JPH0211977Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本考案は配線部品等のはんだ付装置において、
不活性ガスによる完全密閉雰囲気をつくる密閉構
造に関する。

〈従来の技術〉 一般にはんだ付けは不活性雰囲気中で行なわれ
る方が良い結果を生み、その際の酸素濃度は10％
以下、特にフラツクスを用いないはんだ付けにお
いては５％以下の酸素濃度が望ましいとされてい
る。これに対し、不活性ガス室のように作業室全
体を不活性雰囲気にするもののほか、はんだ付け
部品のはんだ付けを局部的な低酸素濃度の雰囲気
下で行なう方法又は装置として特開昭58−48991
号公報等において既に提案されている。

〈考案が解決しようとする問題点〉 しかし、上記従来技術のうち作業室自体を不活
性ガス室にする方法では、作業者の安全装備又は
作業ロボツト等を必要とし、また局部的に完全密
閉空間を作つた場合には、外部からの部品の挿入
等のはんだ付け操作が困難となる等、作業性、経
済性が悪くなつていた。

後者の公報に示されるものでは、常に新鮮な
（酸化物のない）はんだ流を作りながら、空気と
完全に遮断された不活性雰囲気を作ることは空気
の流入を招く等により困難であり、酸素濃度を一
定以下まで下げる為には、窒素ガス、水素ガス等
の不活性ガスや還元性ガスを多量に必要とする欠
点がある。またプリント基板自体が密閉壁の一部
をなしていることから、プリント基板が通過した
後は密閉状態が失われ酸素濃度が上がつてしまう
という欠点があり、これらの欠点によつて生産コ
ストが高くなり、又多量のガスにより作業者の安
全や健康を害するといつた問題点があつた。

〈問題点を解決するための手段〉 上記のような問題点を解消するための本考案
は、ダクト３の上端を上向きに開口する噴流口２
とし、該噴流口２より溶解したはんだを噴流せし
めてはんだ流４を形成せしめ、はんだ流４上に不
活性ガスを放出せしめる機構において、上記噴流
口２の上方には噴流口２に対応した開口部７を有
するベースカバー８を設け、該ベースカバー８の
開口部７の内端にはスライド移動自在な可動蓋１
３を付設し、噴流口２上において不活性ガス雰囲
気２０を形成しながら不活性ガスの放出を案内す
るガス排出口及び外部からのはんだ付部品挿入口
を形成するガイド１７を上記可動蓋１３に付設
し、前記噴流口２の外周とベースカバー８の下部
には流出落下するはんだ流４に接してこれを案内
する内側ガイド６及び外側ガイド１９を設けてな
ることを特徴としている。

〈作用〉 熔解したはんだは、ダクト３を通じてはんだ噴
流口２からはんだ流４を形成して流出する。流出
したはんだは内側ガイド６に沿つて外側に流出
し、外側ガイド１９に接触しつつ下方向に流れ出
る。これにより両ガイド６，１９間のはんだ流出
口からの酸素の流入が防止される。

一方不活性ガスは不活性ガス導入用ノズル１５
及び整流部材１４を介して密閉雰囲気内に流入
し、ガイド１７を介して外部に排出されるが、下
部ガイド１７ａを設けたものにおいては、ガスが
その内面に案内されて乱流を起こしここに停滞す
る。これにより密閉雰囲気内の不活性ガス濃度は
向上し、上記下部ガイド１７ａによつて生じた乱
流は外部からの酸素の流入を防止し、また不活性
ガスが必要以上に外部へ流出することも防止す
る。次に配線部品を可動蓋１３，１３の隙間より
挿入し、配線部品のリード線の部分等を噴流して
いるはんだに浸漬することにより、はんだ付けを
行う。

ベースカバー８、可動蓋１３及び外側ガイド１
９ははんだ流４とともに噴流口２の上部に不活性
ガス雰囲気２０を形成する。可動蓋１３は左右に
スライドすることによりガス排出口（はんだ付部
品挿入口）の開口状態を開閉調節する。

