JPH02114193A - 薄膜放射線検出体の製造方法 - Google Patents

薄膜放射線検出体の製造方法

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JPH02114193A
JPH02114193A JP26783788A JP26783788A JPH02114193A JP H02114193 A JPH02114193 A JP H02114193A JP 26783788 A JP26783788 A JP 26783788A JP 26783788 A JP26783788 A JP 26783788A JP H02114193 A JPH02114193 A JP H02114193A
Authority
JP
Japan
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zinc sulfide
boron nitride
radiation
silver
radiation detector
Prior art date
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Pending
Application number
JP26783788A
Other languages
English (en)
Inventor
Koichi Takayama
幸一 高山
Masahiko Maeda
前田 正彦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Holdings Corp
Original Assignee
Showa Denko KK
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Publication date
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  • Conversion Of X-Rays Into Visible Images (AREA)
  • Measurement Of Radiation (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
  • Luminescent Compositions (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はスパッタリング法によって薄膜放射線検出体の
製造方法に関する。
(従来の技術) 最近の原子力産業の著しい発展にともない、原子力施設
における放射線の遮蔽が重要になっている。また、分析
化学および医療などの分野においても放射線の利用が増
大しており、放射線の遮蔽材および放射線感知性能をも
つ材料の開発が急務となっている。特に、放射線感知性
能材については、放射線取扱者を放射線被ばくの危険か
ら守るのみならず、放射線を使用する各種の分析、構造
解析、放射線の積分強度の測定などの分析において広く
求められている。
従来、放射線によって発光する螢光顔料(たとえば、タ
ングステン酸カルシウム、銀付活硫化亜鉛)を含有する
組成物を成形物(たとえば、シート状物)の表面に塗布
する方法か行なわれていた。
また1本発明者らの一部らは、ポリエチレン樹脂に多量
の無機礒素化合物および硫化亜鉛系螢光体からなるポリ
エチレン樹脂組成物について以前に開発した(特開昭5
6−133349号)。
(発明か解決しようとする課題) 前者の塗布する方法では、螢光顔料は、感度が弱く、し
たかってかなりの放射線によらなければ感知することが
てきない。また、二次放射線を発生するなどの問題かあ
り、微量の放射線の感知材料としてあまり有効でなく、
二次放射線の発生も含めて、放射線の運転問題、環境汚
染などの安全性について問題がある。
一方、後者の組成物では、成形させて得られる成形物に
中性子を反射・吸収させる場合では。
よい効果を発揮する。しかし、中性子を透過しないため
、反対側から像を映し出そうとすると、シャープにみる
ことができない。
以上のことから、本発明は微量の放射線の感知性も良好
であり、二次放射線の発生がなく、反対側からも像を映
し出すことかできる薄膜放射線検出体を得ることである
(課題を解決するための手段および作用)本発明にした
かえば、これらの課題は、窒化硼素および硫化亜鉛系螢
光性物質を主成分とする無機物質を無機基板上にスパッ
タリングさせることを特徴とする薄膜放射線検出体の製
