JPH02116608A - 炭素素材中に含有するイオウの徐去方法 - Google Patents
炭素素材中に含有するイオウの徐去方法Info
- Publication number
- JPH02116608A JPH02116608A JP63270569A JP27056988A JPH02116608A JP H02116608 A JPH02116608 A JP H02116608A JP 63270569 A JP63270569 A JP 63270569A JP 27056988 A JP27056988 A JP 27056988A JP H02116608 A JPH02116608 A JP H02116608A
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- JP
- Japan
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- carbon
- carbon material
- powder
- gaseous
- sulfur
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- Pending
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- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、炭素素材中のイオウの処理方法に関するもの
で、より詳しくは、炭素の粉末、膜等として用いられる
炭素中のイオウの除去、あるいは触媒を担持した炭素の
後処理に関するものである。
で、より詳しくは、炭素の粉末、膜等として用いられる
炭素中のイオウの除去、あるいは触媒を担持した炭素の
後処理に関するものである。
(従来技術とその問題点)
従来炭素素材中のイオウ除去方法としては、水素ガスも
しくは酸素ガスを用いて処理されていた。
しくは酸素ガスを用いて処理されていた。
しかしながら、これらの方法では、高含有率のイ才つを
数百PPM程度まで除去するのカリ良度で、さらに処理
を進めるには高温で処理する必要があり化学変化が生じ
て炭素素材を変質させたり、触媒を担持した炭素等では
触媒活性を劣化させてしまうという欠点があった。
数百PPM程度まで除去するのカリ良度で、さらに処理
を進めるには高温で処理する必要があり化学変化が生じ
て炭素素材を変質させたり、触媒を担持した炭素等では
触媒活性を劣化させてしまうという欠点があった。
(発明の目的)
本発明は、従来法の欠点を解決するために成されたもの
で、炭素素材または触媒を担持した後の炭素を素材や触
媒活性物質を変質させずに、イオウを除去する方法を提
供するものである。
で、炭素素材または触媒を担持した後の炭素を素材や触
媒活性物質を変質させずに、イオウを除去する方法を提
供するものである。
(問題点を解決するための手段)
本発明は、炭素素材を低温でヘリウムガス処理を行うこ
とを特徴とする炭素素材中のイオウ分除去方法である。
とを特徴とする炭素素材中のイオウ分除去方法である。
本発明をより詳しく説明する。
本発明の方法は炭素素材中に含有するイオウ分をヘリウ
ムガスで処理することでIOPPM以下に除去すること
ができる。
ムガスで処理することでIOPPM以下に除去すること
ができる。
ヘリウムガスで処理する前に、イオウ分の多い場合は水
素ガスまたは酸素ガス処理をして、1%程度まで減少さ
せておけば処理時間を短縮することができるが、該処理
する炭素素材等の変質を考慮して行うことが必要である
。
素ガスまたは酸素ガス処理をして、1%程度まで減少さ
せておけば処理時間を短縮することができるが、該処理
する炭素素材等の変質を考慮して行うことが必要である
。
ヘリウムガスで処理する時の温度は100℃程度であれ
ば良く、圧力は1. 0kg/Crd前後で良く、速度
は0. OO2〜2m/ s e c程度で良い。
ば良く、圧力は1. 0kg/Crd前後で良く、速度
は0. OO2〜2m/ s e c程度で良い。
ヘリウムガスは原子の半径1.4人と小さいため炭素の
最も小さな層間が3.35人であることから除去効果が
あるものと考えられる。
最も小さな層間が3.35人であることから除去効果が
あるものと考えられる。
ヘリウムガスは市販されている純度のものででも特に問
題はなく、処理方法は、粉末の場合は円筒状の処理装置
に粉末を入れ、粉末が飛散しないようにフィルタで押さ
え、ヘリウドガスを円筒内へ吹き込めばよく、また膜状
の場合は、円錐または角錐状の治具を、広がり側を合わ
せ、その中間に洗浄する膜を挟み固定して、一方よりヘ
リウムガスを吹き込み処理すればよい。
題はなく、処理方法は、粉末の場合は円筒状の処理装置
に粉末を入れ、粉末が飛散しないようにフィルタで押さ
え、ヘリウドガスを円筒内へ吹き込めばよく、また膜状
の場合は、円錐または角錐状の治具を、広がり側を合わ
せ、その中間に洗浄する膜を挟み固定して、一方よりヘ
リウムガスを吹き込み処理すればよい。
また、触媒を担持したあとの担体を処理する場合は、円
筒状、粉末状、板状、または膜状であれば上記の方法と
同様に行えばよく、その他の形状でもヘリウムガスによ
り洗浄できる状態にすればよい。
筒状、粉末状、板状、または膜状であれば上記の方法と
同様に行えばよく、その他の形状でもヘリウムガスによ
り洗浄できる状態にすればよい。
尚、ヘリウムガスを循環させ、不純物を混入しているヘ
リウムガスを、アルカリ洗浄または酸洗浄して脱水処理
し再使用することもできる。
リウムガスを、アルカリ洗浄または酸洗浄して脱水処理
し再使用することもできる。
以下、本発明に関する実施例を記載するが、該実施例は
本発明を限定するものではない。
本発明を限定するものではない。
(実施例1)
10%イオウを含有するカーボンブラックをまず、30
0℃で3時間水素ガス処理を行い、イオウ含有率を1.