〈実施例〉 以下図示する実施例につき詳述すると、第１
図，第２図はこの考案の１実施例を示し、溶解は
んだを収容している箱状はんだ槽１内には上端の
はんだの噴流口２がはんだ槽１上に長方形をなし
て開口突出するダクト３が固定的に収容され、該
噴流口２からは常時酸化物を含まない新鮮なはん
だが噴流し、その周面からはんだ槽１内に返送さ
れるべくはんだ流４を形成する構造となつてい
る。

上記噴流口２の上端外周の片側（左側）にはは
んだ流４を規制する規制板５が突設され、左側に
ははんだが流れない機構をなし、噴流口２の上端
右側外周には逆Ｖ字形又は逆Ｕ字形等の断面をな
し上辺が外向きに下降傾斜している内側ガイド６
が付設され、はんだ流４を右外方に案内する構造
である。はんだ槽１の前後の上縁には前記噴流口
２の上方において、該噴流口２の形状と対応した
長方形の開口部７を有し、噴流口２の上方周辺を
覆うベースカバー８がスペーサー９を介してはん
だ槽１及び噴流口２上に浮上せしめた状態で架設
されている。

上記ベースカバー８上の開口部７の左右各側に
は左右方向に移動調節自在な可動ベース１０，１
０が、長孔を介して挿入されるボルト１１によつ
て締着される。この可動ベース１０の前後の各辺
には、噴流口２上のはんだ流４に下端が挿入され
又は接触する遮閉板１２が左右向きに直立するよ
うにベースカバー８に取り付けられている。

また左右の可動ベース１０，１０の前後端もほ
ぼ上記遮閉板１２，１２の内面に接する状態にあ
るとともに、該可動ベース１０，１０の向き合つ
た各内端には、各可動ベース１０とともに左右動
調節自在な可動蓋１３が各付設され、各可動蓋１
３の下面には通風自在な整流部材１４が嵌合され
不活性ガス導入用のノズル１５が前後の全長にわ
たつて形成されている。１６は上記ノズル１５に
連通されたガス配管で各可動蓋１３上に配管され
ている。

上記各可動蓋１３の内端には外向きに円弧状に
湾曲した凹部断面を形成する下部ガイド部１７ａ
が付設又は形成され、その上部には垂直な面を有
する上部ガイド部１７ｂが連設されている。上記
両ガイド部１７ａ，１７ｂはともにノズル１５か
ら導入された不活性ガスを外部に排出する排出口
を構成するとともに、外部からはんだ付部品をは
んだ流４に挿入するための挿入口を形成するが、
特に下部ガイド部１７ａにおいては、排出するガ
ス流に乱流を生ぜじめ、この円弧面で囲まれた部
分にスムースなガス排出を妨げ、外気（空気）の
流入を防止するガス溜りを形成する作用を有す
る。

また一方（左側）の可動蓋１３のノズル１５の
下部外側には下端が前記はんだ流４の上部に挿入
される遮閉板１８が下向きに且つ前後方向の全長
にわたつて設けられ、噴流口２の右側においては
前述した内側ガイド６に対向すべく、上部をベー
スカバー８の下面に取り付けた外側ガイド１９が
垂下され、該外側ガイド１９は下端が内側ガイド
６の下方位置において内側に下降傾斜するように
屈曲又は湾曲しており、内側ガイド６に沿つて流
れるはんだ流４の外側に接してはんだ流４を案内
するとともに、この部分での外気と不活性ガスの
遮断を行つている。

上記構造により、はんだ流４の上面位置には前
後の遮閉板１２と上部の可動蓋１３、左右の遮閉
板１８及び外側ガイド１９とによつて不活性ガス
雰囲気２０が形成され、ここにはんだ付部品を挿
入してはんだ流４内にはんだ付部を浸漬又は挿入
すれば、はんだの酸化防止を行いながら高能率、
高性能にはんだ付けができる。

