JPH02125631A - 半導体装置およびその製造方法並びにそれに使用されるワイヤボンディング装置 - Google Patents

半導体装置およびその製造方法並びにそれに使用されるワイヤボンディング装置

Info

Publication number
JPH02125631A
JPH02125631A JP63280059A JP28005988A JPH02125631A JP H02125631 A JPH02125631 A JP H02125631A JP 63280059 A JP63280059 A JP 63280059A JP 28005988 A JP28005988 A JP 28005988A JP H02125631 A JPH02125631 A JP H02125631A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wire
bonding
lead
copper
capillary
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63280059A
Other languages
English (en)
Inventor
Masatoshi Takemura
竹村 正俊
Kazuo Hatori
羽鳥 和夫
Yoshio Ohashi
芳雄 大橋
Makoto Nakajima
誠 中嶋
Isao Araki
荒木 勲
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP63280059A priority Critical patent/JPH02125631A/ja
Publication of JPH02125631A publication Critical patent/JPH02125631A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/071Connecting or disconnecting
    • H10W72/0711Apparatus therefor
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W70/00Package substrates; Interposers; Redistribution layers [RDL]
    • H10W70/01Manufacture or treatment
    • H10W70/05Manufacture or treatment of insulating or insulated package substrates, or of interposers, or of redistribution layers
    • H10W70/093Connecting or disconnecting other interconnections thereto or therefrom, e.g. connecting bond wires or bumps
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/01Manufacture or treatment
    • H10W72/015Manufacture or treatment of bond wires
    • H10W72/01551Changing the shapes of bond wires
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/071Connecting or disconnecting
    • H10W72/0711Apparatus therefor
    • H10W72/07141Means for applying energy, e.g. ovens or lasers
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/071Connecting or disconnecting
    • H10W72/0711Apparatus therefor
    • H10W72/07178Means for aligning
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/071Connecting or disconnecting
    • H10W72/075Connecting or disconnecting of bond wires
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/071Connecting or disconnecting
    • H10W72/075Connecting or disconnecting of bond wires
    • H10W72/07511Treating the bonding area before connecting, e.g. by applying flux or cleaning
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/071Connecting or disconnecting
    • H10W72/075Connecting or disconnecting of bond wires
    • H10W72/07521Aligning
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/071Connecting or disconnecting
    • H10W72/075Connecting or disconnecting of bond wires
    • H10W72/07541Controlling the environment, e.g. atmosphere composition or temperature
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/50Bond wires
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/50Bond wires
    • H10W72/531Shapes of wire connectors
    • H10W72/536Shapes of wire connectors the connected ends being ball-shaped
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/50Bond wires
    • H10W72/531Shapes of wire connectors
    • H10W72/5363Shapes of wire connectors the connected ends being wedge-shaped
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/50Bond wires
    • H10W72/541Dispositions of bond wires
    • H10W72/5449Dispositions of bond wires not being orthogonal to a side surface of the chip, e.g. fan-out arrangements
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/50Bond wires
    • H10W72/551Materials of bond wires
    • H10W72/552Materials of bond wires comprising metals or metalloids, e.g. silver
    • H10W72/5525Materials of bond wires comprising metals or metalloids, e.g. silver comprising copper [Cu]
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/851Dispositions of multiple connectors or interconnections
    • H10W72/874On different surfaces
    • H10W72/884Die-attach connectors and bond wires
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/90Bond pads, in general
    • H10W72/931Shapes of bond pads
    • H10W72/932Plan-view shape, i.e. in top view
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W74/00Encapsulations, e.g. protective coatings
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W90/00Package configurations
    • H10W90/701Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
    • H10W90/731Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of die-attach connectors
    • H10W90/736Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of die-attach connectors between a chip and a stacked lead frame, conducting package substrate or heat sink
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W90/00Package configurations
    • H10W90/701Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
    • H10W90/751Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
    • H10W90/756Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between a chip and a stacked lead frame, conducting package substrate or heat sink

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体装置の製、造波術、特に、半導体ペレ
