JPH0213076Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0213076Y2 JPH0213076Y2 JP1984124366U JP12436684U JPH0213076Y2 JP H0213076 Y2 JPH0213076 Y2 JP H0213076Y2 JP 1984124366 U JP1984124366 U JP 1984124366U JP 12436684 U JP12436684 U JP 12436684U JP H0213076 Y2 JPH0213076 Y2 JP H0213076Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas generation
- container
- heating medium
- gas
- generation container
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本考案は、各種の昇華性物質あるいは蒸発性物
質をガス化するガス発生装置に関するものであ
る。
質をガス化するガス発生装置に関するものであ
る。
（従来の技術）
前記ガス発生装置の従来例は、第３，４図に示
すように本体ａ（槽）、本体ａ内に配設された昇華
性物質（固相気相）あるいは蒸発性物質（液相
気相）を収容するガス発生容器ｂ、ガス蒸生容
器ｂから本体ａ外に導出された容器弁ｃと遮断弁
ｄ付の導管ｅ、本体ａ内の一側部に配設された空
気循環用のフアンf1と熱媒配管f2およびダクトf3
からなる熱交換器ｆ、前記熱媒配管f2に分岐、連
結された冷媒配管ｇ等からなり、本体１内の空気
は、フアンf1によつて熱交換器ｆ内に導入された
熱媒配管f2内の熱媒により加熱されたのちダクト
f3から本体１内へ循環供給され、ガス発生容器ｂ
の周囲を加熱空気の雰囲気にして、同ガス発生容
器ｂ内の昇華性物質あるいは蒸発性物質を加熱し
てガス化し、本体ａ内の空気は熱交換器ｆによつ
て加熱循環されるようになつており、ガス発生容
器ａ内の発生ガスは導管ｅから取出される構造に
なつている。
すように本体ａ（槽）、本体ａ内に配設された昇華
性物質（固相気相）あるいは蒸発性物質（液相
気相）を収容するガス発生容器ｂ、ガス蒸生容
器ｂから本体ａ外に導出された容器弁ｃと遮断弁
ｄ付の導管ｅ、本体ａ内の一側部に配設された空
気循環用のフアンf1と熱媒配管f2およびダクトf3
からなる熱交換器ｆ、前記熱媒配管f2に分岐、連
結された冷媒配管ｇ等からなり、本体１内の空気
は、フアンf1によつて熱交換器ｆ内に導入された
熱媒配管f2内の熱媒により加熱されたのちダクト
f3から本体１内へ循環供給され、ガス発生容器ｂ
の周囲を加熱空気の雰囲気にして、同ガス発生容
器ｂ内の昇華性物質あるいは蒸発性物質を加熱し
てガス化し、本体ａ内の空気は熱交換器ｆによつ
て加熱循環されるようになつており、ガス発生容
器ａ内の発生ガスは導管ｅから取出される構造に
なつている。
（従来技術の問題点）
従来の前記ガス発生装置においては、ガス発生
容器ｂの周囲即ち本体１内の空気温度が高くなつ
ているため、ガス発生中に導管ｅの遮断弁ｄを閉
にすると、ガス発生容器ｂ内の温度、圧力が急上
昇されてその安全性に問題があり、その対策とし
て、冷媒配管ｇから熱媒配管f2に冷媒を流して本
体１内の空気を冷却しているが、該空気の冷却に
時間を要しガス発生容器内部への伝熱効率が低い
ため、緊急対策としての効果が十分に得られない
欠点がある。
容器ｂの周囲即ち本体１内の空気温度が高くなつ
ているため、ガス発生中に導管ｅの遮断弁ｄを閉
にすると、ガス発生容器ｂ内の温度、圧力が急上
昇されてその安全性に問題があり、その対策とし
て、冷媒配管ｇから熱媒配管f2に冷媒を流して本
体１内の空気を冷却しているが、該空気の冷却に
