JPH0212105A - 複屈折回折格子型偏光子 - Google Patents
複屈折回折格子型偏光子Info
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- JPH0212105A JPH0212105A JP63164048A JP16404888A JPH0212105A JP H0212105 A JPH0212105 A JP H0212105A JP 63164048 A JP63164048 A JP 63164048A JP 16404888 A JP16404888 A JP 16404888A JP H0212105 A JPH0212105 A JP H0212105A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1833—Diffraction gratings comprising birefringent materials
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- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
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- G02B6/124—Geodesic lenses or integrated gratings
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、複屈折偏光板、特に偏光方向によって回折効
率の異なる格子型偏光板に関する。
率の異なる格子型偏光板に関する。
(従来の技術)
偏光素子、特に偏光ビームスプリッタは、直交する偏光
間で光の伝搬方向を異ならしめることによって特定の偏
光を得る素子である。このような素子は、光フアイバ通
信用光源モジュールや光デイスク用光ヘッドなどに、光
アイソレータや光サーキュレータを構成する部品として
使われている。
間で光の伝搬方向を異ならしめることによって特定の偏
光を得る素子である。このような素子は、光フアイバ通
信用光源モジュールや光デイスク用光ヘッドなどに、光
アイソレータや光サーキュレータを構成する部品として
使われている。
従来、偏光ビームスプリッタとしては、グラントムソン
プリズムやロツションプリズムなど、複屈折の大きな結
晶の光反射面における偏光による透過ないしは全反射の
違いを利用し光路を分離するもの、またはガラスなどの
等方性光学媒質でできた全反射プリズム反射面に誘電体
多層膜を設け、この誘電体多層膜の偏光による屈折率の
違いを利用して、光を全反射ないしは透過させるものが
多く使用されている。しかしながら、これらの素子は大
型であること、生産性が低いこと、値段が高いことなど
の欠点がある。
プリズムやロツションプリズムなど、複屈折の大きな結
晶の光反射面における偏光による透過ないしは全反射の
違いを利用し光路を分離するもの、またはガラスなどの
等方性光学媒質でできた全反射プリズム反射面に誘電体
多層膜を設け、この誘電体多層膜の偏光による屈折率の
違いを利用して、光を全反射ないしは透過させるものが
多く使用されている。しかしながら、これらの素子は大
型であること、生産性が低いこと、値段が高いことなど
の欠点がある。
複屈折回折格子型偏光子は光学的異方性をもつ結晶の光
学軸と平行な主面に、周期的なイオン交換領域を設け、
かつイオン交換を施した領域上に誘電体膜を形成したも
のであり、偏光による回折効率の違いを利用して光路を
分離するものである。この複屈折回折格子型偏光子は従
来の偏光素子に比べて、小型であること、生産性が高い
こと、安価であることなどの利点がある。例えば、ニオ
ブ酸リチウムの主面に周期的にプロトンイオン交換を施
すと、プロトンイオン交換を施した領域では波長1.3
pmの異常光線に対する屈折率が約0.09増加し、常
光線に対する屈折率が約0.04減少する。従って、プ
ロトンイオン交換を施した領域の誘電体膜厚を、プロト
ンイオン交換を施していない領域の誘電体膜厚に比べて
厚くし、プロトンイオン交換を施した領域の常光線に対
する屈折率の減少を相殺することによって、常光線の1
次以上の回折効率及び異常光線の0次の回折効率を共に
零にすることができ、偏光子になる。
学軸と平行な主面に、周期的なイオン交換領域を設け、
かつイオン交換を施した領域上に誘電体膜を形成したも
のであり、偏光による回折効率の違いを利用して光路を
分離するものである。この複屈折回折格子型偏光子は従
来の偏光素子に比べて、小型であること、生産性が高い
こと、安価であることなどの利点がある。例えば、ニオ
ブ酸リチウムの主面に周期的にプロトンイオン交換を施
すと、プロトンイオン交換を施した領域では波長1.3
pmの異常光線に対する屈折率が約0.09増加し、常
光線に対する屈折率が約0.04減少する。従って、プ
ロトンイオン交換を施した領域の誘電体膜厚を、プロト
ンイオン交換を施していない領域の誘電体膜厚に比べて
厚くし、プロトンイオン交換を施した領域の常光線に対
する屈折率の減少を相殺することによって、常光線の1
次以上の回折効率及び異常光線の0次の回折効率を共に
零にすることができ、偏光子になる。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、我々は、基板にプロトンイオン交換を施
すと結晶格子の劣化によって入射された直線偏光の光が
楕円偏光化するため、この偏光子を使って光アイソレー
タなどを構成した場合に消光比が劣化するという問題点
があることを発見した。
すと結晶格子の劣化によって入射された直線偏光の光が
楕円偏光化するため、この偏光子を使って光アイソレー
タなどを構成した場合に消光比が劣化するという問題点
があることを発見した。
本発明の目的は、複屈折回折格子型偏光子において、プ
ロトンイオン交換による光の楕円偏光化を防止し、高消
光比で低挿入損失の複屈折回折格子型偏光子を提供する
ことにある。
ロトンイオン交換による光の楕円偏光化を防止し、高消
光比で低挿入損失の複屈折回折格子型偏光子を提供する
ことにある。
(課題を解決するための手段)
本発明は、光学的異方性を持つ結晶板の主面に、周期を