0%にし、ついでヘリウムガスで圧力1kg/cd、流
速2CIIl/SeCに保ちながら、100℃で3時間
処理し、さらに、室温で1時間処理したところ、イオウ
の含有率は8PPMであった。
0℃で3時間水素ガス処理を行い、イオウ含有率を1.
0%にし、ついでヘリウムガスで圧力1kg/cd、流
速2CIIl/SeCに保ちながら、100℃で3時間
処理し、さらに、室温で1時間処理したところ、イオウ
の含有率は8PPMであった。
(実施例2)
1%イオウを含有するカーボンブラックをヘリウムガス
で圧力5kg/cut、流速2m/SeCで200℃で
10時間処理し、さらに、圧力を1 kg/cT11流
速20m/流速2互 したところ、イオウの含有率は6PPMであった。
で圧力5kg/cut、流速2m/SeCで200℃で
10時間処理し、さらに、圧力を1 kg/cT11流
速20m/流速2互 したところ、イオウの含有率は6PPMであった。
(実施例3)
0、3%イオウを含有する白金を10%担持したカーボ
ンブラック触媒(1 5 0m’/P t−g)をヘリ
ウムガスで圧力2kg/c++f,流速0.5m/se
cで200℃で3時間処理し、さらに、圧力を1kg/
crl,流速Q.Q1m/secにして室温で1時間処
理したところ、イオウの含有率は8PPMで、150m
1/Pt−gであった。
ンブラック触媒(1 5 0m’/P t−g)をヘリ
ウムガスで圧力2kg/c++f,流速0.5m/se
cで200℃で3時間処理し、さらに、圧力を1kg/
crl,流速Q.Q1m/secにして室温で1時間処
理したところ、イオウの含有率は8PPMで、150m
1/Pt−gであった。
(従来例1)
10%イオウを含有するカーボンブラックをまず、圧力
1kg/cd,流速0.05m/sec、温度300℃
で10時間水素ガス処理を行い、イオウ含有率を測定し
たところ0.85%であった。
1kg/cd,流速0.05m/sec、温度300℃
で10時間水素ガス処理を行い、イオウ含有率を測定し
たところ0.85%であった。
ついで同一条件で3時間水素ガス処理を行ったのちのイ
オウ含有率を測定したところ、0,85%で変化なく、
イオウ含有率を減少させることができなかった。
オウ含有率を測定したところ、0,85%で変化なく、
イオウ含有率を減少させることができなかった。
(従来例2)
0、3%イオウを含有する白金を10%担持したカーボ
ンブラック触媒(1 5 0m’/P t−g)を水素
ガスで圧力2kg/cd,流速0.05m/secで3
00℃で3時間処理したところ、イオウの含有率は0.
3%で変化なく、白金粒子のシンタリングで100m’
/Pt−gに変化した。
ンブラック触媒(1 5 0m’/P t−g)を水素
ガスで圧力2kg/cd,流速0.05m/secで3
00℃で3時間処理したところ、イオウの含有率は0.
3%で変化なく、白金粒子のシンタリングで100m’
/Pt−gに変化した。
(発明の効果)
本発明はヘリウムガスを用いて低温で処理することで、
カーボンブラックあるいは触媒中のイオウ含有率をPP
Mオーダーまで除去可能で、しかもカーボンあるいは触
媒粒子に影響を与えないで除去することができたことは
、技術の発展に寄与するものである。
カーボンブラックあるいは触媒中のイオウ含有率をPP
Mオーダーまで除去可能で、しかもカーボンあるいは触
媒粒子に影響を与えないで除去することができたことは
、技術の発展に寄与するものである。
また、本発明の方法は使用中の触媒を処理することに利
用することも可能であろう。
用することも可能であろう。
出願人 田中貴金属工業株式会社
Claims (1)
- 1、炭素素材を低温でヘリウムガス処理を行うことを特
徴とする炭素素材中に含有するイオウの除去方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63270569A JPH02116608A (ja) | 1988-10-26 | 1988-10-26 | 炭素素材中に含有するイオウの徐去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63270569A JPH02116608A (ja) | 1988-10-26 | 1988-10-26 | 炭素素材中に含有するイオウの徐去方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02116608A true JPH02116608A (ja) | 1990-05-01 |
Family
ID=17487980
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63270569A Pending JPH02116608A (ja) | 1988-10-26 | 1988-10-26 | 炭素素材中に含有するイオウの徐去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02116608A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5352289A (en) * | 1992-12-18 | 1994-10-04 | Cabot Corporation | Low ash carbon blacks |
-
1988
- 1988-10-26 JP JP63270569A patent/JPH02116608A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5352289A (en) * | 1992-12-18 | 1994-10-04 | Cabot Corporation | Low ash carbon blacks |
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