ントに作り込まれた電子回路を外部に取り出す電気配線
技術としてのワイヤボンディング技術に関し、例えば、
樹脂封止パッケージを備えているバイポーラ形半導体集
積回路装置の製造に利用して有効なものに関する。
〔従来の技術〕
一般に、樹脂封止型パッケージを備えている半導体装置
は、半導体ペレットと、半導体ペレットの周囲に配設さ
れている複数本のリードと、半導体ベレン)・のボンデ
ィングパッドおよび各リードのインナ部に両端部をボン
ディングされて橋絡されているワイヤと、半導体ペレッ
ト、リードの一部、およびワイヤを樹脂封止するパッケ
ージとを備えており、リード群を形成する材料としては
鉄系材料、または、銅系材料が使用されており、ワイヤ
を形成する材料としては金(Au)線が使用されている
そして、このワイヤはボンディング工具としてキャピラ
リーが使用されることにより、半導体ペレットのボンデ
ィングパッドおよび各リードのインチ部にそれぞれボン
ディングされるのが、通例である。
一方、金銀の消費を節約しつつ、半導体ペレットと各リ
ートとの電気的接続を確保する半導体装置として、リー
ド群の素材になるリードフレームおよびワイヤを形成す
る材料に銅系材料をそれぞれ使用するものが提案されて
いる。
なお、リードフレームおよびワイヤを形成する(材料と
して銅系材料をそれぞれ使用する技術を述べである例と
しては、特開昭62−165335号公報、がある。
また、銅ワイヤボンディング技術を述べである例として
は、特開昭58−169918号公報、がある。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかし、銅系材料から形成されているリードに銅系材料
からなるワイヤ素材がボンディングされる技術において
は、銅系材料からなるワイヤ素材を銅系材キミ)からな
るリードの母材表面にボンディングする場合には、ボン
ダビリテイーの良好なワイヤボンディングを確保し得な
いという問題点があることが、本発明者によって明らか
にされた。
本発明の目的は、銅系材料からなるリードのインナ部に
銅系材料からなるワイヤ素材を良好なボンダビリティ−
をもってボンディングすることができる半導体装置の製
造技術を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
(課題を解決するための手段〕 本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を説明すれば、次の通りである。
すなわち、半・導体ペレットと、銅系材料を使用されて
形成されており、半導体ペレントの周囲に配設されてい
る複数本のリードと、銅系材料を使用されて形成されて
おり、半導体ペレットのボンディングパッドおよび各リ
ードのインナ部に両端部をボンディングされて橋絡され
ているワイヤと、半導体ペレット、リードの一部、およ
びワイヤを樹脂封止するパンケージとを備えている半導
体装置の製造方法に使用されるワイヤボンディング装置
において、先端面に平面部がワイヤ挿通孔と同心的に配
されて円形環状に形成されているとともに、この平面部
の内側部分に内側傾斜面部がその傾斜面がワイヤ挿通孔
にかけて少なくとも二重に変化するように形成されてお
り、かつ、この平面部の外側部分に外側傾斜面部が緩や
かに傾斜するように形成されているキャピラリーを使用
し、銅系材料を使用されているワイヤ素材をその一端部
を前記半導体ペレットのボンディングパッドにボールボ
ンディングするとともに、その他端部を前記各リードの
インナ部における銅系材料からなる母材表面にボンディ
ングすることにより、ワイヤを半導体ペレットのボンデ
ィングパッドと各リードのインナ部との間に橋絡するよ
うにしたものである。
〔作用〕
銅系材料からなるワイヤ素材がペレットのボンディング
パッドにキャピラリ、−によりボールボンディングされ
る際、従来のキャピラリーが使用される場合においては
、ワイヤ素材の先端に溶融形成されたボールの外周部付
近がキャピラリー先端の平面部によりボンディングパッ
ドに垂直に押し付けられているため、局部的に強い力が
かかり、ボンディングパッドにダメージが作用すること
になる。
しかし、前記した手段によれば、キャピラリーの先端平
面部の内側に少なくとも二重に傾斜が変更された内側傾
斜面部が形成されていることにより、この内側傾斜面部
の空間部内に前記ボールが収容されて、ボールがこの内
側傾斜面部の内周傾斜面によりボンディングパッドに押
し付けられるため、ボンディングパッドに垂直方向の力
が斜め方向の力に分散されることによって、局部的に強
い力がかかることは避けられる。その結果、銅系材料か
らなるワイヤ素材がペレットのボンディングパッドにキ
ャピラリーによりボンディングされる際、ボンディング
パッドにダメージが作用するのは回避されることになる
また、銅系材料からなるワイヤ素材の中間部がリードの
インナ部にキャピラリーにより超音波熱圧着ボンディン
グされる際、キャピラリーはワイヤ素材を間に挟んでリ
ードのインチ部に垂直に押し付けられる。この際、キャ
ピラリーのワイヤ挿通孔の先端部に形成された内側傾斜
面部と、リードのインナ部の平面とがなす傾斜角度が大
きい場合には、ワイヤ素材は内側傾斜面部の先端平面部
との接点付近(人口付近)においては強い力によって押
し付けられるが、先端平面部(入口)から離れる程、押
し付は力は象、激に低下することになる。その結果、ワ
イヤとリードとの接合力は小さくなるため、ワイヤはリ
ードから剥離し易くなり、断線が発生し易くなる。
しかし、i+記した手段によれば、キャピラリーの平面
部内側にその傾斜が少なくとも二重に変化する傾斜面部
が形成されているため、ワイヤは先端平面部(内側傾斜
面部の入口)からある程度乱れている箇所においてもリ
ードの平面に適度な押し付は力をもって押し付けられる
ことになる。したがって、ワイヤとリードとの接合力は
大きくなるため、ワイヤはリードから!II離し難くな
り、断線の発生が防止されることになる。
ここで、ワイヤ素材の中間部がリードのインナ部にキャ
ピラリーによって押し付けられる際、キャピラリー先端
面に平面部が広く形成されている従来例の場合、そのキ
ャピラリーによるワイヤ素材に対するリードへの押し付
は力が大きいと、ワイヤ素材の押し潰れによってワイヤ
の引張強度が小さくなるため、ワイヤの断線が発生し易
くなる。
これは、ワイヤ素材の中間部がリードにキャピラリーの
広い平面部により強く押し付けられることにより、ワイ
ヤが薄く伸ばされて、所定の強度を保つための厚さ′を
形成することができないためである。
逆に、その押し付は力が小さいと、ワイヤとリードとの
接合力が弱くなるため、ワイヤがリードから剥離し易く
なる。
そこで、キャピラリー先端面における平面部を狭く形成
した場合、ワイヤ素材の中間部がリードの平面に狭小の
押し付は面によって押し付けられることになるため、ワ
イヤが切断され易くなり、断線不良が発生し易くなる。
しかし、前記した手段によれば、キャピラリー先端部に
おける平面部の内外両脇に、内側傾斜面部および外側傾
斜面部が緩やかな傾斜角度をもってそれぞれ形成されで
いるため、ワイヤ素材の中間部はり一トの平面に適当な
面積で、かつ、程良い押し付は圧力をもって押し付けら
れることになる。その結果、ワイヤは強い押し付は力下
においても、所定の押し潰れ厚さを維持することができ
るとともに、リードに所定の引張強度をもって接合され
るため、ワイヤはリードに良好なボンダビリティ−をも
って接続されることになる。
〔実施例〕
第1図は本発明の一実施例であるワイヤボンディング装
置に使用されているキャピラリーを示す拡大部分縦断面
図、第2図は本発明の一実施4jatである樹脂封止型
パンケージをそなえている半導体装置を示す一部切断正
面図、・第3図〜第11図は本発明の一実施例である半
導体装置の製造方法を示す各説明図である。
本実施例において、本発明に係る半導体装置は、高密度
実装を実現するだめの半導体集積回路装置(以下、IC
という、)である樹脂封止型ミニ・スクエア・パッケー
ジを備えているIc(以下、MSP・IC1または、単
に、ICということがある。)として構成されている。
この樹脂封止型MSP・ICはシリコン半導体ペレット
(以下、ペレットという、)12と、ペレットの周囲に
配設されている複数本のり一部9と、ペレットの各ボン
ディングパッドL2a、および各リード9のインナ部9
aにその両端部をそれぞれボンディングされて橋絡され
ているワイヤ13と、これらを樹脂封止するパッケージ
14とを備えており、前記リード9群が銅系材料を使用
されて形成されているとともに、前記ワイヤ13が銅系
材料を使用されて形成されている。そして、このワイヤ
は後記するキャピラリーを備えているワイヤボンディン
グ装置を使用されることにより、その一端部が前記ペレ
ットの電極にボールボンディングによりボンディングさ
れているとともに、他端部が前記各リードのインナ部に
おける前記銅系材料からなる母材表面に超音波熱圧着ボ
ンディングされている。
このMSP・ICは次のような製造方法により製造され
ている。
以下、本発明の一実施例であるこの樹脂封止型MSP−
ICの製造方法を説明する。この説明により、前記MS
P・ICについての構成の詳細が共に明らかにされる。
本実施例において、本発明に係る樹脂封止型MSP−I
Cの製造方法には、第3図に示されている多連リードフ
レームlが使用されている。この多連リードフレームl
は銅系(銅、またはその合金)材料からなる薄板を用い
て、打ち抜きプレス加工またはエツチング加工等のよう
な適当な手段により一体成形されている。この多連リー
ドフレームを形成する銅系材料としては、析出硬化型銅
系材料、例えば、0.05〜.0.15%のジルコニウ
ム(Zr)を含有する(残りは銅)析出硬化型銅系材料
や、0.50〜0.60%程度のジルコニウム、および
、0.20〜0.30%程度のクロム(Cr)を含有す
る析出硬化型銅系材料、が使用されている。析出硬化型
銅系材料は、導電率、および引張強度が高く、銅、アル
ミニウム、金等のような金属に対する機械的接続性が優
れており、その結果、これらの金属が使用されているワ
イヤがボンディングされる際におけるボンダビリティ−
がきわめて良好になる。
この多連リードフレーム1には複数の単位リードフレー
ム2が横方向に1列に並設されている。
単位リードフレーム2は位置決め孔3aが開設されてい
る外枠″3を一対備えており、両外枠3は所定の間隔で
平行になるように配されて一連にそれぞれ延設されてい
る。隣り合う単位リードフレーム2.2間には一対のセ
クション枠4が両外枠3.3間に互いに平行に配されて
一体的に架設されており、これら外枠、セクション枠に
より形成される略正方形の枠体内に単位リードフレーム
2が構成されている。
各単位リードフレーム2において、外枠3およびセクシ
ョンパー4の接続部にはダム吊り部材5が略直角方向に
それぞれ配されて一体的に突設されており、ダム吊り部
材5には4本のダム部材6が略正方形の枠形状になるよ
うに配されて、一体的に吊持されている。セクション枠
4側の各ダム部材6にはタブ吊りリード7が両端に配さ
れて、略45度方向に一体的に突設されており、各タブ
吊りリード7の先端には略正方形の平板形状に形成され
たタブ8が、ダム部材6群の枠形状と略同心的に配され