有するイオン交換領域の光学的回折格子を形成し、かつ
イオン交換を施した領域上に誘電体膜を設けた複屈折回
折格子型偏光子において、上記結晶板の少なくともプロ
トンイオン交換される領域の表面に金属が拡散された金
属拡散層を備えたことを特徴とする複屈折回折格子型偏
光子である。
有するイオン交換領域の光学的回折格子を形成し、かつ
イオン交換を施した領域上に誘電体膜を設けた複屈折回
折格子型偏光子において、上記結晶板の少なくともプロ
トンイオン交換される領域の表面に金属が拡散された金
属拡散層を備えたことを特徴とする複屈折回折格子型偏
光子である。
(作用)
本発明においては、結晶基板表面に金属が拡散した金属
拡散層を備えたことによってプロトンイオン交換による
結晶格子の劣化を防止している。
拡散層を備えたことによってプロトンイオン交換による
結晶格子の劣化を防止している。
これにより、入射された直線偏光の光が楕円偏光化する
ことがなくなり、高消光比で低損失な複屈折回折格子型
偏光子が得られる。
ことがなくなり、高消光比で低損失な複屈折回折格子型
偏光子が得られる。
(実施例)
以下、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。第1図は本発明の複屈折回折格子型偏光子の実施例の
斜視図である。1は光学的異方性を持つ結晶基板であり
、本実施例ではニオブ酸リチウムのY板を用いている。
。第1図は本発明の複屈折回折格子型偏光子の実施例の
斜視図である。1は光学的異方性を持つ結晶基板であり
、本実施例ではニオブ酸リチウムのY板を用いている。
2はチタニウム拡散層である。3はプロトンイオン交換
領域であり、この交換領域を周期的に形成しである。さ
らに、このプロトンイオン交換領域上には所望の厚さの
誘電体膜4が設けである。
領域であり、この交換領域を周期的に形成しである。さ
らに、このプロトンイオン交換領域上には所望の厚さの
誘電体膜4が設けである。
第1図に示された回折格子の0次の回折光強度は、CO
32(可ΔnTp+(ndl)T、1]/λ)で与えら
れる。但し、λは光の波長、Δnはプロトンイオン交換
領域3の屈折率変化、TPはプロトンイオン交換領域3
の深さ、n、は誘電体膜4の屈折率、T、は誘電体膜4
の厚さである。光の波長を1.311mとすると、プロ
トンイオン交換による屈折率の変化は、異常光線に対し
ては約+0.09であり、常光線に対しては約−0,0
4であるから、誘電体膜4としての屈折率が1.45の
石英膜を用いるとすれば、プロトンイオン交換領域3の
深さを約5pm、石英膜の厚さを約440nmにすれば
異常光線の0次の回折光強度を0、常光線の0次回折光
強度を1にして、偏光子として動作させることができる
。
32(可ΔnTp+(ndl)T、1]/λ)で与えら
れる。但し、λは光の波長、Δnはプロトンイオン交換
領域3の屈折率変化、TPはプロトンイオン交換領域3
の深さ、n、は誘電体膜4の屈折率、T、は誘電体膜4
の厚さである。光の波長を1.311mとすると、プロ
トンイオン交換による屈折率の変化は、異常光線に対し
ては約+0.09であり、常光線に対しては約−0,0
4であるから、誘電体膜4としての屈折率が1.45の
石英膜を用いるとすれば、プロトンイオン交換領域3の
深さを約5pm、石英膜の厚さを約440nmにすれば
異常光線の0次の回折光強度を0、常光線の0次回折光
強度を1にして、偏光子として動作させることができる
。
本偏光子は、まずニオブ酸リチウム結晶基板1上にスパ
ッタリングまたは電子ビーム蒸着法などによって厚さ3
00人程度のチタニウム膜を堆積させ、これを1050
°Cで8時間程度熱拡散させることによってチタニウム
拡散層2を形成し、次に通常のりソグラフィ技術などに
よって基板1上に格子状のマスクを形成した後に、これ
を249°Cの安息香酸中に5時間程度浸漬することに
よってプロトンイオン交換領域3を形成し、最後にプロ
トン交換領域3上に誘電体膜4を形成することによって
実現することができる。
ッタリングまたは電子ビーム蒸着法などによって厚さ3
00人程度のチタニウム膜を堆積させ、これを1050
°Cで8時間程度熱拡散させることによってチタニウム
拡散層2を形成し、次に通常のりソグラフィ技術などに
よって基板1上に格子状のマスクを形成した後に、これ
を249°Cの安息香酸中に5時間程度浸漬することに
よってプロトンイオン交換領域3を形成し、最後にプロ
トン交換領域3上に誘電体膜4を形成することによって
実現することができる。
ニオブ酸リチウム結晶板1にY板を用い、チタニウムを
拡散することによって、プロトンイオン交換を施した際
の結晶格子の劣化を特に少なくすることができ、本偏光
子を通過した常光線または異常光線が楕円偏光になるこ
とを防止することができる。この結果、必要な場合には
本偏光子を縦続に用いることによりきわめて高い消光比
を実現できる。本実施例ではチタニウムの拡散を基板全
面に行っているがプロトンイオン交換される領域だけに
チタニウムの拡散を行ってもよい。また、チタニウムの
拡散層2の代わりに銅、ニッケル、バナジウムなどの金
属拡散層を用いてもよい。
拡散することによって、プロトンイオン交換を施した際
の結晶格子の劣化を特に少なくすることができ、本偏光
子を通過した常光線または異常光線が楕円偏光になるこ
とを防止することができる。この結果、必要な場合には
本偏光子を縦続に用いることによりきわめて高い消光比
を実現できる。本実施例ではチタニウムの拡散を基板全
面に行っているがプロトンイオン交換される領域だけに
チタニウムの拡散を行ってもよい。また、チタニウムの
拡散層2の代わりに銅、ニッケル、バナジウムなどの金
属拡散層を用いてもよい。
本偏光子は薄いニオブ酸リチウム結晶板にバッチプロセ
スによって大量に形成できるため、薄型で安価な偏光子
を得ることができる。
スによって大量に形成できるため、薄型で安価な偏光子
を得ることができる。
(発明の効果)
以上に述べたように、本発明によれば高消光比低挿入損
失の薄型偏光素子を得ることができ、さらにはバッチ処
理により大量安価な偏光素子とすることができる。
失の薄型偏光素子を得ることができ、さらにはバッチ処
理により大量安価な偏光素子とすることができる。