時間を要しガス発生容器内部への伝熱効率が低い
ため、緊急対策としての効果が十分に得られない
欠点がある。
（考案の目的、問題点の解決手段）
本案は、従来のガス発生装置における前記のよ
うな欠点を解消する考案であつて、本体内に配設
された昇華性物質あるいは蒸発性物質を収容する
ガス発生容器と、該ガス発生容器に対設され同ガ
ス発生容器の表面に熱媒をスプレーする熱媒散布
器、該熱媒散布器に連設されて、前記熱媒を所望
温度に加熱する加熱器を有する熱媒供給機構とを
具備した構成に特徴を有しガス発生容器の表面に
熱媒を直接的にスプレーする熱媒散布器を設ける
ことにより、ガス発生容器内部への伝熱効率を著
しく高めて加熱性能を向上させるとともに、それ
に伴つて熱媒自体の温度を低くすることが可能と
なりガス発生容器の閉塞時における同容器内の温
度、圧力の上昇を小さくして前記のような欠点を
解消したガス発生装置を供する点にある。
うな欠点を解消する考案であつて、本体内に配設
された昇華性物質あるいは蒸発性物質を収容する
ガス発生容器と、該ガス発生容器に対設され同ガ
ス発生容器の表面に熱媒をスプレーする熱媒散布
器、該熱媒散布器に連設されて、前記熱媒を所望
温度に加熱する加熱器を有する熱媒供給機構とを
具備した構成に特徴を有しガス発生容器の表面に
熱媒を直接的にスプレーする熱媒散布器を設ける
ことにより、ガス発生容器内部への伝熱効率を著
しく高めて加熱性能を向上させるとともに、それ
に伴つて熱媒自体の温度を低くすることが可能と
なりガス発生容器の閉塞時における同容器内の温
度、圧力の上昇を小さくして前記のような欠点を
解消したガス発生装置を供する点にある。
（考案の実施例）
第１図、第２図に本考案の一実施例を示してお
り、図中１は本体（槽）、２は本体１内に配設さ
れ昇華性物質あるいは蒸発性物質が収容されるガ
ス発生容器、３はガス発生容器２から本体１外へ
導出された導管、４は導管３に設けられた容器
弁、５は導管３に設けられた遮断弁であつて、本
体１内に配設されているガス発生容器２の上側に
沿わせて複数の下向きノズル口を備えた複数本
（図示では２本）のスプレー管からなる熱媒散布
器１０を配設するとともに、ガス発生容器２の下
側に受液槽１１を設け、さらに、受液槽１１の下
側から受液抜出し管１２、導管１３を連結して前
記熱媒散布器１０に連結するとともに、前記導管
１３に、熱媒貯槽１４、熱媒循環用ポンプ１５、
加熱器１６および弁１７を介装して配設し、熱媒
を所定温度にして循環させる熱媒供給機構に構成
されている。
り、図中１は本体（槽）、２は本体１内に配設さ
れ昇華性物質あるいは蒸発性物質が収容されるガ
ス発生容器、３はガス発生容器２から本体１外へ
導出された導管、４は導管３に設けられた容器
弁、５は導管３に設けられた遮断弁であつて、本
体１内に配設されているガス発生容器２の上側に
沿わせて複数の下向きノズル口を備えた複数本
（図示では２本）のスプレー管からなる熱媒散布
器１０を配設するとともに、ガス発生容器２の下
側に受液槽１１を設け、さらに、受液槽１１の下
側から受液抜出し管１２、導管１３を連結して前
記熱媒散布器１０に連結するとともに、前記導管
１３に、熱媒貯槽１４、熱媒循環用ポンプ１５、
加熱器１６および弁１７を介装して配設し、熱媒
を所定温度にして循環させる熱媒供給機構に構成
されている。
（作用）
本考案の実施例は、前記のような構成になつて
おり加熱器１６で所望温度に加熱された熱媒は、
導管１３を経て熱媒散布管１０のノズル口からガ
ス発生容器２の表面上に直接にスプレーされるた
め、ガス発生容器２の表面に熱媒の液膜よりなる
濡れ面が形成され、該液膜によつてガス発生容器
２内を加熱し、ガス発生容器２中の昇華性物質あ
るいは蒸発性物質を昇華あるいは蒸発させてガス
状にするとともに、ガス発生容器２中の発生ガス
は、導管３から取出すことができ、また、ガス発
生容器２上にスプレーされた熱媒は、熱交換後に