て一体的に吊持されている。ダム部材6には複数本のり
一部9が長手方向に等間隔に配されて、互いに平行で、
ダム部材6と直交するように一体的に突設されており、
各リード9の内側端部は先端がタブ8に近接されてこれ
を取り囲むように配されることにより、インナ部9aを
それぞれ構成している。他方、各リード9の外側延長部
分は、その先端が外枠3およびセクション枠4から離間
して切り離され、アウタ部9bをそれぞれ構成している
。そして、ダム部材6における隣り合うリード9.9間
の部分は後述するパッケージ成形時にレジンの流れをせ
き止めるダム6aを実質的に構成している。
ちなみに、本実施例において、リード9群のインナ部9
aには、通常、ボンダビリティ−を向上させるために形
成されるlu(Ag)めっき被膜が形成されていない、
したがって、リード9群のインナ部9aにおいては、多
連リードフレームの母材を形成している銅系材料の表面
が露出されていることになる。また、タブ8はリード9
群の面よりも半導体ペレットの厚み分程裏面方向に下げ
られている(所謂タブ下げ)、。
前記構成にかかる多連リードフレームには各単位リード
フレーム2毎にペレット・ボンディング作業、続いて、
ワイヤ・ボンディング作業が実施され、これら作業によ
り、第4図および第5図に示されているような組立体が
製造されることになる。これらのボンディング作業は多
連リードフレームが横方向にピンチ送りされることによ
り、各単位リードフレーム2毎に順次実施される。
まず、ペレットボンディング作業により、前工程におい
てバイポーラ形の集積回路素子(図示せず)を作り込ま
れた半導体集積回路構造体としてのペレットI2が、各
単位リードフレーム2におけるタブ8上の略中央部に配
されて、銀ペースト等のような適当な材料を用いられて
形成されるオンディング層11を介して固着される。恨
ペーストは、エポキシ系樹脂接着剤、硬化促進剤、およ
び溶剤に銀粉が混入されて構成されているものであり、
リードフレーム上に塗布された銀ペーストにペレットが
押接された後、適当な温度により硬化(キュア)される
ことにより、ボンディング層11を形成するようになっ
ている。
そして、タブ8に固定的にボンディングされたペレット
12のポンディングパツド12aと、単位リードフレー
ム2における各リード9のインナ部9aとの間に、後記
する銅系材料を使用されて形成されているワイヤ13が
、第1図および第6回〜第8図に示されているよ、うな
ワイヤボンディング装置が使用されることにより、その
両端部をそれぞれボンディングされて橋絡される。これ
により、ペレット12に作り込まれている集積回路は、
ボンディングパッド12a2ワイヤ13、リード9のイ
ンナ部9aおよびアウタ部9bを介して電気的に外部に
引き出されることになる。
ここで、ワイヤボンディング作業について説明する。
第6図に示されているワイヤボンディング装置20はペ
レット12の1掻パッド12aと、各単位リードフレー
ム2の各リード9との間にワイヤ13をそれぞれ橋絡さ
せることにより、ペレット12と各リード9とを電気的
に接続するように構成されている。ごのワイヤボンディ
ング装置20はフィーダ21を備えており、フィーダ2
1は多連リードフレームlを長手方向について摺動自在
に保持して、単位リードフレーム2のピッチをもうて歩
進送りし得るように構成されている。フィーダ2tには
ヒートブロック22が単位リードフレーム2毎に加熱し
得るように設備されている。
フィーダ21におけるボンディングア−ムの外部にはX
Y子テーブル3がXY力方向移動し得るように設01N
されており、XY子テーブル3上にはボンディングへ・
ノド24が搭載されている。このボンディングヘッド2
4にはボンディングアーム25が基端を回転自在に軸支
されて支持されており、このアーム25はその先端に固
設されたギヤピラリ−26を上下動させるように、カム
機構(図示せず)により駆動されるように構成されてい
る。また、ボンディングヘッド24にはボンディングア
ーム25を遥してキャピラリー26を超音波振動させる
超音波発振装置(図示せず)が設備されている。
ボンディングアーム25の上側には一対のクランパアー
ム27.28が電磁プランジャ機構等のような適当へ手
段(図示せず)により作動されるように設備されており
、両アーム27.28の各先端はキャピラリー26の真
上位置に配されてクランパ29を構成している。クラン
パ29にはす−ル(図示せず)から操り出、されるワイ
ヤ素材(後記する。〕がガイド30を介して挿通されて
おり、ワイヤ素材はさらにキャピラリー26に挿通され
ている。
キャピラリー26の近傍には放電電極31がキャピラリ
ー26の移動から独立して設備されており、この放電電
極31はその上端部が回転自在に軸支されることにより
、その先端部がキャピラリー26の下方位置、すなわち
、ワイヤ素材の先端の真下位置と、キャピラリー26の
側方位置(退避位置)との間を移動されるように構成さ
れている。また、この電極31と前記クランパ29との
間には電源回路32が接続されており、放電電極31と
ワイヤ素材の間で放電アークを生成させるようになって
いる。
このワイヤボンディング装置20は第7図に示されてい
るように、ワイヤ素材の先端で生成されるポールの周囲
にガスを供給することにより、ガス雰囲気を形成するだ
めのチューブ33を備えており、このガス供給手段とし
てのチューブ33は放電電極31にチューブの開口部を
キャピラリー26の下方位置に向けて取り付けられてい
る。チューブ33には還元作用のあるガス35、例えば
、アルゴンガスと水素ガスとの混合ガス等を供給するた
めのガス供給tA34が接続されている。
一方、フィーダ21の底部には、多連リードフレームの
酸化を防止するための還元性ガス(以下、リードフレー
ム酸化防止用ガスという、)40を供給する手段として
の還元性ガス供給装置41が設備されており、この供給
装置41は吹出口42を備えている。吹出口42は多連
リードフレーム1の周囲にリードフレーム酸化防止用ガ
ス40を緩やかに吹き出し得るように、フィーダ21の
上面に複数個開設されており、この吹出口42群にはガ
ス供給路43が接続されている。ガス供給路43はガス
供給ユニット44に接続されており、ガス供給ユニット
44は還元性ガス、例えば、窒素ガスおよび水素ガスか
ら成る混合ガスを、予め設定された流量をもって常時供
給し得るように構成されている。
そして、フィーダ21上に・はカバー45がフィーダ2
1を送られる多連リードフレームlを略全体にわたって
被覆するように設備されており、このカバー45は多連
リードフレーム1の周囲に供給された酸化防止用ガス4
0を多連リードフレーム1の周囲に可及的に停滞させる
ようになっている。カバー45には窓孔46がキャピラ
リー26の真下におけるボンディングステージとなる位
置に配されて、ワイヤボンディングを実施し得る大きさ
の略正方形形状に開設されている。この窓孔46には略
正方形枠形状に形成されたリードフレーム押さえ具47
が昇降自在に嵌合されており、この押さえ具47はカム
機構等のような適当な駆動装置(図示せず)によりフィ
ーダ21の間欠送り作動に連携して上下動するように構
成されている。すなわち、この押さえ具47はワイヤボ
ンディングが実施される時に単位リードフレーム2壱上
から押さえることにより、リードフレームの遊動を防止
するように構成されている。
本実施例において、ボンディング工具としてのキャピラ
リー26の先端部は第1図に示されているように構成さ
れている。すなわち、キャピラリー26はサファイアお
よびサイアロン(窒化珪素)等のような超硬質の材料を
使用されて細長い略丸棒形状に形成されており、その中
心線上にはワイヤ挿通孔26aが断面円形形状に開設さ
れている。ワイヤ挿通孔26aの内径りはワイヤ素材の
直径よりも若干大径になるように設定されている。キャ
ピラリー26の先端面には平面部26bがワイヤ挿通孔
26aと同心的に配されて、円形jング形状に形成され
ており、この平面部26bの内外には内側傾斜面部26
c、および外側傾斜面部26fがそれぞれ同心円になる
ように配されて形成されている。この平面部26bの径
方向の幅wbはワイヤ挿通孔26aの内径りのL/2倍
以上、すなわち、wb≧1/2XD、になるように設定
されている。この平面部26bの幅wbは、後述するよ
うにワイヤ線材をリードのインナ部に押し付けて第2ボ
ンディング部を形成する際に、第2ボンディング部にお
いて所要の接合強度を確保するのに必要である。
平面部26bの内側に形成された内側傾斜面部26cに
おける平面部26bとの境界になる縁辺の外径Dcは、
ワイヤ挿通孔26aにおける内径りの3倍以下、すなわ
ち、Dc≦3×D1になるように設定されている。これ
は、内側傾斜面部26cの内径Dcがワイヤ挿通孔内径
りの3倍よりも大きくなると、キャピラリー26の全体
外径が大きくなるばかりでなく、後記するテール出し時
において、テール出し部が屈曲し易くなるため、これを
回避するのに必要となる。
この内側傾斜面部26cには内側面取り傾斜面部26d
と外側面取り傾斜面部26eとが、その傾斜角度を大小
に変化されてそれぞれ面取りされることにより、互いに
内外で隣接されて同心円に形成されている。ワイヤ挿通
孔26a側である内側に配された内側面取り傾斜面部2
6dは、その平面部26bとなす傾斜角度θdが40〜
50度になるように形成されており、平面部26b側で
ある外側に配された外側面取り傾斜面部26 e Lそ
の平面部26bとなす傾斜角度θeが5〜30度になる
ように形成されている。また、内側面取り傾斜面部26
dはその外径Ddが、ワイヤ挿通孔内径りの1.2倍以
上、すなわち、Dd≧1゜2xDになるように形成され
ている。
他方、平面部26bの外側に形成された外側傾斜面部2
6[は、その平面部26bとなす傾斜角度ofが3〜1
5度になるように形成されている。
これは、後述するように第2ボンディング部を形成する
隙にワイヤを押し潰しし過ぎないようにするために必要
である。また、外側傾斜面部26fの外側には弯曲部2
6gが隣接するように配されて、比較的大きな曲率をも
って形成されている。
この外側傾斜面部26fはその幅Wf、すなわち、この
外側傾斜面部26fと平面部26bとの境界から、外側
傾斜面部26fの弯曲部26gとの境界までの間隔が、
ワイヤ挿通孔内径りの1/3倍以上、すなわち、Wf≧
1/3XD、になるように形成されている。
次に、前記構成にかかるワイヤボンディング装置による
ワイヤボンディング方法を説明する。
ここで、本実施例においては、ペレットのボンディング
パッドとリードとを電気的に接続するワイヤ13を構成
するための素材として、銅系材料を用いて形成された線
材(以下、ワイヤ素材という、)38が使用されており
、ワイヤ素材はペレット12のボンディングパッド(電
極)12aおよびリード9のインナ部9aにそれぞれボ
ンディングする際に、接合強度を充分大きくし、かつ、
ボンディングダメージを起こすことを防止するために、
最適な材14M1成および金属組織を構成するように、
次のような諸元、およびプロセスをもって製造されてい
る。
すなわち、本実施例においてワイヤ素材として使用され
る銅線の諸元は、ワイヤ直径が30μmで、銅の純度が
99.999%(所謂、ファイブナイン)であり、不純
物量はppmでいうと、Feが0.5以下、Agが0.