第1図は本発明の複屈折回折格子型偏光子の実施例の斜
視図である。
視図である。
Claims (1)
- 光学的異方性を持つ結晶板の主面に、周期を有するイオ
ン交換領域の光学的回折格子を形成し、かつイオン交換
を施した領域上に誘電体膜を設けた複屈折回折格子型偏
光子において、上記結晶板の少なくともイオン交換され
る領域の表面に金属が拡散された金属拡散層を備えたこ
とを特徴とする複屈折回折格子型偏光子。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63164048A JPH0212105A (ja) | 1988-06-29 | 1988-06-29 | 複屈折回折格子型偏光子 |
| US07/372,739 US5029988A (en) | 1988-06-29 | 1989-06-28 | Birefringence diffraction grating type polarizer |
| EP89306592A EP0349309B1 (en) | 1988-06-29 | 1989-06-29 | Birefringence diffraction grating type polarizer |
| DE68910199T DE68910199T2 (de) | 1988-06-29 | 1989-06-29 | Polarisator vom Typ eines doppelbrechenden Beugungsgitters. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63164048A JPH0212105A (ja) | 1988-06-29 | 1988-06-29 | 複屈折回折格子型偏光子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0212105A true JPH0212105A (ja) | 1990-01-17 |
Family
ID=15785805
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63164048A Pending JPH0212105A (ja) | 1988-06-29 | 1988-06-29 | 複屈折回折格子型偏光子 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5029988A (ja) |
| EP (1) | EP0349309B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0212105A (ja) |
| DE (1) | DE68910199T2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0312603A (ja) * | 1989-06-09 | 1991-01-21 | Sharp Corp | 偏光回折素子並びにそれを含む光ピックアップ装置 |
| CN1080313C (zh) * | 1997-10-29 | 2002-03-06 | 普莱克斯技术有限公司 | 将鼓风气流供入高炉的方法 |
Families Citing this family (46)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5085496A (en) * | 1989-03-31 | 1992-02-04 | Sharp Kabushiki Kaisha | Optical element and optical pickup device comprising it |
| CA2043978C (en) * | 1990-06-13 | 1999-08-10 | Yoshio Yoshida | Polarization diffraction element and polarization detector employing the same |
| JPH04174404A (ja) * | 1990-11-07 | 1992-06-22 | Pioneer Electron Corp | 偏光ビームスプリッタ |
| US5245471A (en) * | 1991-06-14 | 1993-09-14 | Tdk Corporation | Polarizers, polarizer-equipped optical elements, and method of manufacturing the same |
| US5208876A (en) * | 1991-11-01 | 1993-05-04 | E-Tek Dynamics, Inc. | Optical isolator |
| JP2775547B2 (ja) * | 1992-02-17 | 1998-07-16 | 秩父小野田株式会社 | 光アイソレータ |
| US5367403A (en) * | 1992-04-08 | 1994-11-22 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical element and method of fabricating the same |
| US5564810A (en) * | 1992-12-31 | 1996-10-15 | Honeywell Inc. | Full color stereoscopic display with color multiplexing |
| EP0612068B1 (en) * | 1993-02-16 | 2000-05-03 | Nec Corporation | Optical head device and birefringent diffraction grating polarizer and polarizing hologram element used therein |
| US5400069A (en) * | 1993-06-16 | 1995-03-21 | Bell Communications Research, Inc. | Eye contact video-conferencing system and screen |