受液槽１１に受取られポンプ１５により受液抜出
し管１２、導管１３を通り加熱管１６へ循環され
る。なお、熱媒散布器１０により熱媒のスプレー
量は、ガス発生容器２の表面上に熱媒による液膜
の濡れ面が形成される程度の適量に調節される。
おり加熱器１６で所望温度に加熱された熱媒は、
導管１３を経て熱媒散布管１０のノズル口からガ
ス発生容器２の表面上に直接にスプレーされるた
め、ガス発生容器２の表面に熱媒の液膜よりなる
濡れ面が形成され、該液膜によつてガス発生容器
２内を加熱し、ガス発生容器２中の昇華性物質あ
るいは蒸発性物質を昇華あるいは蒸発させてガス
状にするとともに、ガス発生容器２中の発生ガス
は、導管３から取出すことができ、また、ガス発
生容器２上にスプレーされた熱媒は、熱交換後に
受液槽１１に受取られポンプ１５により受液抜出
し管１２、導管１３を通り加熱管１６へ循環され
る。なお、熱媒散布器１０により熱媒のスプレー
量は、ガス発生容器２の表面上に熱媒による液膜
の濡れ面が形成される程度の適量に調節される。
（考案の効果）
前述のように本考案においては、昇華性物質あ
るいは蒸発性物質を収容するガス発生容器の表面
上に、熱媒散布器１０によつて熱媒を直接にスプ
レーし、ガス発生容器２の表面に熱媒による液膜
の濡れ面が形成されるため、ガス発生容器２の表
面積をＡ、熱貫流率をμ、熱媒温度をt0、ガス発
生容器２の表面温度をt1とすると、伝熱量Ｑは Ｑ＝μA（t0−t1） と表わすことができ、ガス発生容器２表面に熱媒
による液膜の濡れ面形成によつて熱貫流率μを著
しく大きくすることができ、加熱効率を高めるこ
とができて、ガス発生性能を大巾に向上できる。
従つてまた、熱貫流率μが著しく大きくできるた
め、従来と同じ伝熱量を得るのに熱媒温度t0を低
く設定でき、熱媒温度t0の低下によつて、ガス発
生容器２を遮断弁５で遮断、密閉しても同該ガス
発生容器２内の温度、圧力の上昇が著しく低くな
る。
るいは蒸発性物質を収容するガス発生容器の表面
上に、熱媒散布器１０によつて熱媒を直接にスプ
レーし、ガス発生容器２の表面に熱媒による液膜
の濡れ面が形成されるため、ガス発生容器２の表
面積をＡ、熱貫流率をμ、熱媒温度をt0、ガス発
生容器２の表面温度をt1とすると、伝熱量Ｑは Ｑ＝μA（t0−t1） と表わすことができ、ガス発生容器２表面に熱媒
による液膜の濡れ面形成によつて熱貫流率μを著
しく大きくすることができ、加熱効率を高めるこ
とができて、ガス発生性能を大巾に向上できる。
従つてまた、熱貫流率μが著しく大きくできるた
め、従来と同じ伝熱量を得るのに熱媒温度t0を低
く設定でき、熱媒温度t0の低下によつて、ガス発
生容器２を遮断弁５で遮断、密閉しても同該ガス
発生容器２内の温度、圧力の上昇が著しく低くな
る。
このように本考案によるときは昇華性物質ある
いは蒸発性物質は、ガス発生容器内に収納されて
いるため、ガス化は回分的に行われて主に沸騰伝
熱などの熱伝達で加熱でき、而もガス発生器の表
面に熱媒を直接にスプレーする熱媒散布器に連設
される熱媒供給機構には前記熱媒を所要温度に加
熱する加熱器を有するため、閉塞時におけるガス
発生容器内の温度は所定の温度を超えることはな
く、また圧力上昇も、ガス発生容器内の温度に対
する蒸気圧以下とすることができ、これにより従
来例のようにガス発生器内の温度、圧力が急上昇
されることもなければ、又その急上昇を抑える抑
制手段も必要なく、加熱性能つまりガス発生性能
の大幅な向上とともに簡単な構造により安全性が
高められる等の効果を有する。
いは蒸発性物質は、ガス発生容器内に収納されて
いるため、ガス化は回分的に行われて主に沸騰伝
熱などの熱伝達で加熱でき、而もガス発生器の表
面に熱媒を直接にスプレーする熱媒散布器に連設
される熱媒供給機構には前記熱媒を所要温度に加
熱する加熱器を有するため、閉塞時におけるガス
