JPH02129650U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH02129650U JPH02129650U JP3876289U JP3876289U JPH02129650U JP H02129650 U JPH02129650 U JP H02129650U JP 3876289 U JP3876289 U JP 3876289U JP 3876289 U JP3876289 U JP 3876289U JP H02129650 U JPH02129650 U JP H02129650U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- arc chamber
- ion source
- source device
- permanent magnet
- filament
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 4
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000003302 ferromagnetic material Substances 0.000 claims 2
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 claims 2
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 claims 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims 1
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
第１図は本考案のイオン源装置の一例を示す概
略横断面図。第２図は本考案のイオン源装置から
引出されたイオンビームの対角線に沿うビーム強
度を示すグラフ。第３図は従来例に係るイオン源
装置の概略横断面図。第４図は従来例に係るイオ
ン源装置から引出されたイオンビームの対角線に
沿うビーム強度を示すグラフ。第５図は本考案の
イオン源装置において永久磁石とヨークの近傍で
の磁力線の分布を説明するための一部拡大横断面
図。第６図は従来装置と本考案装置により２０Ｋ
Ｖに加速したアルゴンビームを２００mm口のター
ゲツト面上に照射したときの対角線上のイオンビ
ーム電流分布を示すグラフ。実線が従来、破線が
本考案による。 １……アークチヤンバ、２……永久磁石、３…
…フイラメント、４……ポールピース、５……ヨ
ーク、６……冷却パイプ、７……冷却水路
略横断面図。第２図は本考案のイオン源装置から
引出されたイオンビームの対角線に沿うビーム強
度を示すグラフ。第３図は従来例に係るイオン源
装置の概略横断面図。第４図は従来例に係るイオ
ン源装置から引出されたイオンビームの対角線に
沿うビーム強度を示すグラフ。第５図は本考案の
イオン源装置において永久磁石とヨークの近傍で
の磁力線の分布を説明するための一部拡大横断面
図。第６図は従来装置と本考案装置により２０Ｋ
Ｖに加速したアルゴンビームを２００mm口のター
ゲツト面上に照射したときの対角線上のイオンビ
ーム電流分布を示すグラフ。実線が従来、破線が
本考案による。 １……アークチヤンバ、２……永久磁石、３…
…フイラメント、４……ポールピース、５……ヨ
ーク、６……冷却パイプ、７……冷却水路
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 真空に引くことができ導入されたガスをプ
ラズマにする空間を与えるアークチヤンバ１と、
アークチヤンバ１の壁面外側に沿つて磁化方向が
壁面に直交し磁化方向が交互に反転するように並
べられたカスブ磁場を形成するための多数の永久
磁石２と、アークチヤンバ１の中央部に設けらた
フイラメント３と、アークチヤンバ１の出口側に
設けられイオンビームを引出すための引出電極系
とを含み、アークチヤンバ１をアノードとしフイ
ラメント３をカソードとしてアーク放電を起こさ
せることにより導入されたガスをプラズマ化する
イオン源であつて、永久磁石２の外半分を覆うよ
うに強磁性体のヨーク５を設けたことを特徴とす
るイオン源装置。 (2) 永久磁石２のアークチヤンバ１に近い方の
端面に、強磁性体であつて尖頭を有するポールピ
ース４を固着した事を特徴とする請求項(1)記載
のイオン源装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3876289U JPH02129650U (ja) | 1989-03-31 | 1989-03-31 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3876289U JPH02129650U (ja) | 1989-03-31 | 1989-03-31 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02129650U true JPH02129650U (ja) | 1990-10-25 |
Family
ID=31547061
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3876289U Pending JPH02129650U (ja) | 1989-03-31 | 1989-03-31 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02129650U (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04282549A (ja) * | 1991-03-11 | 1992-10-07 | G T C:Kk | イオンビームの照射方法 |
| JP2007154229A (ja) * | 2005-12-01 | 2007-06-21 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 成膜装置 |
| JP2011228044A (ja) * | 2010-04-16 | 2011-11-10 | Nissin Ion Equipment Co Ltd | イオン源及びイオン注入装置 |
-
1989
- 1989-03-31 JP JP3876289U patent/JPH02129650U/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04282549A (ja) * | 1991-03-11 | 1992-10-07 | G T C:Kk | イオンビームの照射方法 |
| JP2007154229A (ja) * | 2005-12-01 | 2007-06-21 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 成膜装置 |
| JP2011228044A (ja) * | 2010-04-16 | 2011-11-10 | Nissin Ion Equipment Co Ltd | イオン源及びイオン注入装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA2585176C (en) | Ion source with substantially planar design | |
| US5111494A (en) | Magnet for use in a drift tube of an x-ray tube | |
| US5889371A (en) | Ion source with pole rings having differing inner diameters | |
| JPH0692638B2 (ja) | 薄膜装置 | |
| JPH0562421B2 (ja) | ||
| JP3076176B2 (ja) | 複合型イオン源装置 | |
| JPS6250941B2 (ja) | ||
| JPH06101394B2 (ja) | 高速原子線源 | |
| JP3010978B2 (ja) | イオン源装置 | |
| JP3766569B2 (ja) | マグネトロンスパッタ装置 | |
| JP4263806B2 (ja) | イオン発生方法およびイオン源 | |
| JP3127636B2 (ja) | イオン源 | |
| JP2514830Y2 (ja) | マグネトロンスパッタ装置 | |
| JP2627420B2 (ja) | 高速原子線源 | |
| JPH0241584B2 (ja) | ||
| JPS594428Y2 (ja) | イオン源装置先端イオン発生部の真空封止機構 | |
| JPS62193660U (ja) | ||
| JP2749430B2 (ja) | イオン源装置 | |
| JPH01128335A (ja) | 電子サイクロトロン共鳴型イオン源 | |
| JPH06139979A (ja) | Ｅｃｒイオン源への電子供給方法および装置 | |
| JPH09137272A (ja) | スパッタリング装置 | |
| JP2870473B2 (ja) | イオン源装置 | |
| JPH04358064A (ja) | マグネトロンスパッタカソード | |
| JP2005290442A (ja) | Ｅｃｒスパッタリング装置 | |
| JPH0624111B2 (ja) | イオンミリング装置 |