造方法。
によって解決することができる。以下、本発明を具体的
に説明する。
(A)硫化亜鉛系螢光性物質およびその割合本発明にお
いて、窒化硼素とともに使われる硫化亜鉛系螢光性物質
としては、銀、銅、マンガン、鉛などの金属を付活させ
た硫化亜鉛かあげられる。なかても、銀付活硫化亜鉛か
好ましい。
窒化lil*および硫化亜鉛系螢光性物質を後記のスパ
ッタリンクを行うにあたり、これらは別々にまたは混合
物を成形させる。成形物の大きさは一般にスバ・ンタリ
ンクの分野において通常に用いられている大きさでよい
。一般には、径は10〜300■であり、  10〜2
50■か望ましく、とりわけ20〜2001−か好適で
ある。形状は円板状でもよく、また角状でもよい。
100重量部の窒化硼素に対する硫化亜鉛系螢光性物質
の割合は、通常1〜30重量部であり、特に1〜2踵1
部が好ましい、100重量部の窒化硼素に対する硫化亜
鉛系螢光性物質の割合か1重量部ては、放射線感知性能
か著しく低い。一方、30重量部を超えると、ターゲツ
ト材の焼結か困難となる。
(11)無機基板 また、本発明において使用される無機基板は後記のスパ
ッタリングを行なうさい、その脱焼結温度に耐える材料
である必要がある。さらに、基板は放射線を透過し易い
ことが要求され、中性子線に対する線吸収係数ルか小さ
いものか望ましい。
線吸収係数は物質の原子番号か大きくなるにともない増
大するため、てきるたけ原子番号か小さいものが好まし
い。また、融点か脱焼結温度よりも高い温度すなわち6
00 ’C以上(好ましくは、 80000以上)のも
のかよい。これらのことから、基板として使用される物
質としては、酸化アルミニウム(アルミナ、AL;L2
03) 、 炭化けい素(5iC) 、窒化けい素(S
i3N4) 、窒化アルミニウム(AiN)か望ましい
さらに、該無機基板の厚さは、通常0.1〜2.0am
(好ましくは、0.1〜1.0 am)である。厚さか
0.1層重未満の無機基板は作成することか難しい。
一方、 2.0111を超えたものは、中性子の吸収か
大きくなり、感度よくない。
(C)スパッタリング方法 前記の無機基板上に窒化硼素および硫化亜鉛系螢光性物
質を主成分とする無機物質をスパッタリングするには、
一般に行なわれている方法を適用すればよい。スパッタ
リング条件は、RF(高周波)出力か通常1.0〜6.
0 W / c m″であり、特に 1.0〜5.0 
W / c rn”か好ましい。RF比出力1.0W/
cm’未満では、プラズマか安定しない。
一方、 6.0W/cm’を超えるならば、熱衝撃によ
るターゲツト材か破壊する可能性かある。また、スパッ
タガス源としては、一般にはアルゴンガスを用いるか、
このさいガス圧は一般には 1.0×10−’ 〜5.
Ox 10−2トールてあり、とりわけ 1.0x10
−” ヘ1.OX 10−2トールか望ましい。ガス圧
か1、Ox 10−’ )−ル未満では、プラズマか安
定しない。一方、 5.Ox 1O−2t−−ルを超え
るならば、アルゴン粒子か膜中に混入し、膜性能か劣化
する。
さらに、スパッタリンク温度は、通常室温ないし200
°Cてあり、特に室温ないし150°Cか好ましい。ま
た、得られる膜厚は、一般には0.1−10μBであり
、とりわけ0.2〜lOμmか望ましい。
膜厚か0,1μ1未満では、得られる放射線検出体の放
射線感知性能か小さい。一方、10μ■を超えると、膜
の強度の点および価格の点から問題となる。
このようにスパッタリングされた積層物は600〜15
00℃(好ましくは、 600〜1200℃)において
焼結される。
(実施例および比較例) 以下、実施例によって本発明をさらにくわしく説明する
なお、実施例において使ったスパッタリンクターゲツト
材として、窒化硼素(平均粒径 3.5pm、純度 9
9.99%)をホットプレス法によって焼結し、厚さか
6.Oa+mである円板(径 10100aを製造した
ものを用いた。また、硫化亜鉛系螢光性物質は銀付活硫
化亜鉛(純度 99.99%、密度 4.20 g /
 c m’ 、平均粒径 7p−m)を同様に焼結し、
厚さか6.0+ssである円板(径 1001)を製造
したものを使用した。
さらに、無機基板として、厚さか0.5msのアルミナ
基板(径 50■)をあらかじめ脱脂洗浄、エツチング
処理したものを使った。
実施例 l 高周波マグネトロンスパッタ製造(日本真空社製、形式
 SMH2304RH)に前記のようにして得られた窒
化硼素のスパッタリングターゲツト材および銀付活硫化
