローライン１０から系外に排水する
。
逆洗用洗浄水ライン１１からの逆洗水により付着物を除
去する。逆洗水はブローライン１０から系外に排水する
。
本実施例によれば隔膜５を交換する必要がなく、又長期
間使用による洗逆時を除き残留塩素を連続的に自動検知
することが出来る。
間使用による洗逆時を除き残留塩素を連続的に自動検知
することが出来る。
本発明によれば泥あるいは異物を除去するストレーナ−
を必要としない為、ｙ４あるいはフィルターの交換が無
く、検知器隔膜の交換も無い為、経済性にすぐれている
。又これ等の交換の為に残留塩素の検知が中断される機
能的欠陥を解決できるので残留塩素を検知し電気信号に
より分析計、制御盤へとフィードバックされ塩素注入装
置を自動コントロール出来る。
を必要としない為、ｙ４あるいはフィルターの交換が無
く、検知器隔膜の交換も無い為、経済性にすぐれている
。又これ等の交換の為に残留塩素の検知が中断される機
能的欠陥を解決できるので残留塩素を検知し電気信号に
より分析計、制御盤へとフィードバックされ塩素注入装
置を自動コントロール出来る。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の一実施例の残留塩素連続自動検知シス
テム系統図、第２図は第１図の残留塩素検知詳細断面図
、第３図は従来の残留塩素検知システム系統図、第８１
図は第３図の残留塩素検知詳細断面図である。 １・・・海水ライン、２・・・ストレーナ−１３・・・
ポンプ、４・・・検知器、５・・・隔膜、６・・・分析
計、７・・・制御盤、８・・・塩素注入装置、９・・・
セントリフイガールセパレータ− １０・・・ブローライン、 １１・・・逆洗用洗
テム系統図、第２図は第１図の残留塩素検知詳細断面図
、第３図は従来の残留塩素検知システム系統図、第８１
図は第３図の残留塩素検知詳細断面図である。 １・・・海水ライン、２・・・ストレーナ−１３・・・
ポンプ、４・・・検知器、５・・・隔膜、６・・・分析
計、７・・・制御盤、８・・・塩素注入装置、９・・・
セントリフイガールセパレータ− １０・・・ブローライン、 １１・・・逆洗用洗
Claims (1)
- １、海水ライン配管及び機器への貝類付着を防止する為
に注入した塩素の残留濃度を連続自動検知するシステム
において、サンプリングポンプ、遠心分離式セパレータ
ー、検知器、検知部洗浄用逆洗ライン、残留塩素分析計
から構成されることを特徴とする残留塩素濃度連続自動
検知装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23705989A JPH02111496A (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | 残留塩素濃度連続自動検知装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23705989A JPH02111496A (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | 残留塩素濃度連続自動検知装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02111496A true JPH02111496A (ja) | 1990-04-24 |
| JPH0512998B2 JPH0512998B2 (ja) | 1993-02-19 |
Family
ID=17009811
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23705989A Granted JPH02111496A (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | 残留塩素濃度連続自動検知装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02111496A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005144212A (ja) * | 2003-11-11 | 2005-06-09 | Chugoku Electric Power Co Inc:The | 海洋生物の付着及び成長を抑制する方法及びシステム |
| WO2012071357A3 (en) * | 2010-11-22 | 2012-08-02 | Nalco Company | Apparatus for on-line continuous chlorine analysis in turbid water and process streams |
| WO2015122435A1 (ja) * | 2014-02-13 | 2015-08-20 | 三菱重工環境・化学エンジニアリング株式会社 | 海水電解システム及び電解液注入方法 |
| JP2018128430A (ja) * | 2017-02-10 | 2018-08-16 | Ｊｆｅアドバンテック株式会社 | 液体分析システムおよび液体分析方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5625392U (ja) * | 1979-08-02 | 1981-03-07 | ||
| JPS5742845A (en) * | 1980-08-28 | 1982-03-10 | Yokogawa Hokushin Electric Corp | Method and apparatus for measuring residual chlorine |
| JPS57191541A (en) * | 1981-05-22 | 1982-11-25 | Toshiba Corp | Residual chlorine measuring meter |
| JPS60110392A (ja) * | 1983-11-18 | 1985-06-15 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 海水の塩素処理方法 |
-
1989
- 1989-09-14 JP JP23705989A patent/JPH02111496A/ja active Granted
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS5625392U (ja) * | 1979-08-02 | 1981-03-07 | ||
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| JPS60110392A (ja) * | 1983-11-18 | 1985-06-15 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 海水の塩素処理方法 |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005144212A (ja) * | 2003-11-11 | 2005-06-09 | Chugoku Electric Power Co Inc:The | 海洋生物の付着及び成長を抑制する方法及びシステム |
| WO2012071357A3 (en) * | 2010-11-22 | 2012-08-02 | Nalco Company | Apparatus for on-line continuous chlorine analysis in turbid water and process streams |
| CN103221821A (zh) * | 2010-11-22 | 2013-07-24 | 纳尔科公司 | 用于在浑浊的水和工艺流中在线连续氯分析的设备 |
| US9016110B2 (en) | 2010-11-22 | 2015-04-28 | Nalco Company | Apparatus for on-line continuous chlorine analysis in turbid water and process streams |
| AU2011331983B2 (en) * | 2010-11-22 | 2016-08-11 | Nalco Company | Apparatus for on-line continuous chlorine analysis in turbid water and process streams |
| WO2015122435A1 (ja) * | 2014-02-13 | 2015-08-20 | 三菱重工環境・化学エンジニアリング株式会社 | 海水電解システム及び電解液注入方法 |
| JP2015150483A (ja) * | 2014-02-13 | 2015-08-24 | 三菱重工環境・化学エンジニアリング株式会社 | 海水電解システム及び電解液注入方法 |
| JP2018128430A (ja) * | 2017-02-10 | 2018-08-16 | Ｊｆｅアドバンテック株式会社 | 液体分析システムおよび液体分析方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0512998B2 (ja) | 1993-02-19 |
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