| GB2293021A (en) * | 1994-09-09 | 1996-03-13 | Sharp Kk | Polarisation dependent refractive device |
| US5914811A (en) * | 1996-08-30 | 1999-06-22 | University Of Houston | Birefringent grating polarizing beam splitter |
| US5920663A (en) * | 1997-12-24 | 1999-07-06 | Lucent Technologies Inc. | Optical waveguide router with controlled transmission characteristics |
| US6208463B1 (en) | 1998-05-14 | 2001-03-27 | Moxtek | Polarizer apparatus for producing a generally polarized beam of light |
| US6108131A (en) | 1998-05-14 | 2000-08-22 | Moxtek | Polarizer apparatus for producing a generally polarized beam of light |
| US6266476B1 (en) * | 1998-08-25 | 2001-07-24 | Physical Optics Corporation | Optical element having an integral surface diffuser |
| US6122103A (en) * | 1999-06-22 | 2000-09-19 | Moxtech | Broadband wire grid polarizer for the visible spectrum |
| US6288840B1 (en) | 1999-06-22 | 2001-09-11 | Moxtek | Imbedded wire grid polarizer for the visible spectrum |
| US7306338B2 (en) | 1999-07-28 | 2007-12-11 | Moxtek, Inc | Image projection system with a polarizing beam splitter |
| US6234634B1 (en) | 1999-07-28 | 2001-05-22 | Moxtek | Image projection system with a polarizing beam splitter |
| US6666556B2 (en) | 1999-07-28 | 2003-12-23 | Moxtek, Inc | Image projection system with a polarizing beam splitter |
| US6447120B2 (en) * | 1999-07-28 | 2002-09-10 | Moxtex | Image projection system with a polarizing beam splitter |
| US6243199B1 (en) | 1999-09-07 | 2001-06-05 | Moxtek | Broad band wire grid polarizing beam splitter for use in the visible wavelength region |
| US7375887B2 (en) | 2001-03-27 | 2008-05-20 | Moxtek, Inc. | Method and apparatus for correcting a visible light beam using a wire-grid polarizer |
| US7061561B2 (en) | 2002-01-07 | 2006-06-13 | Moxtek, Inc. | System for creating a patterned polarization compensator |
| US6909473B2 (en) | 2002-01-07 | 2005-06-21 | Eastman Kodak Company | Display apparatus and method |
| US6785050B2 (en) | 2002-05-09 | 2004-08-31 | Moxtek, Inc. | Corrosion resistant wire-grid polarizer and method of fabrication |
| FR2844887B1 (fr) * | 2002-09-20 | 2005-01-07 | Groupe Ecoles Telecomm | PROCEDE DE FABRICATION D'UN RESEAU DE BRAGG PAR ECHANGE PROTONIQUE SUR GUIDE D'ONDE Ti:LiNbO3 |
| US7113335B2 (en) * | 2002-12-30 | 2006-09-26 | Sales Tasso R | Grid polarizer with suppressed reflectivity |
| US7800823B2 (en) | 2004-12-06 | 2010-09-21 | Moxtek, Inc. | Polarization device to polarize and further control light |
| US7630133B2 (en) | 2004-12-06 | 2009-12-08 | Moxtek, Inc. | Inorganic, dielectric, grid polarizer and non-zero order diffraction grating |
| US7570424B2 (en) | 2004-12-06 | 2009-08-04 | Moxtek, Inc. | Multilayer wire-grid polarizer |