33、Pbが0.5以下、Ntが0.9、Snが1以下
、Siが1以下、0□が1.6に抑えられ、引張強度が
17゜3g、伸び率が16.8%、残留抵抗比が442
2RRR1になるように設定されている。また、ワイヤ
素材は、材料→電解工程→ゾーン精製工程→切削工程−
十線引き工程→焼き鈍し工程(線引き工程および焼き鈍
し工程が繰り返される。)→巻き1桑え工程、を経て製
造された後、リールの状態でワイヤボンディング装置に
供給される。
前工程においてAgペーストによりペレットボンディン
グされた単位リードフレーム2がフィーダ21に供給さ
れ、ボンディングステージまでピッチ送りされた後、間
欠停止されると、窓孔46内においてり−1フレーム押
さえ具47が下降されることにより、単位リードフレー
ム2が押さえ具47により押さえつけられる。その後、
XY子テーブル3が適宜移動される。
一方、キャピラリー26においては、放電電極31がワ
イヤ素材36の下端に接近されるとともに、電源回路3
2が閉じられることにより、ワイヤ素材36の先端にボ
ール37が溶融形成される。
このとき、ワイヤ素材36は前記したように所定の組成
を有する銅系材料が使Jされているため、ボール37の
硬度は適正なものになる。
また、チューブ33から還元性ガス35が供給され、ワ
イヤ素材36と電極31との間が還元性ガス雰囲気に保
持される。この還元性ガス雰囲気により、ボール37は
真球度が高く、ボール硬度も適正なものになる。
続いて、キャピラリー26がボンディングアーム25を
介してボンディングヘッド24により下降され、ワイヤ
素材36の先端部に形成されたボール37が、ペレット
12における複数個のボンディングパッド12aのうち
、最初にボンディングするボンディングパッド(以下、
特記しない限り、単に、パッドという、)に押着される
。このとき、キャピラリー26に超音波振動が付勢され
るとともに、ペレット12がヒートブロック22によっ
て加熱されているため、ボール37はペレット12のパ
ッド12a上に超音波熱圧着されて、ボンディングパッ
ド12a上に第1ボンディング部13aが形成される。
そして、ボール37は前記したような所定の銅系材料を
使用され、かつ、還元性ガス雰囲気でボール形成される
ことにより、硬くなることを抑制されているため、良好
なボンダビリティ−をもってボンディングされることに
なる。
ところで、ボンディングワイヤの構成材料として銅が使
用されている場合、銅は酸化され易く、かつ比較的硬い
ため、ボールボンディング時におけるボンダビリティ−
が低下する。すなわち、熔融中に銅ワイヤ素材の表面に
酸化膜が形成されると、溶融が不均一になり、ボールの
形状が不通正になる。また、ボールの表面に酸化膜が形
成されると、ボンディングパッドとの金属結合性が低下
する。
そこで、本実施例においては、ボール生成時に還元性ガ
スを供給することにより、ボールの酸化を防止すること
が行われる。そして、ボンディングワイヤの構成材料と
して銅が使用される場合であっても、良好なボンダビリ
ティ−が実現される。
すなわち、ワイヤ素材36のボール37は還元性ガス3
5の雰囲気中で生成さ、れるため、溶融中、その銅表面
に酸化膜が形成されることはない、その結果、銅ワイヤ
素材36の先端は内部および表面全体が溶融されるため
、均一な表面張力が発生して真Ly度の高いボール37
が形成されることになる。このようにして、ボール37
は酸化膜を形成されずに真球度が高く、かつ、適度な硬
度を維持しているため、銅系材料からなるワイヤ素材3
6であっても良好なボンダビリティ−をもってペレット
12のパッド上にボンディングされることになる。
ところで、銅系材料からなるワイヤ素材がペレットのボ
ンディングパッドにキャピラリーによりボールボンディ
ングされる際、第9図に示されているように、従来のキ
ャピラリー26′が使用される場合においては、ワイヤ
素材38の先端に溶融形成されたボール39の外周部付
近がキャピラリー先端の平面部26b′によりボンディ
ングパノド12aに垂直に押し付けられるため、局部的
に強い力がかかり、ボンディングパッドにダメージが作
用し、第1ボンディング部が不適正になったり、ボンデ
ィングパッド12aが損傷されたりすることになる。
しかし、本実施例においては、キャピラ刃−には内側傾
斜面部26cが先端平面部26bの内側に配されて、少
なくとも二重に傾斜が変化するように形成されているた
め、銅系材料からなるワイヤ素材39がペレット12の
ボンディングパッド12aにキャピラリー26によりボ
ールボンディングされる際、ボンディングパッドL2a
にダメージが作用するのは回避されることになる。
すなわち、内側面取り傾斜面部26dおよび外側面取り
傾斜面部26eを有する内側傾斜面部26Cがキャピラ
リー26の先端面に形成されていることにより、第10
図に示されているように、この内側傾斜面部26cの空
間部内にワイヤ素材36先端のボール37が収容されて
、ボール37が内側傾斜面部26cの内周傾斜面により
ボンディングパッド12aに押し付けられるため、キャ
ピラリー26からの力がボール37に作用する時に、垂
直方向の力が斜め方向の力に分散されることになり、こ
れによって、局部的に強い力がかかることは避けられる
ことになる。その結果、銅系材料からなるワイヤ素材3
6がペレット12のボンディングパッド12aにキャピ
ラリー26によりボールボンディングされる際、ボンデ
ィングパッド12aにダメージが作用するのは回避され
ることになる。
前述のようにして、ボール37により第1ボンディング
部13aが形成された後、キャピラリー26がXY子テ
ーブル3およびボンディングヘッド24により、適当な
軌道をもって3次元的に相対移動され、複数本のり一部
9のうち、最初に第2ボンデイングすべきリード(以下
、特記しない限り、単にリードとする。)のインナ部9
aにワイヤ素材36の中間部が埋着される。このとき、
キャピラリー26に超音波振動が付勢されるとともに、
リード9がヒートブロック22により加熱されているた
め、ワイヤ素材36の埋着部はり一部9のインナ部9a
上に超音波熱圧着され、もって、第2ボンディング部1
3bが形成される。
そして、前記第1および第2ボンディング作業中、フィ
ーダ21の上面に開設された吹出口42からリードフレ
ーム酸化防止用還元性ガス40が常時吹き出されている
ため、多連リードフレーム1は還元性ガス雰囲気内に浸
漬されでいる。このとき、還元性ガス雰囲気はフィーダ
21上に敷設されたカバー45によって被覆されている
ため、この還元性ガス40は多連リードフレーム1およ
びペレット12を効果的に包囲することになる。
したがって、リードフレーム等の酸化は確実に防止され
ている。
ここで、多連リードフレーム1として銅系のリードフレ
ーム、が使用されている場合、銅は酸化され易く、酸化
膜がボンディング面に厚く形成されるため、第2ボンデ
イングにおけるポンダビリティ−が低下する。すなわち
、酸化膜が形成されると、vA系材料からなるワイヤ素
材36との金属結合性が低下するため、ポンダビリティ
−が低下する。
しかし、本実施例において、は、フィーダ21上がカバ
ー45により被覆されているとともに、そのカバー内に
供給された還元性ガス雰囲気により、多連リードフレー
ムlが包囲されているため、酸化され易い銅系リードフ
レームが使用されていても、その表面に酸化膜が形成さ
れることはなく、その結果、銅系材料からなるワイヤ素
材36は良好なポンダビリティ−をもってリード9のイ
ンナ部9a上にボンディングされることになる。
ところで、銅系材料からなるワイヤ素材36の中間部が
リード9のインナ部9aにキャピラリー26によりボン
ディングされる際、キャピラリーはワイヤ素材を間に挾
んでリードのインナ部に垂直に押し付けられる。この際
、第11図に示されているように、キャピラリー26の
ワイヤ挿通孔26aの先端部に形成された内側傾斜面部
26cと、リード9のインナ部9aの平面とがなす傾斜
角度θC′が大きい場合には、ワイヤ素材36は内gA
傾斜面部260′の先端平面部26bとの接点付近(入
口付近)においては強い力によって押し付けられるが、
先端平面部26bとの接点(入口)から離れる程、押し
付は力は急激に低下することになる。その結果、ワイヤ
素材36とり一部9との接合力は小さくなるため、第2
ボンディング部L3bにおいてワイヤ13はリード9の
インナ部9aから!I Mし易くなり、断線が発生し易
くなる。
しかし、本実施例においては、キャピラリーの平面部2
6bの内側に、その傾斜が少なくとも二重に変化された
内側面取り傾斜面部26dおよび外側面取り傾斜面部2
6eを有する内側傾斜面部26cが形成されているため
、第12図に示されているように、ワイヤ素材36の中
間部は先端平面部26b付近(内側傾斜面部26cの入
口Jがらある程度なれている箇所においても、リード9