次に上述した実施例のほか第３図のような実施
例でもよい。即ち噴流口２の上端外周の片側のみ
ならず両側に内側ガイド６を付設し、はんだ流４
を左右両方に案内する構造にすることもでき、ま
たガス流出を案内する下部ガイド部１７ａが有す
る円弧面を複数にすることもできる。これにより
排出するガス流に生じる乱流は一層激しくなり、
不活性ガスの保持及び外気（空気）の流入防止効
果がより向上する。

〈考案の効果〉 本考案は以上の如く構成される結果以下の効果
を奏する。

(1) 噴流口の外周においてはんだ流が２個のガイ
ドに接して案内されながら流出し、はんだ流自
体が不活性雰囲気と外気との遮断を行うので、
その他の外気遮閉部分と共働してより完全な不
活性雰囲気を形成することができる。

(2) はんだ付け作業を行う部分のみを完全密閉雰
囲気としているので、はんだ付装置の大きさ
は、小型で済む。しかも上記不活性ガスの乱流
が生じている可動蓋１３，１３の隙間を介して
はんだ付作業を行うので、密閉雰囲気を維持し
たままで連続作業ができ、作業能率がよい。

(3) 可動蓋によつて形成される外気と不活性雰囲
気の連通部がはんだ付部品の挿入口とガス排出
口を兼ねているために、部品挿入による空気の
流入等が防止できる。又部品形状やサイズ等に
合わせこの部品挿入口の開口状態を調節でき、
最小限の不活性ガスでより高密度の不活性雰囲
気の保持ができ、さらに小型装置で多種類の部
品について使用することができる。

(4) 下部ガイド１７ａを設けた場合、これによつ
て不活性ガスが流出する可動蓋１３，１３の間
に乱流が生じるので、従来よりも少量の不活性
ガスでより高濃度の不活性雰囲気を維持するこ
とができる。

従つて従来よりも低コストで済み、又作業者
の身体に対する不活性ガスによる影響も少なく
なつている。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案に係る配線部品等のはんだ付装
置における密閉構造の正面断面図、第２図は本考
案の平面図、第３図は本考案の他の実施例の正面
断面図を示す。 １：はんだ槽、２：はんだ噴流口、３：ダク
ト、４：はんだ流、５：規制板、６：内側ガイ
ド、７：開口部、８：ベースカバー、９：スペー
サー、１０：可動ベース、１１：ボルト、１２：
遮閉板、１３：可動蓋、１４：整流部材、１５：
不活性ガス導入用ノズル、１６：ガス配管、１７
ａ：下部ガイド、１７ｂ：上部ガイド、１８：遮
閉板、１９：外側ガイド、２０：不活性ガス雰囲
気。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 １ ダクト３の上端を上向きに開口する噴流口２
   とし、該噴流口２より溶解したはんだを噴流せ
   しめてはんだ流４を形成せしめ、はんだ流４上
   に不活性ガスを放出せしめる機構において、上
   記噴流口２の上方には噴流口２に対応した開口
   部７を有するベースカバー８を設け、該ベース
   カバー８の開口部７の内端にはスライド移動自
   在な可動蓋１３を付設し、噴流口２上において
   不活性ガス雰囲気２０を形成しながら不活性ガ
   スの放出を案内するガス排出口及び外部からの
   はんだ付部品挿入口を形成するガイド１７を上
   記可動蓋１３に付設し、前記噴流口２の外周と
   ベースカバー８の下部には流出落下するはんだ
   流４に接してこれを案内する内側ガイド６及び
   外側ガイド１９を設けてなる配線部品等のはん
   だ付装置における密閉構造。 ２ ガイド１７の内側面を外向きに湾曲した凹面
   とし、該凹面において排出不活性ガスの乱流を
   生ぜしめる構造とした実用新案登録請求の範囲
   第１項に記載の配線部品等のはんだ付装置にお
   ける密閉構造。