亜鉛のスバ・ンタリングターゲット材を置き、アルゴン
の圧力が8.0×10−″トールの雰囲気下で窒化硼素
のターゲツト材の出力を30OW (:1.7W / 
c rn’ ) 、銀付活硫化亜鉛のターゲツト材の出
力を200W (2,6W/c rn’ )に調整し、
前記のアルミナ基板を250℃に保持させ、 100分
間スパッタリングを行なった。
得られた放射線検出体の端面図を第1図に示す。
第1図において、lはアルミナ基板であり、2は窒化硼
素と銀付活硫化亜鉛との混合膜である。
得られた放射線検出体の薄膜の厚さは2.OILtmで
あり、この膜中の銀付活硫化亜鉛の割合は窒化硼素10
0重量部に対して 101重量部であった。
実施例 2 実施例1において得られた放射線検出体の薄膜中の銀付
活硫化亜鉛の割合を窒化硼素100重量部に対して20
重量部にかえたほかは、実施例1と同様に放射線検出体
を製造した(薄膜の厚さは実施例1と回し)。
実施例 3 実施例1において得られた放射線検出体の薄膜の厚さを
0.5μlにかえたほかは、実施例1と同様に放射線検
出体を製造した(薄膜の窒化硼素に対する銀付活硫化亜
鉛の割合は実施例1と回し)。
実施例 4 実施例1と同様にまず窒化硼素のみをスパッタリングを
行なった。ついて、その薄膜上に銀付活硫化亜鉛のみの
スパッタリングを行なった(得られた薄膜の厚さおよび
窒化硼素に対する銀付活硫化亜鉛の割合は実施例1と回
し)、第2図は得られた薄膜放射線検出体の端面図であ
る。この図面において、1はアルミナ基板であり、3は
窒化硼素膜である。また、4は銀付活硫化亜鉛膜である
実施例1ないし4て得られた各放射線検出体を窒素雰囲
気中て、 800°Cにおいて2時間スバッタリンタ膜
(薄膜)の熱処理を行なった。この熱処理を施すことに
よって実施例4によって得られた検出体の薄膜について
も、実施例1ないし3と同様に前記銀付活硫化亜鉛粒子
か結晶化し、窒化硼素粒子との界面において中性子−光
変換か形成されていた。
以上のようにして得られた各放射線検出体をトリガII
型原子炉から放射される熱中性子にさらしたところ、該
検出体の前に置かれた感光紙が感光しており、感度も従
来品に比べてすぐれていることか確認された。
(発明の効果) 本発明の薄膜放射線検出体は、中性子に対して感度か強
く、薄型の検出体が製造てき、それたけ広範囲な用途に
供することかてきる。その使用例として、テレビ用コン
バーターがあげられる。
【図面の簡単な説明】
第1図は実施例工ないし3によって得られた放射線検出
体の端面図であり、第2図は実施例4によ って得られた放射線検出体の端面図である。 l・・・・・・アルミナ基板 2・・・・・・窒化硼素と銀付活硫化亜鉛との混合膜3
・・・・・・窒化硼素膜 4・・・・・・銀付活硫化亜鉛膜

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  窒化硼素および硫化亜鉛系螢光性物質を主成分とする
    無機物質を無機基板上にスパッタリングさせることを特
    徴とする薄膜放射線検出体の製造方法。
JP26783788A 1988-10-24 1988-10-24 薄膜放射線検出体の製造方法 Pending JPH02114193A (ja)

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08302342A (ja) * 1995-05-09 1996-11-19 Futaba Corp 蛍光体
JP2009294089A (ja) * 2008-06-05 2009-12-17 Aloka Co Ltd 放射線測定装置及びその製造方法
JP5704258B2 (ja) * 2012-11-26 2015-04-22 東レ株式会社 シンチレータパネルおよびシンチレータパネルの製造方法
JP2015175806A (ja) * 2014-03-18 2015-10-05 国立研究開発法人日本原子力研究開発機構 半透明ZnS/10Bコンバータ中性子シンチレータ及びその製造方法
JP2017510804A (ja) * 2014-03-27 2017-04-13 クロメック リミテッドKromek Limited 中性子検出
KR20170120558A (ko) * 2014-11-14 2017-10-31 키네틱 에너지 오스트레일리아 피티와이 엘티디 전기 발전기 시스템

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