のインナ部9aにおける平面に適度な押し付は力をもっ
て押し付けられることになる。したがって、ワイヤ素材
36の中間部とり一部9との接合力は大きくなるため、
第2ボンディング部13bにおいてワイヤ13はリード
9から剥離し難くなり、断線の発生が防止されることに
なる。
ここで、ワイヤ素材36の中間部がリード9のインナ部
9aにキャピラリーによって押し付けられる際、第13
図に示されているように、キャピラリー26′の先端面
に平面部26b′が広く形成されている従来例の場合、
そのキャピラリー26′によるワイヤ素材に対するリー
ドへの押し付は力が大きいと、ワイヤ素材の押し潰れに
よってワイヤの引張強度が小さくなるため、ワイヤの断
線が発生し易くなる。すなわち、ワイヤ素材3日の中間
部がリード9にキャピラリー26′の広い平面部26b
′により強く押し付けられることにより、ワイヤ13の
第2ボンデイングL3bが薄く伸ばされるため、所定の
強度を保つための厚さを形成することができなくなる。
逆に、その押し付は力が小さいと、ワイヤとリードとの
接合力が弱くなるため、ワイヤがリードから剥離し易く
なる。
そこで、第14図に示されているように、キャピラリー
26′の先端面における平面部26b#を狭く形成した
場合、ワイヤ素材38の中間部がリード9の平面に狭小
の押し付は面によって押し付けられることになるため、
ワイヤ13の第2ポンデイング13bの圧着化が小さく
なって切断され易くなり、断線不良が発生し易くなる。
しかし、本実施例においては、キャピラリー先端部にお
ける平面部26bの内外両脇に、内側傾斜面部26cお
よび外側傾斜面部26fが緩やかな傾斜角度をもってそ
れぞれ形成されているため、第15図に示されているよ
うに、ワイヤ素材36の中間部はリード9におけるイン
ナ部9aの平面に適当な面積で、かつ、程良い押し付は
圧力をもって押し付けられることになる。すなわち、ワ
イヤ素材36の中間部は強い押し付は力下においても、
平面部26bの内脇および外脇において所定の押し潰れ
厚さを維持することができるとともに、平面部26bに
おいてリード9に所定の引張強度を持った状態で接合さ
れる。その結果、第2ボンディング部13bにおいて、
ワイヤ13はリード9に良好なボンダビリティ−をもっ
て接続され、ワイヤ13のリード9からの・剥離は確実
に防止されることになる。
このようにして第2ボンディング部L3bが形成された
後、クランパ29によりワイヤ素材36の中間部が把持
され、クランパ29がキャピラリー26と共に第2ボン
ディング部13bから相対的に離反移動される。この離
反移動により、ワイヤ素材36は第2ボンディング部か
ら引き千切られる。これにより、ペレフト12のボンデ
ィングパッドとリードとの間にはワイヤ13が橋絡され
たことになる。
その後、第2ボンディング作業を終えたワイヤ素材36
に対するクランパ29の把持が解除されるとともに、キ
ャピラリー26だけが若干上昇されることによ″す、第
16図に示されているように、ワイヤ素材36の先端部
がキャピラリー26の先端からボール37の成形に必要
な長さだけ相対的に突き出され(所謂、テール出し動作
である。)、テール出し部38が形成される。
ところで、キャピラリー26における平面部26bの内
側に形成された内側傾斜面26cにおLノる平面部26
bとの境界になる縁辺の外径Dcが、ワイヤ挿通孔内径
りの3倍よりも大きくなると、テール出し時において、
第17図に示されているように、テール出し部38′が
大きく屈曲し易くなる。
しかし、本実施例においては、キャピラリー26におけ
る平面部26bの内側に形成された内側傾斜面部26c
の外径Dcは、ワイヤ挿通孔内径りの3倍以下に設定さ
れているため、第16図に示されているように、その屈
曲量が適正な範囲内に抑えられたテール出し部3Bが形
成される。その結果、前述したように第1ボンディング
時においてこのテール出し部38によって適正なボール
37が溶融形成されることになる。
以降、前記作動が繰り返し実施されることにより、残り
のボンディングパッドと各リードのインチ部との間にワ
イヤ13が順次ja絡されて行く。
その後、一つの単位リードフレーム2についてのワイヤ
ボンディング作業が終了すると、押さえ具47が上昇さ
れ、次の単位リードフレーム2がボンディングア−ムの
所へ位置するように多連リードフレーム1が1ピツチ送
られる。以後、各単位リードフレーム2について前記ワ
イヤボンディング作業が順次実施されて行(。
ちなみに、本実施例においては、ボンディング工具とし
て、指向性のないキャピラリー26が使用されているた
め、各ワイヤ13の架橋方向が交差する場合であっても
、リードフレームとボンディングアームとを相対的に回
動させずに済む、したがって、ワイヤボンディング装置
の構造を簡単化させることができる。
このようにしてペレットおよびワイヤ・ボンディングさ
れた多連リードフレームには、各単位リードフレーム毎
に樹脂封止するパッケージ群が、第18図に示されてい
るようなトランスファ成形装置を使用されて単位リード
フレーム群について同時成形される。
第18図に示されているトランスファ成形装置50はシ
リンダ装置等(図示せず)によって互いに型締めされる
一対の下型51と下型52とを備えており、上型51と
下型52との合わせ面には上型キャビティー凹部53a
と下型キャビティー凹部53bとが互いに協働してキャ
ビティー53を形成するようにそれぞれ複数組没設され
ている。
上型51の合わせ面にはボット54が開設されており、
ボット54にはシリンダ装置(図示せず)により進退さ
れるプランジ中55が成形材料としての樹脂から成るタ
ブレットが投入され、このタブレットが溶融されて成る
樹脂(以下、レジンという、)を送給し得るようになっ
ている。下型52の合わせ面にはカル56がボット54
との対向位置に配されて没設されているとともに、複数
条のランナ57がボット54にそれぞれ接続するように
放射状に配されて没設されている。各ランナ57の他端
部は下側キャビティー凹部53bにそれぞれ接続されて
おり、その接続部にはゲート58がレジンをキャビティ
ー53内に注入し得るように形成されている。また、下
型52の合わせ面には逃げ凹所59がリードフレームの
厚みを逃げ得るように、多連リードフレ、−ムlの外形
よりも若干大きめの長方形で、その厚さと略等しい寸法
の一定深さに没設されている。
前記構成にかかる多連リードフレーム1を用いて@A1
!A1型パッケージをトランスファ成形する場合、上型
51および下型52における各キャビティー53は各単
位リードフレーム2における一対のダム6a、63間の
空間にそれぞれ対応される。
トランスファ成形時において、前記構成にかかる多連リ
ードフレーム1は下型52に没設されている逃げ凹所5
9内に、各単位リードフレーム2におけるペレット12
が各キャビティー53内にそれぞれ収容されるように配
されてセットされる。
続いて、上型5iと下型52とが型締めされ、ボット5
4からプランジャ55により成形材料としてのレジン6
0がランナ57およびゲート58を通じて各キャビティ
ー53に送給されて圧入される。
注入後、レジンが熱硬化されて樹脂封止型パッケージ1
0が成形されると、上型51および下型52は型開きさ
れるとともに、エジェクタ・ピン(図示せず)によりパ
ッケージ10群が離型される。このようにして、第19
図に示されているように、パッケージ14群を成形され
た多連り−Fフレーム1はトランスフ1成形装置5oが
ら脱装される。
そして、このように樹脂成形されたパッケージ14の内
部には、ペレット12、リード9のインナ部9aおよび
ワイヤ13が樹脂封止されることになる。この状態にお
いて、後述するように、めっきレスの銅系リードフレー
ムはパンケージのレジンに対してきわめて良好な接着性
を示すため、各リード9のインナ部9aはパッケージ1
4ときわめて効果的に一体化される。
多連リードフレームlは、リード切断成形工程において
各単位リードフレーム毎に順次、リード切断装置(図示
せず)により、外枠3およびダム6aを切り落された後
、リード成形装置(図示せず)により、リード9のアウ
タ部9bを下向きに屈曲成形される。
また、多連リードフレーム1はリード切断成形以前また
は以後に、はんだめっき処理、または、はんだデイツプ
処理によるはんだms被着処理工程においてリードのア
ウタ部9bにはんだ被膜10を被膜される。
以上のようにして製造された樹脂封止型MSP・IC7
0は第20図および第21図に示されているようにプリ
ント配線基板に実装される。
第20図および第21図において、プリント配線基板7
1にはランド12が複数個、実装対象物となる樹脂封止
型MSP・IC70における各リー19に対応するよう
に配されて、はんだ材料を用いて略長方形の薄板形状に