発生容器内の温度は所定の温度を超えることはな
く、また圧力上昇も、ガス発生容器内の温度に対
する蒸気圧以下とすることができ、これにより従
来例のようにガス発生器内の温度、圧力が急上昇
されることもなければ、又その急上昇を抑える抑
制手段も必要なく、加熱性能つまりガス発生性能
の大幅な向上とともに簡単な構造により安全性が
高められる等の効果を有する。
第１図は本考案の一実施例を示すガス発生装置
の機構図、第２図は第１図の−部分の断面
図、第３図は従来のガス発生装置を示す機構図、
第４図は第３図の−部分の断面図である。 １……本体（槽）、２……ガス発生容器、３，
１３……導管、４……容器弁、５……遮断弁、１
０……熱媒散布器、１１……受液槽、１２……受
液払出し管、１４……熱媒貯槽、１５……ポン
プ、１６……加熱器、１７……弁。
の機構図、第２図は第１図の−部分の断面
図、第３図は従来のガス発生装置を示す機構図、
第４図は第３図の−部分の断面図である。 １……本体（槽）、２……ガス発生容器、３，
１３……導管、４……容器弁、５……遮断弁、１
０……熱媒散布器、１１……受液槽、１２……受
液払出し管、１４……熱媒貯槽、１５……ポン
プ、１６……加熱器、１７……弁。
Claims (1)
- 本体内に配設された昇華性物質あるいは蒸発性
物質を収容するガス発生容器と、該ガス発生容器
に対設され、同ガス発生容器の表面に熱媒をスプ
レーする熱媒散布器と、該熱媒散布器に連設され
て、前記熱媒を所望温度に加熱する加熱器を有す
る熱媒供給機構とを具備することを特徴とするガ
ス発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12436684U JPS6140134U (ja) | 1984-08-16 | 1984-08-16 | ガス発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12436684U JPS6140134U (ja) | 1984-08-16 | 1984-08-16 | ガス発生装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6140134U JPS6140134U (ja) | 1986-03-13 |
| JPH0213076Y2 true JPH0213076Y2 (ja) | 1990-04-11 |
Family
ID=30683093
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12436684U Granted JPS6140134U (ja) | 1984-08-16 | 1984-08-16 | ガス発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6140134U (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5317385A (en) * | 1976-07-31 | 1978-02-17 | Agency Of Ind Science & Technol | Preparation of standard gas |
| JPS5929030A (ja) * | 1982-08-12 | 1984-02-16 | Tokyo Electric Power Co Inc:The | 混合熱媒体の気化装置 |
-
1984
- 1984-08-16 JP JP12436684U patent/JPS6140134U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6140134U (ja) | 1986-03-13 |
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