| US7961393B2 (en) | 2004-12-06 | 2011-06-14 | Moxtek, Inc. | Selectively absorptive wire-grid polarizer |
| US8755113B2 (en) | 2006-08-31 | 2014-06-17 | Moxtek, Inc. | Durable, inorganic, absorptive, ultra-violet, grid polarizer |
| US7789515B2 (en) | 2007-05-17 | 2010-09-07 | Moxtek, Inc. | Projection device with a folded optical path and wire-grid polarizer |
| US8467128B2 (en) * | 2008-11-19 | 2013-06-18 | Shanghai Lexvu Opto Microelectronics Technology Co., Ltd. | Polarizing cube and method of fabricating the same |
| US8248696B2 (en) | 2009-06-25 | 2012-08-21 | Moxtek, Inc. | Nano fractal diffuser |
| US8913321B2 (en) | 2010-09-21 | 2014-12-16 | Moxtek, Inc. | Fine pitch grid polarizer |
| US8611007B2 (en) | 2010-09-21 | 2013-12-17 | Moxtek, Inc. | Fine pitch wire grid polarizer |
| US8873144B2 (en) | 2011-05-17 | 2014-10-28 | Moxtek, Inc. | Wire grid polarizer with multiple functionality sections |
| US8913320B2 (en) | 2011-05-17 | 2014-12-16 | Moxtek, Inc. | Wire grid polarizer with bordered sections |
| CN102839421B (zh) * | 2011-06-21 | 2015-06-10 | 中国科学院理化技术研究所 | 可用于紫外深紫外的硼酸盐双折射晶体及生长方法和用途 |
| US8922890B2 (en) | 2012-03-21 | 2014-12-30 | Moxtek, Inc. | Polarizer edge rib modification |
| US9354374B2 (en) | 2013-10-24 | 2016-05-31 | Moxtek, Inc. | Polarizer with wire pair over rib |
| CN103675973B (zh) * | 2013-12-20 | 2015-09-16 | 浙江工业大学 | 一种光折变-等离子滤波器及其制作方法 |
| WO2020185954A1 (en) | 2019-03-12 | 2020-09-17 | Magic Leap, Inc. | Waveguides with high index materials and methods of fabrication thereof |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4289381A (en) * | 1979-07-02 | 1981-09-15 | Hughes Aircraft Company | High selectivity thin film polarizer |
| JPS59124306A (ja) * | 1982-12-29 | 1984-07-18 | Canon Inc | 光集積回路素子およびその作製方法 |
| JPS60188911A (ja) * | 1984-03-08 | 1985-09-26 | Canon Inc | 光結合器 |
| JP2742683B2 (ja) * | 1986-08-08 | 1998-04-22 | 東洋通信機株式会社 | 透過型回折格子の製造方法 |
| JP2503538B2 (ja) * | 1987-10-20 | 1996-06-05 | 日本電気株式会社 | 回折格子型偏光板の製造方法 |
-
1988
- 1988-06-29 JP JP63164048A patent/JPH0212105A/ja active Pending
-
1989
- 1989-06-28 US US07/372,739 patent/US5029988A/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-06-29 DE DE68910199T patent/DE68910199T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-06-29 EP EP89306592A patent/EP0349309B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0312603A (ja) * | 1989-06-09 | 1991-01-21 | Sharp Corp | 偏光回折素子並びにそれを含む光ピックアップ装置 |
| CN1080313C (zh) * | 1997-10-29 | 2002-03-06 | 普莱克斯技术有限公司 | 将鼓风气流供入高炉的方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE68910199D1 (de) | 1993-12-02 |
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| EP0349309B1 (en) | 1993-10-27 |
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