形成されており、このランド72にこのIC70のリー
ド9のアウタ部9b群がそこに整合されて当接されてい
るとともに、各リード9のアウタ部9bとランド72と
がリフローはんだ処理により形成されたはんだ盛りN7
3によって電気的かつ機械的に接続されている。このと
き、リードのアウタ部9bにははんだめっき被膜10が
全体にわたって予め被着されているため、ランド72の
はんだ材料が効果的に吸い上がり、はんだ盛り7173
はきわめて適正に形成されることになるゆ ところで、前記構成にがかるMSP・ICは出荷前に環
境試験検査を実施される。環境試験検査としては、バー
ンイン試験、高温高温バイアス試験、プレッシャクツ力
試験、および温度サイクル熱衝撃試験等が実施される。
特に、高温高温バイアス試験、およびプレッシャクッ力
試験は耐湿性(銅配線の腐食)を検査するため、温度、
湿度、バイアスが加速されて実行される。また、前述し
7たように、MSP−1cがプリント配線基板等に実装
される際、はんだデイツプやりフローはんだ処理によっ
ても、高温高温状況が現出されることがある。
このような環境試験または実装時に高温高温状況が樹脂
封止型パンケージを備えたICに加えられた場合、水分
はパッケージとり一1群との境界から侵入し、この水分
によってワイヤが腐蝕されることもある。
ところで、リードフレームに銅系材料が使用される場合
、銅系リードフレームにおけるインナ部の表面に酸化防
止、並びにボンダビリティ−を高めるため銀めっき処理
が施されることがある。
ところが、インナ部に恨めつき被膜が被着された銅系リ
ードフレームが使用されているICにおいては、前述し
たような熱ストレスが加えられた場合、パッケージとリ
ードフレームとの熱膨張係数差によりパンケージとリー
ドのインナ部との境界面にAllがれが発生し、耐湿性
が低下するという問題点があることが、本発明者によっ
て明らかにされた。これは次のような理由によると考え
られる。銀めっき被膜は微粒子の集合から形成されてい
るため、この微粒子とパンケージのレジンとの間で熱ス
トレスの作用により相対的な移動が発生し昂くなり、こ
の移動し易さにより、リードのインナ部とパッケージと
の境界面において剥がれが発生する。
しかし、本実施例においては、多連リードフレーム1と
して銅系リードフレームが使用されているが、そのイン
チ部9a表面にめっき処理が施されていないため、前述
したような熱ストレスが力11ねった場合でも、各リー
ド9のインナ部9aとパ、ノ1−ジ14との境界面間に
剥がれが発生しないことが実験により確認された。
これは次のような理由によると考えられる。ずなわら5
インナ部がめつきレスのリードフレームにおいては、リ
ードフレームの材料表面自体とパッケージのレジン自体
とが直接的に結合するため、熱ストレスが作用した場合
でも、両者の境界面である結合箇所では相対的な移動が
発生しにくくなり、リードフレーム内部およびパッケー
ジ内部でそれぞれ発生する歪により熱ストレスが吸収さ
れてしまうためである。
前記実施例によれば次の効果が得られる。
(1)  ワイヤボンディング装置におけるキャピラリ
ーとして、先端面に平面部がワイヤ挿通孔と同心的に配
されて円形環状に形成されているとともに、この平面部
の内側部分に内側傾斜面部がその傾斜面がワイヤ挿通孔
にかけて少、なくとも二重に変化するように形成されて
おり、かつ、この平面部の外側部分に外側傾斜面部が緩
やかに傾斜するように形成されているキャピラリーを使
用し、銅系材ネ4からなるワイヤ素材の一端部を半導体
ペレットのボンディングパッドにボールボンディングに
よりボンディングするとともに、その他端部を各リー1
′のインナ部における銅系材料からなる母材表面にボン
ディングすることにより、ワイヤの接合強度を充分に確
保しながら、押し潰れ過ぎや、ボンティングパッドに対
するダメージを防止することができるため、ボンディン
グ状態、並びに半導体装置の品質および信頼性を高める
ことができる。
(2)  キャピラリーに内側傾斜面部を先端平面部の
内側に配して、少なくとも二重に傾斜が変更するように
形成することにより、この内側傾斜面部の空間部内にワ
イヤ素材先端のボールが収容されて、ボールが内側傾斜
面部の内周傾斜面によりボンティングパッドに押し付け
られるため、キャピラリーからの力がボール3に作用す
る時に、垂直方向の力が斜め方向の力に分散されること
になり、これによって、局部的に強い力がががることは
避りられることになる。その結果、銅系材料からなるワ
イヤ素材がペレットのボンディングバントにキャピラリ
ーによりボンディングされる際、ボンティングパッドに
ダメージが作用するのを防止することができる。
(3)  キャピラリーの平面部の内側にその傾斜が少
なくとも二重に変更された内側面取り傾斜面部および外
側面取り面部を有する内側傾斜面部を形成することによ
り、ワイヤ素材の中間部は先端平面部付近(内側傾斜面
部の入口)からある程度離れている箇所においてもリー
ドのインナ部における平面に適度な押し付は力をもって
押し付けられることになるため、ワイヤ素材の中間部と
リードとの接合力を大きくさせることができ、第2ボン
ディング部においてワイヤのリードからの2す離を防止
することができる。
(4)キャピラリー先端部における平面部の内外両脇に
、内側傾斜面部および外側傾斜面部を緩やかな傾斜角度
をもってそれぞれ・形成することにより、ワイヤ素材の
中間部はリードにおけるインナ部の平面に適当な面積で
、かつ、程良い押し付は圧力をもって押し付けられるこ
とになるため、ワイヤ素材の中間部を強い押し付はカニ
においても、所定の押し潰れ厚さを維持してボンディン
グすることができるとともに、リードに所定の引張強度
を持った状態で接合することができる。
(5)  キャピラリーにおける平面部の内側に形成さ
れた内側傾斜面における平面部との境界になる縁辺の外
径を、ワイヤ挿通孔の内径りの3倍以下になるように設
定することにより、キャピラリーの全体外径が大きくな
るのを防止することができるばかりでなく、テール出し
時においてテール出し部が大きく屈曲されるのを防止す
ることができるため、適正なボールを溶融形成させるこ
とができる。
(6)  リード群を銅系材料を使用して形成するとと
もに、ボンディングワイヤを銅系材料を使用して形成し
、このワイヤはその−・端部を半導体ペレットのボンテ
ィングパッドにボールボンディングによりボンディング
するとともに、他端部を各リードのインナ部における前
記銅系材料からなる母材表面にボンディングして、半導
体ペレットとリードとの間に橋絡することにより、銅系
材料からなるリードのインチ部にワイヤ素材を良好なボ
ンダビリティ−をもってボンディングすることができる
(7)ポンディングヮイA・とじて銅系材料を使用する
ことにより、金ワイヤに比べてコストを大巾に低減でき
る。
(8)銅系材ネ4からなるワイヤ素材を使用することに
より、ボンディングワイヤのボールボンディングを安定
して容易に行うことができるため、銅系ワイヤの利点の
1つである低コスト性を活かすことが可能となる。
(9)銅系リードフレームおよび銅系ボンディングワイ
ヤを使用することにより、ワイヤとリードとの接続部で
ある第2ボンディング部についての接合強度やボンダビ
リティ−を高めることができ、製品の品質および信gl
l性を高・めることかできるとともに、コストを低減さ
せることができる。
00)  リードフレームとしてめっきレスの銅系り−
ドフレームを使用することにより、各リードのインナ部
とパンケージとの境界面における剥がれの発生を防止す
ることができるため、その剥がれによる耐湿性の低下を
防止することができる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
例えば、キャピラリーの内側傾斜面部における外側面取
り傾斜面部は、断面直線形状に形成するに限らず、第2
2図に示されているように、断面弯曲形状に形成しても
よい。第22図において、キャピラリー26の内側傾斜
面部26cが内外二重に形成されているとともに、その
内側面取り傾斜面部26dは先端平面部26bに対する
傾斜角度が40〜50度になるように形成されている。
そして、外(l11面取り傾斜面部26e′は、その内
側面取り傾斜面部26dと、先端平面部26bとにそれ
ぞれ内接し、かつ、その内側面取り傾斜面部との接点と
、平面部の延長線との間隔Deが、ワイヤ挿通孔内径り
の0.05倍以上、すなわち、De≧0.05XD、に
なるように形成されている。このキャピラリーによって
も、前記実施例と同様の効果が得られる。
リード群の銅系材料およびワイヤの銅系材料の材料組成
は前記したものに限定されるのではなく、他の様々な、
組成のものを用いることができる。
また、ワイヤボンティング装置およびトランスファ成形
装置等の具体的構成は前記実施例の構成を使用するに限
られない。
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野である樹j指1、l正型M
SP−ICに適用した場合1こついて説明したが、それ
に限定されるものではなく、樹脂刺止型パンケージ内に
ボンディングワイヤ群を備えているIC等のような半導
体装置全般に通用することができる。
[発明の効果] 本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、次の通りである。
ワイヤボンディング装置におけるキャピラリーとして、
先端面に平面部がワイヤ挿通孔と同心的に配されて円形
環状に形成されているとともに、この平面部の内側部分
に内側傾斜面部がその傾斜面がワイヤ挿通孔にかけて少
な(とも二重に変化するように形成されており、かつ、
この平面部の外側部分に外側傾斜面部が緩やかに傾斜す
るように形成されているキャピラリーを使用し、銅系材
料からなるワイヤ素材の一端部を半導体ペレットのボン
ディングパッドにボールボンディングによりボンディン
グするとともに、その他端部を各リードのインナ部にお
ける銅系材料からなる母材表面にボンディングすること
により、ワイヤの接合強度を充分に確保しながら、押し
潰れ過ぎや、ボンディングパッドに対するダメージを防
止することができるため、ボンディング状態、並びに半
導体装置の品質および信頬性を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例であるワイヤボンティング装
置に使用されているキャピラリーを示す拡大部分縦断面
図、 第2図は本発明の一実施例である樹脂14【F型MSP
−ICを示す一部切断正面図、 第3図〜第19図は本発明の一実施例であるMSP・I
Cの製造方法を示すものであり、第3図はそれに使用さ
れる多連リードフレームを示す部省略平面図、 第4図はペレットおよびワイヤボンディング後を示す一
部省略拡大部分平面図、 第5図は第4図のV−V線に沿う正面断面図、第6図は
ワイヤボンディング装置を示す一部切断正面図、 第7図はその放電電極付近を示す一部切断拡大部分正面
図、 第8図はそのフィーダ上部を示す拡大部分正面断面図、 第9図、第10図、第11図、第12図、第13図、第
14図、第15図、第16図および第17図はその作用
を説明するだめの各拡大部分縦断面図、 第18図は樹脂封止型パッケージの成形工程を示す縦断
面図、 第19図は樹脂封止型パンケージ成形後の多連リードフ
レームを示す一部省略平面図、第20図はこの樹脂封止
型MSP−ICの実装状態を示す一部省略一部切断斜視
図、 第21図はその一部省略拡大縦断面図である。 第22図はキャピラリーの他の実施例を示す拡大部分縦
断面図である。 ■・・・多連リードフレーム、2・・・単位リードフレ
ーム、3・・・外枠、4・・・セクション枠、5・・・
ダム吊り部材、6・・・ダム部材、6a・・・ダム、7
・・・タブ吊りリート、8・・・タブ、9・・・リード
、9a・・・インナ部、9b・・・アウタ部、10・・
・はんだめっき被膜、1[・・ボンディング層、12・
・・ペレット、13・・・ボンディングワイヤ、13a
・・・第1(ボール)ボンディング、13b・・・第2
ボンディング部、14・・・樹脂封止型パッケージ、2
0・・・ワイヤボンディング装置、21・・・フィーダ
、22・・・ヒートブロック、23・・・XY子テーブ
ル24・・・ボンディングヘッド、25・・・ボンディ
ングアーム、26・・・キャピラリー(ボンディングツ
ール)、26a・・・ワイヤ挿通孔、26b・・・平面
部、26c・・・内側傾斜面部、26d・・・内側面取
り傾斜面部、26e、26e・・・外側面取り傾斜面部
、26f・・・外側傾斜面部、26g・・・弯曲部、2
7.28・・・クランパアーム、29・・・クランパ、
30・・・ガイド、31・・・放電電極、32・・・電
源回路、33・・・チューブ(ガス供給手段)、34・
・・ガス供給源、35・・・還元性ガス、36・・・銅
系ワイA・素材、37・・・ボール、4o・・・リード
フレーム酸化防止用還元性ガス、41・・・還元性ガス
供給装置、42・・・吹出口、43・・・供給路、44
・・・ガス供給ユニット、45・・・カバー 46・・
・窓孔、47・・・リードフレーム押さえ具、5o・・
・トランスファ成形¥装置、51・・・上型、52・・
・下型、53・・・キャビティー 54・・・ポシント
、55・・・プランジャ、56・・・カル、57・・・
ランナ、58・・・ゲート、59・・・リ−)゛フレー
ム逃げ凹所、60・・・樹脂(レジン、成形材料)、7
0・・・樹脂封止型MSP・IC(半導体装置)、71
・・・プリント配線基板、72・・・ランド、73・・
・はんだ盛りF!。 代理人 弁理士  梶  原  辰  也第 図 江 第22図 第3図 a 第7図 第9図 第10111 第11図 第12図 第13図 第15図 第]6I21 117図 36″ 第18図 !121図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、半導体ペレットと、半導体ペレットの周囲に配設さ
    れている複数本のリードと、半導体ペレットのボンディ
    ングパッドおよび各リードのインナ部に両端部をボンデ
    ィングされて橋絡されているワイヤと、半導体ペレット
    、リードの一部、およびワイヤを樹脂封止するパッケー
    ジとを備えている半導体装置であって、前記リード群が
    銅系材料を使用されて形成されているとともに、前記ワ
    イヤが銅系材料を使用されて形成されており、このワイ
    ヤは、先端面に平面部がワイヤ挿通孔と同心的に配され
    て円形環状に形成されているとともに、この平面部の内
    側部分に内側傾斜面部がその傾斜面がワイヤ挿通孔にか
    けて少なくとも二重に変化するように形成されており、
    かつ、この平面部の外側部分に外側傾斜面部が緩やかに
    傾斜するように形成されているキャピラリーを使用され
    て、その一端部が前記半導体ペレットのボンディングパ
    ッドにボールボンディングによりボンディングされてい
    るとともに、他端部が前記各リードのインナ部における
    前記銅系材料からなる母材表面にボンディングされてい
    ることを特徴とする半導体装置。 2、半導体ペレットと、半導体ペレットの周囲に配設さ
    れている複数本のリードと、半導体ペレットのボンディ
    ングパッドおよび各リードのインナ部に両端部をボンデ
    ィングされて橋絡されているワイヤと、半導体ペレット
    、リードの一部、およびワイヤを樹脂封止するパッケー
    ジとを備えている半導体装置の製造方法であって、銅系
    材料を使用されて形成されているリードフレームを準備
    する工程と、このリードフレームにおけるタブに前記半
    導体ペレットがボンディングされる工程と、先端面に平
    面部がワイヤ挿通孔と同心的に配されて円形環状に形成
    されているとともに、この平面部の内側部分に内側傾斜
    面部がその傾斜面がワイヤ挿通孔にかけて少なくとも二
    重に変化するように形成されており、かつ、この平面部
    の外側部分に外側傾斜面部が緩やかに傾斜するように形
    成されているキャピラリーを使用されて、銅系材料を使
    用されているワイヤ素材がその一端部を前記半導体ペレ
    ットのボンディングパッドにボールボンディングされる
    とともに、その他端部を前記各リードのインナ部におけ
    る前記銅系材料からなる母材表面にボンディングされる
    ことにより、ワイヤが半導体ペレットのボンディングパ
    ッドと各リードのインナ部との間に橋絡されるワイヤボ
    ンディング工程と、前記半導体ペレット、リードの一部
    、およびワイヤを樹脂封止するパッケージを成形する工
    程とを備えていることを特徴とする半導体装置の製造方
    法。 3、前記銅系材料からなるリードフレームとしてめっき
    レスリードフレームが使用されていることを特徴とする
    特許請求の範囲第2項記載の半導体装置の製造方法。 4、半導体ペレットと、銅系材料を使用されて形成され
    ており、半導体ペレットの周囲に配設されている複数本
    のリードと、銅系材料を使用されて形成されており、半
    導体ペレットのボンディングパッドおよび各リードのイ
    ンナ部に両端部をボンディングされて橋絡されているワ
    イヤと、半導体ペレット、リードの一部、およびワイヤ
    を樹脂封止するパッケージとを備えている半導体装置の
    製造方法に使用されるワイヤボンディング装置であって
    、先端面に平面部がワイヤ挿通孔と同心的に配されて円
    形環状に形成されているとともに、この平面部の内側部
    分に内側傾斜面部がその傾斜面がワイヤ挿通孔にかけて
    少なくとも二重に変化するように形成されており、かつ
    、この平面部の外側部分に外側傾斜面部が緩やかに傾斜
    するように形成されているキャピラリーが使用されて、
    銅系材料を使用されているワイヤ素材がその一端部を前
    記半導体ペレットのボンディングパッドにボールボンデ
    ィングされるとともに、その他端部を前記各リードのイ
    ンナ部における銅系材料からなる母材表面にボンディン
    グされることにより、前記ワイヤが半導体ペレットのボ
    ンディングパッドと各リードのインナ部との間に橋絡さ
    れるように構成されていることを特徴とするワイヤボン
    ディング装置。 5、前記キャピラリーの先端平面部は、その内径がワイ
    ヤ挿通孔内径の3倍以下になるように、かつ、その径方
    向幅がワイヤ挿通孔内径の1/2倍以上になるように設
    定されていることを特徴とする特許請求の範囲第4項記
    載のワイヤボンディング装置。 6、前記キャピラリーの内側傾斜面部が内外二重に面取
    りされて形成されているとともに、その内側面取り傾斜
    面部は前記先端平面部に対する傾斜角度が40度〜50
    度になるように形成されており、かつ、その外側面取り
    傾斜面部は前記先端平面部に対する傾斜角度が5度〜3
    5度になるように形成されていることを特徴とする特許
    請求の範囲第4項記載のワイヤボンディング装置。 7、前記キャピラリーの内側傾斜面部が内外二重に面取
    りされて形成されているとともに、その内側面取り傾斜
    面部は前記先端平面部に対する傾斜角度が40度〜50
    度になるように形成されており、また、その外側面取り
    傾斜面部は、この内側面取り傾斜面部と前記先端平面部
    とにそれぞれ内接し、かつ、その内側面取り傾斜面部と
    の接点と、前記先端平面部の延長線との間隔がワイヤ挿
    通孔内径の0.05倍以上になるように形成されている
    ことを特徴とする特許請求の範囲第4項記載のワイヤボ
    ンディング装置。 8、前記キャピラリーの外側傾斜面部が、前記先端平面
    部に対する傾斜角度が3度〜15度になるように形成さ
    れていることを特徴とする特許請求の範囲第4項記載の
    ワイヤボンディング装置。
JP63280059A 1988-11-04 1988-11-04 半導体装置およびその製造方法並びにそれに使用されるワイヤボンディング装置 Pending JPH02125631A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63280059A JPH02125631A (ja) 1988-11-04 1988-11-04 半導体装置およびその製造方法並びにそれに使用されるワイヤボンディング装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63280059A JPH02125631A (ja) 1988-11-04 1988-11-04 半導体装置およびその製造方法並びにそれに使用されるワイヤボンディング装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH02125631A true JPH02125631A (ja) 1990-05-14

Family

ID=17619732

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63280059A Pending JPH02125631A (ja) 1988-11-04 1988-11-04 半導体装置およびその製造方法並びにそれに使用されるワイヤボンディング装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH02125631A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5437405A (en) * 1994-08-22 1995-08-01 National Semiconductor Corporation Method and apparatus for stitch bonding of wires to integrated circuit bonding pads
CN102779768A (zh) * 2011-05-13 2012-11-14 瑞萨电子株式会社 半导体器件及其制造方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5437405A (en) * 1994-08-22 1995-08-01 National Semiconductor Corporation Method and apparatus for stitch bonding of wires to integrated circuit bonding pads
CN102779768A (zh) * 2011-05-13 2012-11-14 瑞萨电子株式会社 半导体器件及其制造方法
JP2012238814A (ja) * 2011-05-13 2012-12-06 Renesas Electronics Corp 半導体装置およびその製造方法
US9230937B2 (en) 2011-05-13 2016-01-05 Renesas Electronics Corporation Semiconductor device and a manufacturing method thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105185752B (zh) 半导体器件及其制造方法
CN102024724B (zh) 半导体器件的制造方法以及半导体器件
JP4173346B2 (ja) 半導体装置
US8435867B2 (en) Method of manufacturing semiconductor device and method of manufacturing electronic device
US8569163B2 (en) Ultrasonic wire bonding method for a semiconductor device
JP2014007363A (ja) 半導体装置の製造方法および半導体装置
JP2001230360A (ja) 半導体集積回路装置およびその製造方法
US12087673B2 (en) QFN device having a mechanism that enables an inspectable solder joint when attached to a PWB and method of making same
CN102165582A (zh) 引线框基板及其制造方法以及半导体装置
US9553068B2 (en) Integrated circuit (“IC”) assembly includes an IC die with a top metallization layer and a conductive epoxy layer applied to the top metallization layer
KR20070074489A (ko) 반도체 장치 및 그 제조 방법
CN101325190A (zh) 导线架上具有图案的四方扁平无引脚封装结构
CN116246986A (zh) 具有外露引线框架的封装件及其制作方法
CN113782454A (zh) 一种实现无预镀层引线框架表面引线键合的方法
JPH10135399A (ja) 半導体装置およびその製造方法並びにそれに使用されるリードフレーム
JPH02125631A (ja) 半導体装置およびその製造方法並びにそれに使用されるワイヤボンディング装置
WO2006112393A1 (ja) 半導体装置及び半導体装置の製造方法
JP4590788B2 (ja) 樹脂封止型半導体装置の製造方法
JP4243270B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JPH02181942A (ja) ワイヤボンディング装置
JPH0282541A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JPH01280326A (ja) 半導体装置
JP4747188B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP2017108191A (ja) 半導体装置
JPH09246310A (ja